JP2012506641A - 複数の多孔質材料を用いた多孔質材料における真空制御装置及び制御方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (46)
- 液浸リソグラフィシステムにおける投影系と露光対象物との間のギャップを含む液浸領域に浸液を保持するため、また前記液浸領域から前記浸液を回収するための浸液保持装置であって、
出口部と、前記対象物に投影されるパターン像が通過する開口とを含む保持部材と、
前記出口部を覆うとともに、前記対象物に面する第1面と、第1チャンバと接しかつ前記第1面と対向する第2面とを有する、第1液体透過性部材と、
前記第1液体透過性部材の前記第2面に隣接しかつ離間して配置される第2液体透過性部材であり、前記第1液体透過性部材の前記第2面に面する第1面と、前記第2液体透過性部材の前記第1面と対向する第2面とを有するとともに、前記第2液体透過性部材の前記第2面が前記第1チャンバと異なる第2チャンバと接する、前記第2液体透過性部材と、を備えた装置。 - 前記第2液体透過性部材と前記第1液体透過性部材との間の距離が、前記第2液体透過性部材の前記第1面における異なる複数の部分で変化する請求項1記載の装置。
- 前記第2液体透過性部材の前記第1面が凸である請求項2記載の装置。
- 前記第2液体透過性部材が前記第1液体透過性部材に対して傾斜している請求項2記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材および前記第2液体透過性部材の少なくとも一つがメッシュである請求項1記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材および前記第2液体透過性部材の少なくとも一つが多孔質材である請求項1記載の装置。
- 前記多孔質材がスポンジである請求項6記載の装置。
- 前記多孔質材が、その中を通して伸びる複数の孔を有するプレートである請求項6記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材の前記第2面と前記第2液体透過性部材の前記第1面の間との距離が、少なくとも約3mmである請求項1記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材と前記第2液体透過性部材とは、孔のサイズ、厚さ、および空隙率のうち少なくとも一つが異なる請求項1記載の装置。
- 液浸リソグラフィシステムにおける投影系と露光対象物との間のギャップを含む液浸領域内に浸液を保持するため、また前記液浸領域から前記浸液を回収するための浸液保持装置であって、
出口部と、前記対象物に投影されるパターン化された像が通過する開口とを含む保持部材と、
前記出口部を覆うとともに、前記対象物に面する第1面と、第1チャンバと接しかつ前記第1面と対向する第2面を有する、第1液体透過性部材と、
対向する第1面及び第2面を有する第2液体透過性部材であり、前記第2液体透過性部材の前記第1面が前記第1チャンバと接するとともに、前記第2液体透過性部材の前記第2面が前記第1チャンバと異なる第2チャンバと接する、前記第2液体透過性部材と、を備えた装置。 - 前記第1液体透過性部材が水平に配置され、前記第2液体透過性部材の前記第1面が前記第1液体透過性部材の前記第2面に対して垂直方向に離れた位置に配置される、請求項11記載の装置。
- 前記第2液体透過性部材の前記第1面と前記第1液体透過性部材の前記第2面との間の垂直方向の距離が、前記第2液体透過性部材の前記第1面における異なる複数の部分で変化する請求項12記載の装置。
- 前記第2液体透過性部材の前記第1面が凸である請求項13記載の装置。
- 前記第2液体透過性部材が前記第1液体透過性部材に対して傾斜している請求項13記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材および前記第2液体透過性部材の少なくとも一つがメッシュである請求項11記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材および前記第2液体透過性部材の少なくとも一つが多孔質材である請求項11記載の装置。
- 前記多孔質材がスポンジである請求項17記載の装置。
- 前記多孔質材が、その中を通して伸びる複数の孔を有するプレートである請求項17記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材の前記第2面と前記第2液体透過性部材の前記第1面との間の垂直方向の距離が、少なくとも約3mmである請求項11記載の装置。
- 最終光学素子を有する投影系と、
可動ステージであり、前記最終光学素子と前記可動ステージの表面との間にギャップが存在しかつ前記表面と前記最終光学素子との間の前記ギャップに浸液が満たされるように前記投影系の下方位置に移動可能な、前記可動ステージと、
前記表面と前記最終光学素子との間に液浸を維持する保持部材と、を備え、
前記保持部材は、
出口部と、
前記投影系によって前記浸液を通じて前記可動ステージ上に投影されるパターン像が通過する開口と、
前記出口部を覆うとともに、前記ステージの前記表面と面する第1面と、第1チャンバと接し前記第1面と対向する第2面とを有する、第1液体透過性部材と、
