JP2013238670A - 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法及び開口板 - Google Patents

Abstract

【課題】投影光学系を介して基板の上に形成される投影領域の端部の形状を制御するのに有利な露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系を備え、投影光学系を介して基板の上に形成される投影領域の一部を第１方向に重ね合わせながらマスクと基板とを第１方向に直交する第２方向に同期移動させてパターンを基板に転写する露光装置であって、投影領域を規定するための開口を有する開口板と、開口の一部を遮光して投影領域の第１方向における端部の形状を調整する調整部と、投影領域が重ね合わされる重なり領域の第１方向の幅を取得する取得部と、取得部で取得された幅に基づいて、基板の上に形成される照度分布のむらが低減されるように投影領域の第１方向における端部の形状を決定し、投影領域の第１方向における端面が決定された形状となるように調整部を制御する。
【選択図】図２

Description

本発明は、露光装置、露光方法、デバイスの製造方法及び開口板に関する。

フォトリソグラフィ技術を用いて液晶表示デバイスなどを製造する際に、マスク（原版）に形成されたパターンを、投影光学系を介して、基板に投影してパターンを転写する露光装置が使用されている。近年、露光装置には、液晶表示デバイスの大型化や低価格化に対応するために、走査露光で露光可能な面積（露光領域）の拡大が要求されている。

露光領域を拡大するための技術として、例えば、複数の投影光学系を用いる、所謂、つなぎ露光が提案されている（特許文献１参照）。つなぎ露光は、複数の投影光学系のそれぞれが形成する投影領域（即ち、複数の投影領域）を、隣接する投影領域の一部が走査方向に直交する方向に重なるように配置することで、全体としての露光領域（の幅）の拡大を図るものである。

図９乃至図１１を参照して、特許文献１に開示された技術を具体的に説明する。図９は、露光装置ＥＡの全体の構成を示す概略図である。露光装置ＥＡは、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴと、基板Ｐを保持する基板ステージＰＳＴと、露光光ＥＬでマスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬとを有する。投影光学系ＰＬは、図９に示すように、７つの光学系モジュールＰＬａ〜ＰＬｇを含む。露光装置ＥＡは、各光学系モジュールＰＬａ〜ＰＬｇが形成する投影領域をＹ軸方向につなぎ合わせながら、即ち、その一部を重ね合わせながらＸ軸方向に走査することで、マスクＭのパターンを基板Ｐに転写する。

図１０は、マスクＭ又は基板Ｐと共役な位置に配置されるブラインドユニットＢＵの構成を示す図である。ブラインドユニットＢＵは、光学系モジュールＰＬａ〜ＰＬｇのそれぞれに対して設けられた視野絞りＦＳと、ブラインドＢＢとを備えている。各光学系モジュールＰＬａ〜ＰＬｇの基板Ｐにおける投影領域ＰＲａ〜ＰＲｇは、対応する視野絞りＦＳに形成された開口Ｋによって規定される。ブラインドＢＢは、開口Ｋのいずれかの斜辺と平行な斜辺を有し、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動して開口Ｋの一部を遮蔽することができる。

露光装置ＥＡにおいて、例えば、図１１に示すように、マスクＭのパターンＰＰＡを部分パターンＰＡと部分パターンＰＢとに分割して基板Ｐに転写する場合を考える。この場合、ブラインドユニットＢＵによって、部分パターンＰＡ（基板Ｐに転写される転写パターンＭＡ）と部分パターンＰＢ（基板Ｐに転写される転写パターンＰＢ）との重ね合わせ領域、即ち、境界ＢＬＡと境界ＢＬＢとの間を変化させることができる。このように、重ね合わせ領域を変化させる理由は、つなぎ露光では、マスクのパターンに応じて重ね合わせ領域を制御しないと基板に転写されるパターンに線幅差（むら）が生じてしまうからである。

