KR102212723B1

KR102212723B1 - 노광 장치, 노광 방법 및 물품 제조 방법

Info

Publication number: KR102212723B1
Application number: KR1020170103409A
Authority: KR
Inventors: 후미야스 오노
Original assignee: 캐논 가부시끼가이샤
Priority date: 2016-08-24
Filing date: 2017-08-16
Publication date: 2021-02-05
Also published as: JP2018031873A; TW201807508A; CN107783383B; CN107783383A; JP6771997B2; TWI658333B; KR20180022578A

Abstract

장치의 사이즈 및 넓은 노광 영역의 확보의 점에서 유리한 노광 장치를 제공한다.
물체(1)를 원호 형상의 광으로 조명하는 조명 광학계(IL)와, 원호 형상의 광으로 조명된 물체(1)의 상을 기판(3)에 투영하는 투영 광학계(PO)를 갖고, 물체(1)와 기판(3)의 상대 위치를 소정 방향으로 바꾸면서 기판(3)을 노광하는 노광 장치이며, 조명 광학계(IL)는 광원의 광을 원호 형상의 광으로 정형하는 원호 형상의 개구부가 설치된 슬릿(5)을 포함하고, 개구부의 원호의 곡률을 변경하는 변경부와, 투영 광학계(PO)의 NA를 나타내는 정보에 기초하여 곡률을 변경하도록 변경부를 제어하는 제어부(C)를 구비하는 것을 특징으로 한다.

Description

노광 장치, 노광 방법 및 물품 제조 방법{EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE}

본 발명은, 노광 장치, 노광 방법 및 물품 제조 방법에 관한 것이다.

반도체 디바이스나 액정 표시 장치 등의 물품을 제조하는 공정 중 하나인 리소그래피 공정에 있어서, 투영 광학계를 통해서 기판 상의 노광 영역에 원판의 패턴을 전사하는 노광 장치가 사용되고 있다. 최근 상기 물품의 미세화에 수반하여, 투영 광학계의 결상 성능을 조정해서 원판의 패턴을 소정의 배율로 정확하게 기판에 전사할 것이 요구되고 있다. 예를 들어, 특허문헌 1에 기재된 노광 장치는, 투영 광학계의 디스토션이나 결상 배율과 같은 결상 성능을 조정하는 광학 부재를 구비한다.

일본 특허 공개 제2011-39172호 공보

그러나, 상기 특허문헌의 노광 장치에서는, 기판의 대형화에 수반하는 노광 영역의 대면적화에 대응하기 위해서, 예를 들어 결상 성능을 조정하는 광학 소자의 부재를 크게 할 필요가 있어, 투영 광학계가 대형화한다.

본 발명은, 예를 들어 장치의 사이즈 및 넓은 노광 영역의 확보의 점에서 유리한 노광 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은, 물체를 원호 형상의 광으로 조명하는 조명 광학계와, 원호 형상의 광으로 조명된 물체의 상을 기판에 투영하는 투영 광학계를 갖고, 물체와 기판의 상대 위치를 소정 방향으로 바꾸면서 기판을 노광하는 노광 장치이며, 조명 광학계는, 광원의 광을 원호 형상의 광으로 정형하는 원호 형상의 개구부가 설치된 슬릿을 포함하고, 원호 형상의 광의 곡률을 변경하는 변경부와, 투영 광학계의 NA에 기초하여 곡률을 변경하도록 변경부를 제어하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 예를 들어 장치의 사이즈 및 넓은 노광 영역의 확보의 점에서 유리한 노광 장치를 제공할 수 있다.

도 1은 제1 실시 형태에 따른 노광 장치의 개략도이다.
도 2는 제1 실시 형태에 따른 조명 광학계에 포함되는 슬릿의 형상을 도시하는 도면이다.
도 3은 투영 광학계의 포커스 특성을 나타내는 비점 수차에 관한 세로 수차도이다.
도 4는 굴절 부재의 유효부를 도시하는 도면이다.
도 5는 슬릿 폭을 확대한 경우의 슬릿 형상을 도시하는 도면이다.
도 6은 도 5의 슬릿 폭에 대응한 필요한 굴절 부재의 유효부의 형상을 도시하는 도면이다.
도 7은 도 5의 곡률보다 곡률을 작게 한 슬릿의 형상을 도시하는 도면이다.
도 8은 도 7의 슬릿 폭에 대응한 필요한 굴절 부재의 유효부의 형상을 도시하는 도면이다.
도 9는 제2 실시 형태에 따른 슬릿의 형상을 도시하는 도면이다.
도 10은 슬릿 형상 가변 기구의 구성을 도시하는 도면이다.
도 11은 조리개의 구성의 일례를 도시하는 도면이다.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대해서 도면 등을 참조하여 설명한다.

(제1 실시 형태)

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태의 노광 장치의 개략도이다. 본 실시 형태의 노광 장치는, 예를 들어 액정 표시 디바이스나 유기 EL 디바이스 등의 플랫 패널의 제조 공정에 있어서의 리소그래피 공정에서 사용될 수 있다. 특히 본 실시 형태에서는, 노광 장치는 스텝 앤드 스캔 방식으로, 마스크(레티클, 원판) 및 기판의 상대 위치를 주사 방향으로 동기해서 주사시키면서, 마스크에 형성되어 있는 패턴상을 기판 상에 전사(노광)하는 주사형 투영 노광 장치로 한다.

본 실시 형태의 노광 장치는, 제조해야 할 디바이스의 회로 패턴이 묘화되어 있는 마스크(물체)(1)를 보유 지지해서 이동 가능한 마스크 스테이지(제1 보유 지지부)(2)와, 기판(3)을 보유 지지하는 기판 스테이지(제2 보유 지지부)(4)를 구비한다. 또한, 마스크(1)를 조명하는 조명 광학계(IL)와, 기판(3)에 마스크(1)의 패턴을 투영하는 투영 광학계(PO)와, 제어부(C)를 구비한다. 조명 광학계(IL)와 투영 광학계(PO) 사이에는, 마스크(1)를 보유 지지한 마스크 스테이지(2)가 배치된다. 조명 광학계(IL)에는 광원이 포함되어 있고, 예를 들어 고압 수은 램프가 사용 가능하다. 단, 광원은 제조하는 디바이스에 대하여 적절한 것이 임의로 선택 가능하다. 조명 광학계(IL)에는, 슬릿(5)이 설치되어 있고, 광원으로부터의 광은 슬릿(5)을 통과해서 마스크(1)를 조명하고, 투영 광학계(PO)에서 마스크(1)의 패턴의 상을 기판 스테이지(4)에 보유 지지된 기판(3)에 투영한다. 슬릿(5)은 투영 광학계(PO)의 양호 상 영역의 형상에 맞춘 형상으로 되어 있다. 슬릿(5)을 통과한 광은 투영 광학계(PO)의 양호 상 영역에 맞춘 형상으로 정형된다. 제어부(C)는, CPU 및 메모리(ROM, RAM 등)를 포함하여, 노광 장치의 각 부를 제어해서 기판(3)의 노광 처리를 제어한다. 메모리에는 투영 광학계의 NA(투영 광학계의 결상 성능에 관한 정보)와 당해 NA에 적합한 투과부(52)(도 2에 도시)의 Y 방향(소정 방향)의 폭이 관련지어진 테이블이 기억되어 있다. 또한, 투과부(52)의 Y 방향의 슬릿 폭 Wb(도 2에 도시)와, 당해 폭에 따라서 변경되는 투과부(52)의 원호의 곡률이 관련지어진 테이블이 기억되어 있다. 또한, 투영 광학계의 NA는, 마스크(1)의 패턴이나 원하는 해상력에 따라서 유저에 의해 노광 장치에 입력된다.

투영 광학계(PO)는 마스크(1)로부터의 광의 진행 방향을 따라, 순서대로 제1 굴절 부재(6), 2개의 평면경을 포함하는 반사면을 갖는 사다리꼴 거울(7), 제1 오목 거울(8), 조리개(12)를 구비한 볼록 거울(9), 제2 오목 거울(10), 제2 굴절 부재(11)를 포함한다. 제1 오목 거울(8)과 제2 오목 거울(10)은 일체화해서 구성되어 있어도 된다. 도 1에 있어서 기판(3)으로부터 마스크(1)를 향하는 방향(투영 광학계(PO)의 광축 방향)을 +z 방향, z 방향에 직교하고, 볼록 거울(9)로부터 제1 오목 거울(8)을 향하는 방향을 +y 방향, z 방향과 y 방향에 대해서 오른손 좌표계를 이루는 방향을 +x 방향이라 한다.

