CN107807494B - 照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法。提供在CD一致性这点上有利的曝光波长的控制技术。提供对被照明面进行照明的照明光学系统。照明光学系统具有：遮光板，形成开口部，该开口部规定被照明面中的照明区域的形状；调整部，进行遮光板的调整，以变更被照明面中的照明区域；以及波长选择部，选择对所述被照明面进行照明的光的波长，调整部根据由波长选择部选择的波长，使用遮光板来变更照明区域。

Description

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法

技术领域

本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法。

背景技术

曝光装置是在作为半导体器件、液晶显示装置等的制造工序的光刻工序中，将原版(投影掩模、掩模)的图案经由投影光学系统转印到感光性的基板(在表面形成有抗蚀剂层的晶片、玻璃板等)的装置。关于曝光装置的分辨性能，已知有被称为瑞利公式的公式。

RP＝k₁λ/NA (1)

其中，RP表示分辨率，λ表示曝光波长，NA表示投影光学系统的数值孔径，k₁表示示出分辨的难易度的无因次量。分辨率RP的值越小，越能够进行细微的曝光。从式(1)可知，作为减小RP的手法之一，只要缩短曝光波长λ即可。

另一方面，按照下式表示曝光装置的焦点深度DOF。

DOF＝k₂λ/NA²

k₂也与k₁同样地是无因次量，根据抗蚀剂材料的种类、对原版进行照明的照明条件等而发生变化。从式(2)可知，作为增大焦点深度DOF的手法之一，只要加长曝光波长λ即可。

如以上那样，曝光波长λ影响到分辨率RP、焦点深度DOF，通过变更曝光波长λ，能够调整曝光性能。

以下，举出具体的例子。例如，假设作为曝光装置的光源使用超高压水银灯。从光源输出的光的波长多种多样，而在用于制造FPD(Flat Panel Display，平板显示器)等的曝光装置中，一般抽出波长250nm～500nm的光来使用的情形较多。

例如，在装置的分辨率不足的情况下，可以将把长波长侧去掉的波长滤波器插入到曝光装置的照明光学系统内。由此，能够缩短用于曝光的光的平均波长，能够提高分辨率。

另一方面，假设分辨率足够，为了进行显影处理而想要减小曝光工序所容许的散焦。在该情况下，与上述相反地，将把来自光源的光中的短波长侧去掉的波长滤波器插入到曝光装置的照明光学系统内即可。通过这样做，能够增大焦点深度。

但是，通过改变曝光波长，当照明光学系统内的透镜存在色差的情况下，被照明面的照度分布发生变化，在曝光区域内产生照度分布的不均(以下称为“照度不均”。)。在将原版的图案烧刻到基板时，曝光区域内的照度不均成为使CD一致性(Critical DimensionUniformity：临界尺寸一致性)变差的主要原因之一。CD一致性是指曝光区域内的图案的大小、长度的偏差度，偏差越小，曝光性能越优良。

在日本特开昭62-193125号公报中示出对照度不均的产生所致的CD一致性变差进行校正的技术。在专利文献1中，通过使狭缝宽度变化来调节曝光量，进行CD的校正。通过用压电元件等推拉决定狭缝宽度的板，能够针对狭缝的每个部位改变狭缝宽度。

但是，在日本特开昭62-193125号公报的手法中，能够适应由于照明光学系统内的各光学元件的组装误差、投影光学系统的透射率偏差等制造偏差产生的微小校正，但难以进行大幅的校正。如果在反复进行了大幅的校正的情况下，板随经时变化而变形，不仅校正精度变差，校正机构本身也有可能无法使用。即使假设增强了板的刚性，能够校正的量也被限制，结果难以进行起因于曝光波长变化的大的校正。

发明内容

根据本发明的一个方面，提供一种照明光学系统，对被照明面进行照明，所述照明光学系统的特征在于，具有：遮光板，形成开口部，该开口部规定所述被照明面中的照明区域的形状；调整部，进行所述遮光板的调整，以变更所述被照明面中的所述照明区域；以及波长选择部，选择对所述被照明面进行照明的光的波长，所述调整部根据由所述波长选择部选择的波长，使用所述遮光板来变更所述照明区域。

