JP6994877B2 - リソグラフィ方法及びリソグラフィシステム - Google Patents
リソグラフィ方法及びリソグラフィシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6994877B2 JP6994877B2 JP2017170395A JP2017170395A JP6994877B2 JP 6994877 B2 JP6994877 B2 JP 6994877B2 JP 2017170395 A JP2017170395 A JP 2017170395A JP 2017170395 A JP2017170395 A JP 2017170395A JP 6994877 B2 JP6994877 B2 JP 6994877B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- template
- substrate
- moiré
- acquisition device
- compressed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7042—Alignment for lithographic apparatus using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping or imprinting
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
Description
Claims (13)
- リソグラフィ方法であって、
テンプレートのアライメント指標と基板のアライメント指標との間の光の相互作用に基づいて、複数のモアレ縞ストリップを含むモアレ像を取得することと、
取得デバイスに含まれる1つ以上のラインスキャンカメラのピクセル高さに基づいて、光学レンズアレイによって前記モアレ像の各モアレ縞ストリップを圧縮することと、
前記取得デバイスの前記ラインスキャンカメラのそれぞれによって前記圧縮されたモアレ像を処理することにより、前記テンプレートと前記基板との間のミスアライメントを決定することと、
前記決定されたミスアライメントに基づいて、前記テンプレートと前記基板との間の相対的な位置決めを調整することと、
を備え、
前記ピクセル高さは、前記ラインスキャンカメラに投影された前記モアレ像を圧縮する、前記モアレ像の高さに沿った方向であり、
前記取得デバイスは、トリリニアラインスキャンカメラを含み、前記トリリニアラインスキャンカメラの各ラインは、前記モアレ縞ストリップの特定のモアレ縞ストリップに関連付けられており、
前記光学レンズアレイは、前記トリリニアラインスキャンカメラのラインの間隔に一致するように、圧縮する前記モアレ縞ストリップのそれぞれの間の間隔を調整することを特徴とするリソグラフィ方法。 - 前記モアレ像を圧縮することは、前記取得デバイスの前記ピクセル高さに基づいて、前記モアレ像の高さを圧縮することを含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ方法。
- 前記モアレ像を圧縮することは、前記モアレ縞ストリップのそれぞれを個別に圧縮することを含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ方法。
- 前記圧縮されたモアレ縞ストリップのそれぞれを前記取得デバイスの別々のラインにフォーカスすることを更に備えることを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ方法。
- 前記モアレ像を圧縮することは、前記モアレ縞ストリップのそれぞれを単一の圧縮されたモアレ縞ストリップに圧縮することを含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ方法。
- 前記単一の圧縮されたモアレ縞ストリップを前記取得デバイスの単一のラインにフォーカスすることを更に備えることを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィ方法。
- 前記テンプレートと前記基板との間の位置決めを調整することは、2つの直交する軸を有する平面内で前記テンプレート、前記基板又は両方を移動すること、又は、前記平面に直交する軸の周りで前記テンプレート、前記基板又は両方を回転すること、を含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ方法。
- リソグラフィシステムであって、
アライメント指標を備えるテンプレートを保持するテンプレートチャック又はホルダと、
アライメント指標を備える基板を保持する基板チャック又はホルダと、
前記テンプレート及び前記基板を照明する照明器と、
前記テンプレートの前記アライメント指標と前記基板の前記アライメント指標との間の光の相互作用から生じるモアレ像の各モアレ縞ストリップを光学的に圧縮する光学レンズアレイと、
前記テンプレートと前記基板との間のミスアライメントを決定するために、前記圧縮されたモアレ像を処理する1つ以上のラインスキャンカメラを含む取得デバイスと、
を備え、
前記モアレ像の圧縮は、前記取得デバイスに含まれる1つ以上のラインスキャンカメラのピクセル高さに基づいており、
前記ピクセル高さは、前記ラインスキャンカメラに投影された前記モアレ像を圧縮する、前記モアレ像の高さに沿った方向であり、
前記取得デバイスは、トリリニアラインスキャンカメラを含み、前記トリリニアラインスキャンカメラの各ラインは、前記モアレ縞ストリップの特定のモアレ縞ストリップに関連付けられており、
前記光学レンズアレイは、前記トリリニアラインスキャンカメラのラインの間隔に一致するように、圧縮する前記モアレ縞ストリップのそれぞれの間の間隔を調整することを特徴とするリソグラフィシステム。 - 前記光学レンズアレイは、前記取得デバイスの前記ピクセル高さに基づいて、前記モアレ像の高さを圧縮することを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィシステム。
- 前記光学レンズアレイは、前記モアレ縞ストリップのそれぞれを個別に圧縮することを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィシステム。
- 前記光学レンズアレイは、前記モアレ縞ストリップのそれぞれを単一の圧縮されたモアレ縞ストリップに圧縮することを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィシステム。
- 前記取得デバイスは、前記単一の圧縮されたモアレ縞ストリップを処理する単一のラインスキャンカメラを含むことを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィシステム。
- 前記決定されたミスアライメントに基づいて、前記テンプレートと前記基板との間の相対的な位置決めを調整するステージ制御部を更に備えることを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィシステム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/265,273 | 2016-09-14 | ||
US15/265,273 US10416576B2 (en) | 2016-09-14 | 2016-09-14 | Optical system for use in stage control |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018046274A JP2018046274A (ja) | 2018-03-22 |
JP2018046274A5 JP2018046274A5 (ja) | 2020-10-08 |
JP6994877B2 true JP6994877B2 (ja) | 2022-01-14 |
Family
ID=61560607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017170395A Active JP6994877B2 (ja) | 2016-09-14 | 2017-09-05 | リソグラフィ方法及びリソグラフィシステム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10416576B2 (ja) |
JP (1) | JP6994877B2 (ja) |
KR (1) | KR102193312B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200044252A (ko) | 2018-10-18 | 2020-04-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 패널 검사 시스템, 표시 패널 검사 방법 및 이를 이용한 표시 패널. |
