JP6494259B2 - 照明光学装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
図3は本発明の第1実施形態に係る照明光学装置を示した図である。ここでは一例として図2と同様、結像光学系106の第2光学部材109および反射ミラー110が偏心している状態を示している。
次に、本発明の第2実施形態に係る照明光学装置について説明する。本実施形態に係る処理装置の構成は第1実施形態と同様であるが、テレセントリシティ調整手段121に光源駆動機構125が含まれていない点が異なる。また、楔形光学素子対131がオプティカルロッド103と結像光学系106との間に配置されている。図5は本実施形態に係る照明光学装置の構成を示した図である。
次に、本発明の第3実施形態に係る照明光学装置について説明する。本実施形態に係る処理装置の構成は第2実施形態と同様であるが、楔形光学素子対131が結像光学系106と被照明面112との間に配置されている点が異なる。図7は本実施形態に係る照明光学装置を示した図である。
本発明の実施形態にかかるデバイスの製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等のデバイスを製造するのに好適である。本実施形態のデバイスの製造方法は、原版に形成されているパターンを基板に塗布された感光剤に上記の照明光学装置を用いて転写する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態のデバイスの製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
102 楕円ミラー
103 オプティカルインテグレータ
106 結像光学系
112 被照明面
Claims (6)
- 光源からの光で原版を照明する照明光学装置であって、
入射端面から入射した前記光を内面で複数回反射させるオプティカルインテグレータと、
前記原版上に前記オプティカルインテグレータの射出端面の像を形成する結像光学系と、
前記オプティカルインテグレータの射出端面の中心位置を回転中心として前記オプティカルインテグレータを傾ける機構とを有し、
前記原版の照明領域は、前記オプティカルインテグレータの射出端面の位置に対応し、
前記原版に入射する光のテレセントリシティが前記オプティカルインテグレータの傾きに応じて変化することを特徴とする照明光学装置。 - 前記テレセントリシティを計測する計測手段を有し、
前記計測手段による計測結果に基づいて前記テレセントリシティを調整する
ことを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。 - 前記機構は、前記オプティカルインテグレータの射出端面の中心位置を回転中心として前記オプティカルインテグレータを傾ける駆動機構を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の照明光学装置。
- 前記オプティカルインテグレータの入射端面の位置に応じて前記光源の位置を移動させる光源駆動機構を有することを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の照明光学装置。
- 原版に形成されているパターンの像を基板に転写する露光装置であって、
請求項1乃至4の何れか1項に記載の照明光学装置を備え、
前記照明光学装置は、前記原版の被照明面を照明する
ことを特徴とする露光装置。 - 請求項5に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含み、現像された基板からデバイスを得ることを特徴とするデバイスの製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014236356A JP6494259B2 (ja) | 2014-11-21 | 2014-11-21 | 照明光学装置、およびデバイス製造方法 |
TW104136163A TWI594085B (zh) | 2014-11-21 | 2015-11-03 | 照明光學設備和裝置製造方法 |
KR1020150154865A KR101984489B1 (ko) | 2014-11-21 | 2015-11-05 | 조명 광학장치 및 디바이스 제조방법 |
US14/938,013 US10133185B2 (en) | 2014-11-21 | 2015-11-11 | Illumination optical apparatus and device manufacturing method |
CN201510786814.7A CN105629671B (zh) | 2014-11-21 | 2015-11-17 | 照明光学装置和设备制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014236356A JP6494259B2 (ja) | 2014-11-21 | 2014-11-21 | 照明光学装置、およびデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016100461A JP2016100461A (ja) | 2016-05-30 |
JP6494259B2 true JP6494259B2 (ja) | 2019-04-03 |
Family
ID=56010089
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014236356A Active JP6494259B2 (ja) | 2014-11-21 | 2014-11-21 | 照明光学装置、およびデバイス製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10133185B2 (ja) |
JP (1) | JP6494259B2 (ja) |
KR (1) | KR101984489B1 (ja) |
CN (1) | CN105629671B (ja) |
TW (1) | TWI594085B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210070203A (ko) | 2019-12-04 | 2021-06-14 | 캐논 가부시끼가이샤 | 조명 광학계, 노광장치, 및 물품 제조방법 |
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CN108628103B (zh) * | 2017-03-15 | 2021-05-07 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光强均匀性自动调节装置及调整方法 |
CN109426090B (zh) * | 2017-08-30 | 2020-08-21 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种照明系统及方法 |
CN111443575B (zh) * | 2019-01-17 | 2021-05-18 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种曝光系统及光刻机 |
JP7227775B2 (ja) * | 2019-01-31 | 2023-02-22 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置および物品製造方法 |
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JPH05267122A (ja) * | 1992-03-23 | 1993-10-15 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH08505961A (ja) | 1993-01-21 | 1996-06-25 | イー−テック・ダイナミックス・インコーポレイテッド | 偏光モード分散の低い光学装置 |
KR100296778B1 (ko) | 1993-06-11 | 2001-10-24 | 오노 시게오 | 노광장치및그장치를사용하는소자제조방법 |
JP3359123B2 (ja) * | 1993-09-20 | 2002-12-24 | キヤノン株式会社 | 収差補正光学系 |
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JP3599648B2 (ja) * | 2000-08-03 | 2004-12-08 | キヤノン株式会社 | 照明装置、投影露光装置並びにそれを用いたデバイス製造方法 |
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2014
- 2014-11-21 JP JP2014236356A patent/JP6494259B2/ja active Active
-
2015
- 2015-11-03 TW TW104136163A patent/TWI594085B/zh active
- 2015-11-05 KR KR1020150154865A patent/KR101984489B1/ko active IP Right Grant
- 2015-11-11 US US14/938,013 patent/US10133185B2/en active Active
- 2015-11-17 CN CN201510786814.7A patent/CN105629671B/zh active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10133185B2 (en) | 2018-11-20 |
TWI594085B (zh) | 2017-08-01 |
JP2016100461A (ja) | 2016-05-30 |
US20160147162A1 (en) | 2016-05-26 |
KR20160061253A (ko) | 2016-05-31 |
TW201621478A (zh) | 2016-06-16 |
CN105629671B (zh) | 2019-05-31 |
CN105629671A (zh) | 2016-06-01 |
KR101984489B1 (ko) | 2019-05-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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