JP2012129556A5 - 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。 - Google Patents
露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012129556A5 JP2012129556A5 JP2012077682A JP2012077682A JP2012129556A5 JP 2012129556 A5 JP2012129556 A5 JP 2012129556A5 JP 2012077682 A JP2012077682 A JP 2012077682A JP 2012077682 A JP2012077682 A JP 2012077682A JP 2012129556 A5 JP2012129556 A5 JP 2012129556A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- optical system
- projection optical
- substrate
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Claims (18)
- 基板の複数のショット領域のそれぞれを、前記基板の表面の一部を覆う液浸領域の液体を介して順次露光する露光装置であって、
前記基板を基板ホルダに保持する基板ステージと、
光学素子を有する投影光学系と、
前記投影光学系の光学素子が配置される穴部と、前記基板の表面が対向するように設けられた液体供給口と、前記基板の表面が対向するように設けられた液体回収口とを有する流路形成部材と、
前記投影光学系からの露光光を透過可能な透過部材と、前記透過部材を介して前記投影光学系からの露光光を受光する受光素子とを有するセンサと、を備え、
前記センサの前記透過部材は、前記基板ステージに設けられ、
前記センサには、前記投影光学系からの露光光が、前記投影光学系と前記透過部材との間の液体を介して入射する露光装置。 - 前記液体回収口から、前記基板上の液体を気体とともに回収する請求項1記載の露光装置。
- 前記液体供給口は、前記投影光学系の投影領域を囲むように環状に配置されている請求項1又は2記載の露光装置。
- 前記液体回収口は、前記液体供給口を囲むように配置されている請求項3記載の露光装置。
- 前記光学素子と前記流路形成部材との間にはギャップが形成される請求項1〜4のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記光学素子と前記流路形成部材との間に前記ギャップを形成する面は撥液性である請求項5記載の露光装置。
- 前記光学素子と前記流路形成部材の少なくとも一方が、前記撥液性の面を有する請求項6記載の露光装置。
- 前記光学素子は、前記ギャップの上方で鏡筒に支持されている請求項5〜7のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記光学素子は、前記流路形成部材の上方で鏡筒に支持されている請求項1〜7のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記液体供給口から供給された液体で前記基板の表面の一部に液浸領域が形成され、前記投影光学系からの露光光が前記液浸領域の液体を介して前記基板上に照射される請求項1〜9のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記流路形成部材は、前記液体回収口に接続された回収流路を有し、
前記液体回収口から回収された液体は、前記回収流路において、鉛直上向きに流れた後、水平方向に流れる請求項1〜10のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記流路形成部材は、前記投影光学系の光軸と平行な方向に移動可能である請求項1〜11のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記センサは、前記投影光学系からの露光光の照度、あるいは照度分布を検出する請求項1〜12のいずれか一項記載の露光装置。
- 請求項1〜13のいずれか一項に記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
- 基板ステージに保持された基板の複数のショット領域のそれぞれを、前記基板の表面の一部を覆う液浸領域の液体を介して、投影光学系の光学素子からの露光光で順次露光する露光方法であって、
前記投影光学系の光学素子が配置される穴部を有する流路形成部材に前記基板の表面が対向するように設けられ液体供給口から液体を供給するとともに、前記基板の表面が対向するように前記流路形成部材に設けられた液体回収口から液体を回収して、前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成することと、
前記投影光学系からの露光光を前記液浸領域の液体を介してセンサの受光素子で受光することと、を含み、
前記センサは、前記投影光学系からの露光光を透過可能な透過部材と、前記透過部材を介して前記投影光学系からの露光光を受光する受光素子とを有し、
前記透過部材は、前記基板ステージに設けられ、
前記受光素子は、前記投影光学系からの露光光を、前記投影光学系と前記透過部材との間の液体、及び前記透過部材を介して受光する露光方法。 - 前記液体供給口は、前記投影光学系の投影領域を囲むように環状に配置されている請求項15記載の露光方法。
- 前記液体回収口は、前記液体供給口を囲むように配置されている請求項16記載の露光装置。
- 前記センサを使って、前記投影光学系からの露光光の照度、あるいは照度分布を検出する請求項15〜17のいずれか一項記載の露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012077682A JP5708546B2 (ja) | 2003-08-21 | 2012-03-29 | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003297507 | 2003-08-21 | ||
JP2003297507 | 2003-08-21 | ||
JP2004038411 | 2004-02-16 | ||
JP2004038411 | 2004-02-16 | ||
JP2012077682A JP5708546B2 (ja) | 2003-08-21 | 2012-03-29 | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011045407A Division JP5353925B2 (ja) | 2003-08-21 | 2011-03-02 | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013271816A Division JP5761326B2 (ja) | 2003-08-21 | 2013-12-27 | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012129556A JP2012129556A (ja) | 2012-07-05 |
JP2012129556A5 true JP2012129556A5 (ja) | 2013-07-18 |
JP5708546B2 JP5708546B2 (ja) | 2015-04-30 |
Family
ID=34220704
Family Applications (10)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005513370A Expired - Fee Related JP4524670B2 (ja) | 2003-08-21 | 2004-08-20 | 露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2009013514A Expired - Fee Related JP4784654B2 (ja) | 2003-08-21 | 2009-01-23 | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2009165718A Expired - Fee Related JP4862923B2 (ja) | 2003-08-21 | 2009-07-14 | 露光装置、デバイス製造方法、及び液体回収方法 |
