JP5169221B2 - 露光装置及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、露光装置及びその製造方法に係り、特に基板を露光してパターンを形成する露光装置及び該露光装置の製造方法に関する。

従来より、半導体素子又は液晶表示素子などのマイクロデバイス（電子デバイス）を製造するリソグラフィ工程では、ステッパ、あるいはスキャニング・ステッパなどの投影露光装置を含む種々の露光装置が用いられている。

従来の露光装置では、フレーム機構に対して投影光学系、レチクルステージ系、及びウエハステージ系などが順次組み付けられていた。このため、投影光学系を取り出してその調整を行うときにレチクルステージ系などもフレーム機構から取り外す必要があるなど、露光装置の立ち上げ（組立調整）及びメンテナンス等に時間を要するなどの不都合があった。

そこで、かかる不都合を改善するものとして、第１物体（レチクル）を保持して移動する第１ステージ系を収納すると共に、フレーム機構に対して着脱可能に装着される第１ステージ室と、第２物体（ウエハ）を保持して移動する第２ステージ系を収納すると共に、フレーム機構に対して着脱可能に装着される第２ステージ室とが、ともにモジュール構成とされ、第１及び第２ステージ室を、例えば並行して組み立てた後に、フレーム機構にそれぞれ装着することによって、組立調整を容易に、かつ迅速に行うことができる露光装置が、本出願人によって提案されている（特許文献１参照）。

しかるに、半導体素子は世代毎に高集積化しており、これに対応するため、上記特許文献１に開示される露光装置も、世代毎に開発される。その結果、世代が変わると、フレーム機構が異なることとなるので、前の世代のモジュールは結果的に使えなくなるという不都合があった。

特開２００１−２９１６６３号公報

本発明は、上述した事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、基板を露光してパターンを形成する露光装置であって、所定の面上に所定間隔を隔てて設置された第１の架台及び第２の架台と；前記第１の架台と第２の架台との間の空間内に配置されるとともに、少なくとも一部が前記第１の架台と第２の架台とに支持され、高剛性部品をそれぞれ含む複数のモジュールを含む露光本体部と；を備える第１の露光装置である。

これによれば、第１、第２の架台間の空間内に、高剛性部品をそれぞれ含む複数の高剛性部を含む露光本体部が配置される、すなわちボディとなるフレーム機構を備えていない。従って、（各高剛性部（モジュール）を両架台に取付けるためのインターフェイスが変わらなければ、）世代が変わっても、前の世代のモジュール（高剛性部）を使うことが可能になる。

この場合において、前記複数の高剛性部の少なくとも一つは、複数の高剛性部品と、高剛性部品同士を連結する柔構造の連結部材とを含むこととすることができる。かかる場合には、柔構造の連結部材の採用により高剛性部品を少なくしているので、製造コストを低減することができるとともに、剛構造の連結部材を用いる場合に比べて、高剛性部品相互間での振動、熱等の伝達を抑制することができる。

本発明は、第２の観点からすると、基板を露光してパターンを形成する露光装置を製造する露光装置の製造方法であって、所定の面上に第１、第２の架台を、それぞれ設置する工程と；前記第１、第２の架台間の空間に、高剛性部品をそれぞれ含み、相互に離れた複数のモジュールを含む露光本体部を、配置する工程と；前記モジュールの少なくとも一部を前記第１、第２架台に支持させる工程と；を含む製造方法である。

所定の面は、露光装置が設置される工場（クリーンルーム）内の床面は勿論、その床上に設置されたフレームキャスタなどの部材の上面などをも含む。

これによれば、所定の面上に第１、第２の架台をそれぞれ設置し、第１、第２の架台間の空間に、露光本体部を構成する、高剛性部品をそれぞれ含む複数の高剛性部を順次配置するという簡単な手順で、露光本体部を組み付けることが可能となる。この場合、複数の高剛性部の第１、第２の架台間の空間への配置の順序は問わない。

本発明は、第３の観点からすると、基板を放射ビームで露光する露光装置であって、所定間隔隔てて設置される一対の架台と；前記一対の架台に装着され、それぞれ高剛性部品を含む複数のモジュールを含む露光本体部と；を備える第２の露光装置である。

これによれば、所定間隔隔てて設置される一対の架台に、それぞれ高剛性部品を含む複数の高剛性部を含む露光本体部が装着される。すなわちボディとなるフレーム機構を備えていない。

一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。 図１のレチクルステージモジュールの構成の一例を示す平面図である。 図２のレチクルステージを取り出して示す斜視図である。 図４（Ａ）は、レチクルクランプ機構の構成を説明するための図、図４（Ｂ）は、レチクルを挟持した状態でのレチクルクランプ機構を示す図である。 Ｚ軸支持機構を示す拡大断面図である。 投影光学系モジュールを示す斜視図である。 ウエハステージモジュールの構成の一例を示す斜視図である。 露光装置の製造工程を説明するための図（その１）である。 露光装置の製造工程を説明するための図（その２）である。 露光装置の製造工程を説明するための図（その３）である。 露光装置の製造工程を説明するための図（その４）である。 露光装置の製造工程を説明するための図（その５）である。 露光装置の製造工程を説明するための図（その６）である。 露光装置の製造工程を説明するための図（その７）である。 露光装置の製造工程を説明するための図（その８）である。 露光装置の第１、第２プラットホーム・タワーと、２枚のパネル９８，９９とによって囲まれた空間の空調について説明するための図である。

以下、本発明の一実施形態を図１〜図１５に基づいて説明する。図１には、本発明の一実施形態に係る露光装置１００の構成が概略的に示されている。

この露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパである。この露光装置１００は、クリーンルームの床面Ｆ上に、矩形のベースプレート１２を挟んで図１におけるＹ軸方向に所定距離隔てて配置された第１プラットホーム・タワー（架台）１４及び第２プラットホーム・タワー（架台）１６、第１プラットホーム・タワー１４及び第２プラットホーム・タワー１６間の空間に配置された露光本体部１８、並びに不図示の光源と、第１、第２照明ユニット２０、２２を有する照明光学系とを含む照明系ＩＬＳ等を備えている。

前記第１プラットホーム・タワー１４は、直方体状のハウジングであり、その＋Ｙ側の端面には、高さ方向（Ｚ軸方向）に関して異なる位置にそれぞれＸ軸方向（図１における紙面直交方向）に伸びる第１、第２ガイドバー１４ａ、１４ｂが突設されている。

第１プラットホーム・タワー１４は、図９に示されるように仕切り部材によって上下２段に区画され、その−Ｙ側の面と＋Ｘ側の面とが開口している。そして、＋Ｘ側の面の上側の開口１４ｃに、レチクルポート１５ａを有するレチクルポートユニット１５が挿入されている（図１及び図１５参照）。また、＋Ｘ側の面の下側の開口１４ｄには、電気基板ラック１９が挿入されている（図１及び図１５参照）。また、レチクルポートユニット１５の−Ｘ側の空間には、−Ｙ側の上段の開口１４ｅからレチクルローダユニット２１が挿入され、電気基板ラック１９の−Ｘ側の空間には、−Ｙ側の下段の開口１４ｆからウエハローダユニット２３が挿入されている（図１５参照）。

前記第２プラットホーム・タワー１６は、図９に示されるように、Ｘ軸方向に所定間隔を隔てて配置された上下方向に細長い直方体状の第１、第２ハウジング１６ａ、１６ｂを備えている。第１、第２ハウジング１６ａ、１６ｂはその−Ｙ側が、上端部の一部を除き、板状の連結部によって連結されている。この第２プラットホーム・タワー１６の−Ｙ側の端面には、第１、第２ガイドバー１４ａ、１４ｂにそれぞれ対向してＸ軸方向に伸びる第３、第４ガイドバー１７ａ、１７ｂが突設されている。

第１ハウジング１６ａは、中空のフレーム部材であり、その中空部に、クーラー、ヒーター及び送風機などを有する空調機（温調機）２５が挿入されている。

前記露光本体部１８は、図１に示されるように、所定のパターンが形成されたレチクル（マスク）を保持するレチクルステージを含むレチクルステージモジュール２４、前記パターンの像を投影する投影光学系ＰＬを含む投影光学系モジュール２６、及びウエハＷを保持して移動するウエハステージＷＳＴを含むウエハステージモジュール２８を含む。

前記レチクルステージモジュール２４は、前述した第１ガイドバー１４ａと第３ガイドバー１７ａとによって、そのＹ軸方向の一端と他端が下方から支持されている。

図２には、レチクルステージモジュール２４の構成の一例が平面図にて示されている。この図２に示されるように、レチクルステージモジュール２４は、平面視（上方から見て）長方形状の定盤ＲＢＳ、該定盤ＲＢＳの上面に形成されたガイド面に沿って移動するレチクルステージＲＳＴ、一対のＹ軸リニアモータＲＭ１，ＲＭ２等を含むレチクルステージ駆動系等を備えている。

前記定盤ＲＢＳは、ＹＺ面に対して左右対称な立体形状の板状部材から成る。具体的には、定盤ＲＢＳは、中央のガイド面１１２ａのＸ軸方向の一側と他側に段部１１２ｂ、１１２ｃを有し、それぞれの段部の外側の端部が所定高さの側壁１１２ｄ，１１２ｅとされている。この定盤ＲＢＳ（及びレチクルステージモジュール２４）は、＋Ｘ側（又は−Ｘ側）から見ると、高さ方向の中央に水平方向の区画線が存在するＹ軸方向を長手方向とする長方形に見える（図１参照）。段部１１２ｂ，１１２ｃの上面、及びガイド面１１２ａは、その平坦度が非常に高く設定されている。

段部１１２ｂの上方にＹ軸方向を長手方向とした板状の形状を有するＹ軸固定子（Ｙ軸リニアモータＲＭ１の固定子）１２２ｂが配置され、段部１１２ｃの上方にＹ軸方向を長手方向とした板状の形状を有するＹ軸固定子（Ｙ軸リニアモータＲＭ２の固定子）１２２ｄが配置されている。

Ｙ軸固定子１２２ｂは、Ｙ軸方向に所定間隔で配置された複数の電機子コイルを有する電機子ユニットから成り、その長手方向の一側と他側の端部には直方体状の錘部材１２４ａ、１２４ｂがそれぞれ固定されている。これらの錘部材１２４ａ、１２４ｂの底面には、Ｙ軸固定子１２２ｂ（及び錘部材１２４ａ，１２４ｂ）を定盤ＲＢＳの上面に対して非接触で支持する真空予圧型気体静圧軸受（不図示）がそれぞれ設けられている。

