JP2010098172A - 液体回収装置、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】
容器の液面の高さに関する制約を軽減して、安定して液体を回収する液体回収装置を提供する。
【解決手段】
本発明の液体回収装置は、液体fを回収する液体回収装置20であって、多孔板22を有する液体回収ノズル6と、液体fで満たされた容器23と、一端が液体回収ノズル6に接続され、他端が容器23の内部に設けられた回収管17と、外部に液体回収ノズル6を配置し、内部に容器23を配置する圧力チャンバ27と、圧力チャンバ27の内部圧力を調整する圧力調整機30とを備える。
【選択図】図1
容器の液面の高さに関する制約を軽減して、安定して液体を回収する液体回収装置を提供する。
【解決手段】
本発明の液体回収装置は、液体fを回収する液体回収装置20であって、多孔板22を有する液体回収ノズル6と、液体fで満たされた容器23と、一端が液体回収ノズル6に接続され、他端が容器23の内部に設けられた回収管17と、外部に液体回収ノズル6を配置し、内部に容器23を配置する圧力チャンバ27と、圧力チャンバ27の内部圧力を調整する圧力調整機30とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、投影光学系の最終レンズと基板との間に供給される液体を介して基板を露光する液浸露光装置に関する。
LSI又は超LSI等の極微細パターンで構成される半導体デバイスの製造工程において、マスクに形成されたパターンを感光剤が塗布された基板上に縮小投影して転写する縮小型投影露光装置が使用されている。半導体デバイスにおける集積密度の向上に伴い、パターンの更なる微細化が要求され、レジストプロセスの発展と同時に露光装置の微細化への対応がなされてきた。
露光装置の解像力を向上させる手段として、露光波長を短くする方法、及び、投影光学系の開口数(NA)を大きくする方法が一般的に用いられる。
露光波長については、365nmのi線から193nm付近の発振波長を有するArFエキシマレーザ光に移行し、更に、13.5nm付近の発振波長を有するEUV(Extreme Ultra Violet)の開発も行われている。
一方、これらとは全く別の解像力向上技術として、液浸法を用いた投影露光方法が注目されている。従来は、投影光学系の最終面と露光対象基板(例えばウエハ)面との間の空間は気体で満たされていたが、液浸法では、この空間を液体で満たして投影露光を実施する。
液浸露光装置では、例えば、投影光学系とウエハとの間の空間に供給される液体として純水(波長193nmの光に対する屈折率n=1.44)が用いられる。液浸法におけるウエハに結像する光線の最大入射角が従来法と等しいと仮定した場合、同一波長の光源を用いたとしても、液浸法の解像力は、従来法の1.44倍に向上する。これは、従来法の投影光学系の開口数(NA)を1.44倍にすることと等価である。このため、液浸法によれば、従来法では不可能なNA=1以上の解像力を得ることが可能となる。
この投影光学系の最終面とウエハ面との間の空間を液体で満たす方法の一つとして、投影光学系とウエハ面とで挟まれた空間だけに液体を流すローカルフィル法がある。
ローカルフィル法は、投影光学系の最終面とウエハ面との間の開放された領域に液体を供給し、この液体がステージ外へこぼれ出ないように、毛細管現象を利用した液体回収機構にて液体を回収する。液体回収機構に毛細管現象を利用するのは、回収ノズルの外側が気体で満たされている状態の場合には、小径の孔や管に働く表面張力により、回収ノズルの液体で満たされた内側の負の圧力に勝ることで液体を小径の孔部に保持するためである。
気体に代わりに液体が小径の孔を覆うと、界面に働く表面張力は弱まる。このため、液体は、小径の孔を通って負の圧力の回収ノズル内へ引き込まれ、回収される。小径の孔が再び気体に覆われると、小径の孔はその表面張力により液体を保持し、気体の浸入を防ぐ。
このような液体回収装置を有する露光装置は、例えば、特開2006−60223号公報(特許文献1)において開示されている。
特開2006−60223号公報
上述のような従来の液体回収装置は、液体で満たしたチャンバ内の圧力を外部の雰囲気よりも若干低い圧力に維持されている。非圧縮性の液体を一定の負圧に保つには、水頭圧を利用した負圧発生機構を利用することが望ましい。
この点について、図12を参照して説明する。図12は、容易に実現可能な負圧発生機構を備えた従来の液体回収装置20’の概略構成図である。
図12に示されるように、液体回収装置20’は、小径の孔を多数有する多孔板22、容器23、及び、多孔板22の一方を覆って容器23の内部まで延びた回収管17を有する。回収管17及び容器23の内部は液体fで満たされている。また、100で表される矢印は重力方向を示している。容器23は、その液面28が多孔板22の面に対して重力方向100(下側)に配置されている。
このとき、多孔板22のメニスカスより、液体fに極内側の圧力Pcは、多孔板22と液体fの界面に働く表面張力により保持可能な圧力Pmより小さく設定される。液体fに極内側の圧力Pcは、多孔板22のメニスカスにより、式(1)から求めることができる。
Pc=ρgh … (1)
(ρ:液体の密度、g:重力加速度、h:高さ(多孔板を起点とした高さ))
この方法によれば、容器23へ流れ込んだ液体fは、容器23の上部端面からこぼれ落ちる。このため、常に、容器23が液体fで満たされた状態に維持できる。これと同時に、液面28の変化が小さいため、一定の水頭圧を発生することが可能となる。
(ρ:液体の密度、g:重力加速度、h:高さ(多孔板を起点とした高さ))
この方法によれば、容器23へ流れ込んだ液体fは、容器23の上部端面からこぼれ落ちる。このため、常に、容器23が液体fで満たされた状態に維持できる。これと同時に、液面28の変化が小さいため、一定の水頭圧を発生することが可能となる。
しかしながら、上記の式(1)のとおり、所定の圧力Pcを得るためには、液面28の高さhは、液体fの密度ρに応じた所定の高さに限定される。このため、液体回収装置20’を液浸露光装置に適用する場合、容器23は、配置場所について拘束を受けることになる。
また、多孔板22のメニスカスにより、液体回収ノズル6の外側から液体fが侵入した場合、液体fが接した多孔板22の部分のメニスカスは消滅する。そして、液体fは多孔板22の孔を通過し、回収管17を介して容器23へ流れる。この液体fの流れは、圧力損出ΔPを発生させ、外部の雰囲気に対してわずかに負圧の圧力Pcは、ΔPだけ減少する。このため、回収可能な流量は、圧力Pc≧ΔPの範囲内に限定される。
このように、容器23の配置場所の制約により、周辺の機器配置が制約され、最適な装置形状が損なわれ、装置のフットプリントが拡大してしまう。
また、液体fの回収流量は、圧力Pc、液体fの流れにより発生する圧力損出ΔP、及び、多孔板22の部位で発生する圧力損出ΔPcpにより制約を受ける。圧力損出ΔPを抑えるために、回収管17の径を大きくし、本数を増やし、又は、液体回収ノズル6と容器23とを近傍に配置することで回収管17の長さを抑える必要がある。また、多孔板22の圧力損失ΔPcpを抑えるためには、多孔板22の面積を大きくする必要がある。
回収管17の径を大きくすることや、多孔板22の面積を大きくすることが困難な場合、回収流量が低下することにより、液体fがノズルから飛び出すことがある。あるいは、ステージ速度、加速度及び移動距離の制約を受けるため、スループットが低下して装置性能が低下する。あるいは、装置内部の周辺機器の配置を制約し、装置の設計において影響を与え、装置性能の悪化やフットプリントの拡大という影響を及ぼす。
さらに、液体回収装置のメニスカスが、ウエハステージ10や液体供給ノズル5、又は、多孔板22に付着したパーティクルを除去するため、界面活性剤が用いられる。例えば、ウエハステージ上に載置されたウエハ9とウエハステージ10との隙間に、界面活性剤が残留している場合に、界面活性剤が液体回収装置20’の多孔板22に形成されたメニスカスに浸入すると、液体fの表面張力が低下する。このとき、メニスカスにより保持可能な圧力Pmは減少するため、Pm≧Pcの関係が崩れる。このため、メニスカスは崩壊し、外部の雰囲気の気体gが回収管17の内部へ浸入する。回収管17の内部を液体fの代わりに気体gが占めると、液体fを回収することが不可能となる。
そこで、本発明は、少なくとも、容器23の液面の高さに関する制約を軽減し、装置フットプリントの改善を可能とする液体回収装置及び液浸露光装置を提供する。さらには、回収管17の圧力損出による液体回収流量の制約を軽減させ、スループットの向上を可能とする液体回収装置及び液浸露光装置を提供する。さらには、液体回収装置に気体が混入した場合に液体の供給を停止させ、液漏れによる影響を抑えることにより、良好な露光処理を可能とする液浸露光装置を提供する。
本発明の一側面としての液体回収装置は、液体を回収する液体回収装置であって、多孔部材を有する回収口と、前記液体で満たされた回収容器と、一端が前記回収口に接続され、他端が前記回収容器の内部に設けられた回収管と、外部に前記回収口を配置し、内部に前記回収容器を配置する圧力チャンバと、前記圧力チャンバの内部圧力を調整する圧力調整部とを備える。
また、本発明の他の側面としての液体回収装置は、液体を回収する液体回収装置であって、多孔部材を有する回収口と、前記液体で満たされた回収容器と、一端が前記回収口に接続され、他端が前記回収容器の内部に設けられた回収管と、前記回収口の近傍における前記液体の圧力を検出する圧力検出部と、前記回収口又は前記回収管に前記液体を供給する液体供給手段と、前記圧力検出部の検出結果に基づいて、前記液体供給手段から供給される前記液体の流量を制御する流量制御部とを備える。
また、本発明の他の側面としての露光装置は、投影光学系の最終レンズと基板との間に供給された液体を介して該基板を露光する露光装置であって、前記最終レンズと前記基板との間に前記液体を供給する液体供給装置と、前記液体回収装置とを備える。
また、本発明の他の側面としてのデバイス製造方法は、前記露光装置を用いて基板を露光する工程と、露光された前記基板を現像する工程とを有する。
本発明の他の目的及び特徴は、以下の実施例において説明される。
本発明によれば、容器の液面の高さに関する制約を軽減して、安定して液体を回収する液体回収装置及び露光装置を提供することができる。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明する。各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
本発明の露光装置は、例えば、露光光として紫外光を用い、投影光学系と基板(例えば、ウエハ)間を液体で満たす液浸法が適用されるあらゆる露光方法及び露光装置に有効である。そのような露光装置には、例えば、基板を静止させた状態で基板に原版のパターンを投影転写する露光装置や、基板と原版とを同期スキャンしながら基板に原版のパターンをスリット光によりスキャン露光する露光装置が含まれうる。以下、本発明の好適な実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
まず、図13及び図14を参照して、本実施例における液浸露光装置の概略構成を説明する。
本実施例の露光装置は、基板であるウエハ9に最も近い投影光学系4の最終レンズとウエハ9との間に供給される液体fを介してウエハ9を露光する液浸露光装置である。
この液浸露光装置は、最終レンズとウエハ9との間に液体fを供給する液体供給装置を備える。液体供給装置は、供給管16、弁29、及び、液浸制御装置19からなる。
供給管16は、液体fを最終レンズとウエハ9との間(最終レンズの下部)に供給する液体供給ラインである。弁29は、液体供給ラインである供給管16の途中に設けられ、液体fの流れを制御する。制御部である液浸制御装置19は、弁29の開閉を制御する。この液浸露光装置は、図1乃至図11に示される液体回収装置20、21を有する。なお、図13及び図14に示される液浸露光装置の詳細については後述する。
