JPS5883836A - 円弧状照明光形成スリツト - Google Patents
円弧状照明光形成スリツトInfo
- Publication number
- JPS5883836A JPS5883836A JP56181051A JP18105181A JPS5883836A JP S5883836 A JPS5883836 A JP S5883836A JP 56181051 A JP56181051 A JP 56181051A JP 18105181 A JP18105181 A JP 18105181A JP S5883836 A JPS5883836 A JP S5883836A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- pieces
- piece
- arc
- curvature
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
- G03B27/522—Projection optics
- G03B27/525—Projection optics for slit exposure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体製造装置において、マスクパターンを
ウェハ又は縮小マスクのレジスト上に結像せしめる投影
露光装置のマスクの照明等に使用さ□れる円弧状光を形
成するスリットの構造に・関するものである。
ウェハ又は縮小マスクのレジスト上に結像せしめる投影
露光装置のマスクの照明等に使用さ□れる円弧状光を形
成するスリットの構造に・関するものである。
半導体製造装置において、マスクパターンをウェハ又は
縮小マスクのレジスト上に結像させる為にマスクの照明
に円弧状照明光が使用される。
縮小マスクのレジスト上に結像させる為にマスクの照明
に円弧状照明光が使用される。
ｌ：五反射型露光装置の照明光学系の一例を第１図に示
す。Ｌは点光源ランプで、１．２．３は４欠歯面鏡であ
る。４′次曲面鏡１．２．３Ｆｉ夫々焦点Ｆ１と？２、
焦点Ｆ２とＦ＆、焦点Ｆ５とＦ、Ｈの楕円を回転゛対称
軸５を中心として回転させたとき得られる一方の曲面の
一部で形成されている曲面鏡である。
す。Ｌは点光源ランプで、１．２．３は４欠歯面鏡であ
る。４′次曲面鏡１．２．３Ｆｉ夫々焦点Ｆ１と？２、
焦点Ｆ２とＦ＆、焦点Ｆ５とＦ、Ｈの楕円を回転゛対称
軸５を中心として回転させたとき得られる一方の曲面の
一部で形成されている曲面鏡である。
焦点ｒ１を点光源ランプＬの光源点に′おき、焦点Ｆ２
の２位置にスリットムを置き、焦点ＦｓＱ位置をピンホ
ールＰとし、焦点Ｐ４の位置にマスク４を置くと、マス
ク４は円恢状の照明光８によシ照射される。
の２位置にスリットムを置き、焦点ＦｓＱ位置をピンホ
ールＰとし、焦点Ｐ４の位置にマスク４を置くと、マス
ク４は円恢状の照明光８によシ照射される。
第２図Ｋ １：１反射型露光装置の投影光ｌ系の原理を
示す。マスク４を照明する円弧状照明光Ｓはマスク４の
回路パターンを透過し、凹面鏡６、凸面鏡７、再び凹面
鏡ｄＫ反射されウェハ８上にマスク４のパターン儂の一
部を円弧状に結像する。
示す。マスク４を照明する円弧状照明光Ｓはマスク４の
回路パターンを透過し、凹面鏡６、凸面鏡７、再び凹面
鏡ｄＫ反射されウェハ８上にマスク４のパターン儂の一
部を円弧状に結像する。
マスク４及びウェハ８を矢印方向に同期して移動するこ
とＫより、マスク４のパターン偉が走査され、すべてウ
ニ八８上に露光膚れる。
とＫより、マスク４のパターン偉が走査され、すべてウ
ニ八８上に露光膚れる。
されるため、＝紫外光のように、ガラス内での吸収の大
きい波長の光にρして損失が少ない方法でＴｏ２′・、
ルかしながら・００方法にゝｉて使用する従来Ｏスリン
）４はその幅が円弧に沿りて一律である為、ラン゛プの
ゆらぎ、反射鏡の面−置、反射率Ｏむら等の影響で、マ
・スフ上で６照度むらが±７〜８Ｉｓ生じ、これを低下
させることは離しい。
