JP2015109460A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015109460A5
JP2015109460A5 JP2015002677A JP2015002677A JP2015109460A5 JP 2015109460 A5 JP2015109460 A5 JP 2015109460A5 JP 2015002677 A JP2015002677 A JP 2015002677A JP 2015002677 A JP2015002677 A JP 2015002677A JP 2015109460 A5 JP2015109460 A5 JP 2015109460A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
head
exposure
heads
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015002677A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5915915B2 (ja
JP2015109460A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2015002677A priority Critical patent/JP5915915B2/ja
Priority claimed from JP2015002677A external-priority patent/JP5915915B2/ja
Publication of JP2015109460A publication Critical patent/JP2015109460A/ja
Publication of JP2015109460A5 publication Critical patent/JP2015109460A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5915915B2 publication Critical patent/JP5915915B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明の第1の態様によれば、投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光方法であって、前記投影光学系の下方に配置されるベース上で非接触に支持され、前記基板を保持するステージを移動することと、前記ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、かつ前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記投影光学系の下端側に配置されるように前記投影光学系を支持するフレーム部材に支持されるエンコーダシステムの、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって、前記ステージの位置情報を計測することと、前記格子部に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補償しつつ、前記エンコーダシステムで計測される位置情報に基づいて前記ステージの移動を制御することと、を含む露光方法が、提供される。
本発明の第3の態様によれば、投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光装置であって、前記投影光学系を支持するフレーム部材と、前記投影光学系の下方に配置されるベースと、前記ベース上に配置され、前記基板を保持するステージと、前記ベース上で非接触に支持される前記ステージを駆動する駆動系と、前記ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、かつ前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記投影光学系の下端側に配置されるように前記フレーム部材に支持されるとともに、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって、前記ステージの位置情報を計測するエンコーダシステムと、前記格子部に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補償しつつ、前記エンコーダシステムで計測される位置情報に基づいて前記駆動系を制御する制御装置と、を備える露光装置が、提供される。

Claims (38)

  1. 投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光方法であって、
    前記投影光学系の下方に配置されるベース上で非接触に支持され、前記基板を保持するステージを移動することと、
    前記ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、かつ前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記投影光学系の下端側に配置されるように前記投影光学系を支持するフレーム部材に支持されるエンコーダシステムの、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって、前記ステージの位置情報を計測することと、
    記格子部に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補償しつつ、前記エンコーダシステムで計測される位置情報に基づいて前記ステージの移動を制御することと、を含む露光方法。
  2. 請求項1に記載の露光方法において、
    前記格子部と前記ヘッドとの他方は、前記フレーム部材から支持部材を介して吊り下げ支持される露光方法。
  3. 請求項1又は2に記載の露光方法において、
    前記投影光学系から離れて前記フレーム部材に支持されるマーク検出系によって、前記基板のマークが検出され、
    前記基板の露光動作と前記マークの検出動作とでそれぞれ、前記エンコーダシステムによって前記ステージの位置情報が計測される露光方法。
  4. 請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光方法において、
    前記投影光学系の下端部を取り囲むように設けられるノズルユニットによって、前記投影光学系の下に液体で液浸領域が形成されるとともに、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記照明光で前記基板が露光され、
    前記格子部と前記ヘッドとの他方は、前記投影光学系に対して前記ノズルユニットの外側に設けられる露光方法。
  5. 請求項4に記載の露光方法において、
    前記フレーム部材に設けられる前記ノズルユニットによって前記液浸領域が形成される露光方法。
  6. 請求項4に記載の露光方法において、
    前記フレーム部材とは別のフレーム部材に設けられる前記ノズルユニットによって前記液浸領域が形成される露光方法。
  7. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の露光方法において、
    前記エンコーダシステムによって、前記投影光学系の光軸と垂直な所定平面内で互いに直交する第1及び第2方向と、前記第1及び第2方向と直交する第3方向と、を含む6自由度方向に関する前記ステージの位置情報が計測される露光方法。
  8. 請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光方法において、
    前記基板はその表面が前記ステージの上面とほぼ同一面となるように前記ステージに載置される露光方法。
  9. 請求項1〜のいずれか一項に記載の露光方法において、
    前記ステージはその上面の凹部内に配置されるホルダを有し、前記基板の表面が前記上面とほぼ同一面となるように前記凹部内で前記基板を保持する露光方法。
  10. 請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光方法において、
    前記ステージの移動中、前記エンコーダシステムで計測に用いられる前記複数のヘッドの1つが別のヘッドに切り換えられ、
    前記切換後、前記複数のヘッドのうち前記1つのヘッドを除く残りのヘッドと、前記別のヘッドと、を含む複数のヘッドによって、前記ステージの位置情報が計測される露光方法。
  11. 請求項10に記載の露光方法において、
    前記切換前、前記格子部と対向する3つの前記ヘッドによって前記ステージの位置情報が計測されるとともに、前記切換後、前記3つのヘッドのうち前記1つのヘッドを除く2つのヘッドと、前記3つのヘッドと異なる前記別のヘッドと、を含む3つのヘッドによって、前記ステージの位置情報が計測される露光方法。
  12. 請求項11に記載の露光方法において、
    前記1つのヘッドから前記別のヘッドへの切換は、前記切換前に用いられる前記3つのヘッドと前記別のヘッドとを含む4つのヘッドが前記格子部と対向している間に行なわれる露光方法。
  13. 請求項12に記載の露光方法において、
    前記格子部は、それぞれ反射型格子が形成される4つのスケール部材を有し、
    前記1つのヘッドから前記別のヘッドへの切換は、前記4つのヘッドがそれぞれ前記4つのスケール部材と対向している間に行なわれる露光方法。
  14. 請求項1〜13のいずれか一項に記載の露光方法において、
    少なくとも前記基板の露光動作中、前記エンコーダシステムの3つ又は4つの前記ヘッドが前記格子部と対向するとともに、前記格子部と対向するヘッドは、前記ステージの移動によって、前記3つのヘッドと前記4つのヘッドとの一方から他方に変更される露光方法。
  15. 請求項1〜14のいずれか一項に記載の露光方法において、
    前記格子部は、それぞれ反射型格子が形成される4つのスケール部材を有し、
    少なくとも前記基板の露光動作中、前記4つのスケール部材の3つ又は4つとそれぞれ対向して配置される3つ又は4つの前記ヘッドによって前記ステージの位置情報が計測される露光方法。
  16. 請求項1〜15のいずれか一項に記載の露光方法において、
    前記ステージの移動制御において、前記格子部の、変形、平坦性、および形成誤差の少なくとも1つに起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差が補償される露光方法。
  17. 請求項1〜16のいずれか一項に記載の露光方法において、
    前記ステージは、前記ヘッドが設けられ、前記基板の露光動作において前記格子部の下方で移動される露光方法。
  18. 請求項1〜17のいずれか一項に記載の露光方法において、