기판(3)에는 노광 광에 감도가 있는 포토레지스트가 도포되어 있고, 노광 패턴을 현상함으로써, 기판(3) 위에 마스크(1)에 묘화된 회로 패턴이 형성된다. 노광 시에는, 마스크 스테이지(2)와 기판 스테이지(4)의 상대 위치를 동기해서 y 방향으로 주사시킴으로써, 주사하지 않는 경우보다 넓은 영역을 노광 가능하게 한다. 볼록 거울(9)은, 투영 광학계(PO)의 눈동자부로 되어 있다. 볼록 거울(9)에 설치된 조리개(12)의 직경을 변경함으로써 투영 광학계(PO)의 개구수(NA)를 변경하는 것이 가능하다.

도 2는 본 실시 형태에 따른 조명 광학계(IL)에 설치된 슬릿(5)의 형상을 도시하는 도면이다. 볼록 거울(9), 제1 오목 거울(8) 및 제2 오목 거울(10)을 구비한 본 실시 형태의 투영 광학계(PO)에서는 축 외의 원호 형상의 양호 상 영역을 사용 가능하다. 따라서, 슬릿(5)은 도 2에 도시하는 폭(y 방향의 길이) W의 원호 형상이 되어 있다. 슬릿(5)은 차광부(51) 및 투과부(52)를 갖고, 예를 들어 철 등의 금속에 의해 제작될 수 있다. 투과부(52)는 투영 광학계(PO)의 양호 상 영역에 맞춘 형상으로 함으로써 양호한 결상 성능을 얻을 수 있다.

제1 굴절 부재(6), 제2 굴절 부재(11) 및 제3 굴절 부재(12)는, 투영 광학계(PO)의 결상 성능, 예를 들어 배율이나 수차 등을 보정하기 위한 보정 광학계이다. 각 굴절 부재는, 비구면의 렌즈나 플레이트, 또는 쐐기 형상의 광학 부재 등으로 구성된다.

도 3은 투영 광학계(PO)의 포커스 특성을 나타내는 비점 수차에 관한 세로 수차도이다. 종축을 y 방향, 횡축을 디포커스양이라 한다. 곡선 S는 시상 상면의 디포커스양, 곡선 M은 경선 상면의 디포커스양을 나타낸다. 각 상면의 디포커스양이 제로가 되는 영역이 투영 광학계(PO)의 양호 상 영역이고, 축 외에 양호 상 영역이 있는 것을 알 수 있다. 제1 굴절 부재(6)나 제3 굴절 부재(12)의 배치 관계 상, 이들의 크기가 제한되기 때문에, 양호 상 영역 모두가 사용 가능하다고는 할 수 없다. 도 3에 도시하는 바와 같이, 사용 가능 영역은, 양호 상 영역의 일부만 커버하고 있다.

도 4는 굴절 부재(6)의 유효부(P)를 도시하는 도면이다. 여기에서는, 3개의 굴절 부재 중, 굴절 부재(6)를 예로 들어 설명한다. 굴절 부재(6)의 y 방향의 치수 L은, 투영 광학계(PO)에서의 배치 스페이스 등에 의해 제한된다. 유효부(P)의 y 방향의 치수와 굴절 부재(6)의 y 방향의 치수 L의 차가 가장 작아지는 개소의 치수차 d는, 굴절 부재(6)의 가공 상의 제약이나 보유 지지 상의 제약에 의해 일정 이상 필요해진다. 그러나, 굴절 부재(6)의 y 방향의 치수 L이 제한되기 때문에, 투영 광학계(PO)의 양호 상 영역을 충분히 커버하는 크기의 유효부(P)를 얻지 못하는 경우가 있다. 따라서, 도 3과 같이 사용 가능 영역이 제한된다. 마찬가지로 제1 오목 거울(8)이나 제2 오목 거울(10)의 외형의 제약에 의해서도 양호 상 영역이 제한될 수 있다. 제한된 양호 상 영역의 최대물 높이를 투과부(52)의 원호의 곡률 R이라 하고, 사용 가능 영역의 폭만큼 원호를 y 방향으로 이동시킴으로써 사용 가능한 양호 상 영역만을 사용하는 슬릿 형상을 결정하는 것이 가능하다.

