JP2012134555A5 - 液浸部材、液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents

液浸部材、液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法 Download PDF

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  1. 液体を介して基板を露光する液浸露光装置で用いられる液浸部材であって、
    液体回収部を有する第1液浸部材と、
    可動物体が対向可能な第1面、及び該第1面と反対側の第2面を有するプレートを有する第2液浸部材と、を備え、
    前記液体回収部は、前記第2面の一部と第1ギャップを介して対向し、前記第1ギャップ内の液体を回収可能である液浸部材。
  2. 前記液体回収部は多孔部材を含み、
    前記多孔部材に接触した液体の少なくとも一部を前記多孔部材を介して回収する請求項1記載の液浸部材。
  3. 前記多孔部材は、気体の通過が抑制されている請求項2記載の液浸部材。
  4. 前記第1液浸部材と前記第2液浸部材との間に形成される第1開口部と、露光光の光路に対して前記第1開口部の外側に設けられた第2開口部とを備え、
    前記第1ギャップは、前記第2開口部を介して開放されている請求項1〜3のいずれか一項記載の液浸部材。
  5. 前記第2開口部と前記可動物体との距離は、前記第1開口部と前記可動物体との距離より大きい請求項4記載の液浸部材。
  6. 前記第2開口部は、前記可動物体に面していない請求項4又は5記載の液浸部材。
  7. 露光光が通過可能な開口を有する第3液浸部材をさらに備える請求項1〜6のいずれか一項に記載の液浸部材。
  8. 前記第1液浸部材と前記第3液浸部材との間に、前記可動物体と対向するように形成された第3開口部をさらに備える請求項7記載の液浸部材。
  9. 前記第1液浸部材と前記第3液浸部材との間に設けられた第2ギャップと、
    前記第3開口部とは異なる第4開口部とを備え、
    前記第2ギャップは、前記第3開口部に接続され、前記第4開口部を介して大気開放されている請求項8記載の液浸部材。
  10. 前記第3液浸部材は、前記開口の周囲に下面を有し、
    前記可動物体と前記第1面との距離は、前記可動物体と前記第3液浸部材の前記下面との距離より小さい請求項7〜9のいずれか一項記載の液浸部材。
  11. 前記第1ギャップは、毛管路を形成する請求項1〜10のいずれか一項記載の液浸部材。
  12. 前記第1面は、露光光の光路を囲むように配置されている請求項1〜11のいずれか一項に記載の液浸部材。
  13. 前記第1面の少なくとも一部は、前記露光光の光路から離れる方向において、前記第1面と対向する前記可動物体の表面から徐々に離れる傾斜部を有する請求項1〜12のいずれか一項記載の液浸部材。
  14. 前記第2面は、前記第1面に対して傾いた傾斜部を含む請求項1〜13のいずれか一項記載の液浸部材。
  15. 前記第2面は、前記第1面に対して傾いた傾斜部と、前記第1面と実質的に平行な平坦部とを含む請求項1〜13のいずれか一項記載の液浸部材。
  16. 前記傾斜部は、前記露光光の光路から離れる方向において、前記第1面と対向する前記可動物体の表面から徐々に離れる請求項14又は15記載の液浸部材。
  17. 前記第2面は、前記液体に対して親液性である請求項1〜16のいずれか一項記載の液浸部材。
  18. 前記第1面は、前記液体に対して撥液性である請求項1〜17のいずれか一項記載の液浸部材。
  19. 基板を露光する液浸露光装置であって、
    露光光を射出する射出面を有する光学部材と、
    前記光学部材と前記光学部材の射出面と対向する位置に移動可能な前記可動物体との間に液体の液浸空間を形成する請求項1〜18のいずれか一項記載の液浸部材と、を備える液浸露光装置。
  20. 前記可動物体は、前記基板を含み、
    前記基板上の前記液体を介して前記露光光が前記基板に照射される請求項19記載の液浸露光装置。
  21. 請求項1〜20のいずれか一項に記載の液浸露光装置を用いて基板を露光することと、
    前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
  22. 基板を露光する液浸露光方法であって、
    請求項1〜17のいずれか一項記載の液浸部材を用いて、露光光を射出する光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、
    前記液浸空間の液体を介して前記光学部材からの露光光で前記基板を露光する液浸露光方法。
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Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8477283B2 (en) * 2006-05-10 2013-07-02 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
JP4884180B2 (ja) * 2006-11-21 2012-02-29 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置および基板処理方法
US8237911B2 (en) 2007-03-15 2012-08-07 Nikon Corporation Apparatus and methods for keeping immersion fluid adjacent to an optical assembly during wafer exchange in an immersion lithography machine
US20080231823A1 (en) * 2007-03-23 2008-09-25 Nikon Corporation Apparatus and methods for reducing the escape of immersion liquid from immersion lithography apparatus
US8134685B2 (en) 2007-03-23 2012-03-13 Nikon Corporation Liquid recovery system, immersion exposure apparatus, immersion exposing method, and device fabricating method
US8610873B2 (en) 2008-03-17 2013-12-17 Nikon Corporation Immersion lithography apparatus and method having movable liquid diverter between immersion liquid confinement member and substrate
US8289497B2 (en) * 2008-03-18 2012-10-16 Nikon Corporation Apparatus and methods for recovering fluid in immersion lithography
US8233139B2 (en) * 2008-03-27 2012-07-31 Nikon Corporation Immersion system, exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method
US8896806B2 (en) * 2008-12-29 2014-11-25 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US20100196832A1 (en) * 2009-01-30 2010-08-05 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposing method, liquid immersion member and device fabricating method
JP2010205914A (ja) * 2009-03-03 2010-09-16 Nikon Corp 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
US8953143B2 (en) * 2009-04-24 2015-02-10 Nikon Corporation Liquid immersion member
US20100323303A1 (en) * 2009-05-15 2010-12-23 Nikon Corporation Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method
NL2005655A (en) * 2009-12-09 2011-06-14 Asml Netherlands Bv A lithographic apparatus and a device manufacturing method.
EP2523210A1 (en) * 2010-01-08 2012-11-14 Nikon Corporation Liquid-immersion member, exposing device, exposing method, and device manufacturing method
NL2006054A (en) 2010-02-09 2011-08-10 Asml Netherlands Bv Fluid handling structure, lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2006615A (en) 2010-05-11 2011-11-14 Asml Netherlands Bv Fluid handling structure, lithographic apparatus and device manufacturing method.
US9256137B2 (en) * 2011-08-25 2016-02-09 Nikon Corporation Exposure apparatus, liquid holding method, and device manufacturing method
NL2009692A (en) 2011-12-07 2013-06-10 Asml Netherlands Bv A lithographic apparatus and a device manufacturing method.
US9268231B2 (en) 2012-04-10 2016-02-23 Nikon Corporation Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium
US9323160B2 (en) 2012-04-10 2016-04-26 Nikon Corporation Liquid immersion member, exposure apparatus, exposure method, device fabricating method, program, and recording medium
US9823580B2 (en) 2012-07-20 2017-11-21 Nikon Corporation Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium
US9568828B2 (en) 2012-10-12 2017-02-14 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposing method, device manufacturing method, program, and recording medium
US9494870B2 (en) 2012-10-12 2016-11-15 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposing method, device manufacturing method, program, and recording medium
US9651873B2 (en) 2012-12-27 2017-05-16 Nikon Corporation Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium
US9720331B2 (en) 2012-12-27 2017-08-01 Nikon Corporation Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium
WO2015052781A1 (ja) 2013-10-08 2015-04-16 株式会社ニコン 液浸部材、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
WO2016000903A1 (en) 2014-07-01 2016-01-07 Asml Netherlands B.V. A lithographic apparatus and a method of manufacturing a lithographic apparatus
JP7080070B2 (ja) * 2017-03-24 2022-06-03 Hoya株式会社 フォトマスク、及び表示装置の製造方法
EP3724722A1 (en) * 2017-12-15 2020-10-21 ASML Netherlands B.V. Fluid handling structure, lithographic apparatus, and method of using a fluid handling structure
JP6575629B2 (ja) * 2018-04-04 2019-09-18 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
CN112684665A (zh) * 2020-12-25 2021-04-20 浙江启尔机电技术有限公司 一种浸液供给回收装置
CN112650030B (zh) * 2020-12-25 2023-06-13 浙江启尔机电技术有限公司 一种浸没流场初始建立方法

Family Cites Families (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG102627A1 (en) 1996-11-28 2004-03-26 Nikon Corp Lithographic device
JP4029182B2 (ja) 1996-11-28 2008-01-09 株式会社ニコン 露光方法
JP4029183B2 (ja) 1996-11-28 2008-01-09 株式会社ニコン 投影露光装置及び投影露光方法
JP2000505958A (ja) 1996-12-24 2000-05-16 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 2個の物品ホルダを有する二次元バランス位置決め装置及びこの位置決め装置を有するリソグラフ装置
DE69829614T2 (de) 1997-03-10 2006-03-09 Asml Netherlands B.V. Lithographiegerät mit einer positioniervorrichtung mit zwei objekthaltern
JP4210871B2 (ja) 1997-10-31 2009-01-21 株式会社ニコン 露光装置
US6897963B1 (en) 1997-12-18 2005-05-24 Nikon Corporation Stage device and exposure apparatus
JP4264676B2 (ja) 1998-11-30 2009-05-20 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法
US6208407B1 (en) 1997-12-22 2001-03-27 Asm Lithography B.V. Method and apparatus for repetitively projecting a mask pattern on a substrate, using a time-saving height measurement
IL138374A (en) 1998-03-11 2004-07-25 Nikon Corp An ultraviolet laser device and an exposure device that includes such a device
AU2747999A (en) 1998-03-26 1999-10-18 Nikon Corporation Projection exposure method and system
WO2001035168A1 (en) 1999-11-10 2001-05-17 Massachusetts Institute Of Technology Interference lithography utilizing phase-locked scanning beams
EP1364257A1 (en) 2001-02-27 2003-11-26 ASML US, Inc. Simultaneous imaging of two reticles
TW529172B (en) 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
TWI242691B (en) 2002-08-23 2005-11-01 Nikon Corp Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same
EP1420299B1 (en) 2002-11-12 2011-01-05 ASML Netherlands B.V. Immersion lithographic apparatus and device manufacturing method
KR101431938B1 (ko) 2003-04-10 2014-08-19 가부시키가이샤 니콘 액침 리소그래피 장치용 운반 영역을 포함하는 환경 시스템
CN101430508B (zh) 2003-09-03 2011-08-10 株式会社尼康 为浸没光刻提供流体的装置和方法
WO2005029559A1 (ja) 2003-09-19 2005-03-31 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
EP1679738A4 (en) * 2003-10-28 2008-08-06 Nikon Corp EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD
EP1697798A2 (en) 2003-12-15 2006-09-06 Carl Zeiss SMT AG Projection objective having a high aperture and a planar end surface
WO2005059645A2 (en) 2003-12-19 2005-06-30 Carl Zeiss Smt Ag Microlithography projection objective with crystal elements
JP4954444B2 (ja) 2003-12-26 2012-06-13 株式会社ニコン 流路形成部材、露光装置及びデバイス製造方法
KR101264936B1 (ko) 2004-06-04 2013-05-15 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법
JP4543767B2 (ja) 2004-06-10 2010-09-15 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
US20070222959A1 (en) 2004-06-10 2007-09-27 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
JP4515335B2 (ja) 2004-06-10 2010-07-28 株式会社ニコン 露光装置、ノズル部材、及びデバイス製造方法
US8482716B2 (en) 2004-06-10 2013-07-09 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
US7701550B2 (en) * 2004-08-19 2010-04-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR101106496B1 (ko) 2004-09-17 2012-01-20 가부시키가이샤 니콘 기판 유지 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
JP2006237291A (ja) * 2005-02-25 2006-09-07 Canon Inc 露光装置
JP2006270057A (ja) * 2005-02-28 2006-10-05 Canon Inc 露光装置
WO2006106851A1 (ja) 2005-03-31 2006-10-12 Nikon Corporation 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
US20070132976A1 (en) * 2005-03-31 2007-06-14 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
JP4706422B2 (ja) * 2005-09-30 2011-06-22 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
US7864292B2 (en) 2005-11-16 2011-01-04 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7656501B2 (en) 2005-11-16 2010-02-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
US7804577B2 (en) 2005-11-16 2010-09-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
JP4567651B2 (ja) * 2005-11-16 2010-10-20 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 露光装置及びデバイス製造方法
US8330936B2 (en) 2006-09-20 2012-12-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8004651B2 (en) 2007-01-23 2011-08-23 Nikon Corporation Liquid recovery system, immersion exposure apparatus, immersion exposing method, and device fabricating method
US8134685B2 (en) 2007-03-23 2012-03-13 Nikon Corporation Liquid recovery system, immersion exposure apparatus, immersion exposing method, and device fabricating method
JP2009088037A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Nikon Corp 露光方法及びデバイス製造方法、並びに露光装置

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JP2012151104A5 (ja)
JP2014103109A5 (ja)
JP2014142339A5 (ja)