    前記ステージの移動中、前記ヘッドに起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差、前記位置情報の計測方向と異なる方向に関する前記ステージの位置に起因して生じる、前記計測方向に関する前記エンコーダシステムの計測誤差、および前記ステージの傾斜又は回転に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差の少なくとも1つも補償される露光方法。
  19. デバイス製造方法であって、
    請求項1〜18のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
    前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
  20. 投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光装置であって、
    前記投影光学系を支持するフレーム部材と、
    前記投影光学系の下方に配置されるベースと、
    前記ベース上に配置され、前記基板を保持するステージと、
    前記ベース上で非接触に支持される前記ステージを駆動する駆動系と、
    前記ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、かつ前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記投影光学系の下端側に配置されるように前記フレーム部材に支持されるとともに、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって、前記ステージの位置情報を計測するエンコーダシステムと、
    記格子部に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補償しつつ、前記エンコーダシステムで計測される位置情報に基づいて前記駆動系を制御する制御装置と、を備える露光装置。
  21. 請求項20に記載の露光装置において、
    前記格子部と前記ヘッドとの他方は、前記フレーム部材から支持部材を介して吊り下げ支持される露光装置。
  22. 請求項20又は21に記載の露光装置において、
    前記投影光学系から離れて前記フレーム部材に支持され、前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
    前記基板の露光動作と前記マークの検出動作とでそれぞれ、前記エンコーダシステムによって前記ステージの位置情報が計測される露光装置。
  23. 請求項2022のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記投影光学系の下端部を取り囲むように設けられるノズルユニットを有し、前記投影光学系の下に液体で液浸領域を形成する局所液浸装置を、さらに備え、
    前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記照明光で露光され、
    前記格子部と前記ヘッドとの他方は、前記投影光学系に対して前記ノズルユニットの外側に設けられる露光装置。
  24. 請求項23に記載の露光装置において、
    前記ノズルユニットは、前記フレーム部材に設けられる露光装置。
  25. 請求項23に記載の露光装置において、
    前記ノズルユニットは、前記フレーム部材とは別のフレーム部材に設けられる露光装置。
  26. 請求項2025のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記エンコーダシステムによって、前記投影光学系の光軸と垂直な所定平面内で互いに直交する第1及び第2方向と、前記第1及び第2方向と直交する第3方向と、を含む6自由度方向に関する前記ステージの位置情報が計測される露光装置。
  27. 請求項2026のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記ステージはその上面と前記基板の表面とがほぼ同一面となるように前記基板を載置する露光装置。
  28. 請求項20〜27のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記ステージはその上面凹部に配置されるホルダを有し、前記基板の表面が前記上面とほぼ同一面となるように前記凹部内で前記基板を保持する露光装置。
  29. 請求項2028のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記ステージの移動中、前記計測に用いられる前記複数のヘッドの1つが別のヘッドに切り換えられ、
    前記切換後、前記複数のヘッドのうち前記1つのヘッドを除く残りのヘッドと、前記別のヘッドと、を含む複数のヘッドによって、前記ステージの位置情報が計測される露光装置。
  30. 請求項29に記載の露光装置において、
    前記切換前、前記格子部と対向する3つの前記ヘッドによって前記ステージの位置情報が計測されるとともに、前記切換後、前記3つのヘッドのうち前記1つのヘッドを除く2つのヘッドと、前記3つのヘッドと異なる前記別のヘッドと、を含む3つのヘッドによって、前記ステージの位置情報が計測される露光装置。
  31. 請求項30に記載の露光装置において、
    前記1つのヘッドから前記別のヘッドへの切換は、前記切換前に用いられる前記3つのヘッドと前記別のヘッドとを含む4つのヘッドが前記格子部と対向している間に行なわれる露光装置。
  32. 請求項31に記載の露光装置において、
    前記格子部は、それぞれ反射型格子が形成される4つのスケール部材を有し、
    前記1つのヘッドから前記別のヘッドへの切換は、前記4つのヘッドがそれぞれ前記4つのスケール部材と対向している間に行なわれる露光装置。
  33. 請求項2032のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記エンコーダシステムは、少なくとも前記基板の露光動作中、3つ又は4つの前記ヘッドが前記格子部と対向するとともに、前記格子部と対向するヘッドは、前記ステージの移動によって、前記3つのヘッドと前記4つのヘッドとの一方から他方に変更される露光装置。
  34. 請求項2033のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記格子部は、それぞれ反射型格子が形成される4つのスケール部材を有し、
    前記エンコーダシステムは、少なくとも前記基板の露光動作中、前記4つのスケール部材の3つ又は4つとそれぞれ対向して配置される3つ又は4つの前記ヘッドによって前記ステージの位置情報計測る露光装置。
  35. 請求項2034のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記制御装置は、前記格子部の、変形、平坦性、および形成誤差の少なくとも1つに起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補償する露光装置。
  36. 請求項2035のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記ステージは、前記ヘッドが設けられ、前記基板の露光動作において前記格子部の下方で移動される露光装置。
  37. 請求項20〜36のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記制御装置は、前記ステージの移動中、前記ヘッドに起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差、前記位置情報の計測方向と異なる方向に関する前記ステージの位置に起因して生じる、前記計測方向に関する前記エンコーダシステムの計測誤差、および前記ステージの傾斜又は回転に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差の少なくとも1つも補償する露光装置。
  38. デバイス製造方法であって、
    請求項2037のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
JP2015002677A 2006-08-31 2015-01-08 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 Active JP5915915B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015002677A JP5915915B2 (ja) 2006-08-31 2015-01-08 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006236975 2006-08-31
JP2006236975 2006-08-31
JP2015002677A JP5915915B2 (ja) 2006-08-31 2015-01-08 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014168119A Division JP5850110B2 (ja) 2006-08-31 2014-08-21 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015127287A Division JP6016202B2 (ja) 2006-08-31 2015-06-25 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015109460A JP2015109460A (ja) 2015-06-11
JP2015109460A5 true JP2015109460A5 (ja) 2015-09-03
JP5915915B2 JP5915915B2 (ja) 2016-05-11

Family

ID=39136020