투영 광학계(PO)의 해상력 CD는 식 1로 부여된다. 식 1의 λ는 조명 광학계(IL)의 광원으로부터 출사하는 광의 파장이며, k₁은 프로세스 등에 따른 비례 상수이다. 한편, 초점 심도 DOF는 파장 λ와 투영 광학계의 NA, 비례 상수 k₂를 사용해서 식 2와 같이 표시된다. NA를 크게 하면 해상력이 높아지는 반면에 초점 심도 DOF가 감소한다. 반대로 해상력 CD를 높일 필요가 없는 패턴에 대해서는 NA를 작게 함으로써 초점 심도 DOF를 증가시키는 것이 가능하게 된다. 이와 같이 패턴에 따라서 필요한 NA를 선택함으로써, 패턴을 보다 충실하게 노광하는 것이 가능하게 된다.

NA를 작게 한 경우, 각 광학 부재에서의 광속 직경이 작아진다. 그 때문에 각 광학 부재의 유효 직경을 변경하지 않고, 슬릿(5)의 폭 W를 넓게 하는 것이 가능하게 된다. 슬릿의 폭 W를 넓게 함으로써 주사 노광 시의 적산 광량이 증가하여 노광 시간의 단축으로 연결된다. 결과적으로 노광 장치의 스루풋 향상으로 연결되어 장치의 생산성이 향상된다.

NA를 작게 함으로써 투과부(52)의 폭 W를 폭 W_b로 넓게 한 경우의 슬릿 형상을 도 5에 도시한다. 이때의 투과부(52)의 x 방향의 길이를 X_b라 한다. 도 5의 슬릿에 대응하는 굴절 부재(6)에 필요한 유효부 P_b의 형상을 도 6에 나타낸다. 도 6에 도시하는 바와 같이, 유효부 P_b의 y 방향의 크기(폭) Pw_b가 굴절 부재(6)의 치수보다 커지게 된다. 그 때문에, 굴절 부재(6) 자체의 사이즈를 크게 할 필요가 있지만, 그것에 의해 노광 장치가 대형으로 되는 등의 문제가 발생할 수 있다.

본 실시 형태에서는, 노광 장치가 사용하는 슬릿(5)을 교환해서 광속의 슬릿 형상을 조정하는 슬릿 교환 장치(변경부)를 구비할 수 있다. 슬릿 교환 장치는, 제어부(C)에 의해 제어되고, 투영 광학계(PO)의 NA나 당해 NA에 대응한 필요 슬릿 폭에 따른 최적의 슬릿을 미리 준비한 복수의 슬릿에서 선택해서 조명 광학계(IL)에 배치한다. 상기와 같이 NA를 작게 함으로써 슬릿 폭을 폭 W_b로 한 경우, 슬릿 교환 장치는, 도 7에 나타내는 폭 W_b에서 도 5의 슬릿의 곡률(제1 곡률)보다 작은 곡률(제2 곡률)의 슬릿(5)을 조명 광학계(IL)에 배치한다. 도 7의 점선은, 도 5에 도시한 슬릿(5)의 형상을 나타낸다.

도 7의 슬릿(5)을 사용한 경우의 굴절 부재(6)에 필요한 유효부 P_c의 형상을 도 8에 나타낸다. 점선은 도 6에 나타낸 유효부 P_b의 형상을 나타낸다. 도 8과 같이, 굴절 부재(6)는 필요한 유효부 P_c 전체를 커버하고 있다. 따라서, 투과부(52)의 곡률을 투영 광학계의 NA에 따라서 변경함으로써, 굴절 부재(6)의 크기를 변경하지 않고, 도 7에 나타내는 슬릿 폭 W_b와 동일한 슬릿 폭을 확보하는 것이 가능하다.

이상과 같이, 본 실시 형태의 노광 장치는, 투영 광학계(PO)의 NA를 작게 해서 슬릿 폭을 크게 해도 투영 광학계(PO)에 포함되는 광학 부재(굴절 부재(6) 등)를 크게 할 필요가 없다. 따라서, 본 실시 형태에 따르면, 장치의 사이즈 및 노광 영역의 넓이의 점에서 유리한 노광 장치를 제공할 수 있다.