まず、本発明の実施例1における液体回収装置について説明する。図1は、本実施例における液体回収装置20の概略構成図である。
本実施例の液体回収装置20は、液体fを回収する回収機構であり、主に、液体回収ノズル6(回収口)、回収管17、及び、圧力チャンバ27の内部に設けられた容器23(回収容器)から構成されている。液体回収ノズル6には、複数の孔を有する多孔板22(多孔部材)が備えられている。また、回収管17の一端は液体回収ノズル6に接続されており、多孔板22を介して液体fを回収する。多孔板22を介して回収された液体fは、回収管17を通って容器23へ移される。
回収管17の先端(他端)は、多孔板22を介して回収した液体fを排出する排出口26となっている。排出口26は開放されており、容器23の内部に配置されている。このため、排出口26から排出された液体fは、容器23に回収される。容器23は、圧力チャンバ27の内部に配置されており、重力方向100(矢印方向)に対して排出口26よりも上側において開放されている。圧力チャンバ27は、液体回収ノズル6の外部に配置されており、その内部に容器23を配置する。
図1に示されるように、容器23及び回収管17は液体fで満たされており、液体回収ノズル6の先端に位置する多孔板22は、メニスカスにより液体fを保持する。容器23は、開放面(上面)まで液体fで満たされる。液体fで満たされた容器23の内部に回収管17からさらに液体fが入ると、容器23の開放面(上面)から液体fが溢れ、圧力チャンバ27の下部に溜まる。
なお、開放面により液面28を保持するための構造は、図1に示されるような上面から液体fが溢れる構造に限定されるものではない。例えば、容器23の側面に孔を空け、又は、容器23の側面から他の配管を延ばして液体fを排出するように構成してもよい。
圧力チャンバ27には、圧力チャンバ27の内部の圧力を調整する圧力調整機30(圧力調整部)が配管31を介して接続されている。圧力調整機30は、圧力チャンバ27の内部を減圧又は加圧することが可能である。特に、圧力調整機30は、多孔板22を隔て、液体fで満たされた液体回収ノズル6の内部圧力が、液体回収ノズル6の外部圧力に対して負圧かつ泡立ち点以下(バブルポイント以下)の圧力になるように、圧力チャンバ27の内部の圧力を調整する。ここで、「泡立ち点」とは、多孔板22におけるメニスカスが崩壊する圧力のしきい値を意味する。
圧力チャンバ27の内部圧力は、気体gを外部に排出又は内部に導入することにより調整される。気体gとしては、外部雰囲気の気体と同じ組成の気体、又は、不活性ガスである窒素ガス(N2)が用いられる。ただし、これらに限定されるものではなく、他の気体を用いてもよい。
図1に示される液体回収装置20では、容器23における液面28の位置は、重力方向100に対し、多孔板22より上方方向に位置している。すなわち、容器23に満たされた液体fの液面28は、多孔板22より高い位置にある。多孔板22の位置を基準とした液面28の高さhを用いて、多孔板22のメニスカス部より極内側にかかる液体fの圧力Pcは、上述の式(1)から導くことができる。
本実施例において、圧力チャンバ27の内圧が多孔板22の周囲における雰囲気の圧力に等しい場合、圧力Pcは正の圧力を示す。すなわち、圧力チャンバ27の内圧と外部の雰囲気の圧力とが等しい場合、多孔板22に対する液面28の高さhが正の値を有するとき、圧力Pcは正の圧力を示す。一方、多孔板22に対する液面28の高さhが負の値を有するとき、圧力Pcは負の値を示す。このため、液体fを多孔板22から圧力チャンバ27の内部に設けられた容器23へ移動させるには、圧力チャンバ27の内部の圧力Pcは、負の圧力に設定する必要がある。
そこで、図1に示されるように、高さhが正の値を示す場合には、圧力Pcを負の圧力とするため、圧力チャンバ27の内部圧力を、圧力調整機30により減圧制御し、圧力Pcを負の圧力に設定する。
なお、容器23から溢れて圧力チャンバ27の底部に溜まった液体fは、排水管33を介して排水ポンプ32により圧力チャンバ27から排水される。
次に、本実施例における液体回収ノズルについて詳細に説明する。図2は、本実施例における液体回収ノズル6の拡大図である。
図2に示されるように、ウエハ9が多孔板22と対向するように配置されている。不図示の液体供給装置を用いて多孔板22とウエハ9との間に液体fが供給されると、多孔板22に形成されていたメニスカス34は崩壊する。メニスカス34が崩壊すると、多孔板22とウエハ9との間に供給された液体fは、圧力Pcよりも若干高い(雰囲気の圧力に近い)負の圧力により吸引される。このため、多孔板22の孔25を介して吸引された液体fは、回収管17を介して排出口26から押し出されるように容器23へ排出される。
容器23は、液面28が一定となるように満水状態を維持するため、液面28の位置は、液体fの表面張力分だけ僅かに変化するのみであり、液体fは容器23から溢れ出る。多孔板22とウエハ9との間に挟まれた領域の液体fがなくなると、多孔板22にはメニスカス34が再び形成されるため、液体回収ノズル6は、その内部に液体fを満たした状態が維持できる。
次に、本発明の実施例2における液体回収装置について説明する。図3は、本実施例における液体回収装置20aの概略構成図である。
本実施例の液体回収装置20aでは、多孔板22の位置を基準とした液面28の位置が重力方向100に対して下側に配置されるという点で、実施例1の液体回収装置20とは異なる。液体回収装置20aでは、容器23に溜まった液体fの液面28は、多孔板22より下側に位置するため、多孔板22に対する液面28の高さhは負の値を示す。
したがって、上述の式(1)より、圧力Pcは負の値となる。このように、圧力Pcが負の値をとる場合でも、高さhにより発生する圧力Pcが液体fの回収に必要な圧力を得られないとき、圧力調整機30を用いて圧力チャンバ27の内部が負圧になるように制御する。