Family Applications (10)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008532137A Expired - Fee Related JP5251511B2 (ja) 2006-08-31 2007-08-31 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2012245015A Expired - Fee Related JP5692609B2 (ja) 2006-08-31 2012-11-07 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2014000972A Expired - Fee Related JP5709071B2 (ja) 2006-08-31 2014-01-07 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2014168119A Expired - Fee Related JP5850110B2 (ja) 2006-08-31 2014-08-21 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2015002677A Active JP5915915B2 (ja) 2006-08-31 2015-01-08 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2015127287A Expired - Fee Related JP6016202B2 (ja) 2006-08-31 2015-06-25 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2016004056A Expired - Fee Related JP6187607B2 (ja) 2006-08-31 2016-01-13 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2016095786A Expired - Fee Related JP6218125B2 (ja) 2006-08-31 2016-05-12 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2017181138A Expired - Fee Related JP6429050B2 (ja) 2006-08-31 2017-09-21 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2018194757A Pending JP2019020747A (ja) 2006-08-31 2018-10-16 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Family Applications Before (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008532137A Expired - Fee Related JP5251511B2 (ja) 2006-08-31 2007-08-31 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2012245015A Expired - Fee Related JP5692609B2 (ja) 2006-08-31 2012-11-07 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2014000972A Expired - Fee Related JP5709071B2 (ja) 2006-08-31 2014-01-07 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2014168119A Expired - Fee Related JP5850110B2 (ja) 2006-08-31 2014-08-21 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Family Applications After (5)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015127287A Expired - Fee Related JP6016202B2 (ja) 2006-08-31 2015-06-25 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2016004056A Expired - Fee Related JP6187607B2 (ja) 2006-08-31 2016-01-13 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2016095786A Expired - Fee Related JP6218125B2 (ja) 2006-08-31 2016-05-12 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2017181138A Expired - Fee Related JP6429050B2 (ja) 2006-08-31 2017-09-21 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2018194757A Pending JP2019020747A (ja) 2006-08-31 2018-10-16 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Country Status (9)

Country Link
US (9) US8013982B2 (ja)
EP (4) EP2990872B1 (ja)
JP (10) JP5251511B2 (ja)
KR (10) KR101493661B1 (ja)
CN (1) CN101410945B (ja)
HK (3) HK1218166A1 (ja)
SG (5) SG182983A1 (ja)
TW (7) TW201738667A (ja)
WO (1) WO2008026739A1 (ja)

Families Citing this family (75)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201738667A (zh) * 2006-08-31 2017-11-01 Nippon Kogaku Kk 曝光方法及曝光裝置、以及元件製造方法
US20080094592A1 (en) 2006-08-31 2008-04-24 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
TWI609252B (zh) 2006-08-31 2017-12-21 Nikon Corp Moving body driving system and moving body driving method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, element manufacturing method, and determination method
JP5486189B2 (ja) * 2006-09-01 2014-05-07 株式会社ニコン 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
KR101323530B1 (ko) 2006-09-01 2013-10-29 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 디바이스 제조 방법, 그리고 캘리브레이션 방법
US9304412B2 (en) * 2007-08-24 2016-04-05 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and measuring method
US8237919B2 (en) * 2007-08-24 2012-08-07 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method for continuous position measurement of movable body before and after switching between sensor heads
US9013681B2 (en) * 2007-11-06 2015-04-21 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method
US9256140B2 (en) * 2007-11-07 2016-02-09 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method with measurement device to measure movable body in Z direction
US8665455B2 (en) * 2007-11-08 2014-03-04 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method
US8422015B2 (en) 2007-11-09 2013-04-16 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method
NL1036180A1 (nl) * 2007-11-20 2009-05-25 Asml Netherlands Bv Stage system, lithographic apparatus including such stage system, and correction method.
US8711327B2 (en) * 2007-12-14 2014-04-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8269945B2 (en) 2007-12-28 2012-09-18 Nikon Corporation Movable body drive method and apparatus, exposure method and apparatus, pattern formation method and apparatus, and device manufacturing method
US8792079B2 (en) * 2007-12-28 2014-07-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method having encoders to measure displacement between optical member and measurement mount and between measurement mount and movable body
TWI547769B (zh) 2007-12-28 2016-09-01 尼康股份有限公司 An exposure apparatus, a moving body driving system, a pattern forming apparatus, and an exposure method, and an element manufacturing method
US8237916B2 (en) * 2007-12-28 2012-08-07 Nikon Corporation Movable body drive system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
NL1036742A1 (nl) 2008-04-18 2009-10-20 Asml Netherlands Bv Stage system calibration method, stage system and lithographic apparatus comprising such stage system.
US8786829B2 (en) * 2008-05-13 2014-07-22 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8817236B2 (en) * 2008-05-13 2014-08-26 Nikon Corporation Movable body system, movable body drive method, pattern formation apparatus, pattern formation method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8228482B2 (en) * 2008-05-13 2012-07-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP5195022B2 (ja) * 2008-05-23 2013-05-08 株式会社ニコン 位置計測装置及び位置計測方法、パターン形成装置及びパターン形成方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US8214718B2 (en) * 2008-06-19 2012-07-03 International Business Machines Corporation Erasure flagging system and method for errors-and-erasures decoding in storage devices
US8653488B2 (en) * 2008-07-30 2014-02-18 Nuflare Technology, Inc. Electron beam apparatus
JP5151852B2 (ja) * 2008-09-22 2013-02-27 株式会社ニコン 補正情報作成方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
US8508735B2 (en) * 2008-09-22 2013-08-13 Nikon Corporation Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8325325B2 (en) 2008-09-22 2012-12-04 Nikon Corporation Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8994923B2 (en) * 2008-09-22 2015-03-31 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8773635B2 (en) * 2008-12-19 2014-07-08 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8760629B2 (en) 2008-12-19 2014-06-24 Nikon Corporation Exposure apparatus including positional measurement system of movable body, exposure method of exposing object including measuring positional information of movable body, and device manufacturing method that includes exposure method of exposing object, including measuring positional information of movable body
US8902402B2 (en) 2008-12-19 2014-12-02 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8599359B2 (en) 2008-12-19 2013-12-03 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method
JP5438988B2 (ja) * 2009-02-17 2014-03-12 株式会社ミツトヨ 測定システムおよび干渉計
US8792084B2 (en) * 2009-05-20 2014-07-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8553204B2 (en) * 2009-05-20 2013-10-08 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8970820B2 (en) * 2009-05-20 2015-03-03 Nikon Corporation Object exchange method, exposure method, carrier system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8892222B2 (en) * 2009-07-17 2014-11-18 Diversitech Equipment And Sales (1984) Ltd. Fume extraction system with automatic fume hood positioning
US8488109B2 (en) 2009-08-25 2013-07-16 Nikon Corporation Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US20110102761A1 (en) * 2009-09-28 2011-05-05 Nikon Corporation Stage apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method
US20110096318A1 (en) * 2009-09-28 2011-04-28 Nikon Corporation Exposure apparatus and device fabricating method
US20110096306A1 (en) * 2009-09-28 2011-04-28 Nikon Corporation Stage apparatus, exposure apparatus, driving method, exposing method, and device fabricating method
US20110096312A1 (en) * 2009-09-28 2011-04-28 Nikon Corporation Exposure apparatus and device fabricating method
US20110123913A1 (en) * 2009-11-19 2011-05-26 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method
US20110128523A1 (en) * 2009-11-19 2011-06-02 Nikon Corporation Stage apparatus, exposure apparatus, driving method, exposing method, and device fabricating method
US8488106B2 (en) * 2009-12-28 2013-07-16 Nikon Corporation Movable body drive method, movable body apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
NL2006804A (en) * 2010-06-24 2011-12-28 Asml Netherlands Bv Measurement system, method and lithographic apparatus.
NL2007155A (en) 2010-08-25 2012-02-28 Asml Netherlands Bv Stage apparatus, lithographic apparatus and method of positioning an object table.
CN102175133B (zh) * 2011-02-25 2012-07-18 清华大学 全局金属膜厚度测量装置
CN102721380B (zh) * 2011-03-30 2016-03-30 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 镭射平面度量测系统及方法
JP5533769B2 (ja) * 2011-04-14 2014-06-25 ウシオ電機株式会社 マスクとワークの位置合せ方法
KR101801148B1 (ko) * 2011-08-16 2017-11-27 삼성전자주식회사 초정밀 위치 제어 장치 및 그 6자유도 스테이지의 위치 및 자세 정보 산출 방법
US9207549B2 (en) 2011-12-29 2015-12-08 Nikon Corporation Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method with encoder of higher reliability for position measurement
JP5971965B2 (ja) * 2012-02-07 2016-08-17 キヤノン株式会社 面形状計測方法、面形状計測装置、プログラム、および、光学素子の製造方法
WO2014054689A1 (ja) * 2012-10-02 2014-04-10 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2014115115A (ja) * 2012-12-06 2014-06-26 Advantest Corp 補正装置、プローブ装置、および試験装置
JP6381184B2 (ja) * 2013-07-09 2018-08-29 キヤノン株式会社 校正方法、測定装置、露光装置および物品の製造方法
JP6228420B2 (ja) * 2013-10-08 2017-11-08 キヤノン株式会社 検出装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
DK3120107T3 (en) 2014-03-21 2019-03-18 Carpe Diem Tech Inc System and method for producing miniature structures on a flexible substrate
CN105045042B (zh) * 2015-04-23 2017-06-16 清华大学 一种硅片台曝光区域六自由度位移测量方法
CN106483778B (zh) * 2015-08-31 2018-03-30 上海微电子装备(集团)股份有限公司 基于相对位置测量的对准系统、双工件台系统及测量系统
CN111812949A (zh) * 2015-09-30 2020-10-23 株式会社尼康 曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法
US10268121B2 (en) * 2015-09-30 2019-04-23 Nikon Corporation Exposure apparatus and exposure method, and flat panel display manufacturing method
CN107544213B (zh) * 2016-06-29 2019-10-25 上海微电子装备(集团)股份有限公司 光刻机动态调平调焦方法
JP6704813B2 (ja) * 2016-08-05 2020-06-03 キヤノン株式会社 計測装置、露光装置、および物品の製造方法
JP6426691B2 (ja) * 2016-12-22 2018-11-21 ファナック株式会社 数値制御装置
JP6506785B2 (ja) * 2017-02-02 2019-04-24 株式会社Kokusai Electric リソグラフィ用テンプレートの製造方法、プログラム及び基板処理装置
CN108801161B (zh) * 2017-04-28 2021-06-29 北京小米移动软件有限公司 测量系统、方法及装置、可读存储介质
CN109856929B (zh) * 2017-11-30 2020-06-16 上海微电子装备(集团)股份有限公司 信号处理装置及处理方法、对准系统及对准方法和光刻机
CN108168438B (zh) * 2017-12-28 2020-02-14 长春禹衡光学有限公司 一种封闭式光栅
CN108844500B (zh) * 2018-04-10 2020-11-20 苏州久越金属科技有限公司 一种镭射自动化高效测量方法
CN108710266B (zh) * 2018-05-18 2021-05-04 江苏影速集成电路装备股份有限公司 一种触发式对位结构的直写式曝光系统及方法
CN112334834B (zh) * 2018-07-03 2023-10-17 应用材料公司 使用各自进行多次扫描的多个写入列来制作准确的光栅图案的系统和方法
CN111351464A (zh) * 2018-12-20 2020-06-30 鸿富锦精密电子(郑州)有限公司 平整度检测装置及方法
JP7301695B2 (ja) * 2019-09-19 2023-07-03 キヤノン株式会社 制御装置、制御方法、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
JP7212996B1 (ja) 2022-05-09 2023-01-26 アツ子 森内 多目的 閂ケース付きアナログデジタル錠

Family Cites Families (181)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE221563C (ja)
DE224448C (ja)
JPS5129184B1 (ja) 1971-07-15 1976-08-24
US4215938A (en) 1978-09-28 1980-08-05 Farrand Industries, Inc. Method and apparatus for correcting the error of a position measuring interferometer
US4346164A (en) 1980-10-06 1982-08-24 Werner Tabarelli Photolithographic method for the manufacture of integrated circuits
JPS57117238A (en) 1981-01-14 1982-07-21 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Exposing and baking device for manufacturing integrated circuit with illuminometer
JPS57153433A (en) 1981-03-18 1982-09-22 Hitachi Ltd Manufacturing device for semiconductor
JPS58202448A (ja) 1982-05-21 1983-11-25 Hitachi Ltd 露光装置
JPS5919912A (ja) 1982-07-26 1984-02-01 Hitachi Ltd 液浸距離保持装置
DD221563A1 (de) 1983-09-14 1985-04-24 Mikroelektronik Zt Forsch Tech Immersionsobjektiv fuer die schrittweise projektionsabbildung einer maskenstruktur
JPS60119407A (ja) 1983-11-30 1985-06-26 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 比較検査装置
DD224448A1 (de) 1984-03-01 1985-07-03 Zeiss Jena Veb Carl Einrichtung zur fotolithografischen strukturuebertragung
JPS6144429A (ja) 1984-08-09 1986-03-04 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 位置合わせ方法、及び位置合せ装置
US4780617A (en) 1984-08-09 1988-10-25 Nippon Kogaku K.K. Method for successive alignment of chip patterns on a substrate
JPS61113376A (ja) 1984-11-07 1986-05-31 Sony Corp テレビジヨン信号の動き検出装置
JPS6265326A (ja) 1985-09-18 1987-03-24 Hitachi Ltd 露光装置
JPS63157419A (ja) 1986-12-22 1988-06-30 Toshiba Corp 微細パタ−ン転写装置
JPS63292005A (ja) * 1987-05-25 1988-11-29 Nikon Corp 走り誤差補正をなした移動量検出装置
US5489986A (en) 1989-02-28 1996-02-06 Nikon Corporation Position detecting apparatus
US5070250A (en) 1989-02-28 1991-12-03 Nikon Corporation Position detection apparatus with adjustable beam and interference fringe positions
US5021649A (en) 1989-03-28 1991-06-04 Canon Kabushiki Kaisha Relief diffraction grating encoder
JP2784225B2 (ja) * 1989-11-28 1998-08-06 双葉電子工業株式会社 相対移動量測定装置
JP3077149B2 (ja) 1990-01-22 2000-08-14 株式会社ニコン 測定装置、測定方法、及び露光装置、露光方法、及び回路パターンチップ
US5523843A (en) 1990-07-09 1996-06-04 Canon Kabushiki Kaisha Position detecting system
DE4033556A1 (de) * 1990-10-22 1992-04-23 Suess Kg Karl Messanordnung fuer x,y,(phi)-koordinatentische
JPH04305917A (ja) 1991-04-02 1992-10-28 Nikon Corp 密着型露光装置
JPH04305915A (ja) 1991-04-02 1992-10-28 Nikon Corp 密着型露光装置
JP3149472B2 (ja) 1991-08-30 2001-03-26 株式会社ニコン 走査露光装置および物体の移動測定装置
US5506684A (en) 1991-04-04 1996-04-09 Nikon Corporation Projection scanning exposure apparatus with synchronous mask/wafer alignment system
DE4219311C2 (de) 1991-06-13 1996-03-07 Sony Magnescale Inc Verschiebungsdetektor
JPH0562877A (ja) 1991-09-02 1993-03-12 Yasuko Shinohara 光によるlsi製造縮小投影露光装置の光学系
JPH05129184A (ja) 1991-10-30 1993-05-25 Canon Inc 投影露光装置
JP3167419B2 (ja) 1992-05-28 2001-05-21 株式会社アルファ 自動車用バッテリ監視装置
JPH06124873A (ja) 1992-10-09 1994-05-06 Canon Inc 液浸式投影露光装置
JP2753930B2 (ja) 1992-11-27 1998-05-20 キヤノン株式会社 液浸式投影露光装置
KR100300618B1 (ko) 1992-12-25 2001-11-22 오노 시게오 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법
JP3316833B2 (ja) 1993-03-26 2002-08-19 株式会社ニコン 走査露光方法、面位置設定装置、走査型露光装置、及び前記方法を使用するデバイス製造方法
JP3303386B2 (ja) 1993-02-03 2002-07-22 株式会社ニコン 投影露光装置及び方法
US5461237A (en) 1993-03-26 1995-10-24 Nikon Corporation Surface-position setting apparatus
US5583609A (en) 1993-04-23 1996-12-10 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
JP3375076B2 (ja) 1993-04-27 2003-02-10 株式会社ニコン 投影露光方法及び装置、並びに素子製造方法
US5581324A (en) 1993-06-10 1996-12-03 Nikon Corporation Thermal distortion compensated projection exposure method and apparatus for manufacturing semiconductors
US6122036A (en) 1993-10-21 2000-09-19 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
JPH09223650A (ja) 1996-02-15 1997-08-26 Nikon Corp 露光装置
US5625453A (en) * 1993-10-26 1997-04-29 Canon Kabushiki Kaisha System and method for detecting the relative positional deviation between diffraction gratings and for measuring the width of a line constituting a diffraction grating