きい波長の光にρして損失が少ない方法でＴｏ２′・、
ルかしながら・００方法にゝｉて使用する従来Ｏスリン
）４はその幅が円弧に沿りて一律である為、ラン゛プの
ゆらぎ、反射鏡の面−置、反射率Ｏむら等の影響で、マ
・スフ上で６照度むらが±７〜８Ｉｓ生じ、これを低下
させることは離しい。
アメリカパーキン・エルマ社の露光装置のｌｌ明光学系
には可撓性Ｏ板によりスリット幅が４続的に調節できる
ようにしたス、リットが使用されている。この照明光学
系は第３図（１）に示すようＦ＜、円弧状のランプ、１
２を使用してその拡大光−系の・途中にスリットを入れ
ｃ、チる。即ち、スリットは固定スリット部材１３と、
可撓性板１４で形成されている。
には可撓性Ｏ板によりスリット幅が４続的に調節できる
ようにしたス、リットが使用されている。この照明光学
系は第３図（１）に示すようＦ＜、円弧状のランプ、１
２を使用してその拡大光−系の・途中にスリットを入れ
ｃ、チる。即ち、スリットは固定スリット部材１３と、
可撓性板１４で形成されている。
可撓性板１４は矢−万、向に移、動可能である。１１は
回転対称軸であ、る。この光学系においては、ランプ１
２よりＯｆ １５がスリ１ツトに傾−して入射゛され、
固過するのでシャープな像が得られる。 ”し、かじな
かり１．第３図（ａ）のスリットをＮ１−図の照明光学
系に導入すると、＃！３１！！ＩＩ（ｂ）のようにな１
光゛の進行方向１５と回転対称軸５とが平行に°近い蛇
め、可撓性板１４の両方のエツジ１４′、１４“で光１
５の通路を制限することになり、シτ−プな像が得られ
ない。シャープな儂を得る為には、板幅を狭くすればこ
いが、板幅を狭くすると、光・のもれを無くす千鳥に板
厚が大きくなり、これでは可撓性が失われ、調節機能も
失な１われ？、Ｌまう。
回転対称軸であ、る。この光学系においては、ランプ１
２よりＯｆ １５がスリ１ツトに傾−して入射゛され、
固過するのでシャープな像が得られる。 ”し、かじな
かり１．第３図（ａ）のスリットをＮ１−図の照明光学
系に導入すると、＃！３１！！ＩＩ（ｂ）のようにな１
光゛の進行方向１５と回転対称軸５とが平行に°近い蛇
め、可撓性板１４の両方のエツジ１４′、１４“で光１
５の通路を制限することになり、シτ−プな像が得られ
ない。シャープな儂を得る為には、板幅を狭くすればこ
いが、板幅を狭くすると、光・のもれを無くす千鳥に板
厚が大きくなり、これでは可撓性が失われ、調節機能も
失な１われ？、Ｌまう。
即ち、第３図（ｃ） Ｋ示すよ６にシャープな工アジを
もつ部材１３Ａ及び１４Ａでスリットを形成することが
望ましい。しかし、このようなスリット部材として、全
体に可撓性を持たせ一体構造をとることは不可能である
。 ″ 本発明の目的社、上記した従、来技術の欠一点を無くシ
、鮮鋭’Ｉｋ儂を結ぶことができる幅調節可能な円弧状
照明光形成スリットを提供するＫｌ）る。
もつ部材１３Ａ及び１４Ａでスリットを形成することが
望ましい。しかし、このようなスリット部材として、全
体に可撓性を持たせ一体構造をとることは不可能である
。 ″ 本発明の目的社、上記した従、来技術の欠一点を無くシ
、鮮鋭’Ｉｋ儂を結ぶことができる幅調節可能な円弧状
照明光形成スリットを提供するＫｌ）る。
本発明による円弧状照明光形成スリットは、僅かな一体
を隔てて対向し円弧状スリットを形成する彎曲する２つ
の部材の−１の部材が１，１１１分的に互いに重複して
配置される複数個の薄板小片よ染な９、各小片のス′リ
ット側がそれぞれ所豐のスリット曲率を有し複数個の小
片にて連続する彎曲部を形成すると共に１、各小片の重
複部のスリット側が重複せざふ部より僅かに大なる曲率
を有し、各小片がスリットに向けて隣接す゛る／ｊコ片
と関・連を保ちつつ進退し、スリット幅を調節可能とし
であることを特徴と゛するスリットである。
を隔てて対向し円弧状スリットを形成する彎曲する２つ
の部材の−１の部材が１，１１１分的に互いに重複して
配置される複数個の薄板小片よ染な９、各小片のス′リ
ット側がそれぞれ所豐のスリット曲率を有し複数個の小