一方、高さhにより発生する圧力Pcがメニスカス34にて保持可能な圧力を上回る場合には、メニスカス34にて保持可能な圧力まで圧力Pcを小さくする。このとき、圧力調整機30を用いて圧力チャンバ27の内部を陽圧とし、メニスカス34が形成できる圧力Pcまで上昇させるように圧力チャンバ27の内部圧力を制御する。
次に、本発明の実施例3における液体回収装置について説明する。図4は、本実施例における液体回収装置21の概略構成図である。
本実施例の液体回収装置21は、液体回収ノズル6aの多孔板22が重力方向100に対して上方に配置されている点で、実施例2(図3)の液体回収装置20aとは異なる。なお、本実施例において、多孔板22の方向は上方に限定されるものではなく、例えば、斜め又は横向きに配置されるものでもよい。
液体回収装置21では、実施例2と同様に、容器23に溜まった液体fの液面28は多孔板22より下側に位置する。このため、多孔板22に対する液面28の高さhは負の値を示す。
圧力Pcが負の値をとる場合でも、高さhにより発生する圧力Pcが液体fの回収に必要な圧力を得られないとき、圧力調整機30を用いて圧力チャンバ27の内部が負圧になるように制御する。
一方、圧力Pcがメニスカス34にて保持可能な圧力を上回る場合には、メニスカス34にて保持可能な圧力まで圧力Pcを小さくする。このとき、圧力調整機30を用いて圧力チャンバ27の内部を陽圧とし、メニスカス34が形成できる圧力Pcまで上昇させるように圧力チャンバ27の内部圧力を制御する。
次に、本発明の実施例4における液体回収装置について説明する。図5は、本実施例における液体回収装置20bの概略構成図である。
本実施例の液体回収装置20bでは、実施例1の液体回収装置20(図1)に、気圧センサ39a、39b、及び、圧力制御部36が追加されている。気圧センサ39aは液体回収ノズル6の近傍に配置され、また、気圧センサ39bは圧力チャンバ27の周辺に配置されている。また、圧力制御部36は、気圧センサ39a、39bで検出される気圧に基づいて、液体回収ノズル6の近傍及び圧力チャンバ27の周辺の両空間における差圧を算出する。
圧力制御部36により算出された差圧は、圧力調整機30へ出力される。圧力調整機30は、圧力チャンバ27の内部圧力と液体回収ノズル6の近傍の外部圧力との差圧が一定となるように、圧力チャンバ27の内部圧力を調整する。
通常、圧力調整機30による圧力調整は、圧力チャンバ27の近傍における外部の圧力と、圧力チャンバ27の内部圧力との差に基づいて制御される。このため、圧力チャンバ27の近傍における圧力と液体回収ノズル6の近傍における圧力との間に差圧が生じている場合、この差圧を補正することが望ましい。
本実施例においては、圧力制御部36がこの差圧を補正して圧力調整機30を制御する。このため、圧力調整機30は、圧力チャンバ27の内部圧力と液体回収ノズル6の外部の圧力との差圧に基づいて、圧力チャンバ27の内部圧力を調整することができる。この結果、本実施例の液体回収装置20bによれば、より高精度な圧力調整が可能となる。
このように、圧力調整機30は、圧力制御部36から入力された両空間の差圧に基づいて、圧力チャンバ27の圧力目標値を補正する。圧力目標値は、気圧センサ39aにより得られた値を雰囲気の気圧の基準とし、両空間の差圧分だけ補正される。
本実施例の構成は、液体回収ノズル6と圧力チャンバ27とがそれぞれ異なる圧力空間に配置される場合に特に有効である。なお、両空間の差圧は、気圧センサ39a、39bの2つのセンサを用いず、1つの差圧センサを用いて測定してもよい。
また、本実施例における差圧補正は、後述する実施例5又は実施例6と組み合わせて実行されることがより好ましい。
次に、本発明の実施例5における液体回収装置について説明する。図6は、本実施例における液体回収装置20cの概略構成図である。
本実施例の液体回収装置20cでは、実施例1の液体回収装置20(図1)に、圧力センサ35(圧力検出部)及び圧力制御部36が追加されている。圧力センサ35は、液体回収ノズル6(多孔板22)の近傍における液体fの圧力を検出する。圧力センサ35で検出される液体fの圧力は、圧力制御部36へ出力される。圧力制御部36は、圧力センサ35により検出される液体fの圧力が一定となるように、圧力調整機30の目標圧力を制御する。圧力調整機30は、圧力制御部36からの制御信号に基づいて、圧力チャンバ27の内部の圧力を調整する。
液体fが多孔板22を通して回収されるとき、回収管17の内部には液体fの流れによる圧力損出が発生する。圧力調整機30は、圧力センサ35で検出される液体fの圧力が変化しないように、圧力チャンバ27の内部の圧力を調整する。この目的は、圧力チャンバ27の内部における圧力Pcを変化させないことである。
液体fの流れにより特に回収管17部で圧力損失が発生するが、この圧力損出を相殺するように圧力チャンバ27の内部における圧力を制御することで、液体fの回収能力(流量)を向上させることが可能となる。
次に、本発明の実施例6における液体回収装置について説明する。図7は、本実施例における液体回収装置20dの概略構成図である。
本実施例の液体回収装置20dでは、実施例5の液体回収装置20c(図6)に、液体供給手段として液体供給装置37及び配管38が追加されている。配管38は液体回収ノズル6に接続されており、液体供給装置37は配管38を介して液体回収ノズル6に接続されている。また、液体回収装置20dでは、圧力センサ35(圧力検出部)で検出される液体fの圧力に基づいて制御する対象が、実施例5の液体回収装置20cとは異なる。すなわち、実施例5の圧力制御部36は圧力チャンバ27の内部圧力を制御しているが、本実施例の圧力制御部36は、液体供給装置37を制御する流量制御部として用いられる。
本実施例では、多孔板22を通して液体fが回収されていないとき、圧力制御部36(流量制御部)は、圧力センサ35の検出結果に基づいて、液体供給装置37から供給される液体f’の流量を制御する。液体供給装置37は、圧力制御部36から入力された制御信号に基づいて、所定流量の液体f’を液体回収ノズル6の内部へ流す。例えば、圧力制御部36は、圧力センサ35で検出される圧力が一定となるように、液体f’の流量を制御する。
液体f’は、液体fと略同一の組成を有する。ここで、「略同一」とは、液体f’が液体fと全く同一の組成であるだけでなく、実質的に同一と評価される組成をも含むこと意味する。
図2に示されるように、多孔板22とウエハ9との間に液体fが供給されると、多孔板22に形成されていたメニスカス34は崩壊する。メニスカス34が崩壊すると、多孔板22とウエハ9との間に挟まれた液体fは、圧力Pcよりも若干高い(雰囲気の圧力側に近い)負の圧力により、液体回収ノズル6の内部へ吸引される。そして、多孔板22の孔25を通過して吸引された液体fは、回収管17を介して排出口26から押し出されるように排出される。このとき、回収管17を流れる液体fの流量が増加するため、回収管17にて発生する圧力損出が増し、液体fの移動の妨げとなる。
本実施例では、圧力センサ35で検出される液体fの圧力が一定となるように、圧力制御部36及び液体供給装置37を用いて配管38から液体回収ノズル6に供給される液体fの流量を調整する。このような制御により、回収管17により発生する圧力損出を抑制し、安定した液体fの回収が可能となる。
同時に、本実施例では、液体回収ノズル6の内部に液体fを供給することで、液体回収ノズル6の内部の液体fや、回収管17及び容器23の内部の液体fが常にクリーンな状態を保つことができる。このため、各箇所におけるバクテリアの発生を抑制することが可能となる。特に、ウエハ9や投影光学系4の近傍に位置する液体回収ノズル6の内部の汚染を軽減することは、露光欠陥に代表されるプロセスエラーの抑制にも繋がる。
なお、本実施例の液体回収装置20cでは、液体fを供給するための配管38を液体回収ノズル6に接続しているが、これに限定されるものではない。例えば、配管38を回収管17に接続することにより、圧力損出を抑制することも可能である。本実施例の液体f’は、液体回収ノズル6又は回収管17のいずれかに供給されればよい。
また、圧力センサ35は、液体回収ノズル6の内部又は液体回収ノズル6近傍における回収管17の内部の圧力と、多孔板22の外部の雰囲気との圧力差を測定するように構成してもよい。
次に、本発明の実施例7における液体回収装置について説明する。図8A乃至図8Eは、本実施例における液体回収装置20eの概略構成図である。また、図8A乃至図8Eは、回収管17及び液体回収ノズル6に液体fを満たすための工程を時系列で示している。
本実施例の液体回収装置20eには、実施例1の液体回収装置20(図1)に、弁40a、40bが追加されている。弁40aは、回収管17の途中に配置されている。また、弁40aよりも液体回収ノズル6側において回収管17は分岐されており、分岐した分岐管17aを介して弁40bが配置されている。
図8Aに示されるように、最初の状態では、回収管17及び液体回収ノズル6のいずれにも液体fは満たされていない。この状態で、弁40aを閉じ、弁40bを開ける。また、不図示の液体供給装置から液体fを分岐管17aに圧送する。弁40bが開いているため、液体fは弁40bを介して分岐管17aから回収管17へ供給される。
図8Bに示されるように、弁40bは閉じているため、液体fは回収管17の内部において液体回収ノズル6の方向に向かって移動する。その後、図8Cに示されるように、液体fは液体回収ノズル6の内部に存在する気体gを押し出し、液体回収ノズル6の内部は液体fにより満たされる。
多孔板22を通過してウエハ9側に漏れ出た液体fは、不図示の液体回収機構により回収される。または、液体を回収する不図示の受け皿がウエハ9やウエハステージ10の代わりに液体回収ノズル6の下部に移動し、液体fをこの受け皿へ排水するように構成してもよい。
次に、弁40aを開ける。弁40aを開けると、図8Dに示されるように、回収管17のうち弁40aと容器23との間の部分に残った気体gを押し出し、回収管17の部分を液体fで満たす。その後、弁40bを閉じる。
弁40bを閉じると、多孔板22に面した液体fは多孔板22を介して回収される。このとき、液体回収装置20eは図8Eに示される状態となり、液体fを回収管17及び液体回収ノズル6に充填する工程は完了する。
本実施例では、回収管17から多孔板22を備えた液体回収ノズル6へ液体fを流し、多孔板22を介し液体回収ノズル6から液体fとともに回収管17内の気体gを押し出すことにより、回収管内を液体fで満たす。このように、本実施例の構成によれば、回収管17の内部を容易に液体fで満たすことが可能となる。
次に、本発明の実施例8における液体回収装置について説明する。図9A乃至図9Dは、本実施例における液体回収装置20fの概略構成図である。また、図9A乃至図9Dは、回収管17及び液体回収ノズル6に液体fを満たすための工程を時系列で示している。
図9は、実施例7の液体回収装置20e(図8A乃至図8E)の弁40a、40bの代わりに、不図示の液体供給装置からの流れを開閉する弁42を配管41の途中に配置する。また、配管41の先端を容器23の内部に挿入し、その端面が常に液体fに満たされるように配管41を配置する。
図9Aに示されるように、弁42を開けると、不図示の液体供給装置から配管41に液体fが流れ、液体fが容器23に供給される。このとき、圧力調整機30により圧力チャンバ27の内部圧力を上昇させると、図9Bに示されるように、液体fは回収管17から液体回収ノズル6に向かって移送される。
次第に、液体fは液体回収ノズル6内の空間を満たす。多孔板22を通過してウエハ9側に漏れ出た液体fは、不図示の液体回収機構により回収される。または、実施例7の場合と同様に、不図示の受け皿へ排水してもよい。
次に、図9Cに示されるように、圧力チャンバ27の内部圧力を多孔板22でメニスカスが形成される圧力まで低下させる。また、弁42を閉じて、液体fの容器23への供給を停止する。
図9Dに示されるように、多孔板22に面した液体fは、多孔板22を介して回収され、液体fを充填する工程は完了する。
次に、本発明の実施例9における液体回収装置について説明する。図10は、本実施例における液体回収装置20gの概略構成図である。
本実施例の液体回収装置20gは、実施例7の液体回収装置20e(図8A乃至図8E)に、界面活性剤を添加した液体やフッ素系溶剤等の洗浄液cを供給する配管17b及び弁40cが追加されている。配管17b及び弁40cは、回収管17から液体回収ノズル6へ洗浄液cを流す洗浄液供給部として用いられる。
ウエハ9の表面から剥離するレジスト剥離片等が多孔板22に付着し、再び多孔板22から剥離したコンタミ(汚染物質)がウエハ9上に再付着すると、露光欠陥が生じる。このため本実施例では、露光欠陥の原因となるコンタミを洗い流し、又は、溶かして除去するため、洗浄液cを配管17b及び回収管17を介して液体回収ノズル6の内部や多孔板22を洗浄する。
具体的には、弁40a、弁40bを閉じた状態で、弁40cを開け、不図示の洗浄液供給装置から洗浄液cを配管17bへ圧送する。圧送された洗浄液cは配管17b及び回収管17を通り、液体回収ノズル6、及び、多孔板22を介して排出される。排出された液体cは、不図示のウエハステージ10上の回収機構や、液体回収ノズル6の周囲に配置される不図示の液体回収機構により回収される。または、受け皿を搬送してこの受け皿へ洗浄液cを排水してもよい。
洗浄液cを回収管17へ流した後は、十分なリンスが必要である。弁40cを閉じて洗浄液cの供給を停止した後、弁40bを開け、液体fを液体回収ノズル6へ圧送してリンスすることが好ましい。また、弁40aも開け、圧力チャンバ27の内部に混入する洗浄液cもリンスすることが好ましい。
次に、本発明の実施例10における液体回収装置について説明する。図11は、本実施例における多孔板22の概略構成図である。
図11に示されるように、本実施例の多孔板22の表面は、親水性部材22aでコーティングされている。具体的には、液体回収ノズル6の内側に位置する面、及び、メニスカスを形成する多孔板22の孔25の側面は、接触角90°未満の親水性部材22aでコーティングされており、メニスカスにより発生しうる力を増大させることが可能になる。なお、親水性部材22aを用いる代わりに、親水性の表面処理を行ってもよい。親水性部材22aは、図11中において、太線にて表されている。
一方、多孔板22の外側に位置する部分は、接触角90°以上の疎水性部材をコーティングするか、又は、疎水性の表面処理を行うことにより、多孔板22の下面へ液体fが付着して残留することを効果的に防止することができる。
このように、多孔板22の表面において、外部の雰囲気との接触面での接触角は90°よりも大きく、液体fで満たされた面及び多孔板22の孔25の側面での接触角は90°未満であることが好ましい。
以上に述べた各実施例においては、液体回収ノズル6に多孔板22を用いた場合について説明した。ただしこれに限定されるものではなく、例えば、多孔板22の代わりに、小さな粒子を焼結して形成された多孔質体を含む多孔部材を用いてもよい。
多孔質体を用いた場合には、多孔質体の材質又は表面処理により親水性を示すように各小孔の内面を処理することが好ましい。
次に、本発明の実施例11における液浸露光装置について説明する。図13は、本実施例における液浸露光装置の概略構成図である。本実施例の液浸露光装置には、液体回収装置20、21(液体回収部200、210)が設けられている。液体回収部200、210は、それぞれ、容器23、容器23を内包した圧力チャンバ27、圧力チャンバ27の内部圧力を調整する圧力調整機30等を備えている。
ArFエキシマレーザやEUV等の露光光源(不図示)から射出された光は、照明光学系2に供給される。照明光学系2は、露光光源から供給された光を用いて、原版であるレチクル1の一部を、スリット通過した断面形状を有するスリット光により照明する。
スリット光によってレチクル1を照明している間、レチクル1を保持しているレチクルステージ3(原版ステージ)とウエハ9(基板)を保持するウエハステージ10(基板ステージ)は、一方が他方に同期しながらスキャン移動する。このような同期スキャンにより、結果として、レチクル1上のパターン全体が投影光学系4を介してウエハ9上に連続的に結像し、ウエハ9の表面に塗布されたレジストを感光させる。
レチクルステージ3は定盤14に支持され、ウエハステージ10もまた定盤15にて支持されている。
レチクルステージ3やウエハステージ10の二次元的な位置は、参照ミラー11とレーザ干渉計12によってリアルタイムに計測される。この計測値に基づいて、ステージ制御装置13は、レチクル1(レチクルステージ3)やウエハ9(ウエハステージ10)の位置決めや同期制御を行う。
ウエハステージ10には、ウエハ9の上下方向(鉛直方向)の位置や回転方向、傾きを調整、変更或いは制御する駆動装置が内蔵される。
露光時は、この駆動装置により投影光学系4の焦点面にウエハ9上の露光領域が常に高精度に合致するようにウエハステージ10が制御される。ここで、ウエハ9上の面の位置(上下方向位置と傾き)は、不図示の光フォーカスセンサーによって計測され、ステージ制御装置13に供給される。
露光装置本体は、不図示の環境チャンバの中に設置されており、露光装置本体を取り巻く環境が所定の温度に保たれる。
レチクルステージ3、ウエハステージ10、レーザ干渉計12を取り巻く空間や、投影光学系4を取り巻く空間には、更に個別に温度制御された空調空気が吹き込まれて、環境温度が更に高精度に維持される。
本実施例において、投影光学系4の最終レンズとウエハ9との間の空間(隙間)を液体で満たす液浸法は、ウエハ9の上方かつ投影光学系4の近傍に配置された液体供給ノズル5と、液体供給ノズル5の外側に配置された液体回収ノズル6によって実現される。さらに、不図示のウエハステージ10内に配置される吸引口によって実現される。