附图说明

图1是示出实施方式中的照明光学系统的结构的图。

图2是示出实施方式中的复眼光学系统的结构的图。

图3是示出实施方式中的狭缝机构的结构的图。

图4是说明实施方式中的狭缝机构的控制的图。

图5是示出实施方式中的照明光学系统的结构的图。

图6是示出实施方式中的复眼光学系统的结构的图。

图7是示出实施方式中的开口光阑的结构的图。

图8是示出实施方式中的狭缝的结构的图。

图9是示出实施方式中的曝光装置的结构的图。

图10是说明照度不均的测量动作的图。

图11是说明照度不均的校正的图。

图12是照度不均的校正方法的流程图。

图13是说明照度不均的校正的图。

图14是示出狭缝机构的变形例的图。

具体实施方式

以下，参照附图，详细地说明本发明的实施方式。

<第1实施方式>

图1是示出本实施方式的照明光学系统的结构的概略图。照明光学系统100例如能够搭载于曝光装置，利用来自光源部的光对作为被照明面的形成有图案的掩模(原版)进行照明。

光源部120包括光源101、椭圆镜102、多个波长滤波器104a以及104b、第1光学系统105。作为光源101例如使用高压水银灯。除了使用高压水银灯之外，还可以使用氙灯、准分子激光器等。椭圆镜102是用于对从光源101发出的光进行聚光的聚光光学系统。光源101配置于椭圆的两个焦点位置中的一个焦点位置。从光源101发出并由椭圆镜102反射的光在椭圆的另一个焦点位置被聚光，并通过配置在其附近的波长滤波器104a。

波长滤波器104b位于波长滤波器104a的附近。多个波长滤波器104a以及104b是使波长互不相同的光透射的多个波长滤波器，被构成为能够切换所使用的波长滤波器。由此能够选择曝光波长。此外，波长滤波器104a以及104b例如能够包括电介质多层膜。波长选择部51将从多个波长滤波器104a和波长滤波器104b之中选择出的波长滤波器配置于光源部与被照明面之间的光路。波长选择部51与控制部50连接，能够由控制部50指定(选择)所使用的波长滤波器。

通过波长滤波器104a的光由第1光学系统105引导至偏转镜107，到达合成部108。第1光学系统105被配置成使合成部108成为波长滤波器104a或者104b的射出面的实质上的傅里叶变换位置。

此外，在图1的例子中，光源部120为两个，对各个光源部配置有偏转镜107。偏转镜的配置因光源部的数量不同而不同，光源部的数量既可以为1个，也可以为3个以上。

从合成部108发出的光由第2光学系统140引导到复眼光学系统109，该复眼光学系统109构成用于对被照明面均匀地进行照明的光学积分器。在此，第2光学系统140被配置成使复眼光学系统109的入射面成为合成部108的实质上的傅里叶变换位置。

图2是示出复眼光学系统109的结构例子的图。如图2所示，复眼光学系统109具有使多个平凸透镜以平面状粘在一起而成的两个透镜群131、132。透镜群131、132以使成对的平凸透镜位于各个平凸透镜的焦点位置的方式使曲率面相对置地配置。通过使用这样的复眼光学系统109，在复眼光学系统109的射出面位置形成与光源101等效的多个二次光源像。

在复眼光学系统109的正下方配置有开口光阑110(σ光阑)。通过了开口光阑110的光束被第3光学系统150引导到狭缝机构181。此时第3光学系统150被配置成使狭缝机构181成为复眼光学系统109的射出面的实质上的傅里叶变换面。

图3示出了狭缝机构181的结构例子。狭缝机构181具有：第1遮光板171，形成有开口部172，该开口部172规定被照明面中的照明区域的形状；以及调整部90，调整第1遮光板171，以变更被照明面中的照明区域。开口部172例如是供光通过的圆弧形状的狭缝。调整部90可以包括：第1调整部52，调整第1遮光板171在Y方向(第1方向)上的位置；以及第2调整部173，调整Y方向上的开口部172的形状。第1调整部52包括致动器。第1调整部52与控制部50连接，能够由控制部50控制第1调整部52的动作。第1遮光板171是用于对照明区域中的Y方向的上游侧以及下游侧的边界的位置进行变更的部件。利用第1调整部52来变更第1遮光板171(开口部172)在Y方向上的位置，从而变更照明区域中的Y方向的上游侧以及下游侧的边界的位置。在开口部172的呈圆弧状的一端部形成有第2遮光板170。第2遮光板170是用于变更照明区域中的Y方向的下游侧的边界的形状的部件。第2遮光板170设置有第2调整部173(推拉部)，该第2调整部173在Y方向推拉X方向(第2方向)上的第2遮光板170的各位置。第2调整部173可以是多个致动器。这些多个致动器分别经由布线174而与控制部50连接。由此，多个致动器分别由控制部50的控制来驱动。通过驱动第2调整部173的致动器而变更第2遮光板170的端部形状，从而变更照明区域中的Y方向的下游侧的边界的形状。此外，第2遮光板170也可以配置成变更照明区域中的Y方向的上游侧的边界的形状。图14示出作为狭缝机构181的变形例的狭缝机构182的结构例子。在图14的例子中，图3的第1遮光板171被分割为两个遮光部件175、176。遮光部件175是规定开口部172的Y方向的上游侧的边界的位置的部件。遮光部件176是规定开口部172的X方向的两端的边界的部件。调整部91具有位置调整部53，该位置调整部53调整遮光部件175在Y方向上的位置。位置调整部53包括致动器。通过利用位置调整部53来变更遮光板175在Y方向上的位置，从而变更照明区域中的Y方向的上游侧的边界的位置。