US11656546B2 (en) * | 2020-02-27 | 2023-05-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus for uniform light intensity and methods of using the same |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006518942A (ja) | 2003-02-22 | 2006-08-17 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法 |
JP2008153655A (ja) | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | ウエハ検査装置 |
JP2012507173A5 (ja) | 2009-10-20 | 2012-12-06 | ||
JP2012253325A (ja) | 2011-05-10 | 2012-12-20 | Canon Inc | 検出装置、検出方法、インプリント装置及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6376428A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-06 | Hitachi Ltd | 半導体露光装置 |
JP4225795B2 (ja) * | 2003-01-22 | 2009-02-18 | オリンパス株式会社 | 撮像システム、画像処理プログラム |
JP4470840B2 (ja) * | 2005-08-24 | 2010-06-02 | セイコーエプソン株式会社 | 発光装置、その製造装置および製造方法、ならびに画像印刷装置 |
KR100951461B1 (ko) * | 2008-01-15 | 2010-04-07 | 주식회사 디쌤 | 기판 에지 검사장치 및 방법 |
US8345242B2 (en) * | 2008-10-28 | 2013-01-01 | Molecular Imprints, Inc. | Optical system for use in stage control |
-
2016
- 2016-09-14 US US15/265,273 patent/US10416576B2/en active Active
-
2017
- 2017-09-05 KR KR1020170113058A patent/KR102193312B1/ko active IP Right Grant
- 2017-09-05 JP JP2017170395A patent/JP6994877B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006518942A (ja) | 2003-02-22 | 2006-08-17 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法 |
JP2008153655A (ja) | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | ウエハ検査装置 |
JP2012507173A5 (ja) | 2009-10-20 | 2012-12-06 | ||
JP2012253325A (ja) | 2011-05-10 | 2012-12-20 | Canon Inc | 検出装置、検出方法、インプリント装置及びデバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018046274A (ja) | 2018-03-22 |
KR102193312B1 (ko) | 2020-12-22 |
KR20180030385A (ko) | 2018-03-22 |
US20180074418A1 (en) | 2018-03-15 |
US10416576B2 (en) | 2019-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11460768B2 (en) | Pattern formation method, lithography apparatus, lithography system, and article manufacturing method | |
JP5159957B2 (ja) | ステージ制御用光学システム | |
US9921470B2 (en) | Imprint method for an imprint apparatus which transfers a pattern onto a substrate by using a mold | |
US7531821B2 (en) | Imprint apparatus and imprint method including dual movable image pick-up device | |
US10228616B2 (en) | Imprint apparatus and method of manufacturing article | |
US9606456B2 (en) | Lithography apparatus, determination method, and method of manufacturing article | |
JP6994877B2 (ja) | リソグラフィ方法及びリソグラフィシステム | |
JP7278381B2 (ja) | 液滴パターンを生成する方法、液滴パターンを有する膜を成形するためのシステム、および、液滴パターンを使って物品を製造する方法 | |
US10866510B2 (en) | Overlay improvement in nanoimprint lithography | |
JP6422246B2 (ja) | 計測装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
US9971249B1 (en) | Method and system for controlled ultraviolet light exposure | |
US11327409B2 (en) | Systems and methods for curing an imprinted field | |
KR102455773B1 (ko) | 오동작 액적 분배 노즐의 검출 및 보상을 위한 시스템 및 방법 | |
CN109932876B (zh) | 测量装置、平板印刷装置、物品的制造方法以及测量方法 | |
US11718014B2 (en) | Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article | |
US20230390993A1 (en) | Imprint device, imprint method, article manufacturing method, and storage medium | |
JP2017111011A (ja) | 位置検出方法、プログラム、位置検出装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
KR20130023305A (ko) | 측정장치 및 이의 보정방법 | |
KR20240031066A (ko) | 임프린트 시스템 내의 왜곡을 보정하는 나노제조 방법 | |
JP6053316B2 (ja) | リソグラフィー装置、および、物品製造方法 | |
JP2014092634A (ja) | 位置調整装置、および位置調整方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200828 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200828 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20210103 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210607 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210618 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210729 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211115 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211214 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6994877 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |