CN110412836A - 一种激光直接成像曝光机及其成像方法 - Google Patents

一种激光直接成像曝光机及其成像方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110412836A
CN110412836A CN201910703850.0A CN201910703850A CN110412836A CN 110412836 A CN110412836 A CN 110412836A CN 201910703850 A CN201910703850 A CN 201910703850A CN 110412836 A CN110412836 A CN 110412836A
Authority
CN
China
Prior art keywords
exposure
imaging
substrate
pedestal
platform
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910703850.0A
Other languages
English (en)
Inventor
梅力
胡朗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jiangsu Meng Xing Intelligent Technology Co Ltd
Original Assignee
Jiangsu Meng Xing Intelligent Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiangsu Meng Xing Intelligent Technology Co Ltd filed Critical Jiangsu Meng Xing Intelligent Technology Co Ltd
Priority to CN201910703850.0A priority Critical patent/CN110412836A/zh
Publication of CN110412836A publication Critical patent/CN110412836A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2053Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明公开了一种激光直接成像曝光机及其成像方法,包括曝光机构、成像平台、支撑平台和底座,底座底部固定安装有支撑腿,支撑平台设置在底座正上方,支撑平台和底座之间安装有多组升降气缸,底座上安装有与升降气缸连接的气缸控制器,支撑平台上端面安装有成像平台,成像平台表面安装有基板传输机构,曝光机构设置在成像平台正上方,曝光机构对下方的基板进行直接成像曝光,本发明结构设计新颖,操作方便,能够实现对基板的快速曝光,自动化程度高,稳定性好,提高了成像质量。

Description

一种激光直接成像曝光机及其成像方法
技术领域
本发明涉及成像曝光技术领域,具体为一种激光直接成像曝光机及其成像方法。
背景技术
曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线,将胶片或其他透体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备;广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。
现有的激光成像曝光机稳定性差,导致成像精度低,成像质量差,因此,有必要进行改进。
发明内容
本发明的目的在于提供一种激光直接成像曝光机及其成像方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种激光直接成像曝光机,包括曝光机构、成像平台、支撑平台和底座,所述底座底部固定安装有支撑腿,所述支撑平台设置在底座正上方,所述支撑平台和底座之间安装有多组升降气缸,所述底座上安装有与升降气缸连接的气缸控制器,所述支撑平台上端面安装有成像平台,所述成像平台表面安装有基板传输机构,所述曝光机构设置在成像平台正上方,所述曝光机构对下方的基板进行直接成像曝光。
优选的,所述基板传输机构包括安装支架和输送辊,所述安装支架安装在成像平台两侧,所述输送辊安装在安装支架之间,所述输送辊上输送待曝光基板,所述安装支架一侧设有与输送辊连接的驱动装置。
优选的,所述曝光机构包括曝光单元、激光器和光源,所述曝光单元包括微反射镜阵列、物镜和分光镜,用于将激光器发出的光线通过分光镜、微反射镜阵列和物镜投影至下方基板的表面。
优选的,所述底座包括底部支承座、阻尼橡胶层、弹簧吸震层、顶部支承座、U 型加固件,所述底部支承座和顶部支承座设有若干相对应的螺纹孔,所述U 型加固件的两臂设有供螺栓穿过的通孔,所述底部支承座、阻尼橡胶层、弹簧吸震层和顶部支承座通过U 型加固件固定安装成一体。
优选的,其成像方法包括以下步骤:
A、将待曝光的基板放置在基板传输机构上,输送辊将基板传输至曝光击鼓正下方;
B、之后控制气缸控制器,气缸控制器控制成像平台上下移动,使基板与曝光机构距离处于合适位置;
C、之后曝光机构对基板进行图形对准、离焦补偿和扫描曝光,直至基板成像曝光完成。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
(1)本发明结构设计新颖,操作方便,能够实现对基板的快速曝光,自动化程度高,稳定性好,提高了成像质量。
(2)本发明采用的曝光机构曝光精度高,能够进一步提高了基板的成像质量。
(3)本发明采用的底座稳定性好,减震效果好,能够确保成像平台的稳定性,进一步提高了成像质量。
附图说明
图1为本发明结构示意图;
图2为本发明基板输送机构俯视图;
图3为本发明曝光机构示意图;
图4为本发明底座结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“上”、 “下”、 “内”、 “外”“前端”、 “后端”、 “两端”、 等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、 “连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
请参阅图1-4,本发明提供一种技术方案:一种激光直接成像曝光机,包括曝光机构1、成像平台2、支撑平台3和底座4,所述底座4底部固定安装有支撑腿5,所述支撑平台3设置在底座4正上方,所述支撑平台3和底座4之间安装有多组升降气缸6,所述底座4上安装有与升降气缸6连接的气缸控制器7,所述支撑平台3上端面安装有成像平台2,所述成像平台2表面安装有基板传输机构8,所述曝光机构8设置在成像平台2正上方,所述曝光机构1对下方的基板9进行直接成像曝光。
本发明中,基板传输机构8包括安装支架10和输送辊11,所述安装支架10安装在成像平台2两侧,所述输送辊11安装在安装支架10之间,所述输送辊11上输送待曝光基板9,所述安装支架10一侧设有与输送辊11连接的驱动装置12。该基板传输机构能够快速稳定传输基板。
本发明中,曝光机构1包括曝光单元13、激光器14和光源15,所述曝光单元13包括微反射镜阵列16、物镜17和分光镜18,用于将激光器14发出的光线通过分光镜、微反射镜阵列和物镜投影至下方基板的表面,本发明采用的曝光机构曝光精度高,能够进一步提高了基板的成像质量。
此外,本发明中,底座4包括底部支承座19、阻尼橡胶层20、弹簧吸震层21、顶部支承座22、U 型加固件23,所述底部支承座19和顶部支承座22设有若干相对应的螺纹孔24,所述U 型加固件23的两臂设有供螺栓穿过的通孔25,所述底部支承座19、阻尼橡胶层20、弹簧吸震层21和顶部支承座22通过U 型加固件23固定安装成一体。本发明采用的底座稳定性好,减震效果好,能够确保成像平台的稳定性,进一步提高了成像质量。
工作原理:本发明的成像方法包括以下步骤:
A、将待曝光的基板放置在基板传输机构上,输送辊将基板传输至曝光击鼓正下方;
B、之后控制气缸控制器,气缸控制器控制成像平台上下移动,使基板与曝光机构距离处于合适位置;
C、之后曝光机构对基板进行图形对准、离焦补偿和扫描曝光,直至基板成像曝光完成。
综上所述,本发明结构设计新颖,操作方便,能够实现对基板的快速曝光,自动化程度高,稳定性好,提高了成像质量。
对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (5)

1.一种激光直接成像曝光机,包括曝光机构(1)、成像平台(2)、支撑平台(3)和底座(4),其特征在于:所述底座(4)底部固定安装有支撑腿(5),所述支撑平台(3)设置在底座(4)正上方,所述支撑平台(3)和底座(4)之间安装有多组升降气缸(6),所述底座(4)上安装有与升降气缸(6)连接的气缸控制器(7),所述支撑平台(3)上端面安装有成像平台(2),所述成像平台(2)表面安装有基板传输机构(8),所述曝光机构(8)设置在成像平台(2)正上方,所述曝光机构(1)对下方的基板(9)进行直接成像曝光。
2.根据权利要求1所述的一种激光直接成像曝光机,其特征在于:所述基板传输机构(8)包括安装支架(10)和输送辊(11),所述安装支架(10)安装在成像平台(2)两侧,所述输送辊(11)安装在安装支架(10)之间,所述输送辊(11)上输送待曝光基板(9),所述安装支架(10)一侧设有与输送辊(11)连接的驱动装置(12)。
3.根据权利要求1所述的一种激光直接成像曝光机,其特征在于:所述曝光机构(1)包括曝光单元(13)、激光器(14)和光源(15),所述曝光单元(13)包括微反射镜阵列(16)、物镜(17)和分光镜(18),用于将激光器(14)发出的光线通过分光镜、微反射镜阵列和物镜投影至下方基板的表面。
4.根据权利要求1所述的一种激光直接成像曝光机,其特征在于:所述底座(4)包括底部支承座(19)、阻尼橡胶层(20)、弹簧吸震层(21)、顶部支承座(22)、U 型加固件(23),所述底部支承座(19)和顶部支承座(22)设有若干相对应的螺纹孔(24),所述U 型加固件(23)的两臂设有供螺栓穿过的通孔(25),所述底部支承座(19)、阻尼橡胶层(20)、弹簧吸震层(21)和顶部支承座(22)通过U 型加固件(23)固定安装成一体。
5.实现权利要求1所述的一种激光直接成像曝光机的成像方法,其特征在于:其成像方法包括以下步骤:
A、将待曝光的基板放置在基板传输机构上,输送辊将基板传输至曝光击鼓正下方;
B、之后控制气缸控制器,气缸控制器控制成像平台上下移动,使基板与曝光机构距离处于合适位置;
C、之后曝光机构对基板进行图形对准、离焦补偿和扫描曝光,直至基板成像曝光完成。
CN201910703850.0A 2019-07-31 2019-07-31 一种激光直接成像曝光机及其成像方法 Pending CN110412836A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910703850.0A CN110412836A (zh) 2019-07-31 2019-07-31 一种激光直接成像曝光机及其成像方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910703850.0A CN110412836A (zh) 2019-07-31 2019-07-31 一种激光直接成像曝光机及其成像方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110412836A true CN110412836A (zh) 2019-11-05

