JP2012181196A5 - 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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- 投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の光軸に直交する所定面とほぼ平行に並置される反射型の格子部をそれぞれ有する複数の格子部材と、
前記複数の格子部材に対して前記格子部と反対側に配置され、前記複数の格子部材が固定されるベース部材と、
前記複数の格子部材が前記所定面と平行な方向に移動可能となるように前記ベース部材が接続される支持部材と、
前記基板を載置し、前記ベース部材に固定される前記複数の格子部材の下方で移動可能なステージと、
前記ステージに設けられ、前記複数の格子部に対してその下方からそれぞれビームを照射する複数の検出部材を有し、前記ステージの位置情報を計測する計測装置と、を備える。 - 請求項1に記載の露光装置において、
前記投影光学系を支持するフレーム部材を、さらに備え、
前記支持部材は、前記フレーム部材に取り付けられる。 - 請求項1又は2に記載の露光装置において、
前記支持部材は、複数箇所でそれぞれフレキシャー部材を介して前記ベース部材が接続される。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数の格子部材は、前記格子部と反対側の面が前記ベース部材と接触して固定される。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記支持部材は、弾性変形可能である。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系の下端側に配置されるとともに、前記ステージが対向して配置される下面側に前記照明光が通過する開口を有し、前記投影光学系と前記基板の一部との間に液浸領域を形成するノズルユニットを、さらに備え、
前記複数の格子部材は、前記ノズルユニットに対してその外側に配置され、
前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記照明光で露光される。 - 請求項6に記載の露光装置において、
前記ベース部材はその一部に開口が形成されるとともに、前記所定面と平行な方向に関して前記ノズルユニットが前記開口内に位置するように設けられる。 - 請求項6又は7に記載の露光装置において、
前記複数の格子部材は、前記ノズルユニットを囲むように設けられるとともに、前記格子部が前記ノズルユニットの下面よりも高く配置されるように設けられる。 - 請求項6〜8のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ノズルユニットはその下面側で前記照明光が通過する開口の周囲に配置される回収口を有し、
前記ノズルユニットを介して前記液浸領域に液体が供給されるとともに、前記回収口を介して前記液浸領域から液体が回収される。 - 請求項6〜9のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と前記ノズルユニットとはそれぞれ異なるフレーム部材で支持される。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ステージはその上面に形成される凹部内に設けられ、前記基板を保持するホルダを有し、
前記複数の検出部材はそれぞれ、前記上面よりも外側に位置するように前記ステージに設けられる。 - 請求項11に記載の露光装置において、
前記ステージは、それぞれ前記検出部材が固定され、前記上面よりも外側に延びる複数の固定部材を有する。 - 請求項12に記載の露光装置において、
前記複数の固定部材は、前記検出部材が互いに異なる前記格子部と対向するように前記ステージに設けられる。 - 請求項1〜13のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数の格子部材はそれぞれ、前記格子部を覆う保護部材を有する。 - デバイス製造方法であって、
請求項1〜14のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含む。 - 投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系の光軸に直交する所定面とほぼ平行に並置される反射型の格子部をそれぞれ有する複数の格子部材の下方で、前記基板を載置するステージを移動することと、
前記ステージに設けられ、前記複数の格子部に対してその下方からそれぞれビームを照射する複数の検出部材を有する計測装置によって、前記ステージの位置情報を計測することと、
前記計測される位置情報に基づいて、前記ステージの位置を制御することと、を含み、
前記複数の格子部材は、前記格子部と反対側に配置されるベース部材に固定され、
前記ベース部材は、前記複数の格子部材が前記所定面と平行な方向に移動可能となるように支持される。 - 請求項16に記載の露光方法において、
前記ベース部材を支持する支持部材は、前記投影光学系を支持するフレーム部材に取り付けられる。 - 請求項16又は17に記載の露光方法において、
前記ベース部材は、複数箇所でそれぞれフレキシャー部材を介して支持部材に接続される。 - 請求項16〜18のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記複数の格子部材は、前記格子部と反対側の面が前記ベース部材と接触して固定される。 - 請求項16〜19のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記支持部材は、弾性変形可能である。 - 請求項16〜20のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下端側に配置されるとともに、前記ステージが対向して配置される下面側に前記照明光が通過する開口を有するノズルユニットによって、前記投影光学系と前記基板の一部との間に液浸領域が形成され、前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記照明光で露光され、
前記複数の格子部材は、前記ノズルユニットに対してその外側に配置される。 - 請求項21に記載の露光方法において、
前記ベース部材はその一部に開口が形成されるとともに、前記所定面と平行な方向に関して前記ノズルユニットが前記開口内に位置するように設けられる。 - 請求項21又は22に記載の露光方法において、
前記複数の格子部材は、前記ノズルユニットを囲むように設けられるとともに、前記格子部が前記ノズルユニットの下面よりも高く配置されるように設けられる。 - 請求項21〜23のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記ノズルユニットはその下面側で前記照明光が通過する開口の周囲に配置される回収口を有し、
前記ノズルユニットを介して前記液浸領域に液体が供給されるとともに、前記回収口を介して前記液浸領域から液体が回収される。 - 請求項21〜24のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と前記ノズルユニットとはそれぞれ異なるフレーム部材で支持される。 - 請求項16〜25のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記ステージの上面に形成される凹部内でホルダによって保持され、
前記複数の検出部材はそれぞれ、前記上面よりも外側に位置するように前記ステージに設けられる。 - 請求項26に記載の露光方法において、