JP2011045407A Expired - Fee Related JP5353925B2 (ja) | 2003-08-21 | 2011-03-02 | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2012077682A Active JP5708546B2 (ja) | 2003-08-21 | 2012-03-29 | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。 |
JP2013271816A Expired - Fee Related JP5761326B2 (ja) | 2003-08-21 | 2013-12-27 | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法 |
JP2014232206A Expired - Fee Related JP5949878B2 (ja) | 2003-08-21 | 2014-11-14 | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法 |
JP2015218689A Expired - Fee Related JP6390592B2 (ja) | 2003-08-21 | 2015-11-06 | 露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2016240211A Active JP6319410B2 (ja) | 2003-08-21 | 2016-12-12 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2017239485A Pending JP2018049295A (ja) | 2003-08-21 | 2017-12-14 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Family Applications Before (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005513370A Expired - Fee Related JP4524670B2 (ja) | 2003-08-21 | 2004-08-20 | 露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2009013514A Expired - Fee Related JP4784654B2 (ja) | 2003-08-21 | 2009-01-23 | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2009165718A Expired - Fee Related JP4862923B2 (ja) | 2003-08-21 | 2009-07-14 | 露光装置、デバイス製造方法、及び液体回収方法 |
JP2011045407A Expired - Fee Related JP5353925B2 (ja) | 2003-08-21 | 2011-03-02 | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Family Applications After (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013271816A Expired - Fee Related JP5761326B2 (ja) | 2003-08-21 | 2013-12-27 | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法 |
JP2014232206A Expired - Fee Related JP5949878B2 (ja) | 2003-08-21 | 2014-11-14 | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法 |
JP2015218689A Expired - Fee Related JP6390592B2 (ja) | 2003-08-21 | 2015-11-06 | 露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2016240211A Active JP6319410B2 (ja) | 2003-08-21 | 2016-12-12 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2017239485A Pending JP2018049295A (ja) | 2003-08-21 | 2017-12-14 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US8064037B2 (ja) |
EP (1) | EP1662554A4 (ja) |
JP (10) | JP4524670B2 (ja) |
KR (11) | KR101769722B1 (ja) |
WO (1) | WO2005020299A1 (ja) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10261775A1 (de) | 2002-12-20 | 2004-07-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Vorrichtung zur optischen Vermessung eines Abbildungssystems |
KR101769722B1 (ko) * | 2003-08-21 | 2017-08-18 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
JP4288426B2 (ja) * | 2003-09-03 | 2009-07-01 | 株式会社ニコン | 液浸リソグラフィのための流体の供給装置及び方法 |
KR101323396B1 (ko) | 2003-09-29 | 2013-10-29 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법 |
JP4691927B2 (ja) * | 2004-08-13 | 2011-06-01 | 株式会社ニコン | 顕微鏡観察装置 |
US7557900B2 (en) | 2004-02-10 | 2009-07-07 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method |
JP4973754B2 (ja) * | 2004-03-04 | 2012-07-11 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、デバイス製造方法 |
US7898642B2 (en) | 2004-04-14 | 2011-03-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8054448B2 (en) | 2004-05-04 | 2011-11-08 | Nikon Corporation | Apparatus and method for providing fluid for immersion lithography |
KR101257960B1 (ko) | 2004-06-04 | 2013-04-24 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 광학적 결상 시스템의 결상 품질을 측정하기 위한 시스템 |
JP3870207B2 (ja) * | 2004-08-05 | 2007-01-17 | キヤノン株式会社 | 液浸露光装置及びデバイス製造方法 |
KR101264939B1 (ko) * | 2004-09-17 | 2013-05-15 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
