JP2001215722A - 走査露光方法および走査型露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マスクと基板とを同期移動させて基板上でパ
ターンをつなぎ合わせて画面合成を行う際に、同期移動
方向で隣り合うパターン同士を滑らかにつなぎ合わせ
る。 【解決手段】 第１パターンと第２パターンとを有した
マスクＲと基板Ｐとを同期移動して、第１パターンと第
２パターンとを基板Ｐに露光する走査露光方法におい
て、基板Ｐの同期移動方向に沿って第１パターンと第２
パターンとを露光する際に、第１パターンの一部と第２
パターンの一部とを重複して露光し、重複露光するとき
のマスクＲと基板Ｐとの同期移動速度を、重複露光しな
いときのマスクＲと基板Ｐとの同期移動速度とは異なら
せる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マスクと基板とを
所定方向に同期移動して、マスクに形成されたパターン
を基板に露光する走査露光方法および走査型露光装置に
関し、特に、基板上で隣り合う複数の分割パターンをつ
なぎ合わせて露光する際に用いて好適な走査露光方法お
よび走査型露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、パソコンやテレビ等の表示素子と
しては、薄型化を可能とする液晶表示パネルが多用され
るようになっている。この種の液晶表示パネルは、平面
視矩形状の感光基板上に透明薄膜電極をフォトリソグラ
フィの手法で所望の形状にパターニングすることにより
製造されている。そして、このフォトリソグラフィの装
置として、マスク（レチクル）上に形成されたパターン
を投影光学系を介して感光基板上のフォトレジスト層に
露光する露光装置が用いられている。

【０００３】上記の液晶表示パネル、例えばパーソナル
コンピュータ用のパネルは、現在３０７．３４ｍｍ（１
２．１インチ）タイプから３５８．１４ｍｍ（１４．１
インチ）タイプの大型のものが主流になっている。これ
らのデバイスを露光する場合、パターン精度の高いレチ
クルは、１５２．４ｍｍ（６インチ）タイプが一般的に
使用されている。また、これ以上のサイズでは、およそ
３５０ｍｍ×４５０ｍｍもしくは４００ｍｍ×６００ｍ
ｍの大型マスクが使用される。このような大型マスクで
は、高速なスループットが得られるが、上記レチクルに
比較するとパターン精度が通常低いため、いわゆる高精
細デバイス用の高精度マスクを得るにはコストが膨大と
なり現実的ではない。

【０００４】そこで、１つの液晶表示パネルのパターン
を複数の領域に分割して画面合成する技術が必須になっ
ている。ところが、画面合成では、パターン継ぎ部にお
いてレチクルのパターン描画誤差、投影光学系の光学収
差やガラス基板を移動させるステージの位置決め誤差等
に起因して段差が発生し、デバイスの特性が損なわれた
りする。さらに、パターン合成されたものを多層に重ね
合わせた場合、各層の露光領域の重ね誤差やパターンの
線幅差がパターンの継ぎ目部分で不連続に変化し、液晶
表示パネルを点灯したときに継ぎ目部で色ムラが発生す
る等、デバイスの品質が低下するという問題があった。

【０００５】この問題を解消しつつ、大型のガラス基板
に露光するための走査型露光装置では、レチクルを保持
するレチクルステージおよびガラス基板を保持する基板
ステージを同期移動して走査露光を行った後に、レチク
ルステージおよび基板ステージを同期移動と直交する非
走査方向にステップ移動して、後の露光領域を先の露光
領域と一部重複させて、且つ重複部の露光量（露光エネ
ルギ量）が非重複部の露光量と同一になるように走査露
光を行う工程を一回または数回繰り返すことにより、複
数の分割パターンを滑らかにつなぎ合わせて大きなガラ
ス基板上に転写することが行われている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の走査露光方法および走査型露光装置に
は、以下のような問題が存在する。上記のように、露光
領域を一部重複させて高精度デバイスを走査露光する場
合、デバイスパターンの分割パターンを有する複数のレ
チクルを用いて画面合成を行っているが、この場合、レ
チクル製造誤差を含めた様々の誤差を管理する必要があ
り、補正作業が繁雑になったり、補正誤差が残存して良
好な画面合成精度を得ることが困難である。

【０００７】そのため、一枚のレチクルを用いてデバイ
スパターンを画面合成することが望ましいが、この場合
でもレチクルに対する露光スポット（照明領域）を調整
して複数の分割パターンを設定し、これらの分割パター
ンをガラス基板上でつなぎ合わせる必要が生じる。とこ
ろが、最近では、液晶表示パネルの大面積化に対する要
求が更に強まり、より大きなガラス基板に露光する必要
が生じている。そのためには、分割パターンを縦横につ
なぎ合わせて画面合成する方法が考えられるが、従来で
は走査方向（同期移動方向）に滑らかに分割パターンを
つなぎ合わせることができず、非走査方向と同様に走査
方向につなぎ合わせても、デバイスの品質を維持できる
画面合成の方法が望まれていた。

【０００８】一方、上記のように、一枚のレチクルを使
用してガラス基板上で分割パターンをつなぎ合わせる場
合、デバイスパターンが有する画素パターンのようにパ
ターンの繰り返し性という特長を用いて、ガラス基板の
位置を変更することにより、レチクルのパターンのうち
繰り返しパターンで重複させながら複数の露光領域に露
光している。

【０００９】ところが、この画素パターンは、デバイス
パターンに対して０°あるいは９０°方向（Ｘ方向ある
いはＹ方向）に配列される。そして、ガラス基板上での
分割パターン同士の重複部（画面合成ライン）も、画素
パターンと同様に０°あるいは９０°方向に沿って設定
されることが多い。液晶デバイスにおいて、画面合成時
に発生する表示品質上の問題の一つに駆動用トランジス
タ製造時の重ね合わせ精度差がある。これは、画面合成
ラインを挟んで、例えば左右のパターンの重ね合わせ精
度差が引き起こす駆動用トランジスタの制御誤差が、駆
動用トランジスタの性能と使用される液晶材料により決
定される階調の最小分解能とを上回ることが主な原因で
ある。

【００１０】しかも、画面合成ラインが延びる方向と、
画素パターンの配列方向とが同じであると、画面合成ラ
インに隣接する駆動用トランジスタは、全て同じゲート
線あるいは信号線に接続されるため同じタイミングで駆
動される。その結果、画面合成により発生する重ね合わ
せ精度差が表示品質に及ぼす影響が直線上に並ぶことに
なる。通常、誤差が大きくても誤差部分が点在する場合
はさほど目立たないが、誤差が小さくても誤差部分が整
然と並ぶと視認性が上がるため、重ね合わせ精度差の影
響が直線上に並ぶことで表示品質が低下するという問題
があった。