通过了开口部172的圆弧形状的光束利用第3光学系统160被照明到掩模M。掩模M一边在Y方向(第1方向)被移动一边被照明。此外，在图3以及图14的例子中，开口部172使用了圆弧形状的开口部，但也可以是其它形状、例如矩形形状。

(设计例子)

以下，说明第1实施方式中的设计例子。

波长滤波器104a例如设为仅使从光源发出的光中的i线(365nm)附近的光通过的波长滤波器。图4(A1)是从光的行进方向观察狭缝机构181的开口部172的图。从复眼光学系统109的射出面发出的光利用第3光学系统150被大致均匀地照射到狭缝机构181，但由于第3光学系统150的像差而产生如图4(A1)的圆形的等高线所示的照度不均。在此，当在与X方向垂直的扫描方向(Y方向)对光的能量进行累计时，随着图4(A1)的照度不均而成为图4(A2)那样。期望的是没有照度不均、即累计能量I在X方向不产生偏差。

接下来，控制部50控制波长选择部51，将配置在光路内的波长滤波器从波长滤波器104a切换成波长滤波器104b。波长滤波器104b设为仅使从光源发出的光中的g线(435nm)附近的光通过的波长滤波器。此时，由于第3光学系统150具有的色差的影响而产生如图4(B1)的圆形的等高线所示的照度不均。图4(B2)示出在扫描方向(Y方向)对光的能量进行累计而得到的累计能量I。

图4(B1)示出了由于通过切换成波长滤波器104b而进入到第3光学系统150的光的波长发生变化所以照度不均变大这一情况。其结果，如图4(B2)所示，光的累计能量I根据X方向的位置而差异变大。

因此，控制部50控制第1调整部52来驱动遮光板171，在扫描方向(Y方向)挪动开口部172的位置。图4(C1)表示挪动开口部172之后的情形。与图4(B1)相比，可知开口部172跨越照度分布的等高线的数量减少。由此，如图4(C2)所示，能够减小累计能量I由于X方向的位置所致的差异。

这样，调整部90根据使用哪个波长滤波器来进行遮光板171的调整。此外，也可以由第2调整部173调整开口部172的Y方向上的端部形状来代替由第1调整部52驱动遮光板171。或者，也可以进行第1调整部52以及第2调整部173这两方的调整。

另外，还可考虑具备开口部的形状互不相同的多个遮光板，根据所使用的波长滤波器来适当地对所使用的遮光板进行切换的结构。例如，调整部90调整多个遮光板的位置，以使多个遮光板中的与所使用的波长滤波器相应的遮光板配置于波长滤波器与被照明面之间的光路。在以下的第2实施方式中说明该具体的方案。

<第2实施方式>

图5是示出第2实施方式的照明光学系统200的结构的图。对与第1实施方式的图1相同的结构要素标注相同的参照符号，省略它们的说明。

光源部121包括光源210、椭圆镜102、第1光学系统105。在本实施方式中，光源210能够与位于其附近的光源211进行切换。光源210和光源211构成为射出波长互不相同的光。光源选择部61(波长选择部)进行切换驱动，以将从多个光源(光源210和光源211)之中选择出的光源配置于规定的光源位置。光源选择部61与控制部60连接，能够由控制部60指定(选择)所使用的光源。在图5的例子中，也与图1同样地示出了两个光源部，但光源部的数量既可以为1个，也可以为3个以上。

从合成部108发出的光由第2光学系统140引导到复眼光学系统109，该复眼光学系统109是用于对被照明面均匀地进行照明的光学积分器。在复眼光学系统109的入射侧附近，将波长滤波器220配置于光路。在此，第2光学系统140被配置成使复眼光学系统109的入射面成为合成部108的实质上的傅里叶变换位置。在复眼光学系统109的附近配置有复眼光学系统111，构成为能够与复眼光学系统109进行切换。积分器选择部62将从多个光学积分器(复眼光学系统109和复眼光学系统111)之中选择出的光学积分器配置于光路。积分器选择部62与控制部60连接，能够由控制部60指定(选择)所使用的光学积分器。

图6是示出复眼光学系统111的结构例子的图。复眼光学系统111具有透镜群133、134。透镜群133、134以使成对的平凸透镜位于各个平凸透镜的焦点位置的方式使曲率面相对置地配置。构成透镜群133、134的各平凸透镜由曲率与构成图2的透镜群131、132的各个平凸透镜不同的透镜构成。因此，在复眼光学系统109、111射出的光的角度(射出角)互不相同。

从复眼光学系统109的射出面射出的光束利用第3光学系统150引导到遮光板242(第3遮光板)的狭缝。此时，第3光学系统150被配置成使遮光板242成为复眼光学系统109的射出面的实质上的傅里叶变换面。

另外，在复眼光学系统109的射出面附近配置有开口光阑231。另外，在开口光阑231的附近配置有开口光阑232，能够与开口光阑231进行切换。由此，能够改变照明模式。开口光阑选择部63将从多个开口光阑(开口光阑231和开口光阑232)之中选择出的开口光阑配置于光路。开口光阑选择部63与控制部60连接，能够由控制部60指定(选择)所使用的开口光阑。

在遮光板242的附近分别配置有形成有形状不同的开口部(狭缝)的遮光板241以及遮光板243，能够在多个遮光板241、242、243之间对所使用的遮光板进行切换。各遮光板241、242、243的开口部是考虑了曝光波长、复眼光学系统的射出角、照明模式等条件的形状。遮光板选择部64进行与第1实施方式中的调整部90对应的动作。遮光板选择部64将从多个遮光板241、242、243之中选择出的遮光板配置于光路。遮光板选择部64与控制部60连接，能够由控制部60指定(选择)所使用的遮光板。

(设计例子)

以下，说明第2实施方式中的设计例子。

光源210以及光源211例如为超高压水银灯。其中，光源211是350nm以下的短波长侧的光强度比光源210强的光源(例如DUV灯)。

波长滤波器220是从光源输出的光中的强度中心波长为300nm的波长滤波器。此外，强度中心波长是指通过将波长作为变量并进行光强度的重心计算而计算出的波长。另一方面，波长滤波器221是从光源输出的光中的强度中心波长为405nm的波长滤波器。

开口光阑231和开口光阑232的开口的形状互不相同。开口光阑231是如图7(A)所示的以环形状使光通过的开口光阑。另一方面，开口光阑232是如图7(B)所示的以普通的圆形状使光通过的开口光阑。

图8是示出各遮光板241、242、243的狭缝(开口部)的结构例子的图。遮光板241具有圆弧形状的狭缝。外侧的圆弧241-O与内侧的圆弧241-I的曲率分别相等。遮光板242也具有圆弧形状的狭缝。但是，外侧的圆弧242-O与内侧的圆弧242-I的曲率例如相差1％左右。遮光板243也具有圆弧形状的狭缝。外侧的圆弧243-O与内侧的圆弧243-I的曲率相同，但与241-O以及241-I的曲率不同。此外，虽然在图8中未示出，但遮光板241、242、243也可以分别附加如图3的狭缝机构181那样调整开口部的开口宽度的机构。

按照如下表1所示的图案1～8那样的曝光波长、积分器、开口光阑、狭缝的组合使用遮光板241～243。在表1中，分别用图5～8中的参照符号表示积分器、开口光阑、遮光板(狭缝)。

【表1】

图案	1	2	3	4	5	6	7	8
									曝光波长	300nm	300nm	300nm	300nm	405nm	405nm	405nm	405nm
积分器	109	109	111	111	109	109	111	111
									开口光阑	231	232	231	232	231	232	231	232
狭缝	242	241	242	241	241	243	241	243

例如，图案1、3由于曝光波长的短波长化以及作为开口光阑使用了环形状(图7(A))，所以产生如从狭缝中心起在X方向越靠狭缝的外部则照度越下降那样的照度不均。因此，在该情况下，使用遮光板242，该遮光板242具有如在X方向越靠外侧则宽度越宽那样的开口。由此，Y方向的光的能量累计值不易产生由于X方向的位置所致的差异。

另外，例如在图案6、8的情况下，由于曝光波长的长波长化以及作为开口光阑使用了小圆形状(图7(B))，所以产生如从狭缝中心起在X方向越靠狭缝的外部则照度越上升那样的照度不均。因此，在该情况下，使用遮光板243。

如图8所示，遮光板241与遮光板243的狭缝具有的圆弧形状的曲率半径不同。遮光板243被设计成曲率半径比遮光板241小。通过这样做，Y方向的光的能量累计值不易产生由于X方向的位置所致的差异。

例如，在图8中，在遮光板241的开口部的X方向的位置24IL、241C、241R之间，Y方向的位置差异小，所以能量累计值容易产生由于X位置所致的差异。另一方面，在遮光板243的开口部的X方向的位置243L、243C、243R之间，Y方向的位置差异大，所以能量累计值不易产生由于X位置所致的差异。

此外，在本实施方式中，说明了将开口部的形状设为圆弧形状的情况，但也可以不设为圆弧形状，而例如设为矩形形状。在将开口部的形状设为矩形的情况下，通过按照矩形的倾斜度替换前述圆弧曲率，能够得到与圆弧开口的情况同样的效果。

<曝光装置的实施方式>

以下，说明具有第1实施方式的照明光学系统100的曝光装置的实施方式。能够对具有第2实施方式的照明光学系统200来代替照明光学系统100的曝光装置也进行同样的说明，所以在以下代表性地说明具有照明光学系统100的曝光装置。

图9是示出实施方式的曝光装置400的结构的图。曝光装置400包括照明光学系统100，利用来自照明光学系统100的狭缝光对基板进行扫描曝光。照明光学系统100具备前述的能够调整开口部的形状的狭缝机构181。

曝光装置400具有：掩模载置台300，保持掩模M；投影光学系统301，将掩模M的图案投影到基板之上；以及基板载置台302，保持基板。投影光学系统301例如是在从物面至像面的光路中依次排列有第一凹反射面71、凸反射面72、第二凹反射面73的投影光学系统。

曝光装置400还具备测量部304，该测量部304通过对到达了基板载置台302的光的照度分布进行测量而测量基板上的曝光区域的照度不均。另外，狭缝303位于基板载置台302与测量部304之间。狭缝303能够在控制部80的控制之下被驱动部303a在沿着基板载置台302的载置基板的面的方向(X方向)扫描驱动。

如图9所示，测量部304包括传感器305以及用于将通过了狭缝303的光引导到传感器305的光学系统306。测量部304的动作大致如下。

如图10所示，对于在基板载置台302成像的光的区域401，使狭缝303在X方向扫描。此时，仅有成像在区域401的光中的成像在狭缝303的开口部307的光入射到测量部304内。入射到测量部304内的光经由光学系统306被引导到传感器305。通过一边使狭缝303在X方向扫描，一边读取到达传感器305的光的能量，从而对区域401内的每个位置的照度进行测量。由此，能够计算照度不均。

如上所述，通过调节照明光学系统100具有的狭缝机构181的开口宽度，能够降低照度不均。例如，设为利用测量部304测量出如图11(A)所示的照度不均。在该情况下，通过使照度下降的部分的狭缝机构181的宽度局部地变宽，使照度上升的部分的狭缝机构181的宽度局部地变窄，能够如图11(B)那样使照度分布变均匀。

(照度不均校正的例子)

以下，说明本实施方式的照度不均的校正。

图12是本实施方式中的照度不均的校正方法的流程图。作为步骤S1，预先针对曝光波长、积分器、开口光阑的每个设定进行照度不均的仿真。接下来，根据步骤S1的仿真结果，决定每个设定的、成为狭缝机构181的基准的开口形状(步骤S2)。成为狭缝机构181的基准的开口形状最好为如使照度不均降低那样的开口形状。例如，设为通过步骤S1中的仿真来预测出如图13(A)那样的照度不均。此时，通过适当地设定成为基准的圆弧形状的圆弧曲率半径，能够校正成如图13(B)那样的照度分布。

接下来，在曝光装置400中，控制部80针对具有在S2中决定的开口形状的每个狭缝，使用测量部304来进行照度不均测量(步骤S3)。此时测量的照度不均期待成为如图13(B)那样的分布。

但是，在实际的照度分布中，装置制作上的组装误差累积，可能成为如图13(C)所示的局部地具有不均的分布。因此，作为步骤S4，控制部80通过使用多个致动器173对狭缝机构181的开口部172的开口宽度局部地进行驱动，从而校正该局部的照度不均。由此，能够如图13(D)那样，减小X方向的照度不均，进而能够提高曝光装置的CD一致性。

<物品制造方法的实施方式>

本发明的实施方式的物品制造方法例如适于制造半导体器件等微型器件或具有微细构造的元件等物品。本实施方式的物品制造方法包括对涂敷于基板的感光剂使用上述曝光装置而形成潜像图案的工序(对基板进行曝光的工序)、以及对在上述工序中形成有潜像图案的基板进行显影的工序。进而，这样的制造方法包括其它公知的工序(氧化、成膜、蒸镀、掺杂、平坦化、蚀刻、抗蚀剂剥离、切割、键合、封装等)。本实施方式的物品制造方法相比于以往的方法，在物品的性能、质量、生产率、生产成本中的至少一个方面是有利的。

本发明并不限于上述实施方式，能够不脱离本发明的精神以及范围地进行各种变更以及变形。因此，为了公开本发明的范围，添加以下的权利要求。

Claims (11)

1.一种照明光学系统，对被照明面进行照明，所述照明光学系统的特征在于，具有：

遮光板，形成由第1圆弧和第2圆弧规定的开口部，该开口部规定所述被照明面中的照明区域的形状；

调整部，进行所述遮光板的调整，以变更所述遮光板中的所述第1圆弧的曲率或所述第2圆弧的曲率，使所述第1圆弧的曲率与所述第2圆弧的曲率不同，从而变更所述被照明面中的所述照明区域；以及

波长选择部，选择对所述被照明面进行照明的光的波长，

所述调整部根据由所述波长选择部选择出的波长的光，以降低起因于所述照明光学系统中包括的透镜中产生的色差的照度不均的方式，变更所述照明区域。

2.根据权利要求1所述的照明光学系统，其特征在于，

所述照明光学系统一边使掩模在第1方向移动，一边对所述掩模的被照明面进行照明，

所述调整部根据由所述波长选择部选择的波长，使用所述遮光板来变更所述照明区域中的所述第1方向的前或者后的边界的位置。

3.根据权利要求2所述的照明光学系统，其特征在于，

所述遮光板具有：第1遮光板，用于对所述照明区域中的所述第1方向的上游侧以及下游侧的边界的位置进行变更；以及第2遮光板，用于对所述照明区域中的所述第1方向的上游侧或者下游侧的边界的形状进行变更，

所述调整部根据由所述波长选择部选择的波长，使用所述第1遮光板来变更所述照明区域中的所述第1方向的上游侧和下游侧的边界的位置。

4.根据权利要求3所述的照明光学系统，其特征在于，

所述调整部包括：第1调整部，调整所述第1遮光板在所述第1方向上的位置；第2调整部，调整所述第2遮光板的形状。

5.根据权利要求1所述的照明光学系统，其特征在于，

还具有积分器选择部，该积分器选择部将从用于对所述被照明面进行照明的射出角互不相同的多个光学积分器之中选择出的光学积分器配置于光路，

所述调整部根据配置于所述光路的光学积分器，使用所述遮光板来变更所述照明区域。

6.根据权利要求1所述的照明光学系统，其特征在于，

还具有开口光阑选择部，该开口光阑选择部将从开口的形状互不相同的多个开口光阑之中选择出的开口光阑配置于光路，

根据配置于所述光路的开口光阑，使用所述遮光板来变更所述照明区域。

7.根据权利要求1所述的照明光学系统，其特征在于，

所述波长选择部具有使互不相同的波长的光透射的多个波长滤波器，将从所述多个波长滤波器之中选择出的波长滤波器配置于光路。

8.根据权利要求1所述的照明光学系统，其特征在于，

所述波长选择部具有多个光源部，该多个光源部射出互不相同的波长的光。

9.一种曝光装置，其特征在于具有：

对掩模进行照明的权利要求1至8中的任意一项所述的照明光学系统；以及

投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到基板。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，

还具有测量部，该测量部对所述基板上的曝光区域中的照度分布的不均进行测量，

所述调整部根据由所述测量部测量出的所述照度分布的不均，使用所述遮光板来变更所述照明区域。

11.一种物品制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求10所述的曝光装置来对基板进行曝光的工序；以及

对在所述工序中被曝光的所述基板进行显影的工序，

利用被显影的所述基板制造物品。

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