JP4544303B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2010-09-15 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
US7936441B2 (en) * | 2005-05-12 | 2011-05-03 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
US7170583B2 (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus immersion damage control |
US8054445B2 (en) * | 2005-08-16 | 2011-11-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101388345B1 (ko) * | 2005-09-09 | 2014-04-22 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 노광 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 |
US7929109B2 (en) | 2005-10-20 | 2011-04-19 | Nikon Corporation | Apparatus and method for recovering liquid droplets in immersion lithography |
US7633073B2 (en) * | 2005-11-23 | 2009-12-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2007194484A (ja) | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Toshiba Corp | 液浸露光方法 |
US9477158B2 (en) * | 2006-04-14 | 2016-10-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101824374B1 (ko) * | 2006-08-31 | 2018-01-31 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
SG143137A1 (en) | 2006-11-13 | 2008-06-27 | Asml Netherlands Bv | Conduit system for a lithographic apparatus, lithographic apparatus, pump, and method for substantially reducing vibrations in a conduit system |
JP5089143B2 (ja) * | 2006-11-20 | 2012-12-05 | キヤノン株式会社 | 液浸露光装置 |
US7692765B2 (en) * | 2007-02-21 | 2010-04-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method of removing liquid |
DE102007025340B4 (de) | 2007-05-31 | 2019-12-05 | Globalfoundries Inc. | Immersionslithograpieprozess unter Anwendung einer variablen Abtastgeschwindigkeit und Lithographiesystem |
NL1035757A1 (nl) * | 2007-08-02 | 2009-02-03 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
EP2221669A3 (en) | 2009-02-19 | 2011-02-09 | ASML Netherlands B.V. | A lithographic apparatus, a method of controlling the apparatus and a device manufacturing method |
NL2004305A (en) * | 2009-03-13 | 2010-09-14 | Asml Netherlands Bv | Substrate table, immersion lithographic apparatus and device manufacturing method. |
EP2264529A3 (en) * | 2009-06-16 | 2011-02-09 | ASML Netherlands B.V. | A lithographic apparatus, a method of controlling the apparatus and a method of manufacturing a device using a lithographic apparatus |
EP2381310B1 (en) | 2010-04-22 | 2015-05-06 | ASML Netherlands BV | Fluid handling structure and lithographic apparatus |
US9568828B2 (en) * | 2012-10-12 | 2017-02-14 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposing method, device manufacturing method, program, and recording medium |
NL2017344A (en) | 2015-10-01 | 2017-04-11 | Asml Netherlands Bv | A lithography apparatus, a method of manufacturing a device and a control program |
JP7215819B2 (ja) | 2017-01-11 | 2023-01-31 | ダイキン工業株式会社 | 空気調和装置及び室内ユニット |
JP7225030B2 (ja) * | 2019-05-31 | 2023-02-20 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、及び、物品の製造方法 |
Family Cites Families (74)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4346164A (en) | 1980-10-06 | 1982-08-24 | Werner Tabarelli | Photolithographic method for the manufacture of integrated circuits |
JPS57153433A (en) | 1981-03-18 | 1982-09-22 | Hitachi Ltd | Manufacturing device for semiconductor |
JPS58202448A (ja) | 1982-05-21 | 1983-11-25 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
JPS5919912A (ja) | 1982-07-26 | 1984-02-01 | Hitachi Ltd | 液浸距離保持装置 |
DD221563A1 (de) * | 1983-09-14 | 1985-04-24 | Mikroelektronik Zt Forsch Tech | Immersionsobjektiv fuer die schrittweise projektionsabbildung einer maskenstruktur |
DD224448A1 (de) | 1984-03-01 | 1985-07-03 | Zeiss Jena Veb Carl | Einrichtung zur fotolithografischen strukturuebertragung |