(제2 실시 형태)

제1 실시 형태는, 슬릿 폭을 y 방향으로 넓혔지만, 본 실시 형태에서는, x 방향으로 넓히는 경우를 생각한다. 도 9는 도 5에 도시하는 슬릿(5)의 슬릿 폭인 Xb를 Xc로 넓힌 경우의 슬릿 형상을 도시하는 도면이다. 점선은 도 5의 투과부(52)의 원호의 곡률 R 그대로 슬릿 폭을 Xc로 넓혔을 때의 슬릿 형상을 나타낸다. 실선은, 곡률 R보다 작은 곡률로 한 경우의 슬릿 형상을 나타낸다. 도 9에서 나타내는 바와 같이, 곡률 R의 경우에는, 투과부(52)의 형상이 슬릿(5)을 비어져 나와 버려, 굴절 부재(6)를 크게 하여 유효부를 크게 할 필요성이 높아진다. 한편, 곡률을 R보다 작게 한 경우에는, 투과부(52)가 슬릿(5)에 수용되어, 굴절 부재(6)를 크게 할 필요가 없다. 본 실시 형태에 의해서도, 제1 실시 형태와 마찬가지 효과를 얻을 수 있다.

상기 실시 형태에서는, 기판(3)을 노광하는 노광 광의 광속의 슬릿 형상을 슬릿 교환 장치에 의해 조정하였지만, 사람 손에 의해 슬릿을 교환함으로써 조정해도 된다. 또는, 도 10에서 나타내는 슬릿 형상 가변 기구(조정부)에 의해 이미 배치되어 있는 슬릿의 형상을 바꿈으로써 조정해도 된다. 또는, 이들의 병용에 의해 슬릿 형상을 바꾸어서 조정해도 된다.

슬릿 형상 가변 기구는, 예를 들어 구동 제어부(13)와, 구동부(14)와, 블레이드(15)를 포함한다. 구동 제어부(13)는 예를 들어 모터를 포함하고, 구동부(14)를 y 방향으로 진퇴시킨다. 블레이드(15)는, 구동부(14)에 의해 힘을 가함으로써 변형 가능한 판금 등을 포함한다. 슬릿 형상 가변 기구는, 제어부(C)에 의해 제어된다. 제어부(C)는 투영 광학계의 NA에 대응한 슬릿의 목표 형상(폭이나 곡률)을 결정하고, 결정한 형상에 기초하여 구동부(14)를 구동시켜서 블레이드(15)를 변형시킨다. 변형 후의 형상은, 도시하지 않은 계측부에 의해 계측되고, 제어부(C)는 계측 결과가 목표 형상으로 되어 있는지 여부를 판단한다. 목표 형상으로 되어 있으면 구동을 종료하고, 목표 형상으로 되어 있지 않으면 구동을 계속한다. 또한, 슬릿 형상 가변 기구는, x 방향으로 진퇴 가능한 구동부(14)를 더 구비하고 있어도 된다.

도 11의 (A) 및 (B)는, 조리개(12)의 구성의 일례를 도시하는 도면이다. 도 11의 (A) 및 (B)에 나타내는 조리개(12)는, z 방향으로 서로 이격(도 11의 (B))하도록 이동 가능한 2개의 부재(16, 17)로 구성되고, 당해 2개의 부재(16, 17)가 접촉하고 있을 때(도 11의 (A))는 원형의 개구부가 형성되는 부재이다. 2개의 부재(16, 17)의 이동은 제어부(C)에 의해 제어되고, 개구부의 크기에 의해 NA가 조정된다.

(물품 제조 방법에 관한 실시 형태)

본 실시 형태에 따른 물품의 제조 방법은, 예를 들어 반도체 디바이스 등의 마이크로디바이스나 미세 구조를 갖는 소자 등의 물품을 제조하기에 적합하다. 본 실시 형태의 물품의 제조 방법은, 기판에 도포된 감광제에 상기 노광 장치를 사용해서 잠상 패턴을 형성하는 공정(기판을 노광하는 공정)과, 이러한 공정에서 잠상 패턴이 형성된 기판을 현상하는 공정을 포함한다. 또한, 이러한 제조 방법은, 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 포함한다. 본 실시 형태의 물품의 제조 방법은, 종래의 방법에 비해, 물품의 성능·품질·생산성·생산 비용 중 적어도 하나에 있어서 유리하다.

(그 외의 실시 형태)

이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은, 이들 실시 형태에 한정되지 않고, 그 요지의 범위 내에서 다양한 변형 및 변경이 가능하다.