Ｙ軸固定子１２２ｄは、Ｙ軸固定子１２２ｂと同様の構成の電機子ユニットから成り、その長手方向の一側と他側の端部には直方体状の錘部材１２４ｃ，１２４ｄがそれぞれ固定されている。これらの錘部材１２４ｃ、１２４ｄの底面には、Ｙ軸固定子１２２ｄ（及び錘部材１２４ｃ，１２４ｄ）を定盤ＲＢＳの上面に対して非接触で支持する真空予圧型気体静圧軸受（不図示）がそれぞれ設けられている。

Ｙ軸固定子１２２ｂ（及び錘部材１２４ａ，１２４ｂ）、並びにＹ軸固定子１２２ｄ（及び錘部材１２４ｃ，１２４ｄ）は、水平方向の力（主としてＹ軸方向の力）を受けることにより、運動量保存の法則に従って自由運動を行う。なお、Ｙ軸固定子１２２ｂ，１２２ｄの位置を調整するためのトリムモータを設けることとしても良い。

前記レチクルステージＲＳＴは、レチクル粗動ステージ１２０と、該レチクル粗動ステージ１２０から後述するようにして吊り下げ支持されたレチクル微動ステージ１３０とを備えている。

前記レチクル粗動ステージ１２０は、図２の平面図及びレチクルステージＲＳＴを取り出して示す図３の斜視図を総合するとわかるように、ＹＺ面に関して左右対称の六角形の枠状部材から成る。このレチクル粗動ステージ１２０のＸ軸方向の一側、他側の端面には、図２に示されるように、Ｙ軸固定子１２２ｂ，１２２ｄとともにムービングマグネット型のリニアモータＲＭ１，ＲＭ２をそれぞれ構成する断面Ｕ字状の磁極ユニットから成る可動子１２２ａ、１２２ｃがそれぞれ固定されている。

また、レチクル粗動ステージ１２０の上面（＋Ｚ側の面）の＋Ｙ側の端部のＸ軸方向中心位置、及びＸ軸方向一側と他側の端部で−Ｙ側端部近傍の位置の二等辺三角形の各頂点の位置に、板状部材１３６ａ，１３６ｂ，１３６ｃがそれぞれ固定されている。これらの板状部材１３６ａ，１３６ｂ，１３６ｃの自由端部の下面には、図３に示されるように、Ｚ軸支持機構１３４ａ，１３４ｂ，１３４ｃの上端面が固定されている。Ｚ軸支持機構１３４ａ〜１３４ｃは、レチクル微動ステージ１３０を吊り下げ支持している。なお、Ｚ軸支持機構１３４ａ〜１３４ｃの具体的な構成等については、後に詳述する。

さらに、レチクル粗動ステージ１２０の下面（−Ｚ側面）の３箇所（＋Ｘ側の１箇所及び−Ｙ側の２箇所）には、図３に示されるように、板状部材１５２ａ，１５２ｂ，１５２ｃの上端が固定されている。板状部材１５２ａ〜１５２ｃの下端には、ボイスコイルモータＶＸ，ＶＹ１，ＶＹ２の固定子１３８ｂ，１４２ｂ，１４４ｂがそれぞれ固定されている。

前記レチクル微動ステージ１３０は、図２に示されるように、レチクル粗動ステージ１２０よりも一回り小さい六角形形状を有する板状部材から成る。レチクル微動ステージ１３０の＋Ｘ側に矩形の切り欠き部１３０ｄが形成され、該切り欠き部１３０ｄの内部に前記固定子１３８ｂとともにＸ軸ボイスコイルモータＶＸを構成する可動子１３８ａが固定されている。そして、固定子１３８ｂが、切り欠き部内部で可動子１３８ａに非接触で係合している（図３参照）。

また、レチクル微動ステージ１３０の−Ｙ側の端面には、前記固定子１４２ｂ，１４４ｂとともにＹ軸ボイスコイルモータＶＹ１，ＶＹ２をそれぞれ構成する可動子１４２ａ，１４４ａが固定されている。

レチクル微動ステージ１３０は、ボイスコイルモータＶＸにより、レチクル粗動ステージ１２０に対してＸ軸方向に微小駆動されるとともに、ボイスコイルモータＶＹ１，ＶＹ２により、レチクル粗動ステージ１２０に対してＹ軸方向及びＺ軸回りの回転方向（θｚ方向）に微小駆動される。

レチクル微動ステージ１３０上には、図２に示されるように、２枚のレチクルＲ１、Ｒ２がＹ軸方向に並んで保持されている。該レチクルＲ１、Ｒ２の−Ｘ側のレチクル微動ステージ１３０上面には、レチクル微動ステージ１３０のＸ軸方向に関する位置計測に用いられるＸ軸移動鏡１３２ＸがＹ軸方向に延設されている。また、レチクル微動ステージ１３０上面の＋Ｙ側端部近傍には、レチクル微動ステージ１３０のＹ軸方向に関する位置計測に用いられる一対のＹ軸移動鏡（例えば、レトロリフレクタ等から構成される）１３２Ｙ１，１３２Ｙ２が設けられている。Ｘ軸移動鏡１３２Ｘ及びＹ軸移動鏡１３２Ｙ１，１３２Ｙ２には、後述するミニブリッジに固定されたレチクルＸ軸干渉計（不図示）及び一対のレチクルＹ軸干渉計（不図示）からの計測ビームがそれぞれ照射される。

レチクルＲ１、Ｒ２は、図２に示されるように、レチクル微動ステージ１３０の中央部に形成された開口１３０ｂ，１３０ｃ近傍に設けられた各３つのレチクルホルダ１５２により、真空吸着保持されている。また、レチクルＲ１、Ｒ２の四隅の外側には、レチクルをＹ軸方向両側から挟持するレチクルクランプ機構１２６がそれぞれ設けられている。

レチクルＲ１の−Ｙ側、又はレチクルＲ２の＋Ｙ側に位置する各レチクルクランプ機構１２６は、図４（Ａ）に示されるように、レチクル微動ステージ１３０上に固定された土台部１６２と、該土台部１６２のＹ軸方向の一側（図４（Ａ）の例では、＋Ｙ側）端部に設けられた十字板ばね１６４と、該十字板ばね１６４に係合状態で保持されたセルフクランプ部材１６６とを含む。

前記セルフクランプ部材１６６には、土台部１６２に対向する側の端面に所定深さの溝１６６ａが形成されており、該溝１６６ａ内に、十字板ばね１６４の一部が挿入されている。また、セルフクランプ部材１６６には、その長手方向の先端部上面に凸部１６６ｂが形成されるとともに、溝１６６ａが形成された部分の先端部側には凸部１６６ｃが形成されている。

また、レチクルＲ１の＋Ｙ側、又はレチクルＲ２の−Ｙ側に位置する各レチクルクランプ機構１２６は、基本的には、図４（Ａ）のレチクルクランプ機構と同様に構成されているが、溝１６６ａの近傍の部分の上面に長手方向に直交する方向の切り欠き溝が形成されている。

従って、図４（Ａ）に示されるように、不図示のレチクルローダにより搬送されたレチクルＲ１（又はＲ２）が各セルフクランプ部材１６６の凸部１６６ｂ上に載置され、レチクルローダがレチクルＲ１（又はＲ２）の下方から退避すると、レチクルＲ１（又はＲ２）の自重により、図４（Ｂ）に示されるように、各セルフクランプ部材１６６が点Ａの位置近傍を中心として回転し、レチクルＲ１（又はＲ２）は、各レチクルホルダ１５２に接近する。その後、レチクルホルダ１５２の真空吸着が開始されると、真空吸着力によりレチクルＲ１（又はＲ２）は更に下方に移動し、レチクルＲ１（又はＲ２）が、レチクルホルダ１５２に吸着保持される。上記のレチクルＲ１の下方への移動により、図４（Ｂ）に示されるように、セルフクランプ部材１６６が十字板ばねの弾性力に抗して点Ａの位置近傍を中心として回転し、ほぼ水平となる。この水平状態では、各セルフクランプ部材１６６の凸部１６６ｃがレチクルＲ１の端面に圧接し、Ｙ軸方向一側と他側で組を成す、２組のレチクルクランプ機構によってレチクルＲ１（又はＲ２）が挟持され位置決めされる。この場合において、レチクルＲ１の＋Ｙ側、又はレチクルＲ２の−Ｙ側に位置する各レチクルクランプ機構１２６には、溝１６６ａの近傍の部分の上面に長手方向に直交する方向の切り欠き溝が形成されているので、凸部１６６ｃに作用する押圧力により、溝幅が狭くなる方向に凸部１６６ｃ部分が移動し、レチクルＲ１，Ｒ２に必要以上に大きな圧縮力が作用しないようになっている。

前記Ｚ軸支持機構１３４ａ〜１３４ｃは、そのうちの１つのＺ軸支持機構１３４ａを採り上げて、図５に拡大断面図にて示されるように、板状部材１３６ａの下面に固定された上端が閉塞された２重円筒状のシリンダ部材１７０、該シリンダ部材１７０に下方から挿入され、下端面が閉塞された円筒状で中央部に円柱部を有するピストン部材１８０、及び該ピストン部材１８０の下端面にフレクシャ１８５を介して接続されたベアリング機構１９０等を含む。シリンダ部材１７０とピストン部材１８０とは、Ｚ軸方向に相対移動が可能な構造となっている。

前記シリンダ部材１７０は、同心の外側円筒部１７０ａと内側円筒部１７０ｂとを有している。外側円筒部１７０ａの外径は第１の直径であり、内側円筒部１７０ｂの外径は第２の直径（＜第１の直径）である。外側円筒部１７０ａの側面には、管路１７２ａが下端部近傍に形成され、その上方に大気開放部１７２ｂが形成されている。また、シリンダ部材１７０の上面には、外側円筒部１７０ａと内側円筒部１７０ｂとの間の空間に連通して管路１７２ｃが形成されている。

管路１７２ａには、不図示の気体供給装置から気体供給管１８２ａを介して圧縮空気が供給され、ピストン部材１８０の外周面とシリンダ部材１７０との間に空気静圧軸受（エアベアリング）が構成されている。また、管路１７２ｃには、真空吸引管１８２ｂを介して真空ポンプ（不図示）が接続され、この真空ポンプによりシリンダ部材１７０とピストン部材１８０との間の空間ＡＲが、真空状態とされている。

