JP6386896B2 - 投影光学系、露光装置、および、デバイス製造方法 - Google Patents
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Description
図1に、本実施形態における、投影光学系を含む露光装置の概要図を示す。本実施形態の露光装置は、マスクMと基板Sをy方向に移動させながら、マスクMに描かれたパターンの像を、フォトレジストが塗布されたガラス基板Sに投影して、ガラス基板Sを露光する。露光装置は、マスクMを照明する照明光学系IL1と、マスクMのパターンを基板Sに投影する投影光学系とを有する。投影光学系は、第一反射面11aと第二反射面11bを有する多面光学部材11(光学部材)、第一凹反射面117aと第二凹反射面117bを有する凹面鏡117、および、凸面鏡12を含む。第一凹反射面117a、第二凹反射面117b、および、凸面鏡12は、マスクM(物体面)のパターンを基板S(像面)上に結像する結像光学系を構成する。第一凹反射面117a、第二凹反射面117b、および、凸面鏡12の光軸は共通で、y方向に延びる1点鎖線で示されている。また、投影光学系は、これらの反射鏡を収納する鏡筒13を有する。
図2は、実施形態2の投影光学系における多面光学部材と凸面鏡の周辺の概要図である。図3に、図2の構成のxy断面図を示す。実施形態2の投影光学系は、実施形態1と同じ多面光学部材11の他に、多面光学部材11を支持する支持枠25、支持部材101を支持する支持枠26、多面光学部材11を保持する保持部材27、および、支持部材101を支持する支持軸28を有する。
図4は、実施形態3における投影光学系の概要図である。実施形態3の投影光学系は、実施形態1と同じ多面光学部材11の他に、支持部材101の代わりに、凸面鏡12を支持する支持部材401、および、支持部材401を支持する支持部材46を有する。
次に、図5に基づいて、第4実施形態の投影光学系について説明する。図5は、実施形態4の投影光学系における多面光学部材と凸面鏡の周辺の概要図である。図6に、図5の構成のxy断面図を示す。実施形態4の投影光学系は、実施形態2の構成の他に、多面光学部材11を移動させるための駆動機構52、凸面鏡12を移動させるための駆動機構53を備える。また、実施形態2の支持軸28の代わりに、支持軸58が設けられている。
図7は、実施形態5の投影光学系における多面光学部材と凸面鏡の周辺の概要図である。本実施形態の投影光学系の構成は、実施形態2の構成と、実施形態4の構成との組み合わせである。本実施形態の投影光学系は、多面光学部材11の他に、多面光学部材11を支持する支持枠25、支持部材101を支持する支持枠26、多面光学部材11を保持する保持部材27、および、支持部材101を支持する支持軸28を有する。さらに、本実施形態の投影光学系は、多面光学部材11を移動させるための駆動機構52、凸面鏡12を移動させるための駆動機構53と、支持軸58を備える。
図8は、実施形態6の投影光学系における多面光学部材と凸面鏡の周辺の概要図である。本実施形態の投影光学系の構成は、実施形態4の構成に、実施形態3の低剛性部を組み合わせた構成である。本実施形態の投影光学系は、多面光学部材11の他に、多面光学部材11を支持する支持枠25、支持部材101を支持する支持枠26、および、多面光学部材11を保持する保持部材27を有する。さらに、本実施形態の投影光学系は、多面光学部材11を移動させるための駆動機構52、支持軸58、凸面鏡12を移動させるための駆動機構53、および、低剛性部49を備える。低剛性部49は、径を小さくしたリング状の窪みとして形成されている。
次に、前述の露光装置を利用したデバイス(半導体IC素子、液晶表示素子等)の製造方法を説明する。デバイスは、前述の露光装置を使用して、感光剤が塗布された基板(ウェハ、ガラス基板等)を露光する工程と、その基板(感光剤)を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等が含まれる。本デバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
Claims (14)
- 物体の像を像面に投影する投影光学系であって、
第1凹面及び第2凹面を含む凹面鏡と、凸面鏡とを含む結像光学系と、
光路を折り曲げる第1反射面および第2反射面を有する光学部材と、
前記凸面鏡を支持する支持部材と、を有し、
物体面からの光の進行方向に、前記第1反射面、前記第1凹面、前記凸面鏡、前記第
2凹面、前記第2反射面が順に配置され、
前記支持部材は、前記光学部材の前記凸面鏡側に設けられた開口を貫いている、
ことを特徴とする投影光学系。 - 前記開口は、前記第1反射面と前記第2反射面の間にある、ことを特徴とする請求項1に記載の投影光学系。
- 前記支持部材は、前記開口から前記凸面鏡の反射面の裏側へ延びている、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の投影光学系。
- 前記支持部材は、前記光学部材の前記凸面鏡側とは反対側へ伸びており、前記投影光学系の鏡筒に対して前記光学部材を支持することを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の投影光学系。
- 前記支持部材は、前記凸面鏡と前記光学部材との間において、前記凸面鏡の反射面の裏側から前記凸面鏡の光軸に平行な方向に延びている、ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の投影光学系。
- 前記凸面鏡と前記光学部材との間において、前記支持部材は、前記第1凹面又は前記第2凹面から見て、前記凸面鏡よりも内側にある、ことを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の投影光学系。
- 前記支持部材は片持ち梁であることを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の投影光学系。
- 前記支持部材の両端の間を支点として前記支持部材を支持する別の支持部材を有することを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載の投影光学系。
- 前記支持部材は、前記凸面鏡の曲率中心位置の剛性が、前記曲率中心位置の他の位置の剛性よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至8の何れか1項に記載の投影光学系。
- 前記光学部材を駆動する駆動機構を有することを特徴とする請求項1乃至9の何れか1項に記載の投影光学系。
- 前記凸面鏡を駆動する駆動機構を有することを特徴とする請求項1乃至10の何れか1項に記載の投影光学系。
- 前記凹面鏡は、前記第1凹面を含む第1凹面鏡と、前記第2凹面を含む第2凹面鏡と、を含むことを特徴とする請求項1乃至11の何れか1項に記載の投影光学系。
- マスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターンを基板に投影する、請求項1乃至12の何れか1項に記載の投影光学系と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項13に記載の露光装置の投影光学系を用いて、マスクのパターンを基板に投影して前記基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程と、
現像された基板を加工して、デバイスを製造する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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