JP2005197384A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系と前記基板の一部分との間のみに満たされた液体を介して前記基板を露光する露光装置において、
   前記基板を吸着保持するチャックと、
   前記チャックが持つ流路に流した液体を、前記投影光学系と前記基板との間に供給する液体供給装置と、を有し、
   前記液体の温度は前記液体が前記流路を通過することにより前記チャックと等しくなり、前記チャックと等しい温度の前記液体が前記投影光学系と前記基板との間に供給されることを特徴とする露光装置。
2. 前記チャックの温度を調整するための温度調整装置を更に有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
3. 前記チャックは、前記流路とは異なる第２の流路を持ち、
   前記温度調整装置は、前記第２の流路に流体を流すことにより前記チャックの温度を調整することを特徴とする請求項２記載の露光装置。
4. 前記チャックの温度を検出するセンサを更に備え、
   前記液体供給装置は、前記センサの出力に基づいて前記チャックの流路に供給する液体の温度を調整する温度調整ユニットを有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
5. 前記投影光学系は、該投影光学系の前記液体を介して前記基板と対向するレンズの近傍に設けられた流路を持ち、
   前記液体供給装置は、前記チャックが持つ流路を流れた液体を、前記投影光学系が持つ流路にも流すことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
6. 請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。