シリンダ部材１７０の内側円筒部１７０ｂは、その内部が中空とされ、その内壁の外周にコイル１８４が取り付けられている。

前記ピストン部材１８０は、同心の外側円筒部１８０ａと内側円柱部１８０ｂとを有する。外側円筒部１８０ａの外径は、第３の直径（第１の直径＞第３の直径＞第２の直径）であり、内側円柱部１８０ｂの外径は、第４の直径（＜第２の直径）である。外側円筒部１８０ａの内壁面には、永久磁石１８６が固定されている。この永久磁石１８６と前述したコイル１８４とにより、シリンダ部材１７０とピストン部材１８０とを相対的にＺ軸方向に微小駆動可能なボイスコイルモータが構成されている。

前記ベアリング機構１９０は、円盤状の部材１９２を含んでいる。この円盤状の部材１９２の底面には、その外周に沿って円環状の噴出し溝１９２ａが形成され、また、その中央部には、円形の吸引溝１９２ｂが形成されている。部材１９２の内部には、噴出し溝１９２ａの一部に連通する気体供給路１９４と、吸引溝１９２ｂに連通する真空吸引路１９８とが形成されている。

外部の気体供給装置（不図示）から気体供給管１９６及び気体供給路１９４を介して供給された加圧気体が噴出し溝１９２ａからレチクル微動ステージ１３０の上面に向けて噴き出され、吸引溝１９２ｂ近傍の空気が真空吸引路１９８及び真空吸引管１９９を介して不図示の真空ポンプによって吸引されている。すなわち、ベアリング機構１９０は、真空予圧型の気体静圧軸受を構成しており、このベアリング機構１９０によってレチクル微動ステージ１３０が所定のクリアランスを介して吊り下げ支持されている。

このようにして構成された３つのＺ軸支持機構１３４ａ〜１３４ｃによると、レチクル微動ステージ１３０を非接触で支持することができるとともに、シリンダ部材１７０の外側円筒部１７０ａ内面のエアベアリングにより、ピストン部材１７０とシリンダ部材１８０とが、円滑に相対的に上下動可能になっている。また、大気開放部１７２ｂにより、このエアベアリングからの圧縮空気が真空空間ＡＲに悪影響を与えるのが防止されている。また、Ｚ軸支持機構１３４ａ〜１３４ｃそれぞれのベアリング機構１９０は、前述したボイスコイルモータによって、自在に上下動させることができる。このため、レチクル微動ステージ１３０のＺ軸方向及びＸＹ面に対する傾斜方向（θｘ方向及びθｙ方向）の位置姿勢制御が可能である。また、空間ＡＲ内は真空なので（ばね特性を持たず）、容積が変化しても圧力変動がなく、これにより良好な振動遮断特性を得ることができる。

図１に戻り、前記投影光学系モジュール２６は、ミニブリッジ３０、該ミニブリッジ３０から３つの連結部材を介して３点で吊り下げ支持された鏡筒定盤３２、該鏡筒定盤３２によって支持された投影光学系ＰＬ、及び鏡筒定盤３２の底面に、それぞれＺ軸にほぼ平行な３本の円柱状のロッド３４を介して吊り下げ支持されたドーナツ状（輪帯の平板状）の計測マウント３６等を含む。投影光学系ＰＬは、鏡筒定盤３２の中央の円形開口に上方から挿入され、その鏡筒に設けられたフランジＦＬＧを介して鏡筒定盤３２に支持されている。この場合、計測マウント３６は、後述するように、鏡筒定盤３２に対して３点支持よりなるキネマティック支持方式で安定に連結されている。なお、計測マウント３６は鏡筒定盤３２とは独立に吊り下げ支持されていても良い。

前記ミニブリッジ３０は、図６の斜視図に示されるように、矩形のフレーム部３０ａと、該フレーム部３０ａの下面側の−Ｙ方向端部におけるＸ軸方向両端部の２つのコーナー部分から下方に延設された脚部３０ｂ，３０ｃと、フレーム部３０ａの下面側の＋Ｙ方向端部におけるＸ軸方向中央部から下方に延設された脚部３０ｄとを備えている。脚部３０ｂ，３０ｃ，３０ｄの下端部には、ころがりガイド３１がそれぞれ設けられている。

また、フレーム部３０ａの＋Ｙ側端部から−Ｙ側に所定距離隔てた位置に、該フレーム部３０ａの−Ｘ側の辺と＋Ｘ側の辺とを連結するＸ軸方向を長手方向とする連結部３０ｅが設けられている。

そして、このミニブリッジ３０のフレーム部３０ａの３箇所（平面視で（上から見て）投影光学系ＰＬの鏡筒にほぼ外接する正三角形の各頂点に相当する箇所）に同一の受動型のＺ防振パッド３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃがそれぞれ埋め込まれている。Ｚ防振パッド３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃのそれぞれは、エアダンパ又はコイルばねを含む。Ｚ防振パッド３８Ａは、連結部３０ｅの長手方向の中央位置に埋め込まれ、Ｚ防振パッド３８Ｂ，３８Ｃは、Ｚ防振パッド３８Ａからの距離が同一となるフレーム部３０ａの＋Ｘ側の辺、−Ｘ側の辺上の位置に埋め込まれている。

Ｚ防振パッド３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃそれぞれの下端には、それぞれ鋼材よりなる互いに同一のワイヤ３５Ａ，３５Ｂ，３５Ｃを介して鏡筒定盤３２が連結されている。ワイヤ３５ＡとＺ防振パッド３８Ａとが前述した１つの連結部材に対応し、同様に他のワイヤ３５Ｂ，３５ＣとＺ防振パッド３８Ｂ，３８Ｃとが残り２つの連結部材に対応している。それらの連結部材は互いにほぼ平行で、かつＺ軸に平行である。本実施形態では、Ｚ軸に平行で床面に向かう方向（−Ｚ方向）が鉛直方向となっており、Ｚ軸に垂直な平面（ＸＹ平面）はほぼ水平面である。従って、鏡筒定盤３２の＋Ｚ方向（上方）に位置するミニブリッジ３０から、それら３つの連結部材を介して鏡筒定盤３２及び投影光学系ＰＬが吊り下げられて支持されている。

この場合、投影光学系ＰＬの光軸はＺ軸に平行であり、本実施形態の連結部材の固有振動数は、投影光学系ＰＬの光軸に平行な方向よりも光軸に垂直な方向で低くなっている。その連結部材は投影光学系ＰＬの光軸に垂直な方向には振り子のように振動するため、各連結部材のＺ軸方向の長さをＬ、重力定数をＧ（＝９．８ｍ／ｓ²）とすると、投影光学系ＰＬの光軸に垂直な方向の固有振動数ｆ_gは、次のように長さＬが長い程小さい値になる。
ｆ_g＝（Ｇ／Ｌ）^1/2／（２π）…（１）

その固有振動数ｆ_gが小さい程、投影光学系ＰＬの光軸に垂直な方向の除振性能（ミニブリッジ３０に外部から伝達された床振動などの振動が投影光学系ＰＬに伝わるのを防止する能力）は向上するため、その除振性能を高めるためにはその連結部材の長さＬは長い程良い。この一方、投影光学系ＰＬを安定に支持するためには、連結部材に吊り下げられる鏡筒定盤３２は、吊り下げられるユニット全ての重心付近に固定されることが好ましい。また、露光装置をできるだけ小型化するためには、ミニブリッジ３０の上端の高さは投影光学系ＰＬの上端を超えない程度であることが好ましい。この観点からは、その連結部材の長さＬは投影光学系ＰＬのＺ軸方向の長さの１／２程度以下となる。

その連結部材の長さＬは、一例としてほぼ０．５ｍに設定される。この値を（１）式に代入すると、固有振動数ｆ_gはほぼ０．７Ｈｚという小さい値になる。さらに、その連結部材の長さＬを１ｍ以上に設定した場合には、（１）式から固有振動数ｆ_gは次のように投影露光装置として十分に小さい０．５Ｈｚ程度以下となる。
ｆ_g≦０．５（Ｈｚ）…（２）
従って、例えば投影光学系ＰＬの長さによって可能である場合には、その連結部材の長さは１ｍ以上で数ｍ程度以下に設定することが好ましい。

また、その連結部材中のワイヤ３５Ａ〜３５Ｃの投影光学系ＰＬの光軸方向の固有振動数は、固有振動数ｆ_gよりもかなり高くなる。しかしながら、例えばミニブリッジ３０に外部から伝達された床振動などの振動のうちで、その光軸方向の振動成分の大部分はＺ防振パッド３８Ａ〜３８Ｃ（防振部）によって吸収されるため、その光軸に平行な方向においても高い除振性能が得られる。

上述のように本実施形態の剛構造の投影光学系ＰＬ及び鏡筒定盤３２は、剛構造のミニブリッジ３０に対して柔構造の連結部材（Ｚ防振パッド３８Ａ〜３８Ｃ及びワイヤ３５Ａ〜３５Ｃ）を介して吊り下げて支持されている。この構造では高い除振性能が得られるとともに機構部の大幅な軽量化が可能であるが、投影光学系ＰＬとミニブリッジ３０との相対位置が比較的低い周波数で変化するおそれがある。そこで、投影光学系ＰＬとミニブリッジ３０（及び第１、第２のプラットホーム・タワー１４、１６等）との相対位置を所定の状態に維持するために、図１にアクチュエータ４０Ａ，４０Ｂとして代表的に示される非接触方式の位置決め装置が設けられている。

これをさらに詳述すると、ミニブリッジ３０の脚部３０ｄ，３０ｂ，３０ｃの投影光学系ＰＬに対向する側の面には、ボイスコイルモータ４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃの固定子４２ａ、４２ｂ、４２ｃが一体的にそれぞれ設けられている。鏡筒定盤３２の＋Ｙ側の端面には、固定子４２ａの下方に位置する板状突出部３２ａが一体的に設けられ、鏡筒定盤３２の−Ｙ側の端面には、固定子４２ｂ、４２ｃそれぞれの下方に位置する板状突出部３２ｂ、３２ｃが一体的に設けられている。そして、板状突出部３２ａの上面にアクチュエータ４０Ａの可動子４４ａが固定され、板状突出部３２ｂ、３２ｃの上面にアクチュエータ４０Ｂ，４０Ｂの可動子４４ｂ、４４ｃがそれぞれ固定されている。