特開２００９−２３７９１６号公報

しかしながら、本発明者が鋭意検討した結果、つなぎ露光では、投影領域の重ね合わせ領域の幅、即ち、各投影領域の端部の形状を制御しなければ、マスクのパターンによっては、むらが生じてしまうということを見出した。図１０を参照するに、特許文献１に開示された技術は、開口Ｋによって規定される投影領域ＰＲａ〜ＰＲｇをつなぎ合わせた領域全体を分割してマスクのパターンを基板に転写する際にむらが発生しないようにする点では有効である。但し、上述したように、例えば、投影領域ＰＲａと投影領域ＰＲｂとの重ね合わせ領域の幅、即ち、各投影領域のＹ軸方向の端部の形状も制御しなければ、マスクのパターンによっては、むらが生じてしまうことになる。

本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、投影光学系を介して基板の上に形成される投影領域の端部の形状を制御するのに有利な露光装置を提供することを例示的目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系を介して前記基板の上に形成される投影領域の一部を第１方向に重ね合わせながら前記マスクと前記基板とを前記第１方向に直交する第２方向に同期移動させて前記パターンを前記基板に転写する露光装置であって、前記投影領域を規定するための開口を有する開口板と、前記開口の一部を遮光して前記投影領域の前記第１方向における端部の形状を調整する調整部と、前記投影領域が重ね合わされる重なり領域の前記第１方向の幅を取得する取得部と、前記取得部で取得された幅に基づいて、前記基板の上に形成される照度分布のむらが低減されるように前記投影領域の前記第１方向における端部の形状を決定し、前記投影領域の前記第１方向における端面が当該決定された形状となるように前記調整部を制御する制御部と、を有することを特徴とする。

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。

本発明によれば、例えば、投影光学系を介して基板の上に形成される投影領域の端部の形状を制御するのに有利な露光装置を提供することができる。

本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。 図１に示す露光装置による露光処理（つなぎ露光）を説明するための図である。 投影領域が重ね合わされる重なり領域のつなぎ幅を段階的に変化させることの必要性を説明するための図である。 投影領域の端部の曲線形状を定義する式を説明するための図である。 図１に示す露光装置の調整部の具体的な構成の一例を示す概略図である。 図１に示す露光装置による露光処理（つなぎ露光）を説明するための図である。 台形形状の光を切り出すための開口を有する開口板を示す図である。 図１に示す露光装置の調整部の具体的な構成の一例を示す概略図である。 露光装置の全体の構成を示す概略図である。 図９に示す露光装置のブラインドユニットの構成を示す図である。 図９に示す露光装置におけるつなぎ露光を説明するための図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。

図１は、本発明の一側面としての露光装置１の構成を示す概略図である。露光装置１は、投影光学系を介して基板の上に形成される投影領域の一部を第１方向（Ｘ軸方向）に重ね合わせながらマスクと基板とを第１方向に直交する第２方向（Ｙ軸方向）に同期移動させてマスクのパターンを基板に転写する。換言すれば、露光装置１は、つなぎ露光を行う走査型の露光装置である。

つなぎ露光を実現するためには、以下の２つの方法が考えられる。第１の方法は、従来技術のように、複数の投影光学系を用いて、かかる投影光学系のそれぞれが基板の上に規定する複数の投影領域を、隣接する投影領域の一部が重なるようにする方法である。第２の方法は、１つの投影光学系を用いて、かかる投影光学系が基板の上に規定する投影領域を、その一部が露光処理ごとに重なるようにする（即ち、投影領域の一部を重ねながら同じピッチでずらす）方法である。第１の方法と第２の方法とは、つなぎ露光を実現する上で機能的に同じであるため、本実施形態では、第２の方法を例に説明する。

露光装置１は、照明光学系１０と、開口板２０と、結像光学系３０と、マスク４０を保持して移動するマスクステージ（不図示）と、投影光学系５０と、基板６０を保持して移動する基板ステージ（不図示）とを有する。また、露光装置１は、調整部７０と、取得部８０と、制御部９０とを有する。