前記上面よりも外側に延びて前記ステージに設けられる複数の固定部材にそれぞれ前記検出部材が固定される。 - 請求項27に記載の露光方法において、
前記複数の固定部材は、前記検出部材が互いに異なる前記格子部と対向するように前記ステージに設けられる。 - 請求項16〜28のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記複数の格子部材はそれぞれ、前記格子部を覆う保護部材を有する。 - デバイス製造方法であって、
請求項16〜29のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含む。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012077695A JP5655809B2 (ja) | 2007-07-18 | 2012-03-29 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007187649 | 2007-07-18 | ||
JP2007187649 | 2007-07-18 | ||
JP2012077695A JP5655809B2 (ja) | 2007-07-18 | 2012-03-29 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009523655A Division JPWO2009011356A1 (ja) | 2007-07-18 | 2008-07-16 | 計測方法、ステージ装置、及び露光装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013114179A Division JP5655893B2 (ja) | 2007-07-18 | 2013-05-30 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012181196A JP2012181196A (ja) | 2012-09-20 |
JP2012181196A5 true JP2012181196A5 (ja) | 2013-07-18 |
JP5655809B2 JP5655809B2 (ja) | 2015-01-21 |
Family
ID=40259688
Family Applications (8)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009523655A Pending JPWO2009011356A1 (ja) | 2007-07-18 | 2008-07-16 | 計測方法、ステージ装置、及び露光装置 |
JP2012077695A Expired - Fee Related JP5655809B2 (ja) | 2007-07-18 | 2012-03-29 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2013114179A Expired - Fee Related JP5655893B2 (ja) | 2007-07-18 | 2013-05-30 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2014095567A Expired - Fee Related JP5787001B2 (ja) | 2007-07-18 | 2014-05-02 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2015003029A Expired - Fee Related JP5900666B2 (ja) | 2007-07-18 | 2015-01-09 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2015142228A Active JP6128172B2 (ja) | 2007-07-18 | 2015-07-16 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2016035736A Expired - Fee Related JP6274235B2 (ja) | 2007-07-18 | 2016-02-26 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2017248988A Expired - Fee Related JP6555334B2 (ja) | 2007-07-18 | 2017-12-26 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009523655A Pending JPWO2009011356A1 (ja) | 2007-07-18 | 2008-07-16 | 計測方法、ステージ装置、及び露光装置 |
Family Applications After (6)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013114179A Expired - Fee Related JP5655893B2 (ja) | 2007-07-18 | 2013-05-30 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2014095567A Expired - Fee Related JP5787001B2 (ja) | 2007-07-18 | 2014-05-02 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2015003029A Expired - Fee Related JP5900666B2 (ja) | 2007-07-18 | 2015-01-09 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2015142228A Active JP6128172B2 (ja) | 2007-07-18 | 2015-07-16 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2016035736A Expired - Fee Related JP6274235B2 (ja) | 2007-07-18 | 2016-02-26 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2017248988A Expired - Fee Related JP6555334B2 (ja) | 2007-07-18 | 2017-12-26 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (5) | US9316917B2 (ja) |
EP (7) | EP3246755B1 (ja) |
JP (8) | JPWO2009011356A1 (ja) |
KR (8) | KR101843699B1 (ja) |
CN (7) | CN104111587B (ja) |
HK (10) | HK1201943A1 (ja) |
SG (3) | SG10201502625RA (ja) |
TW (7) | TWI641924B (ja) |
WO (1) | WO2009011356A1 (ja) |
Families Citing this family (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101843699B1 (ko) * | 2007-07-18 | 2018-03-29 | 가부시키가이샤 니콘 | 계측 방법, 스테이지 장치, 및 노광 장치 |
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NL2008272A (en) * | 2011-03-09 | 2012-09-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus. |
DE102011005885A1 (de) | 2011-03-22 | 2012-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Lithographievorrichtung |
NL2008980A (en) * | 2011-07-11 | 2013-01-14 | Asml Netherlands Bv | A fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method. |
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JP6093965B2 (ja) | 2012-02-17 | 2017-03-15 | 株式会社ミツトヨ | 光電式エンコーダ |
JP6251559B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2017-12-20 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 試料支持装置 |
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NL2015639A (en) | 2014-11-28 | 2016-09-20 | Asml Netherlands Bv | Encoder, position measurement system and lithographic apparatus. |
TWI693477B (zh) | 2015-02-23 | 2020-05-11 | 日商尼康股份有限公司 | 測量裝置、微影系統及曝光裝置、以及元件製造方法 |
TWI702474B (zh) | 2015-02-23 | 2020-08-21 | 日商尼康股份有限公司 | 基板處理系統及基板處理方法、以及元件製造方法 |
CN107250915B (zh) | 2015-02-23 | 2020-03-13 | 株式会社尼康 | 测量装置、光刻系统及曝光装置、以及管理方法、重迭测量方法及组件制造方法 |
NL2016298A (en) | 2015-03-23 | 2016-09-30 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, and device manufacturing method |
KR102584657B1 (ko) * | 2015-03-31 | 2023-10-04 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 디바이스 제조 방법, 및 노광 방법 |
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CN110268332A (zh) * | 2017-02-10 | 2019-09-20 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备和器件制造方法 |
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JP6493481B2 (ja) * | 2017-10-18 | 2019-04-03 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
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TWI699559B (zh) * | 2018-01-16 | 2020-07-21 | 美商伊路米納有限公司 | 結構照明成像系統和使用結構化光來創建高解析度圖像的方法 |
US10281268B1 (en) | 2018-04-20 | 2019-05-07 | Seagate Technology Llc | Automated and accurate high-throughput slider-level flatness inspection |
JP7056411B2 (ja) * | 2018-06-29 | 2022-04-19 | 株式会社リコー | 読取装置および造形装置 |
CN111380464B (zh) * | 2018-12-28 | 2021-05-07 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种光栅尺的安装装置、安装方法、光栅测量系统及光刻机 |
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-
2008
- 2008-07-16 KR KR1020177003435A patent/KR101843699B1/ko active IP Right Grant
- 2008-07-16 SG SG10201502625RA patent/SG10201502625RA/en unknown
- 2008-07-16 CN CN201410270424.XA patent/CN104111587B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-07-16 WO PCT/JP2008/062802 patent/WO2009011356A1/ja active Application Filing
- 2008-07-16 KR KR1020137018086A patent/KR101538246B1/ko active IP Right Grant
- 2008-07-16 CN CN201410271092.7A patent/CN104111589A/zh active Pending
- 2008-07-16 CN CN200880025096A patent/CN101755188A/zh active Pending
- 2008-07-16 SG SG2012053211A patent/SG183050A1/en unknown
- 2008-07-16 EP EP17178713.8A patent/EP3246755B1/en not_active Not-in-force
- 2008-07-16 CN CN201610055966.4A patent/CN105487351A/zh active Pending
- 2008-07-16 KR KR1020157001127A patent/KR101614666B1/ko active IP Right Grant
- 2008-07-16 EP EP18194495.0A patent/EP3447582A1/en not_active Withdrawn
- 2008-07-16 US US12/219,110 patent/US9316917B2/en active Active
- 2008-07-16 EP EP16152712.2A patent/EP3056945B1/en not_active Not-in-force
- 2008-07-16 EP EP14175755.9A patent/EP2818927B1/en not_active Not-in-force
- 2008-07-16 EP EP15167560.0A patent/EP2933683B1/en not_active Not-in-force
