JP4072543B2 - 液浸露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
(焦点深度)=±k2λ/NA2
ここで、λは露光光の波長、NAは投影光学系の開口数、k1,k2はプロセス係数である。
(焦点深度)=±k2(λ/n)/NA2
すなわち、液浸の効果は、波長が1/nの露光光を使用することと等価である。言い換えると、同じNAの投影光学系を設計した場合、液浸により、焦点深度をn倍にすることができる。これは、あらゆるパターンの形状に対して有効であり、更に、現在検討されている位相シフト法、変形照明法などと組み合わせることも可能である。
本発明の第2の側面は、投影光学系と基板との間に液体を満たした状態で前記投影光学系を介して原板のパターンを前記基板に投影する液浸露光装置に係り、前記液浸露光装置は、前記投影光学系と前記基板との間に前記液体を供給する供給ノズルと、前記供給ノズルに前記液体を供給する供給流路と、前記供給流路から分岐し、前記供給ノズルに前記液体を供給している状態および前記供給ノズルに前記液体を供給していない状態において前記液体が流れる分岐路と、前記分岐路に配置され、前記分岐路に流れる前記液体の温度を計測する温度センサと、前記温度センサによる計測結果に基づいて前記液体の温度を調節する温度調節器と備えている。
本発明の第3の側面は、投影光学系と基板との間に液体を満たした状態で前記投影光学系を介して原板のパターンを前記基板に投影する液浸露光装置に係り、前記液浸露光装置は、前記投影光学系と前記基板との間に前記液体を供給する供給ノズルと、前記供給ノズルに前記液体を供給する供給流路と、前記供給流路から分岐し、前記供給ノズルに前記液体を供給している状態および前記供給ノズルに前記液体を供給していない状態において前記液体が流れる分岐路と、前記分岐路に配置され、前記分岐路に流れる前記液体の特性を計測する液質センサとを備えている。
本発明の好適な実施形態の液浸露光装置は、投影光学系と基板との間の液浸空間に液体を満たした状態で前記投影光学系を介して原板のパターンを前記基板に投影する露光装置として構成され、前記液浸空間に液体を供給する供給ノズルと、前記供給ノズルに液体を供給する供給流路と、前記供給流路から分岐した分岐路と、少なくとも前記供給ノズルを介して前記液浸空間に液体を供給しない状態において、前記供給流路を通して流れる液体を前記分岐路に向けて流す制御弁とを備える。
本発明の好適な実施形態によれば、前記液浸露光装置は、前記供給流路を通して流れる液体の流量をほぼ一定に維持する流量調節器を更に備えることが好ましい。
図1は、本発明の好適な実施形態の液浸型露光装置の構成を模式的に示す図である。図2は、図1に示す液浸露光装置100の制御系の構成を示す図である。照明光学系1は、不図示の露光光源から提供された光を用いてレチクル(原板)2を照明する。ここで、露光装置100をスキャンタイプの露光装置として構成する場合には、照明光学系1は、典型的には、円弧状の断面形状を有する光でレチクル2を照明する。以下では、露光装置100がスキャンタイプの露光装置(スキャナ)として構成されている例を説明するが、本発明は、非スキャンタイプの露光装置(ステッパ)としても構成されうる。
供給流路7は、供給ノズル8に向かう流路と、バイパス流路(分岐路)16とに分岐されている。供給流路7の分岐部分には、供給制御弁8が設けられている。供給ノズル8に送り込まれる液体は、そこから放出されて投影光学系4の最終面とウエハ13との間の液浸空間に供給され、回収ノズル12及び回収流路10を通して液体回収装置6によって回収される。一方、バイパス流路16に送り込まれる液体は、バイパス流路16及び回収流路10を通して液体回収装置6によって回収される。
図1に示すように、回収ノズル12で回収される液体及びバイパス流路16を通る液体を共に回収流路10を通して回収する場合には、バイパス流路16と回収ノズル12に通じる流路との合流部分に回収制御弁11を設けることが好ましい。もちろん、回収ノズル12で回収される液体を回収する装置と、バイパス流路16を通る液体を回収する装置とを別個に設けてもよい。
回収制御弁11を有しない構成においても、液体回収装置6が液体を吸引することによりバイパス流路16内の液体を液体回収装置6が回収することはできる。しかしながら、回収経路にも回収制御弁11を構成し、液浸空間への液体の供給中は図3に示すようにバイパス流路16を閉じ、液浸空間へ液体を供給しない時は図4に示すように逆流を防止するように回収ノズル12を閉じるように制御してもよい。
液浸空間への液体の供給を一時的に停止する際は、液体供給装置5のポンプ102を停止させる必要はなく、供給制御弁8を切り換えて液体をバイパス流路16側に流せばよい。その際に供給ノズル9と供給制御弁8との間に滞留する液体の量が少なくなるように、供給ノズル9のすぐ手前に供給制御弁8が配置されることが好ましい。
液体が流れる経路、例えば、バイパス流路16には、温度センサ23が配置されうる。温度センサ23は、温度制御用のフィードバックループの一部を構成する。図2に示す制御系の一例では、温度センサ23による計測結果は、主制御器20に提供され、更に、主制御器20から液制御器105に提供され、液制御器105によって温調器103が制御されて、供給流路7に供給される液体の温度が一定に維持される。なお、温度センサ23による計測結果は、液制御器105に直接提供されてもよいし、温調器103自体が制御器を有する場合には、温調器103に直接提供されてもよい。 温度センサ23は、供給流路7に配置されてもよいし、供給ノズル9又はその近傍に配置されてもよいし、回収ノズル12又はその近傍に配置されてもよいし、これらの全部又は一部に配置されてもよい。温度センサを供給流路7に配置する構成では、液浸空間とバイパス流路16に対して排他的に液体を流す(すなわち、選択される一方にのみ液体を流す)場合においても、常に液体の温度を計測することができる。温度センサを回収ノズル12又はその近傍に配置する場合には、液浸空間における液体の温度変動をフィードバックすることができる。温度センサを供給ノズル9又はその近傍及び回収ノズル12又はその近傍に配置する場合には、両温度センサによる計測結果に基づいて液浸空間における液体の温度をより高精度に推定することができる。
切替弁9は、液浸空間とバイパス流路16に対して排他的に液体を供給するのではなく、液浸空間に供給する液体とバイパス流路16に供給する液体との比率を制御するように構成されてもよい。この場合、非露光時のほか、露光時においてもバイパス流路16に液体を流すことができ、前述のように、温度センサ23をバイパス流路16に配置した場合においても、液体の温度を常時計測することができる。
ここで、供給経路7に温度センサ23を配置すると、液浸空間に供給される前の液体が温度センサ23によって汚染される可能性があるため、温度センサ23として、例えばテフロン(登録商標)等の液体に対して不活性の材料でコーティングした温度センサを採用する必要がある。しかしながら、液浸空間に供給される液体の温度制御の応答性を高速化する上でコーティングは不利である。バイパス流路16に温度センサ23を配置する構成においては、温度センサ23によって水質が悪化しても露光性能の低下を招かないので、温度センサ23のコーティングは不要であり、良好な温度制御が可能になる。
[第2実施形態]
この実施形態は、第1実施形態の変形例を提供する。ここで、特に言及しない事項、例えば、構成、原理、思想は、第1実施形態に従いうる。
例えば、図4に示すように、2つのノズル9f、12fを投影光学系4の半径方向に並べて配置した場合、液体供給装置5より送り出された液体は、供給流路7fを経由して供給ノズル9fから液浸空間に供給される。このとき、制御弁8fは、バイパス流路16fを閉じ、供給ノズル9f側を開くように制御される。液浸空間に供給された液体17は、回収ノズル12bを通して回収され、回収流路10bを経由して液体回収装置6によって回収される。このとき、制御弁8bは、供給ノズル9b側を閉じ、バイパス流路16bを開くように制御される。したがって、供給流路7fを通して液浸空間に供給される液体のほか、供給流路7bを通る液体も回収流路10bを通して回収される。
[第3実施形態]
次に上記の露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図8は、半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ2(マスク作製)では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組立て工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷(ステップ7)する。
2:レチクル
3:レチクルステージ
4:投影光学系
5:液体供給装置
6:液体回収装置
7、7f、7b:供給流路
8、8f、8b:制御弁
9、9f、9b:供給ノズル
10、10f、10b:回収流路
11:制御弁
12、12f、12b:回収ノズル
13:ウエハ
14:ウエハチャック
15:ウエハステージ
16:バイパス経路
17:液体
21 流量計
22 液質センサ
23 温度センサ
Claims (12)
- 投影光学系と基板との間に液体を満たした状態で前記投影光学系を介して原板のパターンを前記基板に投影する液浸露光装置であって、
前記投影光学系と前記基板との間に前記液体を供給する供給ノズルと、
前記投影光学系と前記基板との間から前記液体を回収する回収ノズルと、
前記供給ノズルに前記液体を供給する供給流路と、
前記供給流路から分岐した分岐路と、
少なくとも前記供給ノズルに前記液体を供給しない状態において、前記供給流路を通して流れる前記液体を前記分岐路に向けて流す制御弁と、
前記回収ノズルによって回収された液体を移送する回収流路と、
を備え、
前記分岐路は、前記回収流路に合流していることを特徴とする液浸露光装置。 - 前記制御弁は、前記供給ノズルに前記液体を供給しない状態においては、前記供給流路を通して流れる前記液体を前記分岐路に向けて流し、前記供給流路を通して流れる前記液体を前記分岐路に向けて流さない状態においては、前記供給流路を通して流れる前記液体を前記供給ノズルに供給することを特徴とする請求項1に記載の液浸露光装置。
- 前記供給流路を通して流れる前記液体の流量が一定になるようにする流量調節器を更に備えたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の液浸露光装置。
- 前記制御弁は、前記供給ノズルに前記液体を供給しない状態において、前記供給ノズルを閉鎖することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の液浸露光装置。
- 前記分岐路と前記回収流路との合流部分に、前記液体の回収のための経路を制御する回収制御弁を更に備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の液浸露光装置。
- 投影光学系と基板との間に液体を満たした状態で前記投影光学系を介して原板のパターンを前記基板に投影する液浸露光装置であって、
前記投影光学系と前記基板との間に前記液体を供給する供給ノズルと、
前記供給ノズルに前記液体を供給する供給流路と、
前記供給流路から分岐し、前記供給ノズルに前記液体を供給している状態および前記供給ノズルに前記液体を供給していない状態において前記液体が流れる分岐路と、
前記分岐路に配置され、前記分岐路に流れる前記液体の温度を計測する温度センサと、
前記温度センサによる計測結果に基づいて前記液体の温度を調節する温度調節器と、
を備えたことを特徴とする液浸露光装置。 - 投影光学系と基板との間に液体を満たした状態で前記投影光学系を介して原板のパターンを前記基板に投影する液浸露光装置であって、
前記投影光学系と前記基板との間に前記液体を供給する供給ノズルと、
前記供給ノズルに前記液体を供給する供給流路と、
前記供給流路から分岐し、前記供給ノズルに前記液体を供給している状態および前記供給ノズルに前記液体を供給していない状態において前記液体が流れる分岐路と、
前記分岐路に配置され、前記分岐路に流れる前記液体の特性を計測する液質センサと、
を備えたことを特徴とする液浸露光装置。 - 少なくとも前記供給ノズルに前記液体を供給しない状態において、前記供給流路を通して流れる前記液体を前記分岐路に向けて流す制御弁をさらに備え、前記液質センサによる計測結果に基づいて前記制御弁を制御し、前記液体の特性が規格外の場合には前記供給流路を通して流れる前記液体を前記供給ノズルに供給せずに前記分岐路に向けて流すことを特徴とする請求項7に記載の液浸露光装置。
- 前記分岐路は、前記投影光学系の一部に沿って配置されていることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の液浸露光装置。
- 前記分岐路は、前記供給ノズルの少なくとも一部に沿って配置されていることを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の液浸露光装置。
- 前記制御弁は、前記供給ノズルの近傍に配置されていることを特徴とする請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載の液浸露光装置。
- デバイス製造方法であって、
請求項1乃至請求項11のいずれか1項に記載の液浸露光装置によって原板のパターンを基板に転写する工程と、
前記工程で前記原板のパターンが転写された基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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