照明光学系１０は、光源からの光を用いて、マスク４０を照明するための光学系である。開口板２０は、照明光学系１０を通過した光から所定の形状を有する光を切り出すための開口であって、本実施形態では、投影光学系５０を介して基板６０の上に形成される投影領域を規定するための開口２０２を有する。結像光学系３０は、開口板２０で切り出された光（即ち、開口板２０の開口２０２を通過した光）をマスク４０の上に結像させるための光学系である。マスク４０は、基板６０に転写すべきパターン（回路パターン）を有し、マスクステージに保持されて投影光学系５０の物体面に配置される。

投影光学系５０は、照明光学系１０によって照明されたマスク４０のパターン（の像）を基板６０に投影する光学系である。投影光学系５０は、本実施形態では、鏡筒５０２と、鏡筒５０２の入射側及び射出側にそれぞれ配置された光学薄膜５０４ａ及び５０４ｂと、折り曲げミラー５０６と、凹面ミラー５０８と、凸面ミラー５１０とを含む。マスク４０のパターンで回折された光は、光学薄膜５０４ａ、折り曲げミラー５０６、凹面ミラー５０８、凸面ミラー５１０、凹面ミラー５０８、折り曲げミラー５０６、光学薄膜５０４ｂの順で通過し、基板６０の上に結像する。露光装置１は、走査型の露光装置であるため、マスク４０と基板６０とを走査方向（Ｙ軸方向）に走査することによって、マスク４０のパターンを基板６０に転写する。

基板６０は、マスク４０のパターンが投影（転写）される基板であって、基板ステージに保持されて投影光学系５０の像面に配置される。基板６０には、レジスト（感光剤）が塗布されている。基板６０は、ガラスプレート（液晶パネル）、ウエハ、その他の基板を含む。

調整部７０は、開口板２０の開口２０２の一部を遮光して、投影光学系５０を介して基板６０の上に形成される投影領域の走査方向に直交する方向（Ｘ軸方向）における端部の形状を調整する。調整部７０の具体的な構成については後で詳細に説明する。

取得部８０は、つなぎ露光において、投影光学系５０を介して基板６０の上に形成される投影領域が重ね合わされる重なり領域の走査方向に直交する方向（Ｘ軸方向）の幅（以下、「つなぎ幅」とする）を取得する。つなぎ幅は、一般的に、マスク４０のパターン（の形状）に従って決定される。そこで、取得部８０は、例えば、露光装置１で使用されるマスク４０とつなぎ幅との対応関係を記憶する記憶部と、マスク４０を識別する識別部と、識別部の識別結果から記憶部に記憶された対応関係を参照してつなぎ幅を決定する決定部とで構成される。但し、識別部の代わりに、ユーザが露光装置１で使用するマスク４０を入力する入力部を用いて取得部８０を構成してもよい。また、ユーザがつなぎ幅を直接入力する入力部を用いて取得部８０を構成してもよい。

制御部９０は、ＣＰＵやメモリを含み、露光装置１の全体（露光装置１の各部）を制御する。換言すれば、制御部９０は、マスク４０のパターンを基板６０に転写する、即ち、基板６０を露光する露光処理（本実施形態では、つなぎ露光）を制御する。例えば、制御部９０は、取得部８０で取得されたつなぎ幅に基づいて、基板６０の上に形成される照度分布のむらが低減されるように投影領域の走査方向に直交する方向（Ｘ軸方向）における端部の形状を決定する。そして、制御部９０は、投影光学系５０を介して基板６０の上に形成される投影領域の走査方向に直交する方向における端面が決定された形状となるように調整部７０を制御する。

図２（ａ）及び図２（ｂ）を参照して、本実施形態の露光装置１による露光処理、即ち、つなぎ露光について説明する。図２（ａ）は、２回の走査で（２つの投影領域をつないで）マスク４０のパターンを基板６０に転写する場合を示し、図２（ｂ）は、３回の走査で（３つの投影領域をつないで）マスク４０のパターンを基板６０に転写する場合を示している。また、以下では、投影光学系５０を介して基板６０の上に形成される投影領域を走査する、或いは、シフトすると説明するが、実際には、基板ステージ１０４を移動させている。

図２（ａ）を参照するに、基板６０の上の転写領域６０ａには、投影光学系５０を介して投影領域ＰＲ_Ａが投影され、かかる投影領域ＰＲ_Ａを走査方向であるＹ軸方向に走査する。但し、投影領域ＰＲ_ＡのＸ軸方向の幅は、基板６０のＸ軸方向の幅よりも小さいため、投影領域ＰＲ_ＡをＹ軸方向に走査だけでは、基板６０（転写領域６０ａ）の全体を露光することができない。そこで、投影領域ＲＰ_Ａの走査に加えて、投影領域ＰＲ_ＡをＸ軸方向に距離αだけシフトさせた投影領域ＰＲ_ＢをＹ軸方向に走査することで、基板６０の全体を露光する。

同様に、図２（ｂ）を参照するに、基板６０の上の転写領域６０ａには、投影光学系５０を介して投影領域ＰＲ_Ｃが投影され、かかる投影領域ＰＲ_Ｃを走査方向であるＹ軸方向に走査する。次いで、投影領域ＰＲ_ＣをＸ軸方向に距離βだけシフトさせた投影領域ＰＲ_ＤをＹ軸方向に走査する。更に、投影領域ＰＲ_ＤをＸ軸方向に距離βだけシフトさせた投影領域ＰＲ_ＥをＹ軸方向に走査することで、基板６０の全体を露光する。

このように、投影領域ＰＲ_Ａ及びＰＲ_Ｂ、又は、投影領域ＰＲ_Ｃ乃至ＰＲ_Ｅを、その一部を重ね合わせながらＹ軸方向に走査することで、基板６０の上の転写領域６０ａにマスク４０のパターンを転写することが可能となる。

また、投影領域ＰＲ_Ａ及びＰＲ_ＢのそれぞれのＸ軸方向の幅（露光幅）は同じであり、投影領域ＰＲ_Ｃ乃至ＰＲ_Ｅのそれぞれの露光幅は同じである。これは、投影領域ＰＲ_Ａ及びＰＲ_Ｂ、又は、投影領域ＰＲ_Ｃ乃至ＰＲ_ＥをＹ軸方向に走査した際に、基板６０の全体における照度（照射エネルギー）を一定にするためである。但し、投影領域ＰＲ_Ａと投影領域ＰＲ_Ｂとの重なり領域ＯＲ、投影領域ＰＲ_Ｃと投影領域ＰＲ_Ｄとの重なり領域、及び、投影領域ＰＲ_Ｄと投影領域ＰＲ_Ｅとの重なり領域においては、つなぎ幅をＹ軸方向に段階的に変化させることが必要である。

図３を参照して、投影領域が重ね合わされる重なり領域のつなぎ幅をＹ軸方向に段階的に変化させることの必要性について説明する。図３において、ＩＤ_Ａは、投影領域ＰＲ_Ａにおける照度分布を示し、ＩＤ_Ｂは、投影領域ＰＲ_Ｂにおける照度分布を示している。照度分布ＩＤ_Ａと照度分布ＩＤ_Ｂとがつなぎ合わされると、照度分布ＩＤとなり、基板６０の全体で一様な（即ち、照度むらのない）照度分布となる。ここで、図２（ａ）では、開口板２０の開口２０２が円弧形状であるため、投影領域ＰＲ_ＡのＸ軸方向における端部ＥＰ_Ａの形状及び投影領域ＰＲ_ＢのＸ軸方向における端部ＥＰ_Ｂの形状は曲線形状になる。換言すれば、制御部９０は、投影領域ＰＲ_Ａ及びＰＲ_Ｂのそれぞれの端部ＥＰ_Ａ及びＥＰ_Ｂの形状を曲線形状に決定し、投影領域ＰＲ_Ａ及びＰＲ_Ｂのそれぞれの端部ＥＰ_Ａ及びＥＰ_Ｂの形状が曲線形状となるように調整部７０を制御する。

また、開口板２０の開口２０２が円弧形状である場合、投影領域のＸ軸方向における端部の曲線形状を定義する式Ｙは、以下の式（１）で表される。但し、図４に示すように、円弧形状の開口２０２に対応して基板６０の上に投影される円弧形状の投影領域の半径をＲ、かかる投影領域の露光幅を２Ｖ、投影光領域のＹ軸方向における幅をＴ、重なり領域のつなぎ幅をＴとする。