- 2008-07-16 KR KR1020107003290A patent/KR101488048B1/ko active IP Right Grant
- 2008-07-16 CN CN201510850074.9A patent/CN105301918B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-07-16 JP JP2009523655A patent/JPWO2009011356A1/ja active Pending
- 2008-07-16 EP EP14175753.4A patent/EP2818926B1/en not_active Not-in-force
- 2008-07-16 KR KR1020157029261A patent/KR101706884B1/ko active IP Right Grant
- 2008-07-16 KR KR1020187033093A patent/KR20180126088A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-07-16 CN CN201610055729.8A patent/CN105652603B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-07-16 KR KR1020137018085A patent/KR101538245B1/ko active IP Right Grant
- 2008-07-16 SG SG2011073137A patent/SG175598A1/en unknown
- 2008-07-16 EP EP08791197.0A patent/EP2177867B1/en not_active Not-in-force
- 2008-07-16 KR KR1020187007270A patent/KR101923356B1/ko active IP Right Grant
- 2008-07-16 CN CN201410270432.4A patent/CN104111588B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-07-17 TW TW106139946A patent/TWI641924B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-07-17 TW TW106106920A patent/TWI610148B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-07-17 TW TW097127126A patent/TWI497218B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-07-17 TW TW102125707A patent/TWI497234B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-07-17 TW TW104119736A patent/TWI579655B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-07-17 TW TW107129980A patent/TW201843537A/zh unknown
- 2008-07-17 TW TW102125706A patent/TWI498683B/zh not_active IP Right Cessation
-
2010
- 2010-10-11 HK HK15101481.7A patent/HK1201943A1/xx unknown
- 2010-10-11 HK HK15101483.5A patent/HK1201945A1/xx not_active IP Right Cessation
- 2010-10-11 HK HK15101482.6A patent/HK1201944A1/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-10-20 HK HK16101896.5A patent/HK1214002A1/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-10-20 HK HK10109940.0A patent/HK1143632A1/zh not_active IP Right Cessation
-
2012
- 2012-03-29 JP JP2012077695A patent/JP5655809B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-05-30 JP JP2013114179A patent/JP5655893B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-07-24 US US13/949,721 patent/US9804506B2/en active Active
- 2013-07-24 US US13/949,720 patent/US9372410B2/en active Active
-
2014
- 2014-05-02 JP JP2014095567A patent/JP5787001B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-01-09 JP JP2015003029A patent/JP5900666B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2015-05-18 HK HK15104727.5A patent/HK1204094A1/zh not_active IP Right Cessation
- 2015-05-18 HK HK15104726.6A patent/HK1204093A1/zh not_active IP Right Cessation
- 2015-07-16 JP JP2015142228A patent/JP6128172B2/ja active Active
-
2016
- 2016-02-26 JP JP2016035736A patent/JP6274235B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2016-03-31 US US15/086,867 patent/US20160209764A1/en not_active Abandoned
- 2016-07-18 HK HK16108442.9A patent/HK1220514A1/zh not_active IP Right Cessation
- 2016-07-18 HK HK16108453.5A patent/HK1220515A1/zh unknown
- 2016-09-10 HK HK16110757.4A patent/HK1222716A1/zh not_active IP Right Cessation
-
2017
- 2017-09-20 US US15/710,262 patent/US20180011410A1/en not_active Abandoned
- 2017-12-26 JP JP2017248988A patent/JP6555334B2/ja not_active Expired - Fee Related
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