Family

ID=68364976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910703850.0A Pending CN110412836A (zh) 2019-07-31 2019-07-31 一种激光直接成像曝光机及其成像方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110412836A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112631084A (zh) * 2020-12-30 2021-04-09 安徽地势坤光电科技有限公司 一种自动化激光直写装置
CN114089605A (zh) * 2021-11-19 2022-02-25 江苏盟星智能科技有限公司 一种螺旋扫描式激光曝光设备及其运转方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104455951A (zh) * 2014-12-12 2015-03-25 江阴市盛园铜材有限公司 一种减震底座
CN106909029A (zh) * 2017-03-07 2017-06-30 无锡影速半导体科技有限公司 激光直接成像曝光机用移动聚焦结构及聚焦方法
JP2018031873A (ja) * 2016-08-24 2018-03-01 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、および物品製造方法
CN109062013A (zh) * 2018-09-06 2018-12-21 重庆科技学院 一种光刻机小工件卡具

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104455951A (zh) * 2014-12-12 2015-03-25 江阴市盛园铜材有限公司 一种减震底座
JP2018031873A (ja) * 2016-08-24 2018-03-01 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、および物品製造方法
CN106909029A (zh) * 2017-03-07 2017-06-30 无锡影速半导体科技有限公司 激光直接成像曝光机用移动聚焦结构及聚焦方法
CN109062013A (zh) * 2018-09-06 2018-12-21 重庆科技学院 一种光刻机小工件卡具

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112631084A (zh) * 2020-12-30 2021-04-09 安徽地势坤光电科技有限公司 一种自动化激光直写装置
CN114089605A (zh) * 2021-11-19 2022-02-25 江苏盟星智能科技有限公司 一种螺旋扫描式激光曝光设备及其运转方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8699001B2 (en) Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method
CN110412836A (zh) 一种激光直接成像曝光机及其成像方法
CN1684002A (zh) 平版印刷装置和器件制造方法
CN1873542A (zh) 双台座光刻设备和器件制造方法
TW200947149A (en) Stage device, exposure device and device production method
CN1550911A (zh) 光刻装置,器件制造方法以及该方法制造的器件
CN109791370A (zh) 曝光装置、平板显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法
TWI739271B (zh) 物體保持裝置、物體更換系統、曝光裝置、平面顯示器之製造方法、及元件製造方法
KR20150082342A (ko) 공작물 테이블과 마스크 테이블이 공용하는 균형질량 시스템 및 노광기
CN102736421A (zh) 一种接近接触式扫描曝光装置与方法
KR20090015824A (ko) 노광장치 및 디바이스 제조 방법
JP5963122B2 (ja) 露光装置及びその組立て方法、並びにデバイス製造方法
CN113394066A (zh) 纵向运动平台及具有其的电子束检测设备
KR20110117444A (ko) 실런트 경화장치
US20110008718A1 (en) Substrate conveyance method and substrate conveyance device, exposure apparatus using same, and device manufacturing method
CN1093945C (zh) 通过布线图曝光双面印刷电路板的装置
CN220341194U (zh) 一种巨量转移装置和巨量转移设备
CN102648518B (zh) 基板支承、搬送、曝光装置、支承构件及元件制造方法
TWI758452B (zh) 曝光裝置、曝光方法、平板顯示器的製造方法以及元件製造方法
CN104570592B (zh) 一种大掩模版整形装置和方法
KR101607578B1 (ko) 노광 장치 및 마스크 얼라이너
JP2013175595A (ja) 基板保持装置及びパターン転写装置並びにパターン転写方法
JP2012238776A (ja) 物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び物体交換方法
CN104238276B (zh) 一种大掩模整形装置、方法及应用
JPH11295901A (ja) 露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20191105