JPS6265326A (ja) | 1985-09-18 | 1987-03-24 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
JPS63157419A (ja) | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Toshiba Corp | 微細パタ−ン転写装置 |
JPH04305917A (ja) | 1991-04-02 | 1992-10-28 | Nikon Corp | 密着型露光装置 |
JPH04305915A (ja) | 1991-04-02 | 1992-10-28 | Nikon Corp | 密着型露光装置 |
US5424552A (en) | 1991-07-09 | 1995-06-13 | Nikon Corporation | Projection exposing apparatus |
JP3218478B2 (ja) | 1992-09-04 | 2001-10-15 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び方法 |
JPH0562877A (ja) | 1991-09-02 | 1993-03-12 | Yasuko Shinohara | 光によるlsi製造縮小投影露光装置の光学系 |
JPH0684157A (ja) | 1992-09-04 | 1994-03-25 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘッド |
JPH06124873A (ja) | 1992-10-09 | 1994-05-06 | Canon Inc | 液浸式投影露光装置 |
JP2753930B2 (ja) * | 1992-11-27 | 1998-05-20 | キヤノン株式会社 | 液浸式投影露光装置 |
JPH07220990A (ja) | 1994-01-28 | 1995-08-18 | Hitachi Ltd | パターン形成方法及びその露光装置 |
US6333776B1 (en) | 1994-03-29 | 2001-12-25 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US5874820A (en) | 1995-04-04 | 1999-02-23 | Nikon Corporation | Window frame-guided stage mechanism |
US5528118A (en) | 1994-04-01 | 1996-06-18 | Nikon Precision, Inc. | Guideless stage with isolated reaction stage |
US5623853A (en) | 1994-10-19 | 1997-04-29 | Nikon Precision Inc. | Precision motion stage with single guide beam and follower stage |
JPH08316125A (ja) | 1995-05-19 | 1996-11-29 | Hitachi Ltd | 投影露光方法及び露光装置 |
JPH08316124A (ja) * | 1995-05-19 | 1996-11-29 | Hitachi Ltd | 投影露光方法及び露光装置 |
JP3551570B2 (ja) * | 1995-08-09 | 2004-08-11 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置及び露光方法 |
JPH09167735A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Canon Inc | 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法 |
US5825043A (en) * | 1996-10-07 | 1998-10-20 | Nikon Precision Inc. | Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus |
JP4029182B2 (ja) | 1996-11-28 | 2008-01-09 | 株式会社ニコン | 露光方法 |
JP4029183B2 (ja) | 1996-11-28 | 2008-01-09 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び投影露光方法 |
CN1244018C (zh) | 1996-11-28 | 2006-03-01 | 株式会社尼康 | 曝光方法和曝光装置 |
DE69717975T2 (de) | 1996-12-24 | 2003-05-28 | Asml Netherlands Bv | In zwei richtungen ausgewogenes positioniergerät, sowie lithographisches gerät mit einem solchen positioniergerät |
JPH10209039A (ja) * | 1997-01-27 | 1998-08-07 | Nikon Corp | 投影露光方法及び投影露光装置 |
JP3747566B2 (ja) * | 1997-04-23 | 2006-02-22 | 株式会社ニコン | 液浸型露光装置 |
JP3817836B2 (ja) | 1997-06-10 | 2006-09-06 | 株式会社ニコン | 露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法 |
EP1028456A4 (en) * | 1997-09-19 | 2003-03-05 | Nikon Corp | PLATINUM, SCANNING ALIGNMENT DEVICE, AND SCANNING EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY |
JP3097620B2 (ja) * | 1997-10-09 | 2000-10-10 | 日本電気株式会社 | 走査型縮小投影露光装置 |
JP4210871B2 (ja) | 1997-10-31 | 2009-01-21 | 株式会社ニコン | 露光装置 |
KR20010031972A (ko) * | 1997-11-12 | 2001-04-16 | 오노 시게오 | 노광 장치, 디바이스 제조 장치 및 노광 장치의 제조 방법 |
JPH11176727A (ja) * | 1997-12-11 | 1999-07-02 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JP4370608B2 (ja) | 1998-03-09 | 2009-11-25 | 株式会社ニコン | 走査露光方法、走査型露光装置及びその製造方法、並びにデバイス製造方法 |
AU2747999A (en) * | 1998-03-26 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Projection exposure method and system |
JP2000058436A (ja) | 1998-08-11 | 2000-02-25 | Nikon Corp | 投影露光装置及び露光方法 |
US6538719B1 (en) * | 1998-09-03 | 2003-03-25 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method, and device and method for producing the same |
WO2000031780A1 (fr) * | 1998-11-19 | 2000-06-02 | Nikon Corporation | Dispositif optique, systeme d'exposition et source de faisceau laser, procede d'alimentation en gaz, procede d'exposition et procede de fabrication de dispositif |
JP2001144004A (ja) | 1999-11-16 | 2001-05-25 | Nikon Corp | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
DE10010131A1 (de) * | 2000-03-03 | 2001-09-06 | Zeiss Carl | Mikrolithographie - Projektionsbelichtung mit tangentialer Polarisartion |
US6801301B2 (en) * | 2001-10-12 | 2004-10-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
CN100462844C (zh) | 2002-08-23 | 2009-02-18 | 株式会社尼康 | 投影光学系统、微影方法、曝光装置及使用此装置的方法 |
SG121818A1 (en) | 2002-11-12 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
CN100568101C (zh) | 2002-11-12 | 2009-12-09 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
DE60335595D1 (de) | 2002-11-12 | 2011-02-17 | Asml Netherlands Bv | Lithographischer Apparat mit Immersion und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
CN101349876B (zh) | 2002-11-12 | 2010-12-01 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
SG121822A1 (en) | 2002-11-12 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4423559B2 (ja) * | 2002-12-03 | 2010-03-03 | 株式会社ニコン | 汚染物質除去方法 |
JP4529433B2 (ja) | 2002-12-10 | 2010-08-25 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、デバイス製造方法 |
KR20120127755A (ko) | 2002-12-10 | 2012-11-23 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광장치 및 디바이스 제조방법 |
CN101424883B (zh) | 2002-12-10 | 2013-05-15 | 株式会社尼康 | 曝光设备和器件制造法 |
EP1571694A4 (en) | 2002-12-10 | 2008-10-15 | Nikon Corp | EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE DEVICE |
JP4645027B2 (ja) | 2002-12-10 | 2011-03-09 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、デバイス製造方法 |
US7242455B2 (en) | 2002-12-10 | 2007-07-10 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method for producing device |
JP4525062B2 (ja) | 2002-12-10 | 2010-08-18 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法、露光システム |
CN100370533C (zh) * | 2002-12-13 | 2008-02-20 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于照射层的方法和用于将辐射导向层的装置 |
JPWO2004066371A1 (ja) * | 2003-01-23 | 2006-05-18 | 株式会社ニコン | 露光装置 |
KR101364889B1 (ko) | 2003-04-10 | 2014-02-19 | 가부시키가이샤 니콘 | 액침 리소그래피 장치용 진공 배출을 포함하는 환경 시스템 |
TWI474380B (zh) | 2003-05-23 | 2015-02-21 | 尼康股份有限公司 | A method of manufacturing an exposure apparatus and an element |
JP2005277363A (ja) | 2003-05-23 | 2005-10-06 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US7213963B2 (en) | 2003-06-09 | 2007-05-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101940892B1 (ko) | 2003-06-13 | 2019-01-21 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 방법, 기판 스테이지, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 |
JP3862678B2 (ja) | 2003-06-27 | 2006-12-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
WO2005010611A2 (en) | 2003-07-08 | 2005-02-03 | Nikon Corporation | Wafer table for immersion lithography |
KR101343720B1 (ko) * | 2003-07-28 | 2013-12-20 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법, 그리고 노광 장치의제어 방법 |
KR101769722B1 (ko) * | 2003-08-21 | 2017-08-18 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
US7070915B2 (en) | 2003-08-29 | 2006-07-04 | Tokyo Electron Limited | Method and system for drying a substrate |
US7063565B2 (en) * | 2004-05-14 | 2006-06-20 | Thomas & Betts International, Inc. | Coaxial cable connector |
US7616383B2 (en) | 2004-05-18 | 2009-11-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
2004
- 2004-08-20 KR KR1020167009407A patent/KR101769722B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-20 WO PCT/JP2004/012319 patent/WO2005020299A1/ja active Application Filing
- 2004-08-20 KR KR1020177021912A patent/KR101915921B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-20 KR KR1020117026313A patent/KR101475995B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-20 KR KR1020117022804A patent/KR101381563B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-20 KR KR1020187031460A patent/KR20180120816A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-08-20 KR KR1020147019070A patent/KR101613384B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-20 JP JP2005513370A patent/JP4524670B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-08-20 EP EP04772275A patent/EP1662554A4/en not_active Withdrawn
- 2004-08-20 KR KR1020127025007A patent/KR101343655B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-20 KR KR1020117030494A patent/KR101239632B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-20 KR KR1020127013877A patent/KR101288632B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-20 KR KR1020067003551A patent/KR101259095B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-20 KR KR1020137031266A patent/KR101441844B1/ko active IP Right Grant
-
2006
- 2006-02-17 US US11/355,965 patent/US8064037B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-01-23 JP JP2009013514A patent/JP4784654B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-07-14 JP JP2009165718A patent/JP4862923B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-03-02 JP JP2011045407A patent/JP5353925B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-05-04 US US13/067,046 patent/US10209622B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-03-29 JP JP2012077682A patent/JP5708546B2/ja active Active
- 2012-12-13 US US13/713,416 patent/US10203608B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-12-27 JP JP2013271816A patent/JP5761326B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-11-14 JP JP2014232206A patent/JP5949878B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-11-06 JP JP2015218689A patent/JP6390592B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-12-12 JP JP2016240211A patent/JP6319410B2/ja active Active
-
2017
- 2017-07-05 US US15/641,625 patent/US20170299966A1/en not_active Abandoned
- 2017-12-14 JP JP2017239485A patent/JP2018049295A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2012129556A5 (ja) | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。 | |
JP2011223036A5 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2012138619A5 (ja) | 液浸露光装置、液浸露光方法、デバイス製造方法、及び液浸露光装置の製造方法 | |
JP2018156096A5 (ja) | ||
JP2012134552A5 (ja) | ノズル部材、露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。 | |
JP2011109147A5 (ja) | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2012080137A5 (ja) | ||
JP2012134555A5 (ja) | 液浸部材、液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2012156539A5 (ja) | 露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法 | |
JP2015528132A5 (ja) | ||
JP2011181937A5 (ja) | ||
JP2013178254A5 (ja) | ||
JP2012129563A5 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2010109391A5 (ja) | ||
JP2012181196A5 (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011258965A5 (ja) | 露光装置 | |
JP2014197716A5 (ja) | ||
EP2536153A4 (en) | PICTURE RECORDING DEVICE, PICTURE RECORDING SYSTEM AND PICTURE RECORDING METHOD | |
JP2012044223A5 (ja) | ノズル部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
PT1866144T (pt) | Aparelho para a conformação de um filme plano numa lente ótica, processo para a funcionalização de uma lente ótica por meio do referido aparelho e a lente ótica obtida deste modo | |
JP2010183109A5 (ja) | ||
JP2020505655A5 (ja) | 液体レンズ、これを含む液体レンズモジュール、これを含むカメラモジュール、これを含む光学機器及び液体レンズの制御方法 | |
JP2012168543A5 (ja) | 投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
JP2015130614A5 (ja) | ||
JP2012155330A5 (ja) | 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |