JP7204400B2 - 露光装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の実施例1の露光装置におけるNA絞りの構成について、図2を用いて説明する。NA絞りは、図1における凸面ミラー10の近傍に配置される。図2は、図1において2点鎖線で囲まれた部分を拡大した図である。図2に示したように、投影光学系7の瞳面15は曲面形状であり、瞳面15の形状に合わせてNA絞りを構成する第1絞り11及び第2絞り12が投影光学系7の光軸O方向に並べて配置される。
次に、図7を用いて、本発明の実施例2の露光装置におけるNA絞りの構成について説明する。図7は、実施例2に係るNA絞りを投影光学系7の光軸方向から見た図であり、図1におけるA-A断面図である。実施例1との差異は、第2絞り12の構成である。実施例2では、2枚の遮光板12A´から第2絞り12が形成される。
次に、図8を用いて、本発明の実施例3の露光装置におけるNA絞りの構成について説明する。図8は、実施例3に係るNA絞りを投影光学系7の光軸方向から見た図であり、図1におけるA-A断面図である。実施例2との差異は、第2絞り12の構成である。実施例3では、遮光板12A´´及び12B´´を開口の径方向に並べた構成としている。その他の構成は実施例2と同じである。
実施例1において、カム溝12Fに沿って駆動ピン12Dを駆動させる構成としているが、駆動ピン12Dに替えて転がり軸受を用いても良い。転がり軸受が回転しながらカム溝12Fに沿って移動することで、摺動抵抗を低減させることができる。結果として可動部12Eの回転トルクを小さくすることができ、また、遮光板12Aの駆動に伴うパーティクルの発生リスクを低減させることができる。
次に、本発明の露光装置を用いた物品(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法を説明する。物品の製造方法として、基板に対して露光光を照射してパターンを形成する工程と、パターンが形成された基板を加工(現像、エッチングなど)する工程を含む。本発明に係る露光装置を用いることで、簡易な構成で投影光学系の開口数を変化させることが可能となり、焼き付けを行うパターンに応じ投影光学系の開口数を適切に設定することができる。
5 基板
7 投影光学系
11 第1絞り
12 第2絞り
12A 遮光板
Claims (15)
- マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を有する露光装置であって、
前記投影光学系は、
該投影光学系の瞳面または瞳面近傍に曲面の反射面を有するミラーと、
該投影光学系の開口数を第1の大きさに規定し、開口径が固定された第1開口絞りと、
複数の遮光板を含み、該投影光学系の開口数を前記第1の大きさよりも小さい第2の大きさに規定する第2開口絞りを含み、
前記第2開口絞りの複数の遮光板が前記投影光学系の光路から退避された場合に前記第1開口絞りが前記投影光学系の開口数を規定することを特徴とする露光装置。 - 前記瞳面は曲面形状であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記第1開口絞り及び前記第2開口絞りは、前記反射面に対して順に並べて配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記第2開口絞りの複数の遮光板は、前記投影光学系の光軸に対して垂直な平面内を移動することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第1開口絞り及び前記第2開口絞りを支持する支持部材をさらに有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第2開口絞りの複数の遮光板は、前記支持部材に固定されていることを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記投影光学系の開口数を前記第1の大きさの開口数として前記パターンを前記基板に投影するときには、前記投影光学系の光路中に前記第1開口絞りが配置され、
前記投影光学系の開口数を前記第2の大きさの開口数として前記パターンを前記基板に投影するときには、前記投影光学系の光路中に前記第2開口絞りが配置されることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記投影光学系の開口数を前記第1の大きさの開口数と前記第2の大きさの開口数との間で変化させるときに、前記第2開口絞りの複数の遮光板を前記投影光学系の光軸から離れる方向または近づける方向に移動させる駆動機構をさらに有することを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 前記駆動機構によって、前記第2開口絞りの複数の遮光板が、互いに異なる方向に移動することを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 前記第2開口絞りは、前記第2開口絞りによって規定される開口径の径方向に並べて配置された複数の遮光板を含むことを特徴とする請求項8または9に記載の露光装置。
- 前記第2開口絞りの複数の遮光板は、それぞれ固定ピンと前記駆動機構と結合された駆動ピンを含み、
前記駆動機構によって前記駆動ピンが前記固定ピンに対して回転駆動されることにより、前記第2開口絞りの複数の遮光板が移動することを特徴とする請求項8に記載の露光装置。 - 前記投影光学系は、光路を折り曲げる第1反射面及び第2反射面を有するミラーと、凹面ミラーと、凸面ミラーを含むことを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記凹面ミラーは、第1凹面と第2凹面を含み、
前記マスクを透過した光の進行方向に向かって、前記第1反射面、前記第1凹面、前記凸面ミラー、前記第2凹面、前記第2反射面が順に配置されていることを特徴とする請求項12に記載の露光装置。 - 前記第1開口絞りによって規定される開口、及び前記第2開口絞りによって規定される開口は真円であることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の露光装置。
- 請求項1乃至14のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018184609A JP7204400B2 (ja) | 2018-09-28 | 2018-09-28 | 露光装置及び物品の製造方法 |
TW108127316A TWI762801B (zh) | 2018-09-28 | 2019-08-01 | 曝光裝置以及物品之製造方法 |
KR1020190115785A KR102549775B1 (ko) | 2018-09-28 | 2019-09-20 | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
CN201910902159.5A CN110967935A (zh) | 2018-09-28 | 2019-09-24 | 曝光装置以及物品的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018184609A JP7204400B2 (ja) | 2018-09-28 | 2018-09-28 | 露光装置及び物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020052368A JP2020052368A (ja) | 2020-04-02 |
JP2020052368A5 JP2020052368A5 (ja) | 2022-03-31 |
JP7204400B2 true JP7204400B2 (ja) | 2023-01-16 |
Family
ID=69997008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018184609A Active JP7204400B2 (ja) | 2018-09-28 | 2018-09-28 | 露光装置及び物品の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7204400B2 (ja) |
KR (1) | KR102549775B1 (ja) |
CN (1) | CN110967935A (ja) |
TW (1) | TWI762801B (ja) |
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-
2018
- 2018-09-28 JP JP2018184609A patent/JP7204400B2/ja active Active
-
2019
- 2019-08-01 TW TW108127316A patent/TWI762801B/zh active
- 2019-09-20 KR KR1020190115785A patent/KR102549775B1/ko active IP Right Grant
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WO2017047793A1 (ja) | 2015-09-16 | 2017-03-23 | キヤノン電子株式会社 | 羽根駆動装置及び光学装置 |
JP2018031873A (ja) | 2016-08-24 | 2018-03-01 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、および物品製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200036752A (ko) | 2020-04-07 |
JP2020052368A (ja) | 2020-04-02 |
KR102549775B1 (ko) | 2023-06-30 |
TW202013090A (zh) | 2020-04-01 |
CN110967935A (zh) | 2020-04-07 |
TWI762801B (zh) | 2022-05-01 |
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