JPH07190741A (ja) * 1993-12-27 1995-07-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 測定誤差補正法
JPH07220990A (ja) 1994-01-28 1995-08-18 Hitachi Ltd パターン形成方法及びその露光装置
JPH07270122A (ja) * 1994-03-30 1995-10-20 Canon Inc 変位検出装置、該変位検出装置を備えた露光装置およびデバイスの製造方法
JPH0883753A (ja) 1994-09-13 1996-03-26 Nikon Corp 焦点検出方法
JPH08316124A (ja) 1995-05-19 1996-11-29 Hitachi Ltd 投影露光方法及び露光装置
JPH08316125A (ja) 1995-05-19 1996-11-29 Hitachi Ltd 投影露光方法及び露光装置
JP3815750B2 (ja) * 1995-10-09 2006-08-30 キヤノン株式会社 ステージ装置、ならびに前記ステージ装置を用いた露光装置およびデバイス製造方法
JPH09318321A (ja) * 1996-05-30 1997-12-12 Olympus Optical Co Ltd 測長装置
JPH1063011A (ja) 1996-08-14 1998-03-06 Nikon Corp 走査型露光装置及び走査露光方法
US5917580A (en) 1996-08-29 1999-06-29 Canon Kabushiki Kaisha Scan exposure method and apparatus
US5825043A (en) * 1996-10-07 1998-10-20 Nikon Precision Inc. Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus
JP4029183B2 (ja) 1996-11-28 2008-01-09 株式会社ニコン 投影露光装置及び投影露光方法
DE69738910D1 (de) 1996-11-28 2008-09-25 Nikon Corp Ausrichtvorrichtung und belichtungsverfahren
JPH10223528A (ja) 1996-12-30 1998-08-21 Nikon Corp 投影露光装置及び位置合わせ方法
JP3626504B2 (ja) 1997-03-10 2005-03-09 アーエスエム リソグラフィ ベスローテン フェンノートシャップ 2個の物品ホルダを有する位置決め装置
JPH10270535A (ja) 1997-03-25 1998-10-09 Nikon Corp 移動ステージ装置、及び該ステージ装置を用いた回路デバイス製造方法
JP3747566B2 (ja) 1997-04-23 2006-02-22 株式会社ニコン 液浸型露光装置
JP3817836B2 (ja) 1997-06-10 2006-09-06 株式会社ニコン 露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法
JPH1116816A (ja) 1997-06-25 1999-01-22 Nikon Corp 投影露光装置、該装置を用いた露光方法、及び該装置を用いた回路デバイスの製造方法
US6020964A (en) 1997-12-02 2000-02-01 Asm Lithography B.V. Interferometer system and lithograph apparatus including an interferometer system
JPH11176727A (ja) 1997-12-11 1999-07-02 Nikon Corp 投影露光装置
JP3809268B2 (ja) 1997-12-19 2006-08-16 キヤノン株式会社 デバイス製造方法
JPH11191585A (ja) 1997-12-26 1999-07-13 Canon Inc ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法
JPH11233420A (ja) 1998-02-18 1999-08-27 Nikon Corp 投影露光装置及び位置検出方法
CN100578876C (zh) 1998-03-11 2010-01-06 株式会社尼康 紫外激光装置以及使用该紫外激光装置的曝光装置和曝光方法
US6008610A (en) 1998-03-20 1999-12-28 Nikon Corporation Position control apparatus for fine stages carried by a coarse stage on a high-precision scanning positioning system
AU2747999A (en) 1998-03-26 1999-10-18 Nikon Corporation Projection exposure method and system
WO1999060361A1 (fr) 1998-05-19 1999-11-25 Nikon Corporation Instrument et procede de mesure d'aberrations, appareil et procede de sensibilisation par projection incorporant cet instrument, et procede de fabrication de dispositifs associe
JP2000058436A (ja) 1998-08-11 2000-02-25 Nikon Corp 投影露光装置及び露光方法
JP2000068192A (ja) 1998-08-18 2000-03-03 Nikon Corp 露光装置、露光方法及び位置検出方法
US6144118A (en) * 1998-09-18 2000-11-07 General Scanning, Inc. High-speed precision positioning apparatus
EP1014199B1 (en) 1998-12-24 2011-03-30 Canon Kabushiki Kaisha Stage control apparatus, exposure apparatus and method of manufacturing a semiconductor device
US6924884B2 (en) 1999-03-08 2005-08-02 Asml Netherlands B.V. Off-axis leveling in lithographic projection apparatus
TW490596B (en) 1999-03-08 2002-06-11 Asm Lithography Bv Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using the lithographic projection apparatus, device manufactured according to the method and method of calibrating the lithographic projection apparatus
US6381004B1 (en) 1999-09-29 2002-04-30 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
WO2001035168A1 (en) 1999-11-10 2001-05-17 Massachusetts Institute Of Technology Interference lithography utilizing phase-locked scanning beams
JP4428781B2 (ja) 1999-12-28 2010-03-10 キヤノン株式会社 光学式ロータリエンコーダ及びモータ制御装置
CA2396259A1 (en) 2000-01-11 2001-07-19 Electro Scientific Industries, Inc. Abbe error correction system and method
JP2001308003A (ja) * 2000-02-15 2001-11-02 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
SG124257A1 (en) 2000-02-25 2006-08-30 Nikon Corp Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution
JP2001313250A (ja) 2000-02-25 2001-11-09 Nikon Corp 露光装置、その調整方法、及び前記露光装置を用いるデバイス製造方法
JP2001332490A (ja) * 2000-03-14 2001-11-30 Nikon Corp 位置合わせ方法、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法
US6639686B1 (en) 2000-04-13 2003-10-28 Nanowave, Inc. Method of and apparatus for real-time continual nanometer scale position measurement by beam probing as by laser beams and the like of atomic and other undulating surfaces such as gratings or the like relatively moving with respect to the probing beams
JP2002014005A (ja) 2000-04-25 2002-01-18 Nikon Corp 空間像計測方法、結像特性計測方法、空間像計測装置及び露光装置
US20020041377A1 (en) 2000-04-25 2002-04-11 Nikon Corporation Aerial image measurement method and unit, optical properties measurement method and unit, adjustment method of projection optical system, exposure method and apparatus, making method of exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2002090114A (ja) 2000-07-10 2002-03-27 Mitsutoyo Corp 光スポット位置センサ及び変位測定装置
US7561270B2 (en) 2000-08-24 2009-07-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
US7289212B2 (en) 2000-08-24 2007-10-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufacturing thereby