1 : 마스크
2 : 마스크 스테이지
3 : 기판
4 : 기판 스테이지
5 : 슬릿
IL : 조명 광학계
PO : 투영 광학계(PO)
C : 제어부

Claims

물체를 원호 형상의 광으로 조명하는 조명 광학계와, 상기 원호 형상의 광으로 조명된 상기 물체의 상을 기판에 투영하는 투영 광학계를 갖고, 상기 물체와 상기 기판의 상대 위치를 미리정해진 방향으로 바꾸면서 상기 기판을 노광하는 노광 장치이며,
상기 조명 광학계는, 광원의 광을 상기 원호 형상의 광으로 정형하기 위한, 상기 원호 형상의 개구부를 갖는 슬릿을 포함하고,
상기 개구부의 원호의 곡률은, 상기 투영 광학계의 NA에 따라서 가변하며,
상기 투영 광학계의 NA가 제1 NA인 때의 상기 원호의 곡률은, 상기 투영 광학계의 NA가 상기 제1 NA 보다 작은 제2 NA인 때의 상기 원호의 곡률보다 큰 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
제1항에 있어서,
상기 개구부의 원호의 곡률을 변경하는 변경부와,
상기 투영 광학계의 NA를 나타내는 정보에 기초하여 상기 곡률을 변경하도록 상기 변경부를 제어하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
제2항에 있어서,
상기 변경부는, 상기 슬릿을, 상기 곡률이 제1 곡률인 제1 슬릿으로부터, 상기 곡률이 상기 제1 곡률과는 다른 제2 곡률인 제2 슬릿으로 교환하는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
제3항에 있어서,
상기 제2 슬릿의 개구부의 상기 미리정해진 방향의 폭은 상기 제1 슬릿의 개구부의 상기 미리정해진 방향의 폭과 다른 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
제2항에 있어서,
상기 변경부는, 힘을 가해서 상기 개구부의 형상을 조정하는 조정부를 갖는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
제5항에 있어서,
상기 변경부는, 상기 미리정해진 방향의 폭을 변경하는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 미리정해진 방향은 상기 투영 광학계의 광축에 직교하는 방향인 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 원호 형상의 개구부는, 상기 투영 광학계의 수차에 의한 디포커스의 영향을 피하기 위한 원호 형상의 형태를 갖는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투영 광학계는 입사한 원호 형상의 광을 반사하는 제1 반사부와, 상기 제1 반사부의 반사광을 반사하는 제1 오목 거울과, 상기 제1 오목 거울에서 반사된 광을 반사하는 볼록 거울과, 상기 볼록 거울에서 반사된 광을 반사하는 제2 오목 거울과, 상기 제2 오목 거울에서 반사된 광을 반사하는 제2 반사부를 갖는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
물체를 원호 형상의 광으로 조명하고, 상기 원호 형상의 광으로 조명된 상기 물체의 상을 투영 광학계를 통해 기판에 투영하고, 상기 물체와 상기 기판과의 상대 위치를 미리정해진 방향으로 바꾸면서 상기 기판을 노광하는 노광 방법이며,
상기 투영 광학계의 NA를 나타내는 정보에 기초하여, 상기 투영 광학계의 NA가 제1 NA인 때의 상기 원호 형상의 광의 곡률을, 상기 투영 광학계의 NA가 상기 제1 NA 보다 작은 제2 NA인 때의 상기 원호 형상의 광의 곡률보다 크게 되도록 설정하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는, 노광 방법.
물체를 원호 형상의 광으로 조명하는 조명 광학계와, 상기 원호 형상의 광으로 조명된 상기 물체의 상을 기판에 투영하는 투영 광학계를 갖고, 상기 물체와 상기 기판의 상대 위치를 미리정해진 방향으로 바꾸면서 상기 기판을 노광하는 노광 장치를 사용해서 패턴을 상기 기판 상에 형성하는 형성 공정과,
상기 형성 공정에서 상기 패턴이 형성된 상기 기판을 처리하는 처리 공정을 갖고, 처리된 기판으로부터 물품을 얻는 물품의 제조 방법이며,
상기 형성 공정은,
상기 노광 장치가 갖는 제어부가, 상기 투영 광학계의 NA를 나타내는 정보에 기초하여, 상기 투영 광학계의 NA가 제1 NA인 때의 상기 원호 형상의 광의 곡률을, 상기 투영 광학계의 NA가 상기 제1 NA 보다 작은 제2 NA인 때의 상기 원호 형상의 광의 곡률보다 크게 되도록 설정하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는, 물품의 제조 방법.