ここで、図６では、アクチュエータ４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃのそれぞれが、単一のボイスコイルモータとして図示されているが、実際には、アクチュエータ４０Ａ，４０Ｂは、それぞれＺ軸方向駆動用のボイスコイルモータとＸ軸方向駆動用（又はＹ軸方向駆動用）のボイスコイルモータとを含み、アクチュエータ４０Ｃは、Ｚ軸方向駆動用のボイスコイルモータとＹ軸方向駆動用（又はＸ軸方向駆動用）のボイスコイルモータとを含む。

また、板状突出部３２ａ，３２ｂそれぞれの近傍の鏡筒定盤３２上に、鏡筒定盤３２のＺ軸方向及びＸ軸方向（又はＹ軸方向）の加速度を検出するための第１、第２の２軸の加速度センサ（いずれも不図示）が設けられている。また、板状突出部３２ｃの近傍の鏡筒定盤３２上に、鏡筒定盤３２のＺ軸方向及びＹ軸方向（又はＸ軸方向）の加速度を検出するための第３の２軸の加速度センサ（不図示）が設けられている。第１、第２及び第３の加速度センサでそれぞれ検出される２軸の加速度情報は不図示の制御系に供給され、制御系は、その加速度情報に基づいて鏡筒定盤３２が地球に対して相対的に静止しているようにアクチュエータ４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃをそれぞれ駆動する。

上記の加速度センサとしては、例えば圧電素子（ピエゾ素子）で発生する電圧を検出する圧電型の加速度センサ、あるいは、例えば歪みの大きさに応じてＣＭＯＳコンバータの論理閥値電圧が変化することを利用する半導体式の加速度センサ等を使用できる。また、フレームに対して常に一定位置を保つために、鏡筒定盤３２と脚部３０ｂ〜３０ｄ（ひいてはフレーム部３０ａ）との相対位置を直接計測するための非接触方式の位置センサを設けても良い。その位置センサとしては、例えば渦電流変位センサ、静電容量式変位センサ、又は光学式センサ等を使用できる。

このように６軸の加速度センサと、６軸のアクチュエータ４０Ａ〜４０Ｃと、制御系とを含んで投影光学系ＰＬ及び鏡筒定盤３２の位置決め装置が構成されている。すなわち、比較的高周波の振動に対しては、加速度センサ及びアクチュエータによりその影響が抑制される。なお、露光に影響しない低周波の揺れに対しては、前述の位置センサを設けて投影光学系ＰＬをフレームに追従させても良い。

この位置決め装置によって、ミニブリッジ３０に対する投影光学系ＰＬのＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向の相対位置、及びＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の回りの相対回転角は、一定の状態（所定の状態）に維持される。本実施形態のアクチュエータ４０Ａ〜４０Ｃの応答周波数は１０Ｈｚ〜３０Ｈｚ程度であり、その応答周波数までの振動に対しては、投影光学系ＰＬはアクティブ・サスペンション方式で支持されている。そして、それを超える周波数の振動に対しては、投影光学系ＰＬはパッシブ防振構造によって吊り下げて支持されている。

前記投影光学系ＰＬは、一例として、投影倍率βが１／４又は１／５等、像側開口数ＮＡは０．７、視野直径は２７〜３０ｍｍ程度の屈折光学系が用いられている。

鏡筒定盤３２の底面には、前述の如く３本のロッド３４（紙面奥側のロッドは不図示）を介して計測マウント３６がキネマティック支持方式で安定に連結されている（図１参照）。この計測マウント３６には、ウエハアライメント系、焦点位置検出系（フォーカス検出系）及びレーザ干渉計システム等（いずれも不図示）が固定されている。

各ロッド３４の長手方向の両端（上下端）部にはそれぞれ直径が細くなったフレクシャ部が形成されている。この場合、各ロッド３４の上下端のフレクシャ部では、Ｚ軸方向以外の５自由度の変位が可能になっている。このため、鏡筒定盤３２と計測マウント３６との問では応力が殆ど作用しない。従って、計測マウント３６に固定されたレーザ干渉計システム等で高い計測精度が得られる。さらに、図示は省略されているが、計測マウント３６の中央の投影光学系ＰＬが挿通されている開口の近傍の３箇所に切り欠き部及び凸部が形成され、その３箇所の凸部が投影光学系ＰＬの側面に接触している。この場合、凸部は、投影光学系ＰＬの側面に対して光軸を中心とする半径方向及びＺ軸方向の変位と、Ｚ軸、Ｘ軸、Ｙ軸回りの回転方向（θｚ方向、θｘ方向、θｙ方向）の変位とを含む５自由度の変位が可能である。従って、計測マウント３６と投影光学系ＰＬとの問でも応力が殆ど作用しないため、投影光学系ＰＬの結像特性が安定に維持される。

前記ウエハステージモジュール２８は、図１に簡略化して示されるように、ベースプレート１２上に設置されたウエハベース５２及び該ウエハベース５２上を移動するウエハステージＷＳＴ等を含む。

図７には、ウエハステージモジュール２８の構成の一例が斜視図にて示されている。

この図７において、床面Ｆに設置されたベースプレート１２上に、ウエハステージ定盤８１を挟んでＹ軸方向の一側と他側にベース部材９２Ａ，９２Ｂが設置されている。これらウエハステージ定盤８１とベース部材９２Ａ，９２Ｂとによって、図１のウエハベース５２が構成されている。なお、ウエハステージ定盤８１とベース部材９２Ａ，９２Ｂとを一体成形しても良い。

ウエハステージ定盤８１の上面であるガイド面８１ａの上方に、Ｙリニアモータの固定子を備えたＹ軸ガイド８３ＹＡがほぼＹ軸に平行に配置され、Ｙ軸ガイド８３ＹＡに沿ってＹ軸方向に移動自在にＺレベリング機構５５が配置されている。Ｚレベリング機構５５上にウエハＷを保持するウエハテーブルＷＴＢが固定されている。ウエハテーブルＷＴＢ及びＺレベリング機構５５よりウエハステージＷＳＴが構成されている。Ｚレベリング機構５５は、ガイド面８１ａ上を不図示のエアベリングを介して円滑に移動できる。また、Ｚレベリング機構５５は、ウエハテーブルＷＴＢのＺ軸方向の位置とＸ軸、Ｙ軸の回りの回転角（傾斜角）とを制御する機構、及びＹ軸ガイド８３ＹＡに沿ってＺレベリング機構５５をＹ軸方向に駆動するためのＹリニアモータの可動子を備えている。以下においては、便宜上、そのＹリニアモータを、その固定子を備えたＹ軸ガイドと同一の符号を用いてＹリニアモータ８３ＹＡとも記述する。

前記Ｚレベリング機構５５は、上記のウエハテーブルＷＴＢのＺ軸方向の位置とＸ軸、Ｙ軸の回りの回転角（傾斜角）とを制御する機構として、例えば前述したＺ軸支持機構１３４ａ〜１３４ｃと同様の構成の不図示の３つのＺ軸支持機構を備えている。但し、このＺレベリング機構５５が備えるＺ軸支持機構は、ピストン部材の下端側のみならず、シリンダ部材の上端側にも真空予圧型のエアベアリングが設けられている。

ベース部材９２Ａ及び９２Ｂ上にＸ軸に平行に、かつ不図示の直線ガイド（又は磁石を配置したガイドであるマグネットトラック）に沿ってＸ軸方向に移動自在にＸリニアモータの固定子８６ＸＥ及び８６ＸＦが配置され、Ｙ軸ガイド８３ＹＡの端部の可動子（不図示）とそれらの固定子８６ＸＥ，８６ＸＦとからＹ軸ガイド８３ＹＡ及びウエハステージＷＳＴをＸ軸方向に駆動するためのＸリニアモータ９４ＸＡ及び９４ＸＢが構成されている。また、２つの固定子８６ＸＥ及び８６ＸＦはＸ軸方向の両端部でほぼＹ軸に平行な２本のロッド７４Ｃ及び７４Ｆによって連結されている。これによってＸリニアモータ９４ＸＡ，９４ＸＢを駆動する際に、その反力によって２つの固定子８６ＸＥ，８６ＸＦは連動して移動するので、固定子８６ＸＥ及び８６ＸＦの一方のみが大きく移動することを防止できる。

また、固定子８６ＸＥを挟んでその移動方向（Ｘ軸方向）の一側と他側に２つのダンパー部材９７Ａ、９７Ｂがそれぞれ配置され、固定子８６ＸＦを挟んでその移動方向（Ｘ軸方向）の一側と他側に２つのダンパー部材９７Ｃ、９７Ｄが配置されている。ダンパー部材９７Ａ，９７Ｂを合わせた質量（Ｍ２）は、固定子８６ＸＥの質量（Ｍ１）よりも小さく設定され、ダンパー部材９７Ｃ，９７Ｄを合わせた質量（Ｍ２）も、固定子８６ＸＦの質量（Ｍ１）よりも小さく設定されている。ダンパー部材９７Ａ〜９７Ｄはベース部材９２Ａ又は９２Ｂ上に例えばエアベアリングを介して載置されている。従って、ダンパー部材９７Ａ〜９７ＤはそれぞれＸ軸方向及びＹ軸方向に円滑に移動することができる。さらに、＋Ｘ方向の２つのダンパー部材９７Ｂ及び９７ＣはほぼＹ軸に平行なロッド７４Ｄによって連結され、−Ｘ方向の２つのダンパー部材９７Ａ及び９７ＤはほぼＹ軸に平行なロッド７４Ａによって連結されている。これにより、２つのダンパー部材９７Ａ，９７Ｄと２つのダンパー部材９７Ｂ，９７Ｃとはそれぞれ連動して移動するため、ダンパー部材９７Ａ〜９７Ｄのいずれか１つの変位量が大きくなることを防止できる。

また、固定子８６ＸＦとダンパー部材９７Ａとが機械的フィルタ部材７４Ｂによって連結され、固定子８６ＸＦとダンパー部材９７Ｂとが機械的フィルタ部材７４Ｅによって連結されている。機械的フィルタ部材７４Ｂ，７４Ｅ（及び後述の機械的フィルタ部材）は、例えば一部にコイルばねを含む、長手方向に伸縮可能な部材であり、機械的フィルタ部材７４Ｂ，７４Ｅは振動に関してローパスフィルタとして作用する。これによって、固定子８６ＸＦ（及び固定子８６ＸＥ）の振動がより抑制される。

また、ダンパー部材９７Ａと対向するように、ベース部材９２Ａの側面にフレーム部材７１Ａ及び７１Ｂが固定され、ダンパー部材９７Ｂと対向するように、ベース部材９２Ａの側面にフレーム部材７１Ｃ及び７１Ｄが固定されている。同様に、ダンパー部材９７Ｃ、９７Ｄとそれぞれ対向するようにベース部材９２Ｂにフレーム部材７１Ｅ及び７１Ｆが固定されている。また、固定子８６ＸＥとダンパー部材９７Ａ及び９７Ｂとがそれぞれ機械的フィルタ部材７２Ａ及び７２Ｂを介して連結され、ダンパー部材９７Ａとフレーム部材７１Ａ及び７１Ｂとがそれぞれ機械的フィルタ部材７３Ａ及び７３Ｂを介して連結され、ダンパー部材９７Ｂとフレーム部材７１Ｃ及び７１Ｄとがそれぞれ機械的フィルタ部材７３Ｃ及び７３Ｄを介して連結されている。さらに、固定子８６ＸＦとダンパー部材９７Ｃ及び９７Ｄとがそれぞれ機械的フィルタ部材７２Ｃ及び７２Ｄを介して連結され、ダンパー部材９７Ｃ及び９７Ｄとフレーム部材７１Ｅ及び７１Ｆとがそれぞれ機械的フィルタ部材７３Ｅ及び７３Ｆを介して連結されている。

本実施形態では、リニアモータ９４ＸＡ，９４ＸＢでＹ軸ガイド８３ＹＡを駆動してウエハステージＷＳＴをＸ軸方向に移動させるときには、その反力で固定子８６ＸＥ及び８６ＸＦが逆方向に移動する。この固定子８６ＸＥ，８６ＸＦの移動によってダンパー部材９７Ａ〜９７Ｄがほぼ同じ方向に移動するが、この際に例えば５０Ｈｚ程度以上の高周波数成分の振動が減衰されて、それ以下の低周波数成分がフレーム部材７１Ａ，７１Ｃ，７１Ｅ，７１Ｆ及びベース部材９２Ａ，９２Ｂ、並びにベースプレート１２を通して床面Ｆに逃がされる。また、固定子８６ＸＥ及び８６ＸＦの反力の差分等に起因するＹ軸方向の振動のうちの高周波数成分もダンパー部材９７Ａ〜９７Ｄで減衰されて、残りの低周波数成分はフレーム部材７１Ｂ，７１Ｄ及びベース部材９２Ａ、並びにベースプレート１２を通して床面Ｆに逃がされる。従って、リニアモータ９４ＸＡ，９４ＸＢを駆動する際の振動の影響が軽減される。

図１に戻り、前記照明系ＩＬＳを構成する照明光学系は、光学的に接続される第１、第２照明ユニット２０、２２からなり、第１、第２照明ユニット２０、２２はそれぞれ、ハウジング内に所定の位置関係で配置される複数の光学部材を有する。第１照明ユニット２０は、例えば光量調整用の可変減光器、レチクルの照明条件を可変とする成形光学系、及び均一化光学系（フライアイレンズなどのオプティカルインテグレータ系とレンズ系とを含む）などを有し、前述した第２プラットホーム・タワー１６の第１、第２ハウジング１６ａ、１６ｂ間の空間内に配置されている。

図示していないが、第１照明ユニット２０は、例えば光軸調整用の光学系（ビームマッチングユニット）をその一部に含む送光光学系を介して、床下のユーティリティスペース内に配置される光源と光学的に接続される。光源として、ここではＫｒＦエキシマレーザ（発振波長２４８ｎｍ）又はＡｒＦエキシマレーザ（発振波長１９３ｎｍ）よりなるレーザ光源が使用されている。

第２照明ユニット２２は、例えばビームスプリッタ、光量センサ、レチクルブラインド系、及びリレー光学系（ミラー及び結像レンズ系を含む）などを有し、第２プラットホーム・タワー１６及びレチクルステージモジュール２４の上方に配置されている。

第２照明ユニット２２のハウジングの入射端（＋Ｙ側端）が、第１照明ユニット２０のハウジングの射出端（＋Ｚ側端）の上面に物理的に固定されている。また、この第２照明ユニット２２のハウジングは、レチクルステージモジュール２４によっても不図示のスペーサ部材を介して支持されている。

従って、露光装置１００では、光源からの照明光（露光光）が送光光学系によって照明光学系に導かれ、その照明光が照明光学系によってレチクルＲ１（又はＲ２）上に均一な照度分布で照射されると共に、レチクルＲ１（又はＲ２）上にはレチクルブラインド系の開口の像が結像される。この場合、レチクルＲ１（又はＲ２）上での照明光の照射領域（照明領域）は、レチクルブラインド系によって規定され、本実施形態では非走査方向であるＸ軸方向に細長い形状となる。

レチクルＲ１（又はＲ２）に形成された回路パターン領域（パターン）のうち、照明光によって照射される部分の像は、両側テレセントリックで投影倍率βが縮小倍率の投影光学系ＰＬを介してフォトレジストが塗布されたウエハＷ上に投影され、そのレジスト層に回路パターンの部分縮小像が形成される。

上述のようにして構成された露光装置１００では、照明系ＩＬＳからのレチクルＲ１（又はＲ２）への照明光の照射を開始し、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとをＹ軸方向に同期して移動（同期走査）する走査露光動作によって、ウエハＷ上の１つのショット領域にレチクルＲ１、Ｒ２のパターン像を転写する。この走査露光動作では、不図示の制御系が、レチクルステージ駆動系（Ｙ軸リニアモータＲＭ１，ＲＭ２，ボイスコイルモータＶＹ１，ＶＹ２（及びＶＸ））とウエハステージ駆動系（Ｙリニアモータ８３ＹＡ及び（Ｘリニアモータ９４ＸＡ，９４ＸＢ））とを用いて、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴの駆動を制御する。その後、制御系は、照明光の照射を停止して、ウエハステージＷＳＴを介してウエハＷをＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向にステップ移動する動作と、上記の走査露光動作とを繰り返す。このようにして、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲ１，Ｒ２のパターン像が転写される。

本実施形態の露光装置１００では、１回の走査露光でレチクルＲ１、Ｒ２のパターン像がウエハ上に転写される。このため、露光装置１００では、１回の走査露光で１枚のレチクルのパターン像を転写する通常のスキャニング・ステッパに比べて、スループットを向上させることができる。なお、本実施形態ではレチクルＲ１、Ｒ２が同一のパターンを有するものとしたが、レチクルＲ１、Ｒ２のパターンを異ならせても良いし、レチクルＲ１、Ｒ２のパターン像を同一のショット領域に転写する、いわゆる多重露光を行っても良い。また、１回の走査露光でレチクルＲ１、Ｒ２の一方のパターン像のみをウエハ上に転写しても良い。

次に、露光装置１００の製造方法について、温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルーム内における露光装置の製造工程を中心として、図８〜図１５に基づいて説明する。

まず、図８に示されるように、クリーンルームの床面Ｆ上の所定の位置に、ベースプレート１２を設置する。ここでは、ベースプレート１２の一対の対向辺がＹ軸に平行となり、残りの一対の対向辺がＸ軸に平行となるように、所定位置に配置されるものとする。

次に、図９に示されるように、ベースプレート１２のＹ軸方向の一側（−Ｙ側）、他側（＋Ｙ側）に隣接するように、第１、第２のプラットホーム・タワー１４，１６を床面Ｆ上にそれぞれ設置する。

このとき、第１プラットホーム・タワー１４には、レチクルポート１５ａを有するレチクルポートユニット１５が予め装着され、第２のプラットホーム・タワー１６の第１ハウジング１６ａには、空調機２５が予め装着されているものとする。

次に、図１０に示されるように、ウエハステージモジュール２８をベースプレート１２上面に沿って＋Ｘ側から−Ｘ側に向かって挿入する。そして、不図示のストッパにウエハベース５２の一部が当接すると、ウエハステージモジュール２８が位置決めされる。なお、この図１０では、ウエハステージモジュール２８は、簡略化して示されている。このベースプレート１２上への設置に先立って、ウエハステージモジュール２８は、所定の機械的精度、電気的精度（及び光学的精度）を保つように、組み立てられている。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種機械系については機械的精度を達成するための調整が、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が、モジュール内で行われている。また、必要に応じて各種光学系について光学的精度を達成するための調整もモジュール内で行われている。そして、ベースプレート１２上への設置後、必要に応じて、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等を行う。

次に、図１１に示されるように、工具台車９０上に投影光学系モジュール２６を搭載し、ベースプレート１２の前方位置まで搬送する。このとき、投影光学系モジュール２６は、所定の機械的精度、電気的精度及び光学的精度を保つように、組み立てられている。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種機械系については機械的精度を達成するための調整が、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が、各種光学系については光学的精度を達成するための調整が、モジュール内でそれぞれ行われている。

工具台車９０には、前述した第２ガイドバー１４ｂ，第４ガイドバー１７ｂと同一の高さの一対の側壁が設けられており、この一対の側壁の上面に、脚部３０ｂ及び３０ｃ、並びに脚部３０ｄがそれぞれ載置されている。

そこで、次に、投影光学系モジュール２６を＋Ｘ方向から−Ｘ方向に押して、脚部３０ｂ及び３０ｃ、並びに脚部３０ｄそれぞれの下端のころがりガイド３１を介して、投影光学系モジュール２６を工具台車９０上から第２ガイドバー１４ｂ，第４ガイドバー１７ｂ上に移動する。そして、不図示のストッパに脚部３０ｃ，３０ｄが当たり、投影光学系モジュール２６が位置決めされる。図１２には、この位置決め直後の状態が示されている。

そして、この位置決め状態で、ミリブリッジ３０を第１プラットホーム・タワー１４及び第２プラットホーム・タワー１６の少なくとも一方に対して不図示の固定部材を用いて固定する。その後、必要に応じて、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等を行う。

次に、前述の第１ガイドバー１４ａ，第３ガイドバー１７ａの上面に沿ってレチクルステージモジュール２４を、＋Ｘ側から−Ｘ側へ挿入する。そして、不図示のストッパに定盤ＲＢＳの一部が当たり、レチクルステージモジュール２４が位置決めされる。図１３には、この位置決め直後の状態が示されている。

そして、この位置決め状態で、定盤ＲＢＳを第１プラットホーム・タワー１４及び第２プラットホーム・タワー１６の少なくとも一方に対して不図示の固定部材を用いて固定する。

第１ガイドバー１４ａ，第３ガイドバー１７ａ上への挿入に先立って、レチクルステージモジュール２４は、所定の機械的精度、電気的精度（及び光学的精度）を保つように、組み立てられている。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種機械系については機械的精度を達成するための調整が、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が、モジュール内で行われている。また、必要に応じて各種光学系について光学的精度を達成するための調整もモジュール内で行われている。その後、必要に応じて、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等を行う。

次に、第１照明ユニット２０を前述した第２プラットホーム・タワー１６の第１ハウジング１６ａ、第２ハウジング１６ｂ間の空間に挿入する。引き続き、第２照明ユニット２２を、第１ハウジング１６ａ及びレチクルステージモジュール２４上方の所定の位置に設置する。そして、第１照明ユニット２０と送光光学系との光学的な調整（光軸の位置調整などを含む）、及び第２照明ユニット２２と第１照明ユニット２０との光学的な調整などを行う。そして、不図示の固定部材を用いて、第１、第２照明ユニット２０、２２を第２プラットホーム・タワー１６に固定するとともに、第１、第２照明ユニット２０、２２を相互に接続する。また、レチクルステージモジュール２４の定盤ＲＢＳと第２照明ユニット２２との間に、スペーサ部材を挿入する。図１４には、このようにして第１、第２照明ユニット２０、２２の組み付けが行われた直後の状態が示されている。

上記の組みつけに先立ち、第１、第２照明ユニット２０、２２のそれぞれは、所定の機械的精度、電気的精度及び光学的精度を保つように、組み立てられている。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種機械系については機械的精度を達成するための調整が、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が、各種光学系について光学的精度を達成するための調整が、それぞれのユニット内でそれぞれ行われている。上記の組み付け後、必要に応じて、電気回路の配線接続などを行う。なお、送光光学系と光源との光学的な調整なども既に行われている。

次に、電気基板ラック１９を、第１プラットホーム・タワー１４の開口１４ｄ内に挿入するとともに、レチクルローダユニット２１、ウエハローダユニット２３を、第１プラットホーム・タワー１４の開口１４ｅ、１４ｆ内にそれぞれ挿入して不図示の固定部材によって第１プラットホーム・タワー１４に対して固定する。そして、必要な電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等を行う。なお、レチクルローダユニット２１、ウエハローダユニット２３は、上記の組みつけに先立ち、機械的精度、電気的精度及び光学的精度を保つように、組み立てられている。

図１５には、このようにして、第１、第２プラットホーム・タワー１４、１６の構成各部、並びに露光本体部などの組み立て作業が終了したときの状態が示されている。

その後、レチクルローダユニット２１（レチクルローダ室）、ウエハローダユニット２３（ウエハローダ室）、及び露光本体部１８が収容された空間（露光室）と、空調機２５とを不図示のダクトなどで接続する。その際に、本実施形態ではそのダクトで露光室の上部が塞がれるようにする。なお、空調機２５、ダクトなどを含む空調装置（温調装置）の機能などについては後述する。

このようにして、各種モジュール、各種ユニットから成る露光装置の組み立て工程が終了すると、必要な総合調整を行う。これにより、露光装置全体としての各種精度が確保される。

最後に、露光室のＸ軸方向の一側と他側の面をパネル９８，９９（図１６参照）で塞ぐことで、ほぼ気密状態の露光室を有する露光装置１００の製造が完了する。

図１６には、露光装置１００の第１、第２プラットホーム・タワー１４，１６と、パネル９８，９９と、これらによって囲まれた空間（露光室）の一部であって、投影光学系ＰＬの少なくとも一部、すなわち本実施形態では前述の鏡筒定盤３２より上方の部分が少なくとも配置された、平面視（上方から見て）矩形の空間（以下、「第１空間」と呼ぶ）ＥＲとが、概略図にて示されている。この図１６に示されるように、本実施形態の露光装置１００では、第１空間ＥＲ内部の−Ｘ方向かつ−Ｙ方向のコーナー部分に、三角柱状の噴き出しユニット（供給部）ＢＵが、上下方向を長手方向として配置されている。この噴き出しユニットＢＵは、前述の空調機２５に不図示のダクト等の配管系を介して接続されている。また、この噴き出しユニットＢＵの投影光学系ＰＬに対向する面には、例えば網目状（メッシュ状）の噴き出し口、あるいは多数の噴き出し孔（図示省略）が形成されており、この噴き出し面から所定温度に調整された気体、例えば空気が緩やかに噴き出されている。さらに、噴き出しユニットＢＵの内部、あるいは前述の配管系を含む空調機２５の気体供給路には、例えばＵＬＰＡ（又はＨＥＰＡ）フィルタを含むフィルタユニットが設けられ、第１空間ＥＲ内に供給される空気から異物が取り除かれる。本実施形態では、空調機２５などを含む空調装置が第１空間ＥＲ内でその空気をサイドフロー方式で流す。すなわち、フィルタユニット及び噴き出し面を介して第１空間ＥＲに供給される、温度制御された清浄な空気は、第１空間ＥＲの対角線に沿ってほぼ層流となって流れる。なお、フィルタユニットはケミカルフィルタを含んでもよく、この場合、化学的なクリーンな空気を供給可能となる。

一方、第１空間ＥＲ内部の＋Ｘ方向かつ＋Ｙ方向のコーナー部分には、第１空間ＥＲ内を流れる空気が流入する三角柱状の吸い込みユニット（回収部）ＳＵが、上下方向を長手方向として、かつ投影光学系ＰＬに対向して配置されている。この吸い込みユニットＳＵの投影光学系ＰＬに対向する面には、例えば複数の開口が形成されている。また、この吸い込みユニットＳＵは不図示の配管系及びケミカルフィルタ等を介して空調機２５に接続されている。なお、このようにして空気の循環系を構成する代わりに、吸い込みユニットＳＵで吸い込まれた空気を、その内部が第１空間ＥＲに比べて負圧に設定された配管系を介して露光装置１００の外部に排気するようにしても良い。いずれの場合でも、図１６に示されるように、第１空間ＥＲの内部では、噴き出しユニットＢＵから空気が噴き出され、この空気が第１空間ＥＲの対角線に沿って投影光学系ＰＬに向かって流れる。そして、その投影光学系ＰＬの周囲を通った空気が、前記対角線に沿って流れ、吸い込みユニットＳＵに吸い込まれる。すなわち、第１空間ＥＲ内部では、該第１空間の対角線に沿ったサイドフロー空調が行われ、第１空間ＥＲ内の環境（温度など）の安定化が計られている。なお、吸い込みユニットＳＵあるいは気体回収路に気体吸引装置を設け、第１空間ＥＲ内の空気を積極的に回収しても良い。また、本実施形態では、空調機２５などを含む空調装置の一部、すなわち噴き出しユニットＢＵ及び吸い込みユニットＳＵを、第１、第２プラットホーム・タワー１４、１６及びパネル９８、９９で囲まれた空間（露光室）内に配置するものとしたが、例えば噴き出しユニットＢＵ及び吸い込みユニットＳＵをそれぞれ第１、第２プラットホーム・タワー１４、１６内に設けても良い。さらに、本実施形態では前述の対角線と平行な方向に沿って空気を流すものとしたが、平面視矩形の第１空間内でその対角線と交差する方向に沿って空気を流しても良い。

また、前述の露光室のうち第１空間ＥＲ（鏡筒定盤３２）より下方の空間（以下、「第２空間」と呼ぶ）は、ウエハステージＷＳＴが配置され、かつレーザ干渉計システムのレーザビームが通るその周囲の空間を含む。そこで、図示は省略されているが、本実施形態の露光装置１００では、その第２空間でも温度制御された清浄な気体（空気など）を流して空調（環境の安定化）を行っている。この場合、第１空間ＥＲを介して前述の空気を第２空間に導くようにしても良いが、この第２空間では第１空間ＥＲとは別の空調が行われている。本実施形態では、この第２空間では、一例としていわゆるダンフロー空調が行われている。すなわち、第２空間の上方、例えば鏡筒定盤３２及び／又は計測マウント３６の下面側に供給口を設けるとともに、ウエハベース５２及び／又はベースプレート１２の上面側に回収口を設ける。そして、前述の空調機２５から供給される温度制御された清浄な空気をその供給口に導き、第２空間内でその空気をダウンフロー方式で流すとともに、その空気を回収口及び配管を介して回収する。上記構成の露光装置では、第１空間ＥＲ内において投影光学系ＰＬの周囲に空気の流れを遮る障害物が存在せずその流れがスムーズである。特に投影光学系ＰＬの鏡筒が円筒形であれば、その周囲全域に渡って空気がスムーズに流れる。また、温度制御された空気が投影光学系ＰＬに沿って流れる（換言すれば、投影光学系ＰＬが空気に包み込まれる）ので、例えば外部環境の変化などから、空気が投影光学系ＰＬを守る働きをする。このため、第１空間ＥＲ内の環境（温度など）、ひいては投影光学系ＰＬの光学特性などを安定化させることができる。なお、本実施形態では、前述の空調装置の一部を兼用して第２空間での空調を行うものとしたが、第１空間と第２空間とで異なる空調装置を用いても良い。また、本実施形態では温度制御された空気を用いるものとしたが、空気の代わりに他の気体、例えば不活性ガス（窒素などを含む）、あるいはドライエアなどを用いてもよい。

以上説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、第１、第２プラットホーム・タワー１４，１６と、両プラットホーム・タワー１４，１６間の空間内に配置され、高剛性部品をそれぞれ含む複数の高剛性部としてのレチクルステージモジュール２４、投影光学系モジュール２６、及びウエハステージモジュール２８を含む露光本体部１８とを備えている。換言すれば、露光装置１００は、ボディとなるフレーム機構を備えていない。従って、次世代の露光装置を設計する際及び既存の露光装置をカスタマイズする際などに、基本となるプラットホームを変更する必要がない。従って、本実施形態のボディ構造（プラットホーム）は、設計の自由度が大きくなるとともに、いわゆるモジュール設計に好適な構造と言える。すなわち、露光装置１００のような構造を採用することで、世代が変わっても、前の世代のモジュールを使うことが可能になるとともに、装置全体の軽量化、コストの低減、及び製造期間の短縮などが可能になる。一方、第１、第２プラットホーム・タワー１４，１６の間隔は、任意に設定することができるので、モジュール２４，２６，２８の大型化などにも容易に対応できる。

また、複数の高剛性部の一つである投影光学系モジュール２６は、高剛性部品であるミニブリッジ３０と、高剛性部品である鏡筒定盤３２及び投影光学系ＰＬの鏡筒とを、柔構造の連結部材であるワイヤ（３５Ａ〜３５Ｃ）、及びＺ防振パッド（３８Ａ〜３８Ｃ）で連結している。また、鏡筒定盤３２と計測マウント３６とを、上下端にフレクシャ部を有する３本のロッド３４で連結している。このように、柔構造の連結部材の採用により高剛性部品を少なくしているので、製造コストを低減することができるとともに、剛構造の連結部材（従来のレンズコラムなど）を用いる場合に比べて、高剛性部品間の振動、熱等の伝達を抑制することができる。

また、上述のように本実施形態の露光装置１００が備える投影光学系モジュール２６においては、剛構造のミニブリッジ３０に対して、柔構造の連結部材としてのＺ防振パッド３８Ａ〜３８Ｃ及びワイヤ３５Ａ〜３５Ｃを介して、剛構造の投影光学系ＰＬ及び鏡筒定盤３２がアクティブ・サスペンション方式で吊り下げて支持されている。このために以下のような利点もある。

１）露光装置は極めて単純な構造体の組み合わせからなり、軽量化でき、製造コストを低減できる。また、剛構造同士を柔構造で支持するため、振動及び／又は熱の影響を低減でき、モジュールの独立性を実現できる。
２）投影光学系ＰＬが吊り下げて支持されており、連結部材（ひいては投影光学系ＰＬ）の特に光軸に垂直な方向の振動の固有振動数は極めて小さいため、床面からの振動の影響は大幅に軽減される。従って、除振性能及び露光精度（重ね合わせ精度）等の装置性能が向上する。そして、仮に振動が問題化した場合にも、その伝達経路の特定が容易であり、例えば振動が伝わる部分に防振部材を追加する等の対策を容易に施すことができる。
３）露光装置の環境温度が変化した場合、構造体の熱変形の予測も容易になるため、温度センサを用いて構造体の各部の温度を計測することによって、その計測結果に基づいて位置決め誤差等を補正することもできる。

また、露光装置１００が備えるレチクルステージモジュールでは、レチクル粗動ステージ１２０及びレチクル微動ステージ１３０などが剛構造部品であり、レチクル粗動ステージ１２０とレチクル微動ステージ１３０とを連結するＺ軸支持機構１３４ａ〜１３４ｃが柔構造部品である。本実施形態では、レチクルステージモジュールの性能、ひいては装置性能に直接影響するレチクル粗動ステージ１２０及びレチクル微動ステージ１３０などに剛構造を用い、振動の伝達を遮断すべき部分に柔構造を用いている。これによって、レチクルステージモジュールの性能を高くした状態で機構部を軽量化することが可能になっている。

また、露光装置が備えるウエハステージモジュールでは、ウエハステージＷＳＴ、固定子８６ＸＥ、８６ＸＦ及びダンパー部材９７Ａ，９７Ｂ，９７Ｃ，９７Ｄなどは、剛構造部品であり、固定子８６ＸＥとダンパー部材９７Ａ，９７Ｂとをそれぞれ連結する機械的フィルタ部材７２Ａ，７２Ｂ、及び固定子８６ＸＦとダンパー部材９７Ｃ，９７Ｄとをそれぞれ連結する機械的フィルタ部材７２Ｃ，７２Ｄ等は、柔構造部品である。

また、本実施形態の露光装置１００では、前述した第１空間ＥＲではサイドフロー空調が採用されるとともに、第２空間ではダウンフロー空調が採用されている。従って、投影光学系ＰＬなどが配置された空間の環境（温度など）を安定化させることができるとともに、計測マウント３６に固定されたレーザ干渉計システム（及び焦点位置検出系（フォーカス検出系）、ウエハアライメント系）等を用いた高い安定性での計測、ひいてはウエハステージの位置制御性、露光精度（アライメント精度を含む）などの向上が可能になる。

また、前述の対角線に沿ったサイドフロー空調が採用されていることから、パネル９８，９９が配置される、露光装置１００の前面及び背面に無駄な障害物がないので、メンテナンス性が向上するとともに、第１空間内部での各構成部分の配置の自由度が向上する。

また、本実施形態に係る露光装置の製造方法によると、矩形板状のベースプレート１２を床面Ｆ上に設置し、そのベースプレート１２を挟む一側と他側に隣接して第１、第２プラットホーム・タワー１４，１６を、床面Ｆ上にそれぞれ設置する。そして、両プラットホーム・タワー１４，１６間の空間に、露光本体部を構成する、高剛性部品をそれぞれ含む複数の高剛性部としてのモジュール２４，２６，２８を順次配置するという簡単な手順で、露光本体部１８を組み付けることが可能となる。

この場合、モジュール２４，２６，２８の配置の順序は、任意の順序で良い。従って、組み付け時作業性が良好である。特に、本実施形態に係る露光装置１００のように、第１，第２のプラットホーム・タワー１４，１６間の空間内に配置され、複数の高剛性部としてのレチクルステージモジュール２４、投影光学系モジュール２６、及びウエハステージモジュール２８を含む露光本体部１８を備える場合には、各モジュールの機械的、電気的及び光学的な調整を組み付け前に行っておくことにより、組み付け後の調整が非常に簡単になる。

なお、上記実施形態では、前述したような第１,第２プラットホーム・タワー１４，１６間の空間内に露光本体部１８が配置された場合について説明したが、これに限らず、第１,第２プラットホーム・タワー１４，１６の代わりに、例えば骨組み構造（櫓構造などを含む）の第１，第２の架台を、採用しても良い。また、露光本体部１８の構成として、上記実施形態の構成に限らず、種々の構成を採用することができる。さらに、第１、第２プラットホーム・タワー１４、１６をそれぞれ独立に所定の設置面（床面など）に固定するだけでなく、例えば両タワーを連結部材で接続しても良い。また、露光本体部１８だけでなく、第１、第２プラットホーム・タワー１４、１６もベースプレート１２上に配置しても良いし、露光装置全体（１４、１６、１８）をフレームキャスタなどに搭載（固定）しても良い。また、上記実施形態では露光装置の製造工程について説明したが、例えばその組立及び最終調整が完了した上記ボディ構造の露光装置を、モジュール単位で分解して、デバイスメーカーのデバイス製造工場（クリーンルーム）に搬入し、そのクリーンルーム内で露光装置を立ち上げる場合にも、上記実施形態と同様の組立・調整を行うことができ、露光装置の稼働（運用）開始までの立ち上げ期間を短縮することが可能である。さらに、上記ボディ構造の露光装置はモジュールの着脱が極めて容易であるため、露光装置の運用開始後、例えば投影光学系を露光装置本体から取り出してその光学調整などを行う場合でも、その調整（メンテナンス）期間を短縮することが可能である。

なお、上記実施形態では、レチクルステージモジュール２４の上方に配置される照明光学系の一部（第２照明ユニット２２）が、第１、第２プラットホーム・タワー１４、１６及びパネル９８、９９からなる、露光装置１００の本体チャンバの外側に設けられるものとしたが、その照明光学系の一部、及び／又は他のユニット（モジュール）、例えばレチクルのアライメントマークなどを検出するマーク検出系をも、その本体チャンバ内に収納しても良い。さらに、上記実施形態では、防振部材を介してウエハステージモジュール２８（ウエハベース５２）をベースプレート１２上に配置しても良いし、露光装置１００の他のユニット（モジュール）を防振部材で支持しても良い。

また、上記実施形態では干渉計システムを用いてレチクルステージ及びウエハステージの位置情報を計測するものとしたが、これに限らず、例えばウエハステージの上面に設けられるスケール（回折格子）を検出するエンコーダシステムを用いても良い。この場合、干渉計システムとエンコーダシステムの両方を備えるハイブリッドシステムとし、干渉計システムの計測結果を用いてエンコーダシステムの計測結果の較正（キャリブレーション）を行うことが好ましい。また、干渉計システムとエンコーダシステムとを切り替えて用いる、あるいはその両方を用いて、ウエハステージの位置制御を行うようにしても良い。

なお、上記実施形態において、照明光として、例えば国際公開第１９９９／４６８３５号パンフレット（対応米国特許７,０２３,６１０号明細書）に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源から発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、エルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。

また、投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでも良い。投影光学系は屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。例えば、国際公開第２００４／１０７０１１号パンフレットに開示されているように、複数の反射面を有しかつ中間像を少なくとも１回形成する光学系（反射系又は反屈系）がその一部に設けられ、単一の光軸を有する、いわゆるインライン型の反射屈折系なども使用できる。また、投影光学系はその鏡筒が円筒形に限られるものではなく他の形状、例えば円筒形の鏡筒が一部が突出した形状などでも良い。

なお、上記実施形態では、本発明がステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置に適用された場合について説明したが、これに限らず、本発明は、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置（いわゆるステッパ）、ステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置、プロキシミティー方式の露光装置、又はミラープロジェクション・アライナーなどにも好適に適用することができる。

この他、例えば国際公開第２００４／０５３９５５号パンフレット（対応米国特許出願公開第２００５／０２５２５０６号明細書）、米国特許第６,９５２,２５３号明細書、欧州特許出願公開第１４２０２９８号公報、国際公開第２００４／０５５８０３号パンフレット、国際公開第２００４／０５７５９０号パンフレット、米国特許出願公開第２００６／０２３１２０６号明細書、米国特許出願公開第２００５／０２８０７９１号明細書などに開示される、投影光学系ＰＬとウエハとの間に液体が満たされる液浸型露光装置などにも本発明を適用しても良い。この液浸型露光装置では、投影光学系とウエハとの間に液体を供給して液浸空間を形成する液浸システムを、投影光学系とは独立に吊り下げ支持しても良い。また、遠紫外域又は真空紫外域などの露光用照明光を用いる露光装置だけでなく、例えばＥＵＶ光又はＸ線、あるいは電子線、イオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置などにも本発明を適用できる。なお、上記実施形態の露光装置は、例えば特開平１０−２１４７８３号公報（対応米国特許第６,５９０,６３４号明細書）、米国特許第５,９６９,４４１号明細書、及び国際公開第９８／４０７９１号パンフレットなどに開示されているように、２つのウエハステージを用いて露光動作と計測動作（例えば、アライメント系によるマーク検出など）とをほぼ並行して実行可能なツイン・ウエハステージタイプでも良い。さらに、上記実施形態の露光装置は、例えば国際公開第２００５／０７４０１４号パンフレット、国際公開第１９９９／２３６９２号パンフレット、米国特許第６,８９７,９６３号明細書などに開示されているように、ウエハステージとは別に、計測部材（例えば、基準マーク、光学センサなど）を有する計測ステージを備えるものでも良い。

なお、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（又は可変成形マスク、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞をウエハＷ上に形成することによって、ウエハＷ上にデバイスパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。さらに、例えば特表２００４−５１９８５０号公報（対応米国特許第６,６１１,３１６号明細書）に開示されているように、２つのレチクルのパターンを、双頭型の投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回の走査露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも本発明を適用することができる。

なお、上記実施形態で引用した露光装置などに関する全ての公報、国際公開パンフレット、米国特許出願公開明細書及び米国特許明細書の開示を援用して本明細書の記載の一部とする。

また、上記の実施形態の露光装置を用いて半導体デバイスを製造する場合、この半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、このステップに基づいてレチクルを製造するステップ、シリコン材料からウエハを形成するステップ、上記の実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに転写するステップ、エッチング等の回路パターンを形成するステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、及び検査ステップ等を経て製造される。

また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をリソグフィ工程を用いて製造する露光装置にも適用することができる。さらに、露光対象の物体としては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、露光装置で用いられるマスク又はレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）、あるいはフィルム部材等が適用される。また、その物体の形状は円形のみならず、矩形など他の形状でも良い。

以上説明したように、本発明の露光装置は、半導体素子などのマイクロデバイスの製造に適している。

Claims (45)

1. 基板を露光してパターンを形成する露光装置であって、
   所定間隔を隔てて設置された第１の架台及び第２の架台と；
   前記第１の架台と第２の架台との間の空間内に配置されるとともに、少なくとも一部が前記第１の架台と第２の架台とに支持され、高剛性部品をそれぞれ含む複数のモジュールを含む露光本体部と；を備える露光装置。
2. 請求項１に記載の露光装置において、
   前記複数のモジュールの少なくとも一つは、複数の高剛性部品と、高剛性部品同士を連結する柔構造の連結部材とを含む露光装置。
3. 請求項１又は２に記載の露光装置において、
   前記露光本体部は、所定のパターンを生成する光学系を前記高剛性部品として含む第１モジュールと、前記基板を保持して移動する基板ステージを前記高剛性部品として含む第２モジュールとを含む露光装置。
4. 請求項３に記載の露光装置において、
   前記第１モジュールは、前記光学系が柔構造の連結部材を介して吊り下げ支持されるフレーム部材を前記高剛性部品として含む露光装置。
5. 請求項３又は４に記載の露光装置において、
   前記露光本体部は、マスクを保持するマスクステージを前記高剛性部品として含む第３モジュールをさらに含む露光装置。
6. 請求項５に記載の露光装置において、
   前記マスクを介して前記基板上にパターンを形成するために、前記マスクステージと前記基板ステージとは同期して移動され、前記マスクステージは、前記同期移動の方向に並ぶ複数のマスクを保持する露光装置。
7. 請求項５又は６に記載の露光装置において、
   前記第１、第２及び第３モジュールは、前記各高剛性部品に対する外部からの振動を絶縁可能な構造である露光装置。
8. 請求項５〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
   前記第１、第２の架台の一方に設けられる第１照明部と、該第１照明部に光学的に接続された第２照明部とを含み、前記マスクを照明光で照明する照明装置をさらに備える露光装置。
9. 請求項３〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
   前記光学系の少なくとも一部が配置される、前記第１、第２の架台間の平面視矩形の第１空間内で、前記矩形の対角線に沿って気体を流す温調装置をさらに備える露光装置。
10. 請求項９に記載の露光装置において、
    前記温調装置は、前記光学系に向けて気体を流す露光装置。
11. 請求項１０に記載の露光装置において、
    前記温調装置は、前記光学系の周囲を経由した気体が流入する回収部を含む露光装置。
12. 請求項９〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記温調装置は、前記第１空間内に気体を供給する供給部と、前記第１空間内の気体が流入する回収部とを含み、前記供給部と前記回収部は前記光学系を挟んで配置される露光装置。
13. 請求項９〜１２のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記温調装置は、前記基板ステージが配置される、前記第１、第２の架台間の第２空間内で、前記第１空間とは独立に気体を流す露光装置。
14. 請求項１３に記載の露光装置において、
    前記温調装置は、前記第２空間では、ダウンフロー方式で気体を流す露光装置。
15. 請求項９〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記露光本体部では、マスクを介して前記基板上にパターンが形成され、
    前記第１、第２の架台の一方にその一部が設けられ、前記マスクを照明する照明装置をさらに備え、
    前記温調装置の一部は、前記一方の架台に設けられる露光装置。
16. 請求項３〜８のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記光学系の少なくとも一部が配置される、前記第１、第２の架台間の平面視矩形の第１空間内で、サイドフロー方式で気体を流す温調装置を更に備える露光装置。
17. 請求項３〜７、９〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記露光本体部では、マスクを介して前記基板上にパターンが形成され、
    前記第１、第２の架台の一方にその一部が設けられ、前記マスクを照明する照明装置と；
    前記第１、第２の架台の他方にその少なくとも一部が設けられる前記マスク及び／又は前記基板の搬送系と；をさらに備える露光装置。
18. 請求項３〜１７のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記第１、第２の架台には、前記第２モジュール以外のモジュールを支持する２つで一組の支持部が、それぞれ設けられている露光装置。
19. 請求項１８に記載の露光装置において、
    前記支持部のそれぞれは、ガイドであり、
    前記第２モジュール以外のモジュールは、前記第１、第２の架台間の空間に前記ガイドに沿って外部から挿入可能である露光装置。
20. 請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記第１、第２の架台の少なくとも一方に設けられる電気基板ラックをさらに備える露光装置。
21. 請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記第１、第２の架台は、ともにプラットホーム・タワーである露光装置。
22. 基板を露光してパターンを形成する露光装置を製造する露光装置の製造方法であって、
    所定の面上に第１、第２の架台をそれぞれ設置する工程と；
    前記第１、第２の架台間の空間に、高剛性部品をそれぞれ含み、相互に離れた複数のモジュールを含む露光本体部を、配置する工程と；
    前記モジュールの少なくとも一部を前記第１、第２架台に支持させる工程と；
    を含む製造方法。
23. 請求項２２に記載の製造方法において、
    前記露光本体部の一部が配置されるベースプレートを前記面上に設置する工程をさらに含む製造方法。
24. 請求項２３に記載の製造方法において、
    前記第１、第２の架台は前記ベースプレートを挟んで設置される製造方法。
25. 請求項２３又は２４に記載の製造方法において、
    前記第１、第２の架台には、２つで一組のガイドがそれぞれ設けられ、
    前記露光本体部は、所定のパターンを生成する光学系を前記高剛性部品として含む第１モジュールと、前記基板を保持して移動する基板ステージを前記高剛性部品として含む第２モジュールとを含み、
    前記配置する工程では、前記第１モジュールを、外部から前記第１、第２の架台間の空間に、対応する組のガイドに沿って挿入し、前記第２モジュールを、前記ベースプレート上に配置する製造方法。
26. 請求項２５に記載の製造方法において、
    前記露光本体部は、マスクを保持するマスクステージを前記高剛性部品として含む第３モジュールをさらに含み、
    前記配置する工程では、前記第３モジュールを、外部から前記第１、第２の架台間の空間に、対応する組のガイドに沿って挿入する製造方法。
27. 請求項２６に記載の製造方法において、
    前記第１、第２の架台の一方に設けられる第１照明部に第２照明部を光学的に接続することにより前記マスクを照明光で照明する照明装置を組み立てる工程をさらに含む製造方法。
28. 請求項２７に記載の製造方法において、
    前記第１、第２の架台間の空間内に気体を流す温調装置を前記一方の架台に組み込む工程をさらに含む製造方法。
29. 請求項２７又は２８に記載の製造方法において、
    前記第１、第２の架台の他方に、前記マスク及び／又は前記基板の搬送系を組み込む工程をさらに含む製造方法。
30. 請求項２２〜２９のいずれか一項に記載の製造方法において、
    前記第１、第２の架台の少なくとも一方に電気基板ラックを組み込む工程をさらに含む製造方法。
31. 請求項２２〜３０のいずれか一項に記載の製造方法において、
    前記第１、第２の架台間の空間を覆う状態でパネルをそれぞれ前記第１、第２の架台に固定する工程をさらに含む製造方法。
32. 請求項２２〜３１のいずれか一項に記載の製造方法において、
    前記第１、第２の架台として、ともにプラットホーム・タワーが用いられる製造方法。
33. 基板を放射ビームで露光する露光装置であって、
    所定間隔隔てて設置される一対の架台と；
    前記一対の架台に装着され、それぞれ高剛性部品を含む複数のモジュールを含む露光本体部と；を備える露光装置。
34. 基板を放射ビームで露光する露光装置であって、
    所定間隔隔てて設置される一対の架台と；
    前記一対の架台の間の空間内に配置される複数のモジュールを含み、前記複数のモジュールの少なくとも一部が前記一対の架台に装着される露光本体部と；を備える露光装置。
35. 請求項３４に記載の露光装置において、
    前記露光本体部はその少なくとも一部が前記一対の架台の配列方向と交差する方向に沿って前記空間外に退出可能である露光装置。
36. 請求項３４又は３５に記載の露光装置において、
    前記露光本体部は、所定のパターンを生成する光学系を含む露光装置。
37. 請求項３６に記載の露光装置において、
    前記露光本体部は、前記空間内で前記光学系を吊り下げ支持するフレーム部材を含む露光装置。
38. 請求項３４〜３７のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記複数のモジュールは、それぞれ独立に前記空間内に配置される露光装置。
39. 請求項３８に記載の露光装置において、
    前記複数のモジュールの少なくとも１つは他のモジュールとは独立に前記空間外に引出可能である露光装置。
40. 請求項３８又は３９に記載の露光装置において、
    前記複数のモジュールの１つは投影系を含む露光装置。
41. 請求項３８〜４０のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記複数のモジュールの１つは基板ステージを含む露光装置。
42. 請求項３４〜４１のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記一対の架台の一方又は両方に少なくとも一部が配置されるモジュールを備える露光装置。
43. 請求項４２に記載の露光装置において、
    前記モジュールは、前記露光本体部との間で物体の受け渡しを行う搬送系を含む露光装置。
44. 請求項４３に記載の露光装置において、
    前記物体は、前記基板を含む露光装置。
45. 請求項４２〜４４のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記モジュールは、前記空間内に温度制御された気体を供給する気体供給部を含む露光装置。

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