前記第1液体透過性部材の前記第2面に隣接しかつ離間して配置される第2液体透過性部材であり、前記第1液体透過性部材の前記第2面に面する第1面と、前記第2液体透過性部材の前記第1面と対向する第2面とを有するとともに、前記第2液体透過性部材の前記第2面が前記第1チャンバと異なる第2チャンバと接する、前記第2液体透過性部材と、
を有する、液浸リソグラフィ装置。 - 前記第1液体透過性部材の前記第1面から前記第1液体透過性部材の前記第2面へ前記第1液体透過性部材内を通して、前記浸液を前記第1チャンバ内に吸引するように、前記第1チャンバに接続された第1真空系をさらに備える請求項21記載の装置。
- 前記第2チャンバに接続された第2真空系をさらに備え、前記第2真空系によって前記第2液体透過性部材内を通して前記第1チャンバから前記第2チャンバに前記浸液を吸引する、請求項22記載の装置。
- 前記第2液体透過性部材と前記第1液体透過性部材との間の距離が、前記第2液体透過性部材の前記第1面の異なる複数の部分で変化する請求項21記載の装置。
- 前記第2液体透過性部材の前記第1面が凸である請求項24記載の装置。
- 前記第2液体透過性部材が前記第1液体透過性部材に対して傾斜している請求項24記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材および前記第2液体透過性部材の少なくとも一つがメッシュである請求項21記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材および前記第2液体透過性部材の少なくとも一つが多孔質材である請求項21記載の装置。
- 前記多孔質材がスポンジである請求項28記載の装置。
- 前記多孔質材が、その中を通して伸びる複数の孔を有するプレートである請求項28記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材の前記第2面と前記第2液体透過性部材の前記第1面との間の距離が、少なくとも約3mmである請求項21記載の装置。
- 前記第1液体透過性部材と前記第2液体透過性部材とは、孔のサイズ、厚さ、および空隙率のうち少なくとも一つが異なる請求項21記載の装置。
- 前記保持部材が前記投影系の最終光学素子を実質的に囲む請求項21記載の装置。
- 前記ステージは、基板ホルダを有し、
前記基板ホルダの上面、前記基板ホルダに保持された基板の上面、又はその両方が、前記最終光学素子との間に前記ギャップを形成する前記表面に相当する、請求項21記載の装置。 - 請求項21記載の装置における前記投影系及び浸液を通じて基板上にパターン化された像を投影して前記基板を露光することと、
露光された前記基板を現像すること、
を含むデバイス製造方法。 - 液浸リソグラフィシステムにおける投影系と露光対象物との間のギャップを含む液浸領域からの浸液回収方法であって、
前記液浸領域から前記第1液体透過性部材内を通じて保持部材の少なくとも一部の範囲内に配置される第1チャンバ内に前記浸液を吸引する工程であり、前記保持部材は、出口部と、対象物に投影されるパターン像が通過する開口とを有し、前記出口部は、前記出口部を覆う前記第1液体透過性部材を有し、前記第1液体透過性部材は、前記対象物に面する第1面と、前記第1チャンバと接しかつ前記第1面と対向する第2面とを有する、前記工程と、
前記第1チャンバから第2液体透過性部材内を通じて第2チャンバ内に前記浸液を吸引する工程であり、前記第2液体透過性部材は、第1チャンバと第2チャンバとの間の境界に配置されかつ、前記第1液体透過性部材の前記第2面に面しかつ離間して配置される第1面と、前記第2液体透過性部材の前記第1面と対向しかつ前記第2チャンバと接する第2面とを有する、前記工程と、
を含む浸液回収方法。 - 前記第1チャンバを第1真空系に接続することにより前記浸液が前記第1液体透過性部材を通じて前記第1チャンバに吸引され、前記第2チャンバを第2真空系に接続することにより前記浸液が前記第2液体透過性部材を通じて前記第2チャンバに吸引される請求項36記載の方法。
- 前記第2液体透過性部材と前記第1液体透過性部材との間の距離が、前記第2液体透過性部材の前記第1面の異なる複数の部分で変化する請求項36記載の方法。
- 前記第2液体透過性部材の前記第1面が凸である請求項38記載の方法。
- 前記第2液体透過性部材が前記第1液体透過性部材に対して傾斜している請求項38記載の方法。
- 前記第1液体透過性部材および前記第2液体透過性部材の少なくとも一つがメッシュである請求項36記載の方法。
- 前記第1液体透過性部材および前記第2液体透過性部材の少なくとも一つが多孔質材である請求項36記載の方法。
- 前記多孔質材がスポンジである請求項42記載の方法。
- 前記多孔質材が、その中を通して伸びる複数の孔を有するプレートである請求項42記載の方法。
- 前記第1液体透過性部材の前記第2面と前記第2液体透過性部材の前記第1面との間の距離が、少なくとも約3mmである請求項36記載の方法。
- 前記第1液体透過性部材および前記第2液体透過性部材が、穴のサイズ、厚さ、および空隙率のうち少なくとも一つが異なる請求項36記載の方法。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US19301908P | 2008-10-22 | 2008-10-22 | |
US61/193,019 | 2008-10-22 | ||
US27229209P | 2009-09-09 | 2009-09-09 | |
US61/272,292 | 2009-09-09 | ||
US12/573,356 US8477284B2 (en) | 2008-10-22 | 2009-10-05 | Apparatus and method to control vacuum at porous material using multiple porous materials |
US12/573,356 | 2009-10-05 | ||
PCT/US2009/061499 WO2010048299A1 (en) | 2008-10-22 | 2009-10-21 | Apparatus and method to control vacuum at porous material using multiple porous materials |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012506641A true JP2012506641A (ja) | 2012-03-15 |
JP2012506641A5 JP2012506641A5 (ja) | 2012-12-20 |
JP5682830B2 JP5682830B2 (ja) | 2015-03-11 |
Family
ID=42108386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011533300A Expired - Fee Related JP5682830B2 (ja) | 2008-10-22 | 2009-10-21 | 複数の多孔質材料を用いた多孔質材料における真空制御装置及び制御方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8477284B2 (ja) |
JP (1) | JP5682830B2 (ja) |
KR (1) | KR101647859B1 (ja) |
CN (1) | CN102257429B (ja) |
TW (1) | TWI475329B (ja) |
WO (1) | WO2010048299A1 (ja) |
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2009
- 2009-10-05 US US12/573,356 patent/US8477284B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-21 WO PCT/US2009/061499 patent/WO2010048299A1/en active Application Filing
- 2009-10-21 JP JP2011533300A patent/JP5682830B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-21 CN CN200980151106.9A patent/CN102257429B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-21 KR KR1020117011440A patent/KR101647859B1/ko active IP Right Grant
- 2009-10-22 TW TW098135702A patent/TWI475329B/zh not_active IP Right Cessation
-
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100097585A1 (en) | 2010-04-22 |
US9329492B2 (en) | 2016-05-03 |
TW201020694A (en) | 2010-06-01 |
TWI475329B (zh) | 2015-03-01 |
KR20110087296A (ko) | 2011-08-02 |
JP5682830B2 (ja) | 2015-03-11 |
CN102257429A (zh) | 2011-11-23 |
US20130286366A1 (en) | 2013-10-31 |
US8477284B2 (en) | 2013-07-02 |
CN102257429B (zh) | 2014-04-30 |
WO2010048299A1 (en) | 2010-04-29 |
KR101647859B1 (ko) | 2016-08-11 |
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Legal Events
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A521 | Written amendment |
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A521 | Written amendment |
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A521 | Written amendment |
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