本実施例における露光装置は、例えば、露光光として紫外線を用い、投影光学系と基板であるウエハ間を液体で満たす液浸法が提供されるあらゆる露光方法及び露光装置に効果的に用いられる。
そのような露光装置には、例えば、基板を静止させた状態で基板に原版のパターンを投影転写する露光装置や、基板と原版とを同期スキャンしながら基板に原版のパターンをスリット光によりスキャン露光する露光装置が含まれる。
次に、図14を参照して、本実施例の液浸露光装置における液体供給装置及び液体回収装置について、詳細に説明する。図14は、本実施例における液浸露光装置の要部拡大図である。
液体供給ノズル5は、供給管16を介して液体供給部7と接続されている。液体供給部7には流量計24及び弁29が含まれる。弁29は、液体fの流量を調整し、液体fの流れを止めることができる。液浸制御装置19は、流量計24の情報に基づいて、液体fの流量が一定になるように弁29を制御する。
液体供給部7は、例えば液体を貯めるタンク、液体を送り出す圧送装置、液体の供給流量の制御を行う流量制御装置、液体の供給及び停止を制御する制御弁を含む場合もある。液体供給部7は、更に、液体fの供給温度を制御するための温度制御装置を含むことが好ましい。液体供給部7は、液体供給ノズル5及び供給管16等とともに液体供給装置を構成する。
液体回収ノズル6は、回収ラインである回収管17を介して液体回収部200と接続されている。また、ウエハステージ10側に設けられている液体回収ノズル6aは、回収ラインである回収管18を介して液体回収部210と接続されている。液体回収部200は、液体回収ノズル6及び回収管17等とともに液体回収装置を構成する。同様に、液体回収部210は、液体回収ノズル6a及び回収管18とともに液体回収装置を構成する。
本実施例において、液体回収部200、210を複数設けてもよく、また、液体回収部200へ複数の回収ラインである回収管17を接続してもよい。また、液体回収部200、210は、圧力チャンバの圧力を調整する圧力調整機30と、回収した液体を排水する排水ポンプを有する。
液浸制御装置19は、ウエハステージ10の現在位置、速度、加速度、目標位置、移動方向等の情報をステージ制御装置13から受け取る。液浸制御装置19は、これらの情報に基づいて、液浸の開始や停止、流量等の制御指令を液体供給部7及び液体回収部200、210に与える。
また、液浸制御装置19は、液体回収部200、210の圧力センサ35や圧力調整機30からの圧力情報を監視し、液体fを回収できない圧力状態であるか否かの異常判定を行うためのトレランス(許容範囲)を有する。制御部である液浸制御装置19は、圧力調整機30から得られる情報がトレランス(許容範囲)を超えた場合、弁29の開閉を制御して、最終レンズと基板との間(最終レンズの下部)に液体fを供給することを停止する。
本実施例の露光装置は、液体回収部200、210を複数有し、各々の液体回収装置は、圧力検出部である圧力センサ35や、圧力調整機30を備える。
さらに、液浸制御装置19は、1つ以上の圧力検出部である圧力センサ35の情報のうち、いずれか1つ又は複数、又は、全ての情報に基づいてトレランスの判定を行う。
液浸用の液体fは、露光光の吸収が少ないものから選ばれ、更に、石英や蛍石等の屈折系光学素子とほぼ同程度の屈折率を有することが望ましい。具体的には、液浸用の液体fとしては、純水、機能水、フッ化液(例えば、フルオロカーボン)等が候補として挙げられる。
液浸用の液体fは、予め脱気装置を用いて溶存ガスが十分に除去されていることが好ましい。これは、気泡の発生を抑制し、また、気泡が発生しても即座に液体中に吸収されるためである。例えば、環境気体中に多く含まれる窒素、酸素を対象とし、液体に溶存可能なガス量の80%以上を除去すれば、気泡の発生を十分抑制することができる。
本実施例の露光装置は、不図示の脱気装置を備え、常に液体中の溶存ガスを除去しながら液体供給部7に液体fを供給してもよい。脱気装置としては、例えば、ガス透過性の膜を隔てて一方に液体を流し、他の一方を真空にして液体中の溶存ガスをその膜を介して真空中に追い出す真空脱気装置が好適である。
また、液体供給ノズル5、液体回収ノズル6、及び、投影光学系4の最終レンズの汚れを除去するため、界面活性剤等を添加した洗浄液cを用いることもできる。
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)は、前述のいずれかの実施例の露光装置を使用して感光剤を塗布した基板(ウエハ、ガラスプレート等)を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。
本実施例によれば、容器の液面の高さに関する制約を軽減し、安定して液体を回収する液体回収装置及び露光装置を提供することができる。このため、本実施例によれば、装置フットプリントを改善し、スループットを向上させることが可能となる。
また、本実施例によれば、液漏れによる装置の故障、漏電又は錆による不具合を引き起こすことを未然に防ぐことができ、安定した露光処理を実施する液体回収装置及び露光装置を提供することができる。
また、本実施例によれば、安定してスループットを向上させたデバイス製造方法を提供することができる。
以上、本発明の実施例について具体的に説明した。ただし、本発明は
上記実施例として記載された事項に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。
上記実施例として記載された事項に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。
1:レチクル
2:照明光学系
3:レチクルステージ
4:投影光学系
5:液体供給ノズル
6:液体回収ノズル
7:液体供給装置
8:排水ライン
9:ウエハ
10:ウエハステージ
11:参照ミラー
12:測距用レーザ干渉計
13:ステージ制御装置、
14,15:定盤