片にて連続する彎曲部を形成すると共に１、各小片の重
複部のスリット側が重複せざふ部より僅かに大なる曲率
を有し、各小片がスリットに向けて隣接す゛る／ｊコ片
と関・連を保ちつつ進退し、スリット幅を調節可能とし
であることを特徴と゛するスリットである。
以下、本発明によるスリットを実施例の図面に基づいて
詳述する。第４図に第１の実施例を示す。
詳述する。第４図に第１の実施例を示す。
スリット（資）は円弧状に内方に彎曲する固定部材（至
）と、Ｃれに僅かな間隙を隔に〈対向する複数個の薄板
小片３１によ口形成されている。小片３１は部分的に互
いに重複させられて、底板あと押え板腕に挾まれて配置
さ゛れている。各／Ｊ％片３！のスリン）３Ｇ側は所璧
のスリット曲率を有し、複数個の小片３１で連続する彎
曲部が形′成されている。また、各小片３１の重を部の
スリット（９）側は、重複してない部゛のスリット（至
）側よシ僅かに大き１に曲率としである。
）と、Ｃれに僅かな間隙を隔に〈対向する複数個の薄板
小片３１によ口形成されている。小片３１は部分的に互
いに重複させられて、底板あと押え板腕に挾まれて配置
さ゛れている。各／Ｊ％片３！のスリン）３Ｇ側は所璧
のスリット曲率を有し、複数個の小片３１で連続する彎
曲部が形′成されている。また、各小片３１の重を部の
スリット（９）側は、重複してない部゛のスリット（至
）側よシ僅かに大き１に曲率としである。
外部からの操作により、各小片３１社隣擬する小片３１
と関連を保ちなからスリン’）９０に向けて進退せしめ
られゐ、即ち、スリット（資）の幅を全体的に１又は部
分−に増７減できるようＫなりていＪる。゛。
と関連を保ちなからスリン’）９０に向けて進退せしめ
られゐ、即ち、スリット（資）の幅を全体的に１又は部
分−に増７減できるようＫなりていＪる。゛。
第５図は薄板小片の数をより多くした実施例を示すもの
である。この実施例においては、小Ｊ＋３１Ａ′線底板
３５ムのガイド３ｆｌ沿りてスリット（資）に向けて進
退するようにしである また各小片３１Ａの基部は可撓
性り板胛に取付けてあり゛、ワイヤｘ＝ツの形状に応じ
て連続°的にスリ、ツ）Ｗの＠が調節される。
゛ 本実施例のスリットにおいては、ス禮ットを形成す６一
方０部材”分割さ７・個ＡＩＫ進退さｔ″６ので、分割
小片で形成さ６れる側は理論的には連続ｍｍ８度と狭く
、その進退・にｉしては必ず隣接する小片が関連させら
れ・、その進退量も僅かであり、またその重複部社僅か
に曲率を大としであるので、′連続した円弧とみな子こ
とができる。このようにして、スリット幅を調節するこ
とにより照明むらを±２〜３−に押え名ことができる。
である。この実施例においては、小Ｊ＋３１Ａ′線底板
３５ムのガイド３ｆｌ沿りてスリット（資）に向けて進
退するようにしである また各小片３１Ａの基部は可撓
性り板胛に取付けてあり゛、ワイヤｘ＝ツの形状に応じ
て連続°的にスリ、ツ）Ｗの＠が調節される。
゛ 本実施例のスリットにおいては、ス禮ットを形成す６一
方０部材”分割さ７・個ＡＩＫ進退さｔ″６ので、分割
小片で形成さ６れる側は理論的には連続ｍｍ８度と狭く
、その進退・にｉしては必ず隣接する小片が関連させら
れ・、その進退量も僅かであり、またその重複部社僅か
に曲率を大としであるので、′連続した円弧とみな子こ
とができる。このようにして、スリット幅を調節するこ
とにより照明むらを±２〜３−に押え名ことができる。
更にシャープな儂を得を為のスリット形成部材の先端の
厚さは１ｍｍ以下とされているが、本実施例のスリット
においては、スリット幅調節の為に該部材（可撓性の板
を使用することなく、複数個の薄板小片を使用するので
、先端の厚さを容易に’１ ｍｍ以下とすること赤でき
る。尚、先端の厚さを］Ｉ！に薄＜０．３ｍｍ１ｉ１度
とすること１ができるので、このことは前述の段差を問
題視する必暑を更になくしている。
厚さは１ｍｍ以下とされているが、本実施例のスリット
においては、スリット幅調節の為に該部材（可撓性の板
を使用することなく、複数個の薄板小片を使用するので