Ｙ＝Ｒ−（Ｒ^２−Ｘ^２）^１／２＋Ｓ／Ｔ（Ｖ−Ｘ） ・・・（１）
ここで、マスク４０のパターンとつなぎ露光との関係について説明する。マスク４０のパターンが、つなぎ幅を狭くしたとしても照度むらを発生させいないようなパターンであれば、投影領域の走査時間に関わるタクトを重視し、図２（ａ）に示すように、２回の走査でマスク４０のパターンを基板６０に転写するべきである。但し、マスク４０のパターンが、つなぎ幅を広くしなければ照度むらが発生してしまうようなパターン（例えば、狭い線幅のライン・アンド・スペースのパターン）である場合も考えられる。このような場合には、図２（ｂ）で示すように、つなぎ幅を広くして、３回の走査でマスク４０のパターンを基板６０に転写するべきである。これにより、マスク４０のパターンが照度むらを発生しやすいパターンであっても、照度むらの発生を抑えながら、マスク４０のパターンを高精度に基板６０に転写することができる。

図５（ａ）及び図５（ｂ）を参照して、調整部７０の具体的な構成の一例を説明する。調整部７０は、例えば、開口板２０に配置された遮光板７０２と、アクチュエータ７０４と、ロッド７０６とを含む。遮光板７０２は、Ｚ軸方向に厚さを有する薄板であって、形状を可変とする端面７０２ａを有する。アクチュエータ７０４は、伸縮可能なロッド７０６を介して、遮光板７０２の端面７０２ａに力を加える機能を有する。アクチュエータ７０４は、本実施形態では、開口２０２のＹ軸方向における端部のうちの一端に対応する端面７０２ａの位置を固定した状態で、端面７０２ａの形状（曲線形状）を変更する。具体的には、各アクチュエータ７０４が遮光板７０２の端面７０２ａの位置（即ち、ロッド７０６が接続された位置）を個別に変化させる。これにより、投影領域のＸ軸方向における端部の形状を、図２（ａ）に示す曲線形状（図５（ａ））や図２（ｂ）に示す曲線形状（図５（ｂ））に変更（制御）することができる。この際、遮光板７０２の端面７０２ａによって形成される曲線形状が、上述した式（１）で表されるようにする。

図６（ａ）及び図６（ｂ）を参照して、開口板２０の開口２０２が台形形状である場合におけるつなぎ露光について説明する。図６（ａ）は、２回の走査で（２つの投影領域をつないで）マスク４０のパターンを基板６０に転写する場合を示し、図６（ｂ）は、３回の走査で（３つの投影領域をつないで）マスク４０のパターンを基板６０に転写する場合を示している。マスク４０のパターンが、つなぎ幅を狭くしたとしても照度むらを発生させいないようなパターンであれば、投影領域の走査時間に関わるタクトを重視し、図６（ａ）に示すように、２回の走査でマスク４０のパターンを基板６０に転写する。但し、マスク４０のパターンが、つなぎ幅を広くしなければ照度むらが発生してしまうようなパターンである場合には、図６（ｂ）で示すように、つなぎ幅を広くして、３回の走査でマスク４０のパターンを基板６０に転写する。ここでは、開口板２０の開口２０２を台形形状にして、照明光学系１０を通過した光から台形形状を有する光を切り出すものとする。但し、図７に示すように、開口板２０の開口２０２が円弧形状であっても、開口板２０の後段に、台形形状の開口２０２Ａを有する開口板２０Ａを更に配置することで台形形状を有する光を切り出すことが可能である。

図６（ａ）を参照するに、基板６０の上の転写領域６０ａには、投影光学系５０を介して投影領域ＰＲ_Ｇが投影され、かかる投影領域ＰＲ_Ｇを走査方向であるＹ軸方向に走査する。但し、投影領域ＰＲ_ＧのＸ軸方向の幅は、基板６０のＸ軸方向の幅よりも小さいため、投影領域ＰＲ_ＧをＹ軸方向に走査だけでは、基板６０（転写領域６０ａ）の全体を露光することができない。そこで、投影領域ＲＰ_Ｇの走査に加えて、投影領域ＰＲ_ＧをＸ軸方向に距離α’だけシフトさせた投影領域ＰＲ_ＨをＹ軸方向に走査することで、基板６０の全体を露光する。

同様に、図６（ｂ）を参照するに、基板６０の上の転写領域６０ａには、投影光学系５０を介して投影領域ＰＲ_Ｉが投影され、かかる投影領域ＰＲ_Ｉを走査方向であるＹ軸方向に走査する。次いで、投影領域ＰＲ_ＩをＸ軸方向に距離β’だけシフトさせた投影領域ＰＲ_ＪをＹ軸方向に走査する。更に、投影領域ＰＲ_ＪをＸ軸方向に距離β’だけシフトさせた投影領域ＰＲ_ＫをＹ軸方向に走査することで、基板６０の全体を露光する。

このように、投影領域ＰＲ_Ｇ及びＰＲ_Ｈ、又は、投影領域ＰＲ_Ｉ乃至ＰＲ_Ｋを、その一部を重ね合わせながらＹ軸方向に走査することで、基板６０の上の転写領域６０ａにマスク４０のパターンを転写することが可能となる。

また、投影領域ＰＲ_Ｇ及びＰＲ_ＨのそれぞれのＸ軸方向の幅（露光幅）は同じであり、投影領域ＰＲ_Ｉ乃至ＰＲ_Ｋのそれぞれの露光幅は同じである。ここで、図６（ａ）及び図６（ｂ）では、開口板２０の開口２０２が台形形状であるため、投影領域ＰＲ_Ｇ乃至ＰＲ_ＫのそれぞれのＸ軸方向における端部の形状は直線形状になる。換言すれば、制御部９０は、投影領域ＰＲ_Ｇ乃至ＰＲ_Ｋのそれぞれの端部の形状を直線形状に決定し、投影領域ＰＲ_Ｇ乃至ＰＲ_Ｋのそれぞれの端部の形状が直線形状となるように調整部７０を制御する。これは、開口板２０の開口２０２が台形形状である場合、投影領域ＰＲ_Ｇにおける照度分布と投影領域ＰＲ_Ｈにおける照度分布とがつなぎ合わされると、基板６０の全体で一様な（即ち、照度むらのない）照度分布となるからである。同様に、投影領域ＰＲ_Ｉにおける照度分布と、投影領域ＰＲ_Ｊにおける照度分布と、投影領域ＰＲ_Ｋにおける照度分布とがつなぎ合わされると、基板６０の全体で一様な照度分布となる。

図８（ａ）及び図８（ｂ）を参照して、開口板２０の開口２０２が台形形状である場合における調整部７０の具体的な構成の一例を説明する。調整部７０は、例えば、開口板２０に配置された遮光板７０２と、アクチュエータ７０４と、ロッド７０６とを含む。遮光板７０２は、Ｚ軸方向に厚さを有する薄板であって、直線形状の端面７０２ｂを有する。アクチュエータ７０４は、伸縮可能なロッド７０６を介して、遮光板７０２の端面７０２ｂに力を加える機能を有する。アクチュエータ７０４は、本実施形態では、開口２０２のＹ軸方向における端部のうちの一端に対応する端面７０２ｂの位置を固定した状態で、直線形状の端面７０２ｂを移動させる。具体的には、アクチュエータ７０４は、開口２０２のＹ軸方向における端部のうちの一端に対応する端面７０２ｂの位置を回転軸として、直線形状の端面７０２ｂを回転させる。これにより、投影領域のＸ軸方向における端部の形状を、図６（ａ）に示す直線形状（図８（ａ））や図６（ｂ）に示す直線形状（図８（ｂ））に変更（制御）することができる。

このように、露光装置１は、マスク４０のパターン（即ち、パターンに従って決定されるつなぎ幅）に応じて、各投影領域のＹ軸方向の端部の形状を制御（調整）することができる。従って、露光装置１は、照度むらの発生を抑えながら、マスク４０のパターンを高精度に基板６０に転写することが可能であり、高いスループットで経済性よく高品位なデバイス（半導体集積回路素子、液晶表示素子等）を提供することができる。なお、デバイスは、露光装置１を用いてフォトレジスト（感光剤）が塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、露光された基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることにより製造される。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。本実施形態では、投影領域の端部の形状を調整部で調整しているが、調整部で調整した後の投影領域の形状に対応する形状の開口を有する開口板も本発明の一側面を構成する。例えば、投影領域を円弧形状に規定するための開口であって、その端部の形状が曲線形状である開口を有する開口板は、本発明の一側面を構成する。

Claims (9)

1. マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系を介して前記基板の上に形成される投影領域の一部を第１方向に重ね合わせながら前記マスクと前記基板とを前記第１方向に直交する第２方向に同期移動させて前記パターンを前記基板に転写する露光装置であって、
   前記投影領域を規定するための開口を有する開口板と、
   前記開口の一部を遮光して前記投影領域の前記第１方向における端部の形状を調整する調整部と、
   前記投影領域が重ね合わされる重なり領域の前記第１方向の幅を取得する取得部と、
   前記取得部で取得された幅に基づいて、前記基板の上に形成される照度分布のむらが低減されるように前記投影領域の前記第１方向における端部の形状を決定し、前記投影領域の前記第１方向における端面が当該決定された形状となるように前記調整部を制御する制御部と、
   を有することを特徴とする露光装置。
2. 前記開口は、円弧形状であり、
   前記制御部は、前記投影領域の前記第１方向における端部の形状を曲線形状に決定することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記円弧形状の前記開口に対応して前記基板の上に規定される円弧形状の前記投影領域の半径をＲ、前記投影領域の前記第１方向における幅を２Ｖ、前記投影領域の前記第２方向における幅をＳ、前記取得部で取得された幅をＴとすると、
   前記曲線形状を定義する式Ｙは、Ｙ＝Ｒ−（Ｒ^２−Ｘ^２）^１／２＋Ｓ／Ｔ（Ｖ−Ｘ）で表されることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
4. 前記調整部は、
   形状を可変とする端面を有する遮光板と、
   前記円弧形状の前記開口の前記第１方向における端部のうちの一端に対応する前記端面の位置を固定した状態で、前記端面の形状を変更するためのアクチュエータと、
   を含むことを特徴とする請求項２又は３に記載の露光装置。
5. 前記開口は、台形形状であり、
   前記制御部は、前記投影領域の前記第１方向における端部の形状を直線形状に決定することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
6. 前記調整部は、
   直線形状の端面を有する遮光板と、
   前記台形形状の前記開口の前記第１方向における端部のうちの一端に対応する前記端面の位置を固定した状態で、前記端面を移動させるためのアクチュエータと、
   を含むことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
7. マスクのパターンを基板に投影する投影光学系によって前記基板の上に規定される投影領域の一部を第１方向に重ね合わせながら前記マスクと前記基板とを前記第１方向に直交する第２方向に同期移動させて前記パターンを前記基板に転写する露光方法であって、
   前記投影領域が重ね合わされる重なり領域の前記第１方向の幅を取得する第１ステップと、
   前記第１ステップで取得された幅に基づいて、前記基板の上に形成される照度分布のむらが低減されるように前記投影領域の前記第１方向における端部の形状を決定し、前記投影領域の前記第１方向における端面が当該決定された形状となるように制御する第２ステップと、
   を有することを特徴とする露光方法。
8. 請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
   露光した前記基板を現像するステップと、
   を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
9. マスクのパターンを基板に投影する投影光学系によって前記基板の上に規定される投影領域の一部を第１方向に重ね合わせながら前記マスクと前記基板とを前記第１方向に直交する第２方向に同期移動させて前記パターンを前記基板に転写する露光装置に用いられ、前記投影領域を円弧形状に規定するための開口を有する開口板であって、
   前記開口は、前記第１方向における端部の形状が曲線形状であることを特徴とする開口板。

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