JP2014103408A - 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この露光方法は、基板を保持して移動可能な移動体の上面と投影光学系との間に局所的に液浸領域を形成し、投影光学系と液浸領域を形成する液体とを介して基板上に露光光を照射するとともに、露光光に対して基板を移動することによって、基板上の複数のショット領域のそれぞれを走査露光する露光方法である。基板の移動速度は、複数のショット領域のそれぞれの基板上での位置に応じて決定される。
【選択図】図10
Description
本願は、2003年8月21日に出願された特願2003−297507号、及び2004年2月16日に出願された特願2004−38411号に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。
R=k1・λ/NA … (1)
δ=±k2・λ/NA2 … (2)
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k1、k2はプロセス係数である。(1)式、(2)式より、解像度Rを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。
上の液体1は、基板Pの上方に配置されている回収口23から吸引回収される。この場合、基板P上の液体1は、その周囲の気体とともに(周囲の気体を噛み込むようにして)回収口23より回収されるため、回収流路84に断続的に流入する。回収流路84に流入した液体1は、図11に示すように、粒状に分割された形態(水滴)となり、その液体1が回収流路84や回収管22に衝突し、音や振動を発生する。しかしながら、このときは投影光学系PLの像面側に露光光ELは照射されておらず、すなわち基板PにマスクMのパターンが露光されていないため、発生した音や振動は露光精度に影響を与えない。なお、ステッピング期間における液体の回収時間や回収量は、直前のショット領域の露光中に露光光が照射された液体が極力回収されるように設定するのが望ましいが、すべての液体を回収する必要はない。また、次のショット領域の露光を開始するときに、光学素子2の像面側の光路空間が液体1で満たされているように被体の回収時間や回収量を設定するのが好ましい。
その音や振動を低減することができる。すなわち、上述したように、音や振動が発生する原因は、噛み込んだ気体により液体1が回収口23を介して回収流路84に断続的に流入し、断続的に流入することで液体1が粒状に分割され、その分割された液体1が回収流路84や回収管22に衝突することで音や振動を発生する。そこで、露光中の基板P上への液体供給量を回収量よりも多くし、回収口23A〜23Dが極力液体1で塞がるようにして、液体回収機構20が液体1を気体とともに回収するときの液体1の割合を多くする。
Claims (30)
- 投影光学系の像面側に配置された基板上に、前記投影光学系と液体とを介して露光光を照射することによって前記基板を露光する露光装置であって、
前記基板上に液体を供給する液体供給機構と、
前記基板上に供給された液体を回収する液体回収機構とを備え、
前記露光光が前記投影光学系の像面側に照射されているとき、前記液体回収機構は、前記液体の回収を行わない。 - 請求項1記載の露光装置であって、
前記露光光が前記投影光学系の像面側に照射されているときに、前記液体供給機構は、前記基板上への液体の供給を行い、さらに、
前記液体回収機構は、前記液体の吸引回収を行わない。 - 請求項1記載の露光装置であって、
前記基板上の複数のショット領域を順次露光する場合、前記液体回収機構は、ある一つのショット領域の露光完了後であり、かつ、次のショット領域の露光開始までの少なくとも一部の期間において、前記基板上の前記液体の回収を行う。 - 請求項3記載の露光装置であって、
前記期間における前記液体回収機構による液体の回収は、所定数のショット領域の露光完了毎に行われる。 - 請求項3記載の露光装置であって、
前記期間における前記液体回収機構による液体の回収は、予め定められたショット領域の露光完了後に行われる。 - 請求項3記載の露光装置であって、
前記期間は、ある一つのショット領域の露光完了後、次のショット領域の露光のための前記基板のステッピング移動中に定められる。 - 請求項3記載の露光装置であって、
前記液体供給機構は、前記期間において液体の供給を継続する。 - 請求項1記載の露光装置であって、
前記液体回収機構による液体の回収が開始されるまでに、前記基板上に供給された液体の少なくとも一部を保持する液体保持部を備える。 - 請求項8記載の露光装置であって、
前記液体保持部は、毛細管現象を利用して液体を保持する。 - 請求項8記載の露光装置であって、
前記液体保持部は、前記液体回収機構の液体回収口と兼用される。 - 請求項1記載の露光装置であって、
前記液体回収機構は、前記基板の上方に回収口を有する。 - 請求項1記載の露光装置であって、
前記液体回収機構は、一枚の基板の露光完了後に、前記基板上の液体の吸引回収を行う。 - 請求項12記載の露光装置であって、
前記基板を保持して移動可能な基板保持部材を有し、
前記一枚の基板の露光完了後に、前記基板の上方に配置された前記液体回収機構の前記回収口と前記基板保持部材とを相対的に移動して、前記基板上あるいは前記基板保持部材上の液体を回収する。 - 投影光学系の像面側に配置された基板上に、前記投影光学系と液体とを介して露光光を照射することによって前記基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持して移動可能な基板保持部材と、
前記基板保持部材の上方に回収口を有し、前記基板上の液体を回収する液体回収機構とを備え、
前記基板保持部材に保持された基板の露光完了後に、前記基板保持部材と前記液体回収機構の前記回収口とを相対的に移動させる。 - 基板上の一部に液浸領域を形成して、その液浸領域を形成する液体と投影光学系とを介して前記基板に露光光を照射することによって前記基板を露光する露光装置であって、
前記基板の露光中に、前記基板上に液体を供給する液体供給機構と、
前記基板の露光中に、前記基板の上方から前記基板上の液体を吸引回収する液体回収機構とを備え、
前記基板の露光中、前記液体供給機構による液体供給量は、前記液体回収機構による液体回収量よりも多い。 - 請求項15記載の露光装置であって、
前記液体回収機構は、前記基板上の液体を、その周囲の気体とともに回収する。 - 請求項15記載の露光装置であって、
前記基板を保持して移動可能な基板保持部材を備え、
前記基板の露光完了後に、前記液体回収機構の回収口と前記基板を保持した前記基板保持部材とを相対的に移動して、前記基板上あるいは前記基板保持部材上の液体を回収する。 - デバイス製造方法であって、
請求項1記載の露光装置を用いる。 - デバイス製造方法であって、
請求項14記載の露光装置を用いる。 - デバイス製造方法であって、
請求項15記載の露光装置を用いる。 - 投影光学系と液体とを介して基板に露光光を照射することによって前記基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の像面側に配置され、前記投影光学系との間に液体を保持する可動部材と、
前記可動部材の表面と対向するように配置された回収口を有し、前記可動部材上の液体を回収可能な液体回収機構とを備え、
前記可動部材と前記液体回収機構の回収口とを相対的に移動させて、前記可動部材上の液体を回収する。 - 請求項21記載の露光装置であって、
前記可動部材は、前記基板を保持可能な基板保持部材を含む。 - 請求項22記載の露光装置であって、
さらに、前記基板保持部材に保持された基板と前記回収口とを相対的に移動させて、前記基板上の液体を回収する。 - 請求項21記載の露光装置であって、
前記相対的な移動によって、前記回収口から前記可動部材の表面に残留した液体を回収する。 - デバイス製造方法であって、
請求項21記載の露光装置を用いる。 - 基板を保持して移動可能な移動体の上面と投影光学系との間に局所的に液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記液浸領域を形成する液体とを介して前記基板上に露光光を照射するとともに、該露光光に対して前記基板を移動することによって、前記基板上の複数のショット領域のそれぞれを走査露光する露光方法であって、
前記基板の移動速度は、前記複数のショット領域のそれぞれの前記基板上での位置に応じて決定される。 - 請求項26記載の露光方法であって、
前記基板の周縁付近のショット領域を露光するときの前記基板の移動速度は、前記基板の中央付近のショット領域を露光するときの前記基板の移動速度よりも遅い。 - 請求項26記載の露光方法であって、
前記基板の移動速度は、前記移動体の上面の大きさと前記液浸領域の大きさとに基づいて決定される。 - 請求項28記載の露光方法であって、
前記基板の移動速度は、前記移動体の上面に前記液浸領域を保持したまま、前記基板上の各ショット領域が露光できるように決定される。 - 請求項29記載の露光方法であって、
前記基板の移動速度は、前記基板上のショット領域を走査露光するときの、加速距離又は減速距離が確保できるように決定される。
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