【００１１】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、マスクと基板とを同期移動させて基板上で
パターンをつなぎ合わせて画面合成を行う際に、同期移
動方向で隣り合う分割パターン同士を滑らかにつなぎ合
わせることが可能な走査露光方法および走査型露光装置
を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的
は、画面合成により発生する重ね合わせ精度差がデバイ
スの表示品質に悪影響を及ぼすことを防止する走査露光
方法および走査型露光装置を提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１５に対
応付けした以下の構成を採用している。本発明の走査露
光方法は、第１パターン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ
２）とを有したマスク（Ｒ）と基板（Ｐ）とを同期移動
して、第１パターン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ２）と
を基板（Ｐ）に露光する走査露光方法において、基板
（Ｐ）の同期移動方向に沿って第１パターン（Ｐ１）と
第２パターン（Ｐ２）とを露光する際に、第１パターン
（Ｐ１）の一部と第２パターン（Ｐ２）の一部とを重複
して露光し、重複露光するときのマスク（Ｒ）と基板
（Ｐ）との同期移動速度を、重複露光しないときのマス
ク（Ｒ）と基板（Ｐ）との同期移動速度とは異ならせる
ことを特徴とするものである。

【００１３】従って、本発明の走査露光方法では、第１
パターン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ２）との重複部に
おける露光量（露光エネルギ量）を非重複部における露
光量と異なるように設定することができる。そこで、第
１パターン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ２）を同期移動
方向に沿って露光する際に、各パターン（Ｐ１、Ｐ２）
同士の重複部（ＪＹ１）において露光量（露光エネルギ
量）を境界へ向けて比例的に減少させることによって、
重複して露光した際にこの部分の露光量を非重複部の露
光量と略一致させることができる。そのため、第１パタ
ーン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ２）とは、マスク
（Ｒ）のパターン描画誤差、投影光学系（ＰＬ）の光学
収差や基板を移動させるステージ（５、６）の位置決め
誤差等が存在しても、重複部（ＪＸ１）で段差が滑らか
に変化し、デバイス特性が低下することを防止できる。

【００１４】また、本発明の走査露光方法は、パターン
（Ｐ１、Ｐ３）を有したマスク（Ｒ）と基板（Ｐ）とを
露光光の照明領域（Ｓ）に対して同期移動して、パター
ンを基板（Ｐ）に露光する走査露光方法において、同期
移動方向とは異なる方向の照明領域（Ｓ）の大きさを同
期移動中に変更することを特徴とするものである。

【００１５】さらに、本発明の走査型露光装置は、パタ
ーン（Ｐ１、Ｐ３）を有したマスク（Ｒ）と基板（Ｐ）
とを同期移動して、パターン（Ｐ１、Ｐ３）を基板
（Ｐ）に露光する走査型露光装置（１）において、マス
ク（Ｒ）の照明領域（Ｓ）を設定する照明領域設定装置
（１０）と、同期移動方向とは異なる方向の照明領域
（Ｓ）の大きさを同期移動中に変更する変更装置（１
４）とを備えたことを特徴とするものである。

【００１６】従って、本発明の走査露光方法および走査
型露光装置では、照明領域（Ｓ）の端部の軌跡が同期移
動方向と異なる方向に延びることになる。そこで、基板
（Ｐ）上で重複露光されるパターン（Ｐ１、Ｐ３）を照
明領域（Ｓ）の端部で照明することで、基板（Ｐ）上で
つなぎ合わされるパターン同士の重複部（ＪＹ１）を同
期移動方向と異なる方向に延在させることができる。そ
のため、画素パターン等の単位パターン（２２）が同期
移動方向に沿って配列されていても、画面合成ラインに
隣接する駆動用トランジスタは異なる信号線で駆動され
ることになり、同じ重ね合わせ精度であっても表示品質
に及ぼす影響を小さくすることができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の走査露光方法およ
び走査型露光装置の第１の実施の形態を、図１ないし図
１１を参照して説明する。ここでは、基板として液晶表
示パネル製造に用いられる角形のガラス基板を用い、レ
チクルに形成された液晶表示デバイスの回路パターンを
ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置によりガラ
ス基板に正立等倍で画面合成する場合の例を用いて説明
する。

【００１８】図１は、走査型露光装置１の光学系構成を
示す概略図である。走査型露光装置１は、レチクル（マ
スク）Ｒに形成されたパターン（例えば、液晶表示デバ
イスパターン）をレジスト等が塗布された感光性のガラ
ス基板（基板）Ｐ上へ投影転写するものであって、光源
２、照明光学系３、投影光学系ＰＬ、レチクルステージ
５および基板ステージ６から概略構成されている。な
お、レチクルＲおよびガラス基板ＰがＸＹ平面に沿って
配置され、ＸＹ平面のうち走査方向（同期移動方向）を
Ｘ方向（図１中、左右方向）、Ｘ方向と直交する非走査
方向をＹ方向（図１中、紙面に直交する方向）とし、Ｘ
Ｙ平面に直交する光軸方向をＺ方向として説明する。

【００１９】光源２は、露光光としてのビームＢを発す
るものであり、超高圧水銀ランプ等で構成されている。
この光源２には、回転楕円面からなる反射面を有し、光
源２が発する露光光を集光する楕円鏡２ａが付設されて
いる。そして、光源２は、楕円鏡２ａの第１焦点位置に
位置決めされている。したがって、光源２から射出され
た照明ビームＢは、反射ミラー７を介して楕円鏡２ａの
第２焦点位置に光源像を形成する。この第２焦点位置の
近傍には、シャッタ（不図示）が設けられており、ビー
ムＢに対するシャッタの開閉により露光状態と非露光状
態との切り換えを行う構成になている。

【００２０】照明光学系３は、反射ミラー７、８、波長
選択フィルタ（不図示）、フライアイレンズ等のオプテ
ィカルインテグレータ９、レチクルブラインド（照明領
域設定装置）１０およびレンズ系１１から概略構成され
ている。そして、第２焦点位置に収れんした後に発散し
たビームＢは、ほぼ平行な光束に変換された後、所望の
波長域の光束のみを透過させる波長選択フィルタに入射
する。波長選択フィルタを介して選択された露光波長の
ビームＢ（例えば、ｇ線またはｉ線等）は、オプティカ
ルインテグレータ９に入射する。

【００２１】オプティカルインテグレータ９は、多数の
正レンズエレメントをその中心軸線が光軸に沿って延び
るように縦横に配列することにより構成されている。し
たがって、フライアイインテグレータ９に入射したビー
ムＢは、多数のレンズエレメントにより波面分割され、
フライインテグレータ９の射出面近傍にレンズエレメン
トの数と同数の光源像からなる二次光源を形成する。す
なわち、フライアイインテグレータ９の射出側には、実
質的な面光源が形成される。

【００２２】二次光源からのビームＢは、レチクルブラ
インド１０を照明する。レチクルブラインド１０は、光
源２とレチクルＲとの間に配設されレチクルＲの露光ス
ポット（照明領域）を設定するものであって、レチクル
Ｒと光学的にほぼ共役な位置に配置されている。なお、
レチクルブラインド１０の構成および作用については後
述する。

【００２３】レチクルステージ５は、レチクルＲを保持
するものであって、一次元の走査露光を行うべくＸ方向
に長いストロークと、走査方向と直交するＹ方向に数ｍ
ｍ程度の微小量のストロークとを有している。レチクル
ステージ５上には、不図示の移動鏡が設けられており、
レーザ干渉計（不図示）から射出されたレーザ光が移動
鏡で反射し、その反射光と入射光との干渉に基づいて移
動鏡とレーザ干渉計との間の距離、すなわちレチクルス
テージ５の位置（ひいてはレチクルＲの位置）が検出さ
れる構成になっている。このレチクルステージ５の駆動
は、ステージ制御部１２によって制御される。

【００２４】投影光学系ＰＬは、露光スポットに存在す
るレチクルＲのパターンの像をガラス基板Ｐ上に等倍正
立で結像させるものである。

【００２５】基板ステージ６は、ガラス基板Ｐを保持す
るものであって、レチクルステージ５と同様に、一次元
の走査露光を行うべくＸ方向に長いストロークと、走査
方向と直交するＹ方向にステップ移動するための長いス
トロークとを有している。基板ステージ６上にも、移動
鏡（不図示）が設けられており、レーザ干渉計（不図
示）によって移動鏡とレーザ干渉計との間の距離、すな
わち基板ステージ６の位置（ひいてはガラス基板Ｐの位
置）が検出される構成になっている。この基板ステージ
６の駆動も、ステージ制御部１２によって制御される。

【００２６】従って、レチクルＲを透過したビームＢ
は、投影光学系ＰＬを介してガラス基板Ｐに結像する。
そして、ガラス基板Ｐ上の露光領域には、レチクルＲの
露光スポットにあるパターン像が形成される。そして、
レチクルステージ５および基板ステージ６の位置を検出
しつつ、ビームＢに対してレチクルステージ５および基
板ステージ６を介してレチクルＲとガラス基板ＰとをＸ
方向に同期移動させることにより、露光スポットに位置
するレチクルＲのパターンをガラス基板Ｐ上に逐次転写
することができる。

【００２７】図２に示すように、レチクルブラインド１
０は、一対のブラインド板１０ａ、１０ｂと一対の端部
遮光ブラインド板１０ｃ、１０ｄとから構成されてい
る。ブラインド板１０ａ、１０ｂは、レチクルＲの共役
面を挟んで、且つこの共役面とほぼ平行に配置されてお
り、図３に示すように、Ｙ方向の幅がＷ１に設定された
等辺の三角形状の端部１３ａ、１３ｂと幅がＷ２に設定
された矩形部１４ａ、１４ｂとからなる開口をそれぞれ
有する左右対称になっている。また、各ブラインド板１
０ａ、１０ｂは、それぞれ独立してＹ方向に移動自在な
構成になっており、各ブラインド板１０ａ、１０ｂの位
置をＸ方向で一致させることで、それぞれの開口が重な
る領域によって、レチクルＲに対する六角形の露光スポ
ットＳが幅Ｗ２をもって設定される。

【００２８】従って、各ブラインド板１０ａ、１０ｂの
Ｙ方向の位置を制御することで、非走査方向（Ｙ方向）
の露光スポットの長さが任意に変更可能になっている。
また、非走査方向の端部１３ａ、１３ｂが三角形状を呈
していることで、この部分で走査露光された領域の照度
傾斜が境界へ向けて１００〜０％に比例的に減少する。
（なお、図２および図３で示した座標系は、便宜上レチ
クルＲ上の露光スポットに対応するように設定してい
る）。

【００２９】端部遮光ブラインド板１０ｃ、１０ｄはＹ
方向にそれぞれ独立して移動自在な構成になっており、
各端部ブラインド板１０ｃ、１０ｄの移動により、端部
１３ａ、１３ｂを通過するビームＢを開放・遮光自在に
なっている。また、図１に示すように、これらブライン
ド板１０ａ、１０ｂおよび端部遮光ブラインド板１０
ｃ、１０ｄの駆動は、ブラインド制御部（変更装置）１
４によって制御される。ブラインド制御部１４には、該
ブラインド制御部１４および上記ステージ制御部１２を
統括的に制御する主制御部１５が接続されている。この
主制御部１５には、露光量、レチクルステージ５および
基板ステージ６の同期移動速度、レチクルブラインド１
０で形成する露光スポットの位置・形状等の露光用ＪＯ
Ｂデータが予め入力されている。

【００３０】続いて、本実施の形態の走査露光方法およ
び走査型露光装置で用いられるレチクルＲおよびガラス
基板Ｐについて説明する。ガラス基板Ｐには、図４に示
すように、略矩形状のＴＦＴ／ＬＣＤパターンＬＰが転
写される。このＬＣＤパターンＬＰは、画素部１６と、
例えばこの画素部１６の＋Ｘ方向および−Ｙ方向の側縁
に沿って所定ピッチで配置された複数の周辺回路部１７
とから構成されている。図５に示すように、画素部１６
には、ゲート線１８、信号線１９、ドレイン２０、およ
び画素電極２１からなる画素パターン２２が単位パター
ンとして、Ｘ方向およびＹ方向に沿ってそれぞれ所定の
ピッチで繰り返し配列される。周辺回路部１７には、画
素パターン２２の電極を駆動するためのドライバ回路等
が繰り返し配列される。

【００３１】また、このようなＬＣＤパターンＬＰは、
図４に示すように、１８個の分割パターンで画面を合成
するように設定される。Ｙ方向に隣接する分割パターン
同士は、露光スポットの端部１３ａ、１３ｂに対応する
Ｘ方向に延びる幅Ｗ１の重複部ＪＹ１〜ＪＹ５において
互いに重複し、Ｘ方向に隣接する分割パターン同士は、
露光スポットのＸ方向の幅に対応するＹ方向に延びる幅
Ｗ２の重複部ＪＸ１、ＪＸ２において互いに重複するよ
うに設定される。

【００３２】一方、ガラス基板Ｐ上に上記のＬＣＤパタ
ーンＬＰを転写する際に用いられるレチクルＲを図６に
示す。レチクルＲには、ＬＣＤパターンＬＰの画素部１
６、周辺回路部１７に対応する画素部２３、周辺回路部
２４がそれぞれ形成されている。そして、画素部２３及
び周辺部２４の繰り返し性を生かして、レチクルＲに対
する露光スポットを調整してレチクルＲ上のパターンを
適宜選択することで、ＬＣＤパターンＬＰを構成する上
記各分割パターンをそれぞれ設定可能になっている。な
お、これら画素部２３、周辺回路部２４の周辺には、遮
光帯（不図示）が形成されている。

【００３３】続いて、上記の構成の走査型露光装置１に
よりガラス基板Ｐ上に分割パターンをつなぎ合わせ露光
してＬＣＤパターンＬＰを画面合成する手順を説明す
る。ここでは、１８個の分割パターンの中、重複部ＪＸ
１を挟んでＸ方向に隣接する分割パターン（第１パター
ン）Ｐ１、分割パターン（第２パターン）Ｐ２と、これ
ら分割パターンＰ１、Ｐ２と重複部ＪＹ１を挟んでＹ方
向に隣接し、且つ重複部ＪＸ１を挟んでＸ方向に互いに
隣接する分割パターン（第３パターン）Ｐ３、分割パタ
ーンＰ４をつなぎ合わせる手順を代表的に説明する。

【００３４】また、ここでは、重複部ＪＸ１、ＪＸ２が
レチクルブラインド１０で設定される露光スポットの幅
Ｗ２で重複露光され、重複部ＪＹ１〜ＪＹ５が露光スポ
ットの端部の幅Ｗ１で重複露光されるものとする。な
お、以下において、レチクルステージ５、基板ステージ
６の駆動は、ステージ制御部１２を介して主制御部１５
に制御されるものとし、レチクルブラインド１０（ブラ
インド板１０ａ、１０ｂ、端部遮光ブラインド板１０
ｃ、１０ｄ）の駆動は主制御部１５の指示に基づいてブ
ラインド制御部１４によって制御されるものとして説明
する。

【００３５】まず、レチクルＲとガラス基板Ｐとをアラ
イメントして位置決めした後に、露光用ＪＯＢデータに
基づいて、レチクルステージ５および基板ステージ６を
駆動して、分割パターンＰ１の走査開始位置にレチクル
Ｒおよびガラス基板Ｐを移動させる。このとき、レチク
ルブラインド１０においては、端部遮光ブラインド板１
０ｃが開口の端部１３ａを遮光し、端部遮光ブラインド
板１０ｄが端部１３ｂを開放することで、図６に示す五
角形の露光スポット（照明領域）Ｓが形成される。

【００３６】また、レチクルＲ上の露光スポットＳは、
Ｘ方向の位置がガラス基板Ｐにおける重複部ＪＸ１に対
応する幅Ｗ２の仮想領域ＲＸ１上に設定される。また、
露光スポットＳのＹ方向の位置は、−Ｙ側については周
辺回路部２４の側縁にほぼ沿うように、＋Ｙ側について
は端部１３ｂがガラス基板Ｐにおける重複部ＪＹ１に対
応する幅Ｗ１の仮想領域ＲＹ１上に位置するように設定
される。このときの、ガラス基板Ｐ上での露光スポット
を図４において符号Ｓ１で示す。なお、レチクルブライ
ンド１０により露光スポットＳは形成されるものの、シ
ャッタによりビームＢの光路は遮光されている。

【００３７】そして、シャッタを開放すると同時に、レ
チクルＲとガラス基板Ｐとを−Ｘ方向に同期移動させ
る。ここで、本発明の走査型露光装置１では投影光学系
ＰＬが等倍正立系であるので、レチクルＲとガラス基板
Ｐとを互いに同じ方向に、且つ同じ速度で移動させる。
このとき、走査露光開始から長さＷ２を走査する間に、
適正露光量（エネルギ量）となる走査速度（同期移動速
度）に到達するようにレチクルＲとガラス基板Ｐの駆動
（加速度）を制御する。この結果、図７中のグラフ左側
に示されるように、ガラス基板Ｐ上では、長さＷ２の範
囲において０から適正値に向けて比例的に増加する照度
傾斜の露光エネルギ量で露光される。

【００３８】一方、走査露光が進み、露光スポットＳが
レチクルＲの＋Ｘ側の周辺回路部２４を経て遮光帯まで
達するとシャッタを閉じる。このように、非重複部では
パターンの最外周まで適正露光量で露光される。この結
果、ガラス基板Ｐ上に分割パターンＰ１が露光される。

【００３９】続いて、分割パターンＰ２を露光する際に
は、再度レチクルＲ上の仮想領域ＲＸ１に露光スポット
Ｓが位置するようにレチクルＲをＸ方向に移動させる。
この場合、レチクルＲの仮想領域ＲＸ１は、ガラス基板
Ｐ上の重複部ＪＸ２に対応する。同時に、ガラス基板Ｐ
上の露光スポットＳ１が重複部ＪＸ２に位置するように
ガラス基板ＰもＸ方向に移動させる。このとき、露光ス
ポットＳの端部１３ｂは、分割パターンＰ１を露光した
際と同様に、レチクルＲ上では仮想領域ＲＹ１に、ガラ
ス基板Ｐ上では重複部ＪＹ１上に位置しているため、レ
チクルＲおよびガラス基板ＰのＹ方向への移動、レチク
ルブラインド１０の駆動は実行しない。

【００４０】そして、シャッタを開放すると同時に、レ
チクルＲとガラス基板Ｐとを−Ｘ方向に同期移動させ
る。ここでも、上記分割パターンＰ１を露光するときと
同様に、走査露光開始から長さＷ２を走査する間に、適
正露光量となる走査速度に到達するようにレチクルＲと
ガラス基板Ｐとの駆動を制御する。この結果、ガラス基
板Ｐ上の重複部ＪＸ２も０から適正値に向けて比例的に
増加する照度傾斜の露光エネルギ量で露光される。

【００４１】そして、分割パターンＰ２の露光終了時に
は、重複部ＪＸ１において長さＷ２を走査する間に露光
エネルギ量が適正値から比例的に０になるように走査速
度を制御するとともに、重複部ＪＸ１と露光スポットＳ
１とが一致したところでシャッタを閉じてビームＢを遮
光する。この走査露光により、重複部ＪＸ１では、図７
中のグラフ右側に示されるように、長さＷ２の範囲にお
いて＋Ｘ方向に適正値から０に向けて比例的に減少する
照度傾斜の露光エネルギ量で露光される。従って、ガラ
ス基板Ｐ上の重複部ＪＸ１においては、分割パターンＰ
１、Ｐ２を走査露光した際に二回重複して露光される結
果、合計の露光量が非重複部と同じ適正露光量となる。

【００４２】なお、このとき、走査開始位置として、重
複部ＪＸ２ではなく重複部ＪＸ１を選択し（露光スポッ
トＳはレチクルＲ上では、仮想領域ＲＸ２上に設定され
る）、レチクルＲとガラス基板Ｐとを露光スポットＳに
対して＋Ｘ方向に同期移動させてもよい。この場合も、
ガラス基板Ｐ上の重複部ＪＸ１は、図７中のグラフ右側
に示されるように、＋Ｘ方向に適正値から０に向けて比
例的に減少する照度傾斜の露光エネルギ量で露光され、
上記と同じ結果になる。

【００４３】続いて、分割パターンＰ３を露光する際に
は、まず、レチクルブラインド１０において、端部遮光
ブラインド板１０ｃを移動させ、端部１３ａの光路も開
放するとともに、端部１３ａ、１３ｂがガラス基板Ｐ上
の重複部ＪＹ１、ＪＹ２にそれぞれ位置するように、ブ
ラインド板１０ａ、１０ｂを駆動する。これにより、図
８に示す六角形の露光スポット（照明領域）Ｓ’が形成
される。

【００４４】このレチクルブラインド１０の駆動と並行
してレチクルステージ５および基板ステージ６をＹ方向
にステップ移動して、分割パターンＰ３の走査開始位置
にレチクルＲおよびガラス基板Ｐを移動させる。このと
き、レチクルＲ上の露光スポットＳ’は、Ｘ方向の位置
が重複部ＪＸ１に対応する上記仮想領域ＲＸ１上に設定
される。また、露光スポットＳ’のＹ方向の位置は、端
部１３ａ、１３ｂがガラス基板Ｐにおける重複部ＪＹ
１、ＪＹ２にそれぞれ対応する幅Ｗ１の仮想領域ＲＹ
１、ＲＹ２上に位置するように設定される。このとき
の、ガラス基板Ｐ上での露光スポットを図４において符
号Ｓ２で示す。

【００４５】そして、分割パターンＰ１に対する走査露
光と同様に、シャッタを開く同時に、レチクルＲとガラ
ス基板Ｐとを加速しながら−Ｘ方向に同期移動させた後
に、非重複部では等速移動させることで、ガラス基板Ｐ
上に分割パターンＰ３を走査露光する。この後、レチク
ルＲとガラス基板ＰとをＸ方向に移動させ、分割パター
ンＰ２と同様の手順で分割パターンＰ４を走査露光す
る。

【００４６】上記分割パターンＰ１〜Ｐ４の走査露光の
中、分割パターンＰ１、Ｐ２の露光により、ガラス基板
Ｐ上の重複部ＪＹ１は、端部１３ｂによって＋Ｙ方向へ
向けて１００〜０％に比例的に減少する、図９中、符号
ｍで示す照度傾斜で露光される。一方、この重複部ＪＹ
１は、端部１３ａによって＋Ｙ方向に向けて０〜１００
％に比例的に増加する、図９中、符号ｎで示す照度傾斜
で露光される。従って、ガラス基板Ｐ上の重複部ＪＸ１
においては、分割パターンＰ１〜Ｐ４を走査露光した際
に二回重複して露光される結果、合計の露光量が非重複
部と同じ適正露光量となる。

【００４７】ここで、上記のように分割パターンＰ１〜
Ｐ４が露光された結果、重複部ＪＸ１、ＪＹ１の矩形状
の交叉部が四回重複して露光されるため、この部分の露
光量分布について簡単に検証する。ここでは、図１０お
よび図１１に示すように、交叉部の左下端部をｘ＝ｙ＝
０とし、また交叉部が０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１の範囲に
なるように正規化するものとする。また、この範囲にお
ける露光量をｚで示し、非重複部における露光量をｚ＝
１とする。

【００４８】まず、分割パターンＰ１、Ｐ２は、図１０
に示すように、交叉部が端部１３ｂで露光されるが、分
割パターンＰ１の露光時には下式の関数で示される露光
量分布で露光される。 ｘ＜０．５×ｙのとき、 ｚ＝０ ｘ≧０．５×ｙ、かつｘ≦−０．５ｙ＋１のとき、 ｚ＝ｘ−０．５×ｙ ｘ＞−０．５ｙ＋１のとき、 ｚ＝１−ｙ …（１）

【００４９】また、分割パターンＰ２の露光時には、交
叉部が下式の関数で示される露光量分布で露光される。 ｘ＜０．５×ｙのとき、 ｚ＝１−ｙ ｘ≧０．５×ｙ、かつｘ≦−０．５ｙ＋１のとき、 ｚ＝１−ｘ−０．５×ｙ ｘ＞−０．５ｙ＋１のとき、 ｚ＝０ …（２）

【００５０】一方、分割パターンＰ３、Ｐ４は、図１１
に示すように、交叉部が端部１３ａで露光されるが、分
割パターンＰ３の露光時には下式の関数で示される露光
量分布で露光される。 ｘ＜−０．５×ｙ＋０．５のとき、 ｚ＝０ ｘ≧−０．５×ｙ＋０．５、かつｘ≦−０．５ｙ＋０．５のとき、 ｚ＝ｘ＋０．５×ｙ−０．５ ｘ＞−０．５ｙ＋０．５のとき、 ｚ＝ｙ …（３）

【００５１】また、分割パターンＰ４の露光時には、交
叉部が下式の関数で示される露光量分布で露光される。 ｘ＜−０．５×ｙ＋０．５のとき、 ｚ＝ｙ ｘ≧−０．５×ｙ＋０．５、かつｘ≦−０．５ｙ＋０．５のとき、 ｚ＝−ｘ＋０．５×ｙ＋０．５ ｘ＞−０．５ｙ＋０．５のとき、 ｚ＝０ …（４）

【００５２】従って、分割パターンＰ１、Ｐ２の露光時
に、端部１３ｂで露光された交叉部の露光量分布は、上
記関数（１）、（２）の総和であるｚ＝１−ｙの関数で
示される滑らかな傾斜になる。また、分割パターンＰ
３、Ｐ４の露光時に、端部１３ａで露光された交叉部の
露光量分布は、上記関数（３）、（４）の総和であるｚ
＝ｙの関数で示される滑らかな傾斜になる。以上のこと
から、分割パターンＰ１〜Ｐ４を露光することにより、
重複部ＪＸ１、ＪＹ１の交叉部における総露光量は関数
（１）〜（４）の総和であるｚ＝１となり、非重複部と
同一になる。

【００５３】そして、上記と同様の手順で、レチクルＲ
上の露光スポットを適宜選択しながらガラス基板Ｐ上の
分割パターンを順次露光することにより、ＬＣＤパター
ンＬＰが同一の露光量分布で画面合成される。なお、分
割パターンの中、図４中、＋Ｙ側の端部に位置する分割
パターンを露光する際には、分割パターンＰ１、Ｐ２の
場合と逆に、端部遮光ブラインド板１０ｄが開口の端部
１３ｂを遮光し、端部遮光ブラインド板１０ｃが端部１
３ａを開放することで、左右対称の五角形の露光スポッ
トが形成される。なお、各分割パターンの露光順序は、
レチクルステージ５および基板ステージ６の移動距離
（移動時間）が最短になる経路に基づいて設定すること
が好ましい。

【００５４】本実施の形態の走査露光方法および走査型
露光装置では、レチクルＲとガラス基板Ｐとの同期移動
方向でも分割パターン同士を滑らかな露光量分布をもっ
て一部重複させているので、これら分割パターンを滑ら
かにつなぎ合わせることが可能になり、品質を低下させ
ることなく液晶表示デバイスの高精細大面積化に容易に
対応することができる。特に、本実施の形態では、重複
部と非重複部との露光量を、分割パターン同士の重複部
を露光する際の走査速度と非重複部を露光する際の走査
速度とを異ならせるという簡単な動作で制御しているの
で、装置の大型化および高価格化も防ぐことができる。

【００５５】また、本実施の形態の走査露光方法および
走査型露光装置では、一枚のレチクルＲの照明領域を調
整することで、一層のＬＣＤパターンＬＰを画面合成で
きるので、小型のレチクルＲを使用することができ、レ
チクルＲ自体の誤差を低く抑えることができる。さら
に、複数枚のレチクルＲを使用する際に生じるレチクル
交換作業の削減、レチクル間の補正作業および誤差の積
み重ねの低減等を実現することが可能になり、より高精
度のつなぎ合わせ露光を実施することができる。

【００５６】図１２および図１３は、本発明の走査露光
方法および走査型露光装置の第２の実施の形態を示す図
である。これらの図において、図１ないし図１１に示す
第１の実施の形態の構成要素と同一の要素については同
一符号を付し、その説明を省略する。第２の実施の形態
と上記の第１の実施の形態とが異なる点は、走査露光中
に露光スポットＳの大きさを変更することである。

【００５７】すなわち、本実施の形態では、分割パター
ンＰ１を露光する際に、上記第１の実施の形態と同様
に、レチクルＲ上の仮想領域ＲＸ１上に露光スポットＳ
を設定した後、レチクルＲとガラス基板Ｐとを−Ｘ方向
に同期移動して走査露光を開始すると同時にレチクルブ
ラインド１０のブラインド板１０ｂを一定速度Ｖで＋Ｙ
方向に移動させる。このとき、端部遮光ブラインド板１
０ｄをブラインド板１０ｂと同期移動させてもよいし、
端部遮光ブラインド板１０ｄが端部１３ｂを遮光しない
位置にある場合は移動させなくてもよい。なお、ブライ
ンド板１０ａおよび端部遮光ブラインド板１０ｃは、Ｘ
方向に沿った周辺回路部２４を照明するため、Ｙ方向へ
の移動は行わない。

【００５８】この結果、露光スポットＳは走査露光中に
＋Ｙ方向に拡大され、端部１３ｂの移動軌跡として形成
されるレチクルＲ上の仮想領域ＲＹ１は、走査速度およ
びブラインド板１０ｂの移動速度が合成されることによ
って、Ｘ方向に対して傾きを有することになる。従っ
て、ガラス基板Ｐ上に露光される分割パターンＰ１は、
図１３に示すように、分割パターンＰ３との重複部ＪＹ
１がＸ方向とは異なる方向に沿って形成される。

【００５９】そして、分割パターンＰ２を露光する際に
は、走査露光開始時に露光スポットＳの端部１３ｂを重
複部ＪＹ１の延長上で且つ重複部ＪＸ２上に位置させ
て、上記分割パターンＰ１と同一の移動速度Ｖでブライ
ンド板１０ｂを＋Ｙ方向に移動させる（このとき、レチ
クルＲとガラス基板Ｐとの走査速度も分割パターンＰ１
を露光するときと同一にする）。

【００６０】さらに、分割パターンＰ３を露光する際に
は、ガラス基板Ｐ上において、露光スポットの端部１３
ａを重複部ＪＸ１、ＪＹ１の交叉部に、端部１３ｂを重
複部ＪＸ１、ＪＹ２の交叉部にそれぞれ位置させておい
て、走査露光開始と同時にブラインド板１０ａ、１０ｂ
の双方を＋Ｙ方向に速度Ｖで移動させる。また、分割パ
ターンＰ４を露光する際には、露光スポットの端部１３
ａを重複部ＪＸ２、ＪＹ１の交叉部に、端部１３ｂを重
複部ＪＸ２、ＪＹ２の交叉部に位置させておいて、走査
露光開始と同時にブラインド板１０ａ、１０ｂの双方を
＋Ｙ方向に速度Ｖで移動させる。

【００６１】他の分割パターンも同様の手順でブライン
ド板を＋Ｙ方向に移動させながら走査露光を行うが、図
１３中、＋Ｙ側の端部に位置する分割パターンを露光す
る際には、分割パターンＰ１、Ｐ２の場合と逆に、端部
遮光ブラインド板１０ｄが開口の端部１３ｂを遮光し、
端部遮光ブラインド板１０ｃが端部１３ａを開放する状
態で、ブラインド板１０ａのみを露光中に＋Ｙ方向に移
動させる。なお、重複部ＪＸ１、ＪＸ２における走査速
度の制御は、第１の実施の形態と同様である。これによ
り、図１３に示すように、ガラス基板Ｐ上には、Ｘ方向
に対して傾きを有する重複部ＪＹ１〜ＪＹ４で分割パタ
ーンが重複するように画面合成されたＬＣＤパターンＬ
Ｐが形成される。

【００６２】本実施の形態の走査露光方法および走査型
露光装置では、上記第１の実施の形態と同様の作用・効
果が得られることに加えて、画素パターン２２の配列方
向と重複部ＪＹ１〜ＪＹ４の延在する方向とが異なるた
め、完成した液晶表示デバイスでは、重複部ＪＹ１〜Ｊ
Ｙ４に隣接する画素パターン２２内の駆動用トランジス
タが異なる信号線で駆動されることになり、同じ重ね合
わせ精度であっても誤差部分が整然と並ぶことがなく、
表示品質に及ぼす影響を小さくすることができる。

【００６３】なお、上記第２の実施の形態において、ブ
ラインド板１０ａ、１０ｂを露光中に同じ速度で移動さ
せる構成としたが、これに限定されるものではなく、各
重複部ＪＹ１〜ＪＹ５において、露光時の移動速度が同
一であれば、互いに異なる移動速度で移動させてもよ
い。また、各重複部ＪＹ１〜ＪＹ４を露光する際に、ブ
ラインド板１０ａ、１０ｂの移動速度を複数回に亙って
変更してもよい。例えば、図１４に示すように、分割パ
ターンＰ１を走査露光中に、ブラインド板１０ａの移動
方向を＋Ｙ方向から−Ｙ方向へ変更してもよい。同様
に、分割パターンＰ３を走査露光中には、ブラインド板
１０ａ、１０ｂの移動方向を＋Ｙ方向から−Ｙ方向へ変
更する（＋Ｙ側の端部に位置する分割パターンを露光す
る際には、端部遮光ブラインド板１０ｄが端部１３ｂを
遮光した状態で、ブラインド板１０ａの移動方向のみを
露光中に＋Ｙ方向から−Ｙ方向に変更する）ことで、図
１５に示すように、ガラス基板Ｐ上には、ジグザグ状に
屈曲する重複部ＪＹ１〜ＪＹ４を形成することができ、
駆動用トランジスタを駆動するための信号線が一層分散
され、表示品質に及ぼす影響をより小さくすることがで
きる。この場合、ブラインド板１０ａ、１０ｂの移動方
向を変更せずに移動速度Ｖのみを変更したり、移動方向
および移動速度の双方を変更してもよい。

【００６４】また、上記実施の形態では、重複部ＪＸ
１、ＪＸ２の幅を露光スポットＳと同一の幅Ｗとする構
成としたが、二重露光することで重複部と非重複部との
露光量が同一になれば、重複部の幅はこれに限定される
ものではない。露光スポットの形状も、六角形に限定さ
れるものではなく、台形状や平行四辺形の四角形であっ
てもよい。

【００６５】また、上記実施の形態では、分割パターン
Ｐ３、Ｐ４を露光する際にブラインド板１０ａ、１０ｂ
を移動させることで重複部ＪＹ１、ＪＹ２の延在する方
向をＸ方向に対して傾きをもたせたが、これに限られる
ものではなく、露光スポットの大きさが変わらない場合
にはレチクルＲおよびガラス基板ＰをＸ方向から傾く方
向に同期移動させてもよい。

【００６６】なお、レチクルＲとガラス基板Ｐとの同期
移動速度を重複部と非重複部とで異ならせることで、同
期移動方向で隣接する重複部の露光量を非重複部の露光
量を一致させる場合、投影光学系ＰＬが複数の投影系モ
ジュールから構成され、隣り合う投影系モジュールの投
影領域の端部同士がＹ方向で重複するように並列配置さ
れ、Ｘ方向に走査露光したときの露光量が等しくなるよ
うに設定された、いわゆるマルチレンズ構成であっても
適用可能である。

【００６７】なお、本実施の形態の基板としては、液晶
表示デバイス用のガラス基板Ｐのみならず、半導体デバ
イス用の半導体ウエハや、薄膜磁気ヘッド用のセラミッ
クウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたは
レチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用
される。

【００６８】走査型露光装置１の種類としては、ガラス
基板Ｐに液晶表示デバイスパターンを露光する液晶表示
デバイス製造用の露光装置に限られず、ウエハに半導体
デバイスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露
光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるい
はレチクルなどを製造するための露光装置などにも広く
適用できる。

【００６９】また、光源２として、超高圧水銀ランプか
ら発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．
７ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレー
ザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎ
ｍ）、Ｆ₂レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電
子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、
電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型の
ランタンヘキサボライト（ＬａＢ₆）、タンタル（Ｔ
ａ）を用いることができる。また、ＹＡＧレーザや半導
体レーザ等の高周波などを用いてもよい。

【００７０】投影光学系ＰＬの倍率は、等倍系のみなら
ず縮小系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光
学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用
いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過
する材料を用い、Ｆ₂レーザやＸ線を用いる場合は反射
屈折系または屈折系の光学系にし（レチクルＲも反射型
タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には
光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学
系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真
空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系
ＰＬを用いることなく、レチクルＲとガラス基板Ｐとを
密接させてレチクルＲのパターンを露光するプロキシミ
ティ露光装置にも適用可能である。

【００７１】基板ステージ６やレチクルステージ５にリ
ニアモータ（USP5,623,853またはUSP5,528,118参照）を
用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およ
びローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上
型のどちらを用いてもよい。また、各ステージ５、６
は、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを
設けないガイドレスタイプであってもよい。

【００７２】各ステージ５、６の駆動機構としては、二
次元に磁石を配置した磁石ユニット（永久磁石）と、二
次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電
磁力により各ステージ５、６を駆動する平面モータを用
いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニット
とのいずれか一方をステージ５、６に接続し、磁石ユニ
ットと電機子ユニットとの他方を各ステージ５、６の移
動面側（ベース）に設ければよい。

【００７３】基板ステージ６の移動により発生する反力
は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−１
６６４７５号公報（USP5,528,118）に記載されているよ
うに、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃が
してもよい。本発明はこのような構造を備えた露光装置
においても適用可能である。レチクルステージ５の移動
により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないよ
うに、特開平８−３３０２２４号公報（US S/N 08/416,
558）に記載されているように、フレーム部材を用いて
機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明はこのよ
うな構造を備えた露光装置においても適用可能である。

【００７４】以上のように、本願実施形態の基板処理装
置である走査型露光装置１は、本願特許請求の範囲に挙
げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の
機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組
み立てることで製造される。これら各種精度を確保する
ために、この組み立ての前後には、各種光学系について
は光学的精度を達成するための調整、各種機械系につい
ては機械的精度を達成するための調整、各種電気系につ
いては電気的精度を達成するための調整が行われる。各
種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種
サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接
続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシ
ステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシ
ステム個々の組み立て工程があることはいうまでもな
い。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終
了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各
種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およ
びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うこと
が望ましい。

【００７５】液晶表示デバイスや半導体デバイス等のデ
バイスは、図１６に示すように、液晶表示デバイス等の
機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステッ
プに基づいたマスク（レチクルＲ）を製作するステップ
２０２、石英等からガラス基板Ｐ、またはシリコン材料
からウエハを製作するステップ２０３、前述した実施の
形態の走査型露光装置１によりレチクルＲのパターンを
ガラス基板Ｐ（またはウエハ）に露光するステップ２０
４、液晶表示デバイス等を組み立てるステップ（ウエハ
の場合、ダイシング工程、ボンディング工程、パッケー
ジ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製
造される。

【００７６】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る走
査露光方法は、同期移動方向に沿って第１パターンの一
部と第２パターンの一部とを重複して露光し、重複露光
するときのマスクと基板との同期移動速度を重複しない
ときの同期移動速度とは異ならせる手順となっている。
これにより、この走査露光方法では、これら第１パター
ンおよび第２パターンを滑らかにつなぎ合わせることが
可能になり、品質を低下させることなくデバイスの高精
細大面積化に容易に対応することができるとともに、第
１、第２パターン同士の重複部を露光する際の同期移動
速度と非重複部を露光する際の同期移動速度とを異なら
せるという簡単な動作で各部の露光量を制御しているの
で、装置の大型化および高価格化も防ぐことができると
いう効果が得られる。

【００７７】請求項２に係る走査露光方法は、同期移動
方向と直交する方向に隣接する第１パターンと第３パタ
ーンとを露光する際に、単位パターンの配列方向とは異
なる方向に沿って重複させる手順となっている。これに
より、この走査露光方法では、完成したデバイスの単位
パターンが異なる信号線で駆動されることになり、同じ
重ね合わせ精度であっても誤差部分が整然と並ぶことが
なく、表示品質に及ぼす影響を小さくできるという効果
が得られる。

【００７８】請求項３に係る走査露光方法は、同期移動
方向とは異なる方向の照明領域の大きさを同期移動中に
変更する手順となっている。これにより、この走査露光
方法では、完成したデバイスの単位パターンが異なる信
号線で駆動されることになり、同じ重ね合わせ精度であ
っても誤差部分が整然と並ぶことがなく、表示品質に及
ぼす影響を小さくできるという効果が得られる。

【００７９】請求項４に係る走査露光方法は、照明領域
の大きさを同期移動中に複数回に亙って変更する手順と
なっている。これにより、この走査露光方法では、表示
品質に及ぼす影響をより小さくできるという効果が得ら
れる。

【００８０】請求項５に係る走査型露光装置は、照明領
域設定装置がマスクの照明領域を設定し、変更装置が同
期移動方向とは異なる方向の照明領域の大きさを同期移
動中に変更する構成となっている。これにより、この走
査型露光装置では、完成したデバイスの単位パターンが
異なる信号線で駆動されることになり、同じ重ね合わせ
精度であっても誤差部分が整然と並ぶことがなく、表示
品質に及ぼす影響を小さくできるという効果が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、走査型露光装置の光学系構成を示す概略図である。

【図２】 同走査型露光装置を構成するレチクルブラ
インドの外観斜視図である。

【図３】 レチクルブラインドを構成するブラインド
板の平面図である。

【図４】 本発明の走査露光方法により画面合成され
るＬＣＤパターンの平面図である。

【図５】 ガラス基板上に構成されるＴＦＴ／ＬＣＤ
の表示画素の概略構成図である。

【図６】 ＬＣＤパターンの画面合成に用いられるレ
チクルの平面図である。

【図７】 ガラス基板上の位置とエネルギ量との関係
を示す関係図である。

【図８】 分割パターンＰ２の走査露光開始位置に露
光スポットが設定されたレチクルの平面図である。

【図９】 ガラス基板上の位置とエネルギ量との関係
を示す関係図である。

【図１０】 重複部ＪＸ１、ＪＹ１の交叉部の露光量
分布を説明するための説明図である。

【図１１】 重複部ＪＸ１、ＪＹ１の交叉部の露光量
分布を説明するための説明図である。

【図１２】 本発明の第２の実施の形態を示す図であ
って、レチクル上の露光スポットが同期移動方向と直交
する方向に移動する平面図である。

【図１３】 図１２に示すレチクルを用いて画面合成
されるＬＣＤパターンの平面図である。

【図１４】 本発明の第３の実施の形態を示す図であ
って、レチクル上の露光スポットが同期移動方向と直交
する方向に複数回移動する平面図である。

【図１５】 図１４に示すレチクルを用いて画面合成
されるＬＣＤパターンの平面図である。

【図１６】 液晶表示デバイスの製造工程の一例を示
すフローチャート図である。

【符号の説明】

Ｂ ビーム（露光光） Ｐ ガラス基板（基板） Ｐ１ 分割パターン（第１パターン） Ｐ２ 分割パターン（第２パターン） Ｐ３ 分割パターン（第３パターン） Ｒ レチクル（マスク） Ｓ、Ｓ’ 露光スポット（照明領域） １ 走査型露光装置 １０ レチクルブラインド（照明領域設定装置） １４ ブラインド制御部（変更装置） ２２ 画素パターン（単位パターン）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 町野 勝弥 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 (72)発明者 戸口 学 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 Ｆターム(参考） 2H097 AA05 AA11 AB09 BB01 GB02 LA10 LA12 5F046 AA05 AA11 BA03 CC04 DA02

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１パターンと第２パターンとを有し
   たマスクと基板とを同期移動して、前記第１パターンと
   前記第２パターンとを前記基板に露光する走査露光方法
   において、 前記基板の前記同期移動方向に沿って前記第１パターン
   と前記第２パターンとを露光する際に、前記第１パター
   ンの一部と前記第２パターンの一部とを重複して露光
   し、 前記重複露光するときの前記マスクと前記基板との同期
   移動速度を、前記重複露光しないときの前記マスクと前
   記基板との同期移動速度とは異ならせることを特徴とす
   る走査露光方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載の走査露光方法におい
   て、 前記第１パターンと前記基板上で前記同期移動方向と直
   交する方向に隣接する前記第３パターンとは所定方向に
   沿って配列された複数の単位パターンを有し、 前記第１パターンと前記第３パターンとを露光する際
   に、前記単位パターンの配列方向とは異なる方向に沿っ
   て重複させることを特徴とする走査露光方法。
3. 【請求項３】 パターンを有したマスクと基板とを露
   光光の照明領域に対して同期移動して、前記パターンを
   前記基板に露光する走査露光方法において、 前記同期移動方向とは異なる方向の前記照明領域の大き
   さを前記同期移動中に変更することを特徴とする走査露
   光方法。
4. 【請求項４】 請求項３記載の走査露光方法におい
   て、 前記照明領域の大きさを前記同期移動中に複数回に亙っ
   て変更することを特徴とする走査露光方法。
5. 【請求項５】 パターンを有したマスクと基板とを同
   期移動して、前記パターンを前記基板に露光する走査型
   露光装置において、 前記マスクの照明領域を設定する照明領域設定装置と、 前記同期移動方向とは異なる方向の前記照明領域の大き
   さを前記同期移動中に変更する変更装置とを備えたこと
   を特徴とする走査型露光装置。