JP4862923B2 - 露光装置、デバイス製造方法、及び液体回収方法 - Google Patents
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Description
本願は、2003年8月21日に出願された特願2003−297507号、及び2004年2月16日に出願された特願2004−38411号に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。
R=k1・λ/NA … (1)
δ=±k2・λ/NA2 … (2)
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k1、k2はプロセス係数である。(1)式、(2)式より、解像度Rを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。
本実施形態において、露光動作中、液体供給機構10は、供給口13、14より投影領域AR1の両側から基板P上への液体1の供給を同時に行う。これにより、供給口13、14から基板P上に供給された液体1は、投影光学系PLの終端部の光学素子2の下端面と基板Pとの間に良好に濡れ拡がり、液浸領域AR2を少なくとも投影領域AR1より広い範囲で形成する。
図18に示す例の場合、基板Pの周縁部に形成されているショット領域T1、T4、T5、T10、T23、T28、T29、T32は、その一部が欠けており、またショット領域T2、T3、T30、T31は、そのショット領域のエッジと基板Pのエッジとの距離が短くなっているため、露光中あるいは露光の前後に基板Pのエッジと基板ステージPSTの上面52Aとの境界が液浸領域AR2に含まれてしまう。したがって、これらのショット領域を露光するときには、基板Pの走査速度を、基板Pの中央付近のショット領域(T13、T14など)を露光するときの基板Pの走査速度よりも低く設定するとよい。
この場合も表面処理は用いる液体1の極性に応じて行われる。
Claims (29)
- 液体を介して基板を露光光で露光する液浸露光装置であって、
前記基板を保持する基板保持部材と、
前記基板保持部材の上方に回収口を有し、前記基板上の液体を前記回収口から回収する液体回収機構とを備え、
前記基板保持部材に保持された基板の露光中に、前記回収口から前記基板上の液体を回収して、前記基板上の一部に液浸領域を形成し、
前記基板保持部材に保持された基板の露光完了後に、前記基板の表面と前記回収口との間隔を前記露光中よりも小さくした状態で前記回収口から液体を回収する。 - 請求項1記載の露光装置であって、
前記基板の表面と前記回収口との間隔を前記露光中よりも小さくした状態で前記基板上の液体を前記回収口から回収する。 - 請求項1又は2記載の露光装置であって、
前記基板の表面と前記回収口との間隔を前記露光中よりも小さくした状態で前記基板保持部材上の液体を前記回収口から回収する。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記基板の表面と前記回収口との間隔を前記露光中よりも小さくした状態で前記基板保持部材に配置された光センサ部上の液体を前記回収口から回収する。 - 請求項1〜4のいずれか一項記載の露光装置であって、
前記基板の表面と前記回収口との間隔を前記露光中よりも小さくした状態で、前記基板保持部材に配置された、前記露光光とは別のアライメント光が照射される基準マーク部材上の液体を前記回収口から回収する。 - 請求項1〜5のいずれか一項記載の露光装置であって、
前記基板の表面と前記回収口との間隔を前記露光中よりも小さくした状態で、前記露光光を基板に照射する投影光学系の像面と実質的に平行な方向に前記基板保持部材と前記液体回収機構の前記回収口とを相対的に移動させるとともに前記回収口から液体を回収する。 - 請求項6記載の露光装置であって、
前記回収口と前記基板保持部材とを相対的に移動することによって、前記基板保持部材に保持された前記基板のエッジと前記基板の周囲の平坦面との間のギャップに浸入した液体を前記回収口から回収する。 - 請求項6又は7記載の露光装置であって、
前記回収口が前記基板保持部材に保持された基板のエッジと前記基板の周囲の平坦面との間のギャップに沿った移動軌跡を描くように、前記回収口と前記基板保持部材とを相対的に移動する。 - 請求項8記載の露光装置であって、
前記ギャップに沿った移動の速度は、前記回収口と前記基板保持部材との相対的な移動の速度のうち相対的に低速である。 - 請求項6から9のいずれか一項記載の露光装置であって、
前記回収口と前記基板保持部材との相対的な移動と停止とを繰り返しながら液体を回収する。 - 請求項1〜10のいずれか一項記載の露光装置であって、
前記回収口を前記基板保持部材に保持された基板の切欠部に対向するように配置して液体を回収する。 - 請求項1〜11のいずれか一項記載の露光装置であって、
前記基板保持部材は、前記基板を保持して移動可能である。 - 請求項1〜12のいずれか一項記載の露光装置において、
前記基板の露光中、液体供給機構による液体供給量は、前記液体回収機構による液体回収量よりも多い。 - 請求項1〜13のいずれか一項記載の露光装置であって、
前記液体回収機構は、前記基板上の液体を、その周囲の気体とともに回収する。 - 液体を介して基板を露光光で露光する液浸露光装置であって、
前記基板を保持する基板保持部材と、
前記基板保持部材と独立して移動可能な計測ステージと、
前記計測ステージの上方に回収口を有し、前記計測ステージ上の液体を前記回収口から回収する液体回収機構とを備え、
前記計測ステージによる計測中に、前記回収口から前記計測ステージ上の液体を回収して、前記計測ステージ上の一部に液浸領域を形成し、
前記計測ステージによる計測完了後に、前記計測ステージと前記回収口との間隔を前記計測中よりも小さくした状態で前記回収口から液体を回収する。 - デバイス製造方法であって、
請求項1〜15のいずれか一項記載の露光装置を用いる。 - 液体を介して、基板保持部材に保持された基板を露光光で露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、
前記回収口と前記回収口に対向する基板の表面との間隔を、前記基板の露光中よりも小さくした状態で前記回収口から液体を回収することを含む。 - 液体を介して、基板保持部に保持された基板を露光光で露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、
前記基板保持部と前記回収口との間隔を、前記基板の露光中よりも小さくした状態で前記回収口から液体を回収することを含む。 - 請求項17又は18記載の液体回収方法であって、
前記回収口から液体を回収することは、前記基板上の液体を前記回収口から回収することを含む。 - 請求項17から19のいずれか一項記載の液体回収方法であって、
前記回収口から液体を回収することは、前記基板保持部材上の液体を前記回収口から回収することを含む。 - 請求項17から20のいずれか一項記載の液体回収方法であって、
前記回収口から液体を回収することは、前記基板保持部材に配置された光センサ部上の液体を前記回収口から回収することを含む。 - 請求項17から21のいずれか一項記載の液体回収方法であって、
前記回収口から液体を回収することは、前記基板保持部材に配置されて前記露光光とは別のアライメント光が照射される基準マーク部材上の液体を前記回収口から回収することを含む。 - 請求項17から22のいずれか一項記載の液体回収方法であって、
前記回収口から液体を回収することは、前記基板保持部材に保持された基板のエッジとその周囲の平坦面との間のギャップから浸入した液体を前記回収口から回収することを含む。 - 請求項17〜23のいずれか一項記載の液体回収方法であって、
前記液浸露光装置は、前記基板に露光光を照射する投影光学系を備え、
前記回収口から液体を回収することは、前記間隔を前記基板の露光中よりも小さくした状態で、前記投影光学系の像面と実質的に平行な方向に前記基板保持部材と前記回収口とを相対的に移動させることを含む。 - 請求項24記載の液体回収方法であって、
前記回収口と前記基板保持部材とを相対的に移動することは、前記回収口が前記基板保持部材に保持された基板のエッジと前記基板の周囲の平坦面との間のギャップに沿った移動軌跡を描くように、前記回収口と前記基板保持部材とを相対的に移動することを含む。 - 請求項25記載の液体回収方法であって、
前記ギャップに沿った移動の速度は、前記回収口と前記基板保持部材との相対的な移動の速度のうち相対的に低速である。 - 請求項24から26のいずれか一項記載の液体回収方法であって、
前記回収口と前記基板保持部材との相対的な移動と停止とを繰り返しながら液体を回収する。 - 請求項17〜27のいずれか一項記載の液体回収方法であって、
前記回収口から液体を回収することは、前記回収口を前記基板保持部材に保持された基板の切欠部に対向するように配置することを含む。 - 請求項17〜28のいずれか一項記載の液体回収方法であって、
前記基板の露光中、前記基板上の液体をその周囲の気体とともに前記回収口から回収する。
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