、先端の厚さを容易に’１ ｍｍ以下とすること赤でき
る。尚、先端の厚さを］Ｉ！に薄＜０．３ｍｍ１ｉ１度
とすること１ができるので、このことは前述の段差を問
題視する必暑を更になくしている。
本発明の円弧状照明光形成スリットは以上の如く構成さ
れ、スリット幅を部分的Ｋ又は全体的に′増減すること
ができ、スリット形成部材のエツジの厚みも充分薄く、
形成される円弧も連続円弧と見做すことができるので、
照明光の照度むらを非常に少く押えることがてき、鮮鋭
な儂を結儂することができるめで、半導体製造装置の゛
投影露光装、ンの解１１度を上昇するＣとができる。
れ、スリット幅を部分的Ｋ又は全体的に′増減すること
ができ、スリット形成部材のエツジの厚みも充分薄く、
形成される円弧も連続円弧と見做すことができるので、
照明光の照度むらを非常に少く押えることがてき、鮮鋭
な儂を結儂することができるめで、半導体製造装置の゛
投影露光装、ンの解１１度を上昇するＣとができる。
第１図は１：１反射屋露光装置の照明光学系の一例の原
理図、第２図は同装置の投影光学系の原理図、第３ 図
（ａ） 、 （ｂ） −（ｃ）はスリットと光の進行方
向の関係を説明する為の模式声、第４図及び第５図は本
発明のスリットのそれぞれ異なる実施例の部分斜視図で
ある。 １．２．３・・−、，４次曲面鏡、４・・・マスク、
５．１１・・・回転対称軸、６・・・凹面鏡、７・・・
凸面鏡、８・・・ウェハ、戎・・・円弧状ランプ、１３
・・・固定スリット部材、１４・・・可撓性板、３０Ａ
・・・スリツ） 、３１．、３１Ａ・・・薄板小片、３
２．３２人・・・ワ□イヤユ Ｕ・・・押え板、３５．３５Ａ・・・、底板、蕊・・・
ガイｌ’、３７・・・可撓性板、Ｌ・・・点火源う・；
プ、Ｆｔ＊Ｆ２．ＦｓＪａ・・・焦点１、Ｐ・・・ピン
ホール、Ｓ・・・円弧状照明光・。 代理人弁理士 秋 本 正 、軛第１１１Ｊ 第２、図 １１ （ｂ） （Ｃ） 第４図
理図、第２図は同装置の投影光学系の原理図、第３ 図
（ａ） 、 （ｂ） −（ｃ）はスリットと光の進行方
向の関係を説明する為の模式声、第４図及び第５図は本
発明のスリットのそれぞれ異なる実施例の部分斜視図で
ある。 １．２．３・・−、，４次曲面鏡、４・・・マスク、
５．１１・・・回転対称軸、６・・・凹面鏡、７・・・
凸面鏡、８・・・ウェハ、戎・・・円弧状ランプ、１３
・・・固定スリット部材、１４・・・可撓性板、３０Ａ
・・・スリツ） 、３１．、３１Ａ・・・薄板小片、３
２．３２人・・・ワ□イヤユ Ｕ・・・押え板、３５．３５Ａ・・・、底板、蕊・・・
ガイｌ’、３７・・・可撓性板、Ｌ・・・点火源う・；
プ、Ｆｔ＊Ｆ２．ＦｓＪａ・・・焦点１、Ｐ・・・ピン
ホール、Ｓ・・・円弧状照明光・。 代理人弁理士 秋 本 正 、軛第１１１Ｊ 第２、図 １１ （ｂ） （Ｃ） 第４図
Claims (1)
- 僅か、な間隔を隔てて対向し円弧状スリットを形成する
彎曲する２つの部材の一方の部材が、部分的に互いに重
複して配置される複数個の薄板小片よりなり、各小片の
スリット側がそれぞれ所’１１０スリット曲率を有し複
数個の小片にて連続する彎曲部を形成すると共に、各小
片の重複部のスリット側が重複せざる部より僅かに大な
る曲率を有し、各小片がスリットに向けて隣接す゛る小
片と関連を保ちクク進退し、スリット幅を調節可能とし
であることを特徴とする円弧状照明光形成スリット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56181051A JPS5883836A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | 円弧状照明光形成スリツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56181051A JPS5883836A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | 円弧状照明光形成スリツト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5883836A true JPS5883836A (ja) | 1983-05-19 |
Family
ID=16093911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56181051A Pending JPS5883836A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | 円弧状照明光形成スリツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5883836A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6061941A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-09 | Hitachi Ltd | 回転ヘッドｐｃｍレコ−ダ |
| KR100548050B1 (ko) * | 1997-03-31 | 2006-05-02 | 에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨. | 선폭을 변화시키는 조절가능한 슬릿 및 방법 |
| US7144209B2 (en) | 2002-12-24 | 2006-12-05 | Big Alpha Co., Inc. | Concave part cover |
| JP2008233932A (ja) * | 2003-06-30 | 2008-10-02 | Asml Holding Nv | フラットパネルディスプレイ製造用露光システムおよびフラットパネルディスプレイ製造用ユニット拡大環状光学系 |
| JP2018031873A (ja) * | 2016-08-24 | 2018-03-01 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、および物品製造方法 |
-
1981
- 1981-11-13 JP JP56181051A patent/JPS5883836A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6061941A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-09 | Hitachi Ltd | 回転ヘッドｐｃｍレコ−ダ |
| KR100548050B1 (ko) * | 1997-03-31 | 2006-05-02 | 에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨. | 선폭을 변화시키는 조절가능한 슬릿 및 방법 |
| US7144209B2 (en) | 2002-12-24 | 2006-12-05 | Big Alpha Co., Inc. | Concave part cover |
| JP2008233932A (ja) * | 2003-06-30 | 2008-10-02 | Asml Holding Nv | フラットパネルディスプレイ製造用露光システムおよびフラットパネルディスプレイ製造用ユニット拡大環状光学系 |
| JP2018031873A (ja) * | 2016-08-24 | 2018-03-01 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、および物品製造方法 |
| KR20180022578A (ko) * | 2016-08-24 | 2018-03-06 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광 장치, 노광 방법 및 물품 제조 방법 |
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