16:供給管
17:回収管
18:回収管
19:液浸制御装置
20、21:液体回収装置
22:多孔板
23:容器
24:流量計
25:孔
26:排出口
27:圧力チャンバ
28:液面
29:弁
30:圧力調整機
31:配管
32:排水ポンプ
33:排水管
34:メニスカス
35:圧力センサ
36:圧力制御部
37:液体供給装置
38:配管
39a、39b:気圧センサ
40a、40b、40c:弁
41:配管
100:重力方向
f:液体
g:気体
c:洗浄液
h:高さ
Pc:メニスカスより液体fに極内側の圧力
2:照明光学系
3:レチクルステージ
4:投影光学系
5:液体供給ノズル
6:液体回収ノズル
7:液体供給装置
8:排水ライン
9:ウエハ
10:ウエハステージ
11:参照ミラー
12:測距用レーザ干渉計
13:ステージ制御装置、
14,15:定盤
16:供給管
17:回収管
18:回収管
19:液浸制御装置
20、21:液体回収装置
22:多孔板
23:容器
24:流量計
25:孔
26:排出口
27:圧力チャンバ
28:液面
29:弁
30:圧力調整機
31:配管
32:排水ポンプ
33:排水管
34:メニスカス
35:圧力センサ
36:圧力制御部
37:液体供給装置
38:配管
39a、39b:気圧センサ
40a、40b、40c:弁
41:配管
100:重力方向
f:液体
g:気体
c:洗浄液
h:高さ
Pc:メニスカスより液体fに極内側の圧力
Claims (15)
- 液体を回収する液体回収装置であって、
多孔部材を有する回収口と、
前記液体で満たされた回収容器と、
一端が前記回収口に接続され、他端が前記回収容器の内部に設けられた回収管と、
外部に前記回収口を配置し、内部に前記回収容器を配置する圧力チャンバと、
前記圧力チャンバの内部圧力を調整する圧力調整部と、を備えることを特徴とする液体回収装置。 - 前記圧力調整部は、前記液体で満たされた前記多孔部材を隔て、前記回収口の内部圧力が該回収口の外部圧力に対して負圧かつ泡立ち点以下の圧力になるように、前記圧力チャンバの内部圧力を調整することを特徴とする請求項1記載の液体回収装置。
- 前記圧力調整部は、前記圧力チャンバの内部圧力と前記回収口の近傍の外部圧力との差圧が一定となるように、該圧力チャンバの内部圧力を調整することを特徴とする請求項2記載の液体回収装置。
- さらに、前記回収口の近傍における前記液体の圧力を検出する圧力検出部と、
前記圧力検出部で検出される前記液体の圧力が一定となるように前記圧力調整部を制御する圧力制御部と、を備えることを特徴とする請求項1又は2記載の液体回収装置。 - さらに、前記回収口又は前記回収管に前記液体を供給する液体供給手段を備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記載の液体回収装置。
- 前記回収管から前記回収口へ前記液体を流し、該多孔部材を介して該回収口から該液体とともに該回収管内の気体を押し出すことにより、該回収管内を該液体で満たすことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一に記載の液体回収装置。
- 液体を回収する液体回収装置であって、
多孔部材を有する回収口と、
前記液体で満たされた回収容器と、
一端が前記回収口に接続され、他端が前記回収容器の内部に設けられた回収管と、
前記回収口の近傍における前記液体の圧力を検出する圧力検出部と、
前記回収口又は前記回収管に前記液体を供給する液体供給手段と、
前記圧力検出部の検出結果に基づいて、前記液体供給手段から供給される前記液体の流量を制御する流量制御部と、を備えることを特徴とする液体回収装置。 - 前記流量制御部は、前記圧力検出部で検出される前記液体の圧力が一定となるように、前記液体供給手段から供給される前記液体の流量を制御することを特徴とする請求項7記載の液体回収装置。
- 前記多孔部材は、粒子を焼結して形成された多孔質体を含むことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一に記載の液体回収装置。
- さらに、前記回収管から前記回収口へ洗浄液を流す洗浄液供給部を備えることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一に記載の液体回収装置。
- 前記多孔部材の表面において、外部雰囲気との接触面での接触角は90°よりも大きく、前記液体で満たされた面及び該多孔部材の孔の側面での接触角は90°未満であることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一に記載の液体回収装置。
- 前記回収容器に満たされた前記液体の液面は、前記回収口より高い位置にあることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一に記載の液体回収装置。
- 投影光学系の最終レンズと基板との間に供給された液体を介して該基板を露光する露光装置であって、
前記最終レンズと前記基板との間に前記液体を供給する液体供給装置と、
請求項1乃至12のいずれか一に記載の液体回収装置と、を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記液体供給装置は、液体供給ラインと、前記液体供給ラインの途中に設けられた弁と、前記弁の開閉を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記圧力調整部から得られる情報が許容範囲を超えた場合、前記弁の開閉を制御して、前記最終レンズと前記基板との間に前記液体を供給することを停止することを特徴とする請求項13記載の露光装置。 - 請求項13又は14記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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