TW527526B (en) 2000-08-24 2003-04-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
JP2002164269A (ja) * 2000-11-27 2002-06-07 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US6611316B2 (en) 2001-02-27 2003-08-26 Asml Holding N.V. Method and system for dual reticle image exposure
WO2002078388A2 (en) 2001-03-27 2002-10-03 1... Limited Method and apparatus to create a sound field
JP4198338B2 (ja) * 2001-07-09 2008-12-17 株式会社 東北テクノアーチ ステージ装置
JP2003031474A (ja) 2001-07-16 2003-01-31 Oki Electric Ind Co Ltd 露光装置および露光方法
TW529172B (en) 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
JP2003249443A (ja) 2001-12-21 2003-09-05 Nikon Corp ステージ装置、ステージ位置管理方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
KR100927560B1 (ko) 2002-01-29 2009-11-23 가부시키가이샤 니콘 이미지 형성 상태 조정 시스템, 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 프로그램 및 정보 기록 매체
US6987555B2 (en) 2002-04-23 2006-01-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
JP4168665B2 (ja) 2002-05-22 2008-10-22 株式会社ニコン 露光方法及び露光装置、デバイス製造方法
AU2003252349A1 (en) * 2002-07-31 2004-02-16 Nikon Corporation Position measuring method, position control method, exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method
US7362508B2 (en) 2002-08-23 2008-04-22 Nikon Corporation Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same
JP2004101362A (ja) 2002-09-10 2004-04-02 Canon Inc ステージ位置計測および位置決め装置
EP2495613B1 (en) 2002-11-12 2013-07-31 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus
DE60335595D1 (de) 2002-11-12 2011-02-17 Asml Netherlands Bv Lithographischer Apparat mit Immersion und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
CN101424881B (zh) 2002-11-12 2011-11-30 Asml荷兰有限公司 光刻投射装置
KR20130010039A (ko) 2002-12-10 2013-01-24 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
EP1450176A1 (en) 2003-02-21 2004-08-25 Liaisons Electroniques-Mecaniques Lem S.A. Magnetic field sensor and electrical current sensor therewith
JP4362862B2 (ja) * 2003-04-01 2009-11-11 株式会社ニコン ステージ装置及び露光装置
KR101409565B1 (ko) 2003-04-10 2014-06-19 가부시키가이샤 니콘 액침 리소그래피 장치용 운반 영역을 포함하는 환경 시스템
EP2672307A3 (en) 2003-05-06 2014-07-23 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
JP4292573B2 (ja) * 2003-05-13 2009-07-08 株式会社ニコン ステージ装置及び露光装置
US7025498B2 (en) 2003-05-30 2006-04-11 Asml Holding N.V. System and method of measuring thermal expansion
CN101436003B (zh) * 2003-06-19 2011-08-17 株式会社尼康 曝光装置及器件制造方法
JP4492239B2 (ja) 2003-07-28 2010-06-30 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法、並びに露光装置の制御方法
KR101599649B1 (ko) 2003-07-28 2016-03-14 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법, 그리고 노광 장치의 제어 방법
TWI295408B (en) 2003-10-22 2008-04-01 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method, and measurement system
US7589822B2 (en) 2004-02-02 2009-09-15 Nikon Corporation Stage drive method and stage unit, exposure apparatus, and device manufacturing method
US7102729B2 (en) 2004-02-03 2006-09-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, measurement system, and device manufacturing method
JP2005252246A (ja) 2004-02-04 2005-09-15 Nikon Corp 露光装置及び方法、位置制御方法、並びにデバイス製造方法
US20070058146A1 (en) 2004-02-04 2007-03-15 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, position control method, and method for producing device
JP2005236087A (ja) * 2004-02-20 2005-09-02 Nikon Corp 露光装置
JP4429037B2 (ja) 2004-02-27 2010-03-10 キヤノン株式会社 ステージ装置及びその制御方法
JP2005249452A (ja) 2004-03-02 2005-09-15 Konica Minolta Medical & Graphic Inc リニアエンコーダ、画像読取装置及び画像記録装置
JP4622340B2 (ja) 2004-03-04 2011-02-02 株式会社ニコン 露光装置、デバイス製造方法
JP2005268608A (ja) * 2004-03-19 2005-09-29 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
US7898642B2 (en) 2004-04-14 2011-03-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4751032B2 (ja) 2004-04-22 2011-08-17 株式会社森精機製作所 変位検出装置
US20050241694A1 (en) 2004-04-29 2005-11-03 Red Flame Hot Tap Services Ltd. Hot tapping method, system and apparatus
US7126109B2 (en) * 2004-06-14 2006-10-24 Gsi Group Corporation Encoder scale error compensation employing comparison among multiple detectors
JP4305915B2 (ja) 2004-06-17 2009-07-29 シャープ株式会社 基地局選択に用いる基準を求める方法
WO2005124834A1 (ja) 2004-06-22 2005-12-29 Nikon Corporation ベストフォーカス検出方法及び露光方法、並びに露光装置
JP2006017895A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Integrated Solutions:Kk 露光装置
JP4305917B2 (ja) 2004-07-14 2009-07-29 シャープ株式会社 映像信号処理装置及びテレビジョン装置
US7256871B2 (en) 2004-07-27 2007-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method for calibrating the same
TWI508136B (zh) 2004-09-17 2015-11-11 尼康股份有限公司 Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP4852951B2 (ja) 2004-09-17 2012-01-11 株式会社ニコン 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
EP1794650A4 (en) 2004-09-30 2008-09-10 Nikon Corp OPTICAL PROJECTION DEVICE AND EXPOSURE DEVICE
JP4424739B2 (ja) 2004-10-19 2010-03-03 キヤノン株式会社 ステージ装置
US7388663B2 (en) * 2004-10-28 2008-06-17 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
TWI588872B (zh) * 2004-11-18 2017-06-21 尼康股份有限公司 Position measurement method, position control method, measurement method, loading method, exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method
EP1840943A4 (en) 2004-11-25 2010-04-21 Nikon Corp MOBILE BODY SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING COMPONENTS
JP2006165216A (ja) * 2004-12-07 2006-06-22 Nikon Corp 評価方法、走査露光方法及び走査型露光装置
US7528931B2 (en) * 2004-12-20 2009-05-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060139595A1 (en) 2004-12-27 2006-06-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method for determining Z position errors/variations and substrate table flatness
JP2006196555A (ja) * 2005-01-11 2006-07-27 Nikon Corp 収差計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置
JP4450739B2 (ja) * 2005-01-21 2010-04-14 富士フイルム株式会社 露光装置
JP2006210570A (ja) 2005-01-27 2006-08-10 Nikon Corp 調整方法、露光装置
US7161659B2 (en) 2005-04-08 2007-01-09 Asml Netherlands B.V. Dual stage lithographic apparatus and device manufacturing method
US7515281B2 (en) 2005-04-08 2009-04-07 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7405811B2 (en) 2005-04-20 2008-07-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and positioning apparatus
US7349069B2 (en) 2005-04-20 2008-03-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and positioning apparatus
US7348574B2 (en) 2005-09-02 2008-03-25 Asml Netherlands, B.V. Position measurement system and lithographic apparatus
US7362446B2 (en) 2005-09-15 2008-04-22 Asml Netherlands B.V. Position measurement unit, measurement system and lithographic apparatus comprising such position measurement unit
JP2007093546A (ja) 2005-09-30 2007-04-12 Nikon Corp エンコーダシステム、ステージ装置及び露光装置
US7978339B2 (en) 2005-10-04 2011-07-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus temperature compensation
EP2963498B8 (en) * 2006-01-19 2017-07-26 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
CN101385122B (zh) 2006-02-21 2010-12-08 株式会社尼康 图案形成装置、标记检测装置、曝光装置、图案形成方法、曝光方法及组件制造方法
EP2003680B1 (en) * 2006-02-21 2013-05-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
SG170010A1 (en) 2006-02-21 2011-04-29 Nikon Corp Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure appararus and method, and device manufacturing method
US7602489B2 (en) 2006-02-22 2009-10-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7253875B1 (en) 2006-03-03 2007-08-07 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7636165B2 (en) 2006-03-21 2009-12-22 Asml Netherlands B.V. Displacement measurement systems lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4265805B2 (ja) 2006-03-29 2009-05-20 シャープ株式会社 画像処理システム
US7576832B2 (en) 2006-05-04 2009-08-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7483120B2 (en) 2006-05-09 2009-01-27 Asml Netherlands B.V. Displacement measurement system, lithographic apparatus, displacement measurement method and device manufacturing method
JP4393540B2 (ja) 2006-08-01 2010-01-06 シャープ株式会社 樹脂含有粒子の凝集体の製造方法、トナー、現像剤、現像装置および画像形成装置
TW201738667A (zh) * 2006-08-31 2017-11-01 Nippon Kogaku Kk 曝光方法及曝光裝置、以及元件製造方法
TWI609252B (zh) 2006-08-31 2017-12-21 Nikon Corp Moving body driving system and moving body driving method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, element manufacturing method, and determination method
US20080094592A1 (en) 2006-08-31 2008-04-24 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
KR101323530B1 (ko) 2006-09-01 2013-10-29 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 디바이스 제조 방법, 그리고 캘리브레이션 방법
JP5486189B2 (ja) * 2006-09-01 2014-05-07 株式会社ニコン 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US7619207B2 (en) 2006-11-08 2009-11-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7903866B2 (en) 2007-03-29 2011-03-08 Asml Netherlands B.V. Measurement system, lithographic apparatus and method for measuring a position dependent signal of a movable object
US7710540B2 (en) 2007-04-05 2010-05-04 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8547527B2 (en) 2007-07-24 2013-10-01 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and pattern formation apparatus, and device manufacturing method
TWI547769B (zh) * 2007-12-28 2016-09-01 尼康股份有限公司 An exposure apparatus, a moving body driving system, a pattern forming apparatus, and an exposure method, and an element manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015109460A5 (ja)
JP2015111696A5 (ja)
JP2015109459A5 (ja)
JP2014131077A5 (ja) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2015119187A5 (ja)
TWI451203B (zh) A moving body driving system, a pattern forming apparatus, an exposure apparatus and an exposure method, and an element manufacturing method
JP2015505154A5 (ja)
JP2014150264A5 (ja)
JP2012181196A5 (ja) 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP2010118687A5 (ja)
TWI502672B (zh) 用於製造電子或非電子組件之方法、其裝置及用於製造電子或非電子組件之基板
JP2011109137A5 (ja)
JP2014195093A5 (ja)
JP2013034014A5 (ja) 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP6883655B2 (ja) 露光装置
JP2011211222A5 (ja)
JP2011109138A5 (ja)
JP2014131082A5 (ja) リソグラフィ投影装置、オフセットを決定するための方法、露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2012094902A5 (ja) 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2003203842A5 (ja)
JP2019105854A5 (ja)
JP2011155285A5 (ja) 交換方法、露光方法及びデバイス製造方法
CN105408991A (zh) 基板保持方法和基板保持装置以及曝光方法和曝光装置
JP2012103269A5 (ja) ロード方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2019008323A5 (ja)