JP2018046274A - ステージ制御に用いる光学系 - Google Patents
ステージ制御に用いる光学系 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018046274A JP2018046274A JP2017170395A JP2017170395A JP2018046274A JP 2018046274 A JP2018046274 A JP 2018046274A JP 2017170395 A JP2017170395 A JP 2017170395A JP 2017170395 A JP2017170395 A JP 2017170395A JP 2018046274 A JP2018046274 A JP 2018046274A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- moire
- template
- substrate
- acquisition device
- imprint lithography
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7042—Alignment for lithographic apparatus using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping or imprinting
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
Claims (17)
- テンプレートと基板とをアライメントするインプリントリソグラフィ方法であって、
前記テンプレートの対応するフィーチャと前記基板との間の光の相互作用に基づいてモアレ像を取得することであって、前記モアレ像が複数のモアレ縞ストリップを含むことと、
取得デバイスのピクセル高さに基づいて、光学レンズアレイによって前記モアレ像の各モアレ縞ストリップを圧縮することであって、前記取得デバイスが1つ以上のラインスキャンカメラを含むことと、
前記テンプレートと前記基板との間のミスアライメントを決定するために、前記取得デバイスの前記ラインスキャンカメラのそれぞれによって前記圧縮されたモアレ像を処理することと、
前記決定されたミスアライメントに基づいて、前記テンプレートと前記基板との間の相対的な位置決めを調整することと、
を備えることを特徴とするインプリントリソグラフィ方法。 - 前記モアレ像を圧縮することは、前記取得デバイスの前記ピクセル高さに基づいて、前記モアレ像の高さを圧縮することを含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記モアレ像を圧縮することは、前記モアレ縞ストリップのそれぞれを個別に圧縮することを含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記圧縮されたモアレ縞ストリップのそれぞれを前記取得デバイスの別々のラインにフォーカスすることを更に備えることを特徴とする請求項3に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記モアレ像を圧縮することは、前記モアレ縞ストリップのそれぞれを単一の圧縮されたモアレ縞ストリップに圧縮することを含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記単一の圧縮されたモアレ縞ストリップを前記取得デバイスの単一のラインにフォーカスすることを更に備えることを特徴とする請求項5に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記テンプレートと前記基板との間の位置決めを調整することは、2つの直交する軸を有する平面内で前記テンプレート、前記基板又は両方を移動すること、前記平面に直交する軸の周りで前記テンプレート、前記基板又は両方を回転すること、又は、両方を含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- インプリントリソグラフィシステムであって、
アライメント指標を備えるテンプレートを保持するテンプレートチャック又はホルダと、
アライメント指標を備える基板を保持する基板チャック又はホルダと、
前記テンプレート及び前記基板を照明する照明器と、
前記テンプレートの前記アライメント指標と前記基板の前記アライメント指標との間の光の相互作用から生じるモアレ像の各モアレ縞ストリップを光学的に圧縮する光学レンズアレイと、
前記テンプレートと前記基板との間のミスアライメントを決定するために、前記圧縮されたモアレ像を処理する1つ以上のラインスキャンカメラを含む取得デバイスと、
を備え、
前記モアレ像の圧縮は、前記取得デバイスのピクセル高さに基づいていることを特徴とするインプリントリソグラフィシステム。 - 前記光学レンズアレイは、前記取得デバイスの前記ピクセル高さに基づいて、前記モアレ像の高さを圧縮することを特徴とする請求項8に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- 前記光学レンズアレイは、前記モアレ縞ストリップのそれぞれを個別に圧縮することを特徴とする請求項8に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- 前記取得デバイスは、トリリニアラインスキャンカメラを含み、前記カメラの各ラインは、前記モアレ縞ストリップの特定のモアレ縞ストリップに関連付けられていることを特徴とする請求項10に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- 前記光学レンズアレイは、前記モアレ縞ストリップのそれぞれを単一の圧縮されたモアレ縞ストリップに圧縮することを特徴とする請求項8に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- 前記取得デバイスは、前記単一の圧縮されたモアレ縞ストリップを処理する単一のラインスキャンカメラを含むことを特徴とする請求項12に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- 前記決定されたミスアライメントに基づいて、前記テンプレートと前記基板との間の相対的な位置決めを調整するステージ制御部を更に備えることを特徴とする請求項8に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- 物品を製造するインプリントリソグラフィ方法であって、
テンプレートの対応するフィーチャと基板との間の光の相互作用に基づいてモアレ像を取得することであって、前記モアレ像が複数のモアレ縞ストリップを含むことと、
取得デバイスのピクセル高さに基づいて、光学レンズアレイによって前記モアレ像の各モアレ縞ストリップを圧縮することであって、前記取得デバイスが1つ以上のラインスキャンカメラを含むことと、
前記テンプレートと前記基板との間のミスアライメントを決定するために、前記取得デバイスの前記ラインスキャンカメラのそれぞれによって前記圧縮されたモアレ像を処理することと、
前記決定されたミスアライメントに基づいて、前記テンプレートと前記基板との間の相対的な位置決めを調整することと、
前記基板上にインプリントレジストを配置することと、
前記インプリントレジストに前記テンプレートを接触させることと、
前記テンプレートと接触する高分子層を生産するために、前記インプリントレジストを重合させることと、
前記物品を生産するために、前記高分子層から前記テンプレートを引き離すことと、
を備えることを特徴とするインプリントリソグラフィ方法。 - 前記物品は、処理された基板であることを特徴とする請求項15に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記物品は、光学部品であることを特徴とする請求項15に記載のインプリントリソグラフィ方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/265,273 | 2016-09-14 | ||
US15/265,273 US10416576B2 (en) | 2016-09-14 | 2016-09-14 | Optical system for use in stage control |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018046274A true JP2018046274A (ja) | 2018-03-22 |
JP2018046274A5 JP2018046274A5 (ja) | 2020-10-08 |
JP6994877B2 JP6994877B2 (ja) | 2022-01-14 |
Family
ID=61560607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017170395A Active JP6994877B2 (ja) | 2016-09-14 | 2017-09-05 | リソグラフィ方法及びリソグラフィシステム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10416576B2 (ja) |
JP (1) | JP6994877B2 (ja) |
KR (1) | KR102193312B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200044252A (ko) | 2018-10-18 | 2020-04-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 패널 검사 시스템, 표시 패널 검사 방법 및 이를 이용한 표시 패널. |
US11656546B2 (en) * | 2020-02-27 | 2023-05-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus for uniform light intensity and methods of using the same |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6376428A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-06 | Hitachi Ltd | 半導体露光装置 |
JP2006518942A (ja) * | 2003-02-22 | 2006-08-17 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法 |
JP2008153655A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | ウエハ検査装置 |
JP2012507173A (ja) * | 2008-10-28 | 2012-03-22 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | ステージ制御用光学システム |
JP2012253325A (ja) * | 2011-05-10 | 2012-12-20 | Canon Inc | 検出装置、検出方法、インプリント装置及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4225795B2 (ja) * | 2003-01-22 | 2009-02-18 | オリンパス株式会社 | 撮像システム、画像処理プログラム |
JP4470840B2 (ja) * | 2005-08-24 | 2010-06-02 | セイコーエプソン株式会社 | 発光装置、その製造装置および製造方法、ならびに画像印刷装置 |
KR100951461B1 (ko) * | 2008-01-15 | 2010-04-07 | 주식회사 디쌤 | 기판 에지 검사장치 및 방법 |
-
2016
- 2016-09-14 US US15/265,273 patent/US10416576B2/en active Active
-
2017
- 2017-09-05 KR KR1020170113058A patent/KR102193312B1/ko active IP Right Grant
- 2017-09-05 JP JP2017170395A patent/JP6994877B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6376428A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-06 | Hitachi Ltd | 半導体露光装置 |
JP2006518942A (ja) * | 2003-02-22 | 2006-08-17 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法 |
JP2008153655A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | ウエハ検査装置 |
JP2012507173A (ja) * | 2008-10-28 | 2012-03-22 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | ステージ制御用光学システム |
JP2012253325A (ja) * | 2011-05-10 | 2012-12-20 | Canon Inc | 検出装置、検出方法、インプリント装置及びデバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102193312B1 (ko) | 2020-12-22 |
KR20180030385A (ko) | 2018-03-22 |
JP6994877B2 (ja) | 2022-01-14 |
US20180074418A1 (en) | 2018-03-15 |
US10416576B2 (en) | 2019-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5159957B2 (ja) | ステージ制御用光学システム | |
TWI567486B (zh) | 圖案形成方法、微影裝置、微影系統、及製造物品的方法 | |
US9921470B2 (en) | Imprint method for an imprint apparatus which transfers a pattern onto a substrate by using a mold | |
US7531821B2 (en) | Imprint apparatus and imprint method including dual movable image pick-up device | |
US9606456B2 (en) | Lithography apparatus, determination method, and method of manufacturing article | |
US10444647B2 (en) | Methods and apparatus for determining the position of a target structure on a substrate, methods and apparatus for determining the position of a substrate | |
US11347144B2 (en) | Overlay improvement in nanoimprint lithography | |
JP6422246B2 (ja) | 計測装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
JP6994877B2 (ja) | リソグラフィ方法及びリソグラフィシステム | |
US9971249B1 (en) | Method and system for controlled ultraviolet light exposure | |
KR102242152B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법 | |
TWI688840B (zh) | 用於識別基板上之高度異常或污染物之方法、感測器、微影設備及電腦程式產品 | |
KR20190062202A (ko) | 정보 처리 장치, 컴퓨터 프로그램, 리소그래피 장치, 리소그래피 시스템 및 물품의 제조 방법 | |
CN109932876B (zh) | 测量装置、平板印刷装置、物品的制造方法以及测量方法 | |
US11199719B2 (en) | System and method for qualifying a multi-layered optical stack for an optical projection system | |
US11360401B2 (en) | Alignment apparatus, alignment method, lithography apparatus, and method of manufacturing article | |
JP2017111011A (ja) | 位置検出方法、プログラム、位置検出装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
JP2023086568A (ja) | 計測装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法 | |
JPH08241844A (ja) | 相対位置検出装置および方法ならびに露光方法 | |
JP2013140843A (ja) | 位置を求める方法、情報処理装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200828 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200828 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20210103 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210607 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210618 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210729 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211115 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211214 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6994877 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |