JP2001143997A - 位置決め装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 - Google Patents
位置決め装置、露光装置、及びデバイスの製造方法Info
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- JP2001143997A JP2001143997A JP32400199A JP32400199A JP2001143997A JP 2001143997 A JP2001143997 A JP 2001143997A JP 32400199 A JP32400199 A JP 32400199A JP 32400199 A JP32400199 A JP 32400199A JP 2001143997 A JP2001143997 A JP 2001143997A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な構成で高精度なステージｚ変位計測を
実現する。 【解決手段】 微動ステージの水平方向の変位を計測す
るための第１のミラー面と、前記微動ステージの鉛直方
向の変位をレーザー測長器によって計測するための第２
のミラー面を備えた微動ステージにおいて、前記鉛直方
向の変位を計測するための第２のミラー面ｐ２を、前記
第１のミラー面ｐｌより下に、別構造として配置する。
また、微動ステージにハーフミラーを設ける。
実現する。 【解決手段】 微動ステージの水平方向の変位を計測す
るための第１のミラー面と、前記微動ステージの鉛直方
向の変位をレーザー測長器によって計測するための第２
のミラー面を備えた微動ステージにおいて、前記鉛直方
向の変位を計測するための第２のミラー面ｐ２を、前記
第１のミラー面ｐｌより下に、別構造として配置する。
また、微動ステージにハーフミラーを設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハを高精度に
位置決めするための微動ステージ等を有する位置決め装
置、露光装置、及びデバイスの製造方法に関する。
位置決めするための微動ステージ等を有する位置決め装
置、露光装置、及びデバイスの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】産業機器や情報機器における制御技術
は、機器の複雑化・高度化・微細化に伴い、高精度化・
高速化が進んでいる。そしてこうした各種機器を支える
“半動体デバイス”を製造する露光装置もまた高速化・
高精度化が急激に進んでおり、ナノメートルオーダの位
置決め精度が要求されてきている。
は、機器の複雑化・高度化・微細化に伴い、高精度化・
高速化が進んでいる。そしてこうした各種機器を支える
“半動体デバイス”を製造する露光装置もまた高速化・
高精度化が急激に進んでおり、ナノメートルオーダの位
置決め精度が要求されてきている。
【０００３】露光装置のウエハに対する位置決め機構と
しては、微少回転機構もしくは、微小並進機構および微
小回転機構を有する微動ステージと、並進方向への大ス
トローク移動機構を有する粗動ステージとから構成する
ものが一般的である。そして粗動ステージによって大ス
トロークの移動を行いつつ、微動ステージの微動アクチ
ュエータによってウエハが像面に一致するように微動ス
テージを位置決め制御し、露光を行う。
しては、微少回転機構もしくは、微小並進機構および微
小回転機構を有する微動ステージと、並進方向への大ス
トローク移動機構を有する粗動ステージとから構成する
ものが一般的である。そして粗動ステージによって大ス
トロークの移動を行いつつ、微動ステージの微動アクチ
ュエータによってウエハが像面に一致するように微動ス
テージを位置決め制御し、露光を行う。
【０００４】微動ステージの位置計測手段としては、従
来、高精度のレーザ測長器が広く用いられている。この
レーザ測長器では、水平方向の変位の計測方法として
は、干渉計をステージ外部に置いて、ステージにバーミ
ラーを搭載するか、ステージの端面にミラー面を直接蒸
着するなどの方法によって、ステージにミラー面を持た
せる方法が採られる。これによって、露光中心の変位を
直接計測し、アッベ誤差の発生を防ぐわけである。
来、高精度のレーザ測長器が広く用いられている。この
レーザ測長器では、水平方向の変位の計測方法として
は、干渉計をステージ外部に置いて、ステージにバーミ
ラーを搭載するか、ステージの端面にミラー面を直接蒸
着するなどの方法によって、ステージにミラー面を持た
せる方法が採られる。これによって、露光中心の変位を
直接計測し、アッベ誤差の発生を防ぐわけである。
【０００５】Ζ軸方向の位置検出手段は、通常、移動す
るステージ内に設けられたリニアエンコーダや静電容量
センサ等を有し、その検出結果に基づいてΖ軸方向の位
置決め制御が行われる。
るステージ内に設けられたリニアエンコーダや静電容量
センサ等を有し、その検出結果に基づいてΖ軸方向の位
置決め制御が行われる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このようなΖ方向の位
置検出手段を用いた位置決め装置においては、ＸＹ方向
に長ストローク移動するステージに取り付けられたセン
サにより、微動ステージのΖ方向の位置情報を検出する
ため、以下のような問題点が生じる。
置検出手段を用いた位置決め装置においては、ＸＹ方向
に長ストローク移動するステージに取り付けられたセン
サにより、微動ステージのΖ方向の位置情報を検出する
ため、以下のような問題点が生じる。
【０００７】（１） 計測基準となるレーザ干渉計が取
り付けられた定盤から直接的に位置情報を検出できない
ため、複数個のセンサを直列に配置して計測せざるを得
ない。そのため、ガイド精度等の影響を受け、計測誤差
が生じ易い。 （２） また、ステージ加減速時の慣性力やステージ自
体の自重が移動荷重として作用したときの、ステージガ
イド部の変形や、ステージを支持搭載する定盤や構造体
の変形が計測誤差となり、高精度な位置決めが難しい。
り付けられた定盤から直接的に位置情報を検出できない
ため、複数個のセンサを直列に配置して計測せざるを得
ない。そのため、ガイド精度等の影響を受け、計測誤差
が生じ易い。 （２） また、ステージ加減速時の慣性力やステージ自
体の自重が移動荷重として作用したときの、ステージガ
イド部の変形や、ステージを支持搭載する定盤や構造体
の変形が計測誤差となり、高精度な位置決めが難しい。
【０００８】したがって、本発明は、水平方向に長スト
ローク移動する位置決め装置において、簡単な構成によ
りＺ方向変位の計測を提供し、高精度の位置決め装置を
実現することを目的とする。
ローク移動する位置決め装置において、簡単な構成によ
りＺ方向変位の計測を提供し、高精度の位置決め装置を
実現することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明の第１の位置決め装置は、複数の方向に移動
可能な移動体と、該移動体に設けられた第１反射面と、
該移動体に設けられ、該移動体を構成する部材の下面も
しくは側面に該移動体とは別個の部材で形成された第２
反射面と、該第１反射面で第１のレーザ計測ビームを反
射させて該移動体の水平方向及び該水平方向に平行な回
転方向の位置情報、さらに該第２反射面で第２のレーザ
計測ビームを反射させて該水平方向を複数含む面と交差
する方向の該移動体の位置情報をそれぞれ計測する位置
計測器とを有することを特徴とする。
め、本発明の第１の位置決め装置は、複数の方向に移動
可能な移動体と、該移動体に設けられた第１反射面と、
該移動体に設けられ、該移動体を構成する部材の下面も
しくは側面に該移動体とは別個の部材で形成された第２
反射面と、該第１反射面で第１のレーザ計測ビームを反
射させて該移動体の水平方向及び該水平方向に平行な回
転方向の位置情報、さらに該第２反射面で第２のレーザ
計測ビームを反射させて該水平方向を複数含む面と交差
する方向の該移動体の位置情報をそれぞれ計測する位置
計測器とを有することを特徴とする。
【００１０】第２の位置決め装置は、第１の位置決め装
置において、前記第１反射面を、前記移動体を構成する
部材の部材面に対して直接設けることを特徴とする。
置において、前記第１反射面を、前記移動体を構成する
部材の部材面に対して直接設けることを特徴とする。
【００１１】第３の位置決め装置は、第１または第２の
位置決め装置において、前記第２反射面は、前記水平方
向とほぼ平行な前記位置計測器の前記第２のレーザ計測
ビームを上方に反射させることを特徴とする。
位置決め装置において、前記第２反射面は、前記水平方
向とほぼ平行な前記位置計測器の前記第２のレーザ計測
ビームを上方に反射させることを特徴とする。
【００１２】第４の位置決め装置は、複数の方向に移動
可能な移動体と、該移動体に設けられた第１反射面と、
該移動体に設けられ、該第１反射面とは平行でない第２
反射面と、該移動体に設けられ、水平方向と交差する方
向における変位をレーザ干渉により計測するためのハー
フミラー面と、該第１反射面で第１のレーザ計測ビーム
を反射させて該移動体の水平方向及び該水平方向に平行
な回転方向の位置情報、さらに該第２反射面で第２のレ
ーザ計測ビームを反射させて該水平方向を複数含む面と
交差する方向の該移動体の位置情報をそれぞれ計測する
位置計測器とを有することを特徴とする。
可能な移動体と、該移動体に設けられた第１反射面と、
該移動体に設けられ、該第１反射面とは平行でない第２
反射面と、該移動体に設けられ、水平方向と交差する方
向における変位をレーザ干渉により計測するためのハー
フミラー面と、該第１反射面で第１のレーザ計測ビーム
を反射させて該移動体の水平方向及び該水平方向に平行
な回転方向の位置情報、さらに該第２反射面で第２のレ
ーザ計測ビームを反射させて該水平方向を複数含む面と
交差する方向の該移動体の位置情報をそれぞれ計測する
位置計測器とを有することを特徴とする。
【００１３】第５の位置決め装置は、第４の位置決め装
置において、前記第１反射面へ前記第１のレーザ計測ビ
ームが照射される前記第１反射面上の第１照射点と、前
記第２反射面から反射された前記第２のレーザ計測ビー
ムが前記ハーフミラー面へ照射される前記ハーフミラー
面上の第２照射点の、前記水平方向と交差する方向に対
する位置を、同一もしくはほぼ同一に設定することを特
徴とする。
置において、前記第１反射面へ前記第１のレーザ計測ビ
ームが照射される前記第１反射面上の第１照射点と、前
記第２反射面から反射された前記第２のレーザ計測ビー
ムが前記ハーフミラー面へ照射される前記ハーフミラー
面上の第２照射点の、前記水平方向と交差する方向に対
する位置を、同一もしくはほぼ同一に設定することを特
徴とする。
【００１４】第６の位置決め装置は、第４または第５の
位置決め装置において、前記第２反射面は、前記水平方
向とほぼ平行な前記第２のレーザ計測ビームを、上方に
反射させることを特徴とする。
位置決め装置において、前記第２反射面は、前記水平方
向とほぼ平行な前記第２のレーザ計測ビームを、上方に
反射させることを特徴とする。
【００１５】第７の位置決め装置は、第１〜第６のいず
れかの位置決め装置において、前記移動体は、前記移動
水平面を有する移動体定盤に搭載されることを特徴とす
る。
れかの位置決め装置において、前記移動体は、前記移動
水平面を有する移動体定盤に搭載されることを特徴とす
る。
【００１６】第８の位置決め装置は、第１〜第７のいず
れかの位置決め装置において、前記移動体定盤は、該移
動体定盤を除振する移動体除振手段によって除振される
ことを特徴とする。
れかの位置決め装置において、前記移動体定盤は、該移
動体定盤を除振する移動体除振手段によって除振される
ことを特徴とする。
【００１７】そして、第９の位置決め装置は、第１〜第
８のいずれかの位置決め装置において、前記位置計測器
は、前記移動体定盤とは別の計測定盤に搭載され、該計
測定盤は、該計測定盤を除振する計測定盤除振手段によ
って除振されることを特徴とする。
８のいずれかの位置決め装置において、前記位置計測器
は、前記移動体定盤とは別の計測定盤に搭載され、該計
測定盤は、該計測定盤を除振する計測定盤除振手段によ
って除振されることを特徴とする。
【００１８】また、本発明の露光装置は、本発明の第１
〜第９のいずれかの位置決め装置を備えることを特徴と
する。また、本発明のデバイス製造方法は、本発明の露
光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とする。
〜第９のいずれかの位置決め装置を備えることを特徴と
する。また、本発明のデバイス製造方法は、本発明の露
光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とする。
【００１９】
【実施例】［第１の実施例］図１（ａ）および（ｂ）は
本発明の第１の実施例に係る微動ステージを示す平面図
および正面図である。同図において、１はウエハ、２は
ウエハチャック、３はウエハチャック２が設けられた微
動ステージ本体、４〜６は微動ステージ本体３上に設け
られた第１〜第３の並進方向における変位計測のための
バーミラー、７〜９は第１〜第３の鉛直方向の変位計測
のためのバーミラーである。バーミラー４にはミラー面
ｐｌが設けられており、ミラー面ｐｌの下部にバーミラ
ー７が設けられている。バーミラー７には、鉛直方向お
よび水平方向に対して４５度の傾斜角を有するミラー面
ｐ２が設けられている。
本発明の第１の実施例に係る微動ステージを示す平面図
および正面図である。同図において、１はウエハ、２は
ウエハチャック、３はウエハチャック２が設けられた微
動ステージ本体、４〜６は微動ステージ本体３上に設け
られた第１〜第３の並進方向における変位計測のための
バーミラー、７〜９は第１〜第３の鉛直方向の変位計測
のためのバーミラーである。バーミラー４にはミラー面
ｐｌが設けられており、ミラー面ｐｌの下部にバーミラ
ー７が設けられている。バーミラー７には、鉛直方向お
よび水平方向に対して４５度の傾斜角を有するミラー面
ｐ２が設けられている。
【００２０】この構成において、ミラー面ｐｌに第１の
レーザ光Ｌ１を照射することにより微動ステージのミラ
ー面ｐｌにおけるｘ方向の変位ｄＬ１＝ｄｘｌが計測さ
れる。また、水平方向から入射され、ミラー面ｐ２によ
って鉛直方向に反射される第２のレーザ光Ｌ２によっ
て、微動ステージのミラー面ｐ２におけるｘ方向の変位
と鉛直方向の変位の和ｄＬ２＝ｄｘ２＋ｄｚが計測され
る。したがって、微動ステージのｙ軸方向の傾きをθ
ｙ、第１のレーザ光Ｌ１および第２のレーザ光Ｌ２によ
る計側点の、鉛直方向の高さの差をｈとすれば、 ｄｘ２＝ｄｘ１−ｈθｙ であることから、微動ステージの、ミラー面ｐ２におけ
るｚ方向の変位ｄｚは、 ｄｚ＝ｄＬ２＋ｈθｙ−ｄＬ１ で求めることができる。したがって、本実施例により、
簡単な構成でステージの鉛直方向の位置検出が可能とな
る。
レーザ光Ｌ１を照射することにより微動ステージのミラ
ー面ｐｌにおけるｘ方向の変位ｄＬ１＝ｄｘｌが計測さ
れる。また、水平方向から入射され、ミラー面ｐ２によ
って鉛直方向に反射される第２のレーザ光Ｌ２によっ
て、微動ステージのミラー面ｐ２におけるｘ方向の変位
と鉛直方向の変位の和ｄＬ２＝ｄｘ２＋ｄｚが計測され
る。したがって、微動ステージのｙ軸方向の傾きをθ
ｙ、第１のレーザ光Ｌ１および第２のレーザ光Ｌ２によ
る計側点の、鉛直方向の高さの差をｈとすれば、 ｄｘ２＝ｄｘ１−ｈθｙ であることから、微動ステージの、ミラー面ｐ２におけ
るｚ方向の変位ｄｚは、 ｄｚ＝ｄＬ２＋ｈθｙ−ｄＬ１ で求めることができる。したがって、本実施例により、
簡単な構成でステージの鉛直方向の位置検出が可能とな
る。
【００２１】また、本実施例は、鉛直方向計測のための
ミラー面ｐ２、ｐ４、ｐ６を、水平方向計測のためのミ
ラー面の下方に、別個の構造体で構成している点に特徴
がある。これは、水平方向および鉛直方向のためのバー
ミラーを同一の部材で構成した場合と比較すると、さら
に小型軽量化が可能となり、各々のミラーの固有振動数
を高域にシフトさせることができる。よって微動ステー
ジ全体としても、高剛性を維持することが可能となる。
ミラー面ｐ２、ｐ４、ｐ６を、水平方向計測のためのミ
ラー面の下方に、別個の構造体で構成している点に特徴
がある。これは、水平方向および鉛直方向のためのバー
ミラーを同一の部材で構成した場合と比較すると、さら
に小型軽量化が可能となり、各々のミラーの固有振動数
を高域にシフトさせることができる。よって微動ステー
ジ全体としても、高剛性を維持することが可能となる。
【００２２】［第２の実施例］図２（ａ）および（ｂ）
は本発明の第２の実施例に係る微動ステージを示す平面
図および正面図である。これらの図において、ｌはウエ
ハ、２はウエハチャック、３はウエハチャック２が設け
られた微動ステージ本体、３４〜３６は第１〜第３の鉛
直方向の変位計測のためのバーミラーである。微動ステ
ージ本体３は、＋Ｘ方向、−Ｘ方向および＋Ｙ方向の３
方向の端面にこれら水平な３方向の変位を計測するため
のミラー面ｐｌ、ｐ３およびｐ５が蒸着により形成され
ており、かつウエハ１面の高さと前記水平３方向の計測
位置の高さとが一致するように、前記３方向の周囲を残
した形で微動ステージ中央部に彫り込み加工がなされて
いる。ミラー面ｐｌ、ｐ３およびｐ５の下部には、それ
ぞれバーミラー３４〜３６が設けられている。バーミラ
ー３４〜３６のそれぞれには、鉛直方向および水平方向
に対して４５度の傾斜角を有するミラー面ｐ２、ｐ４お
よびｐ６が設けられている。
は本発明の第２の実施例に係る微動ステージを示す平面
図および正面図である。これらの図において、ｌはウエ
ハ、２はウエハチャック、３はウエハチャック２が設け
られた微動ステージ本体、３４〜３６は第１〜第３の鉛
直方向の変位計測のためのバーミラーである。微動ステ
ージ本体３は、＋Ｘ方向、−Ｘ方向および＋Ｙ方向の３
方向の端面にこれら水平な３方向の変位を計測するため
のミラー面ｐｌ、ｐ３およびｐ５が蒸着により形成され
ており、かつウエハ１面の高さと前記水平３方向の計測
位置の高さとが一致するように、前記３方向の周囲を残
した形で微動ステージ中央部に彫り込み加工がなされて
いる。ミラー面ｐｌ、ｐ３およびｐ５の下部には、それ
ぞれバーミラー３４〜３６が設けられている。バーミラ
ー３４〜３６のそれぞれには、鉛直方向および水平方向
に対して４５度の傾斜角を有するミラー面ｐ２、ｐ４お
よびｐ６が設けられている。
【００２３】この構成において、ミラー面ｐｌに第１の
レーザ光Ｌ１を照射することにより微動ステージのミラ
ー面ｐｌにおけるｘ方向の変位ｄＬ１＝ｄｘｌが計測さ
れる。また、水平方向から入射され、ミラー面ｐ２によ
って鉛直方向に反射される第２のレーザ光Ｌ２によっ
て、微動ステージのミラー面ｐ２におけるｘ方向の変位
と鉛直方向の変位の和ｄＬ２＝ｄｘ２＋ｄｚが計測され
る。したがって、微動ステージのｙ軸方向の傾きをθ
ｙ、第１のレーザ光Ｌｌおよび第２のレーザ光Ｌ２によ
る計側点の、鉛直方向の高さの差をｈとすれば、 ｄｘ２＝ｄｘｌ−ｈθｙ であることから、微動ステージの、ミラー面ｐ２におけ
るｚ方向の変位ｄｚは、 ｄｚ＝ｄＬ２＋ｈθｙ−ｄＬ１ で求めることができる。
レーザ光Ｌ１を照射することにより微動ステージのミラ
ー面ｐｌにおけるｘ方向の変位ｄＬ１＝ｄｘｌが計測さ
れる。また、水平方向から入射され、ミラー面ｐ２によ
って鉛直方向に反射される第２のレーザ光Ｌ２によっ
て、微動ステージのミラー面ｐ２におけるｘ方向の変位
と鉛直方向の変位の和ｄＬ２＝ｄｘ２＋ｄｚが計測され
る。したがって、微動ステージのｙ軸方向の傾きをθ
ｙ、第１のレーザ光Ｌｌおよび第２のレーザ光Ｌ２によ
る計側点の、鉛直方向の高さの差をｈとすれば、 ｄｘ２＝ｄｘｌ−ｈθｙ であることから、微動ステージの、ミラー面ｐ２におけ
るｚ方向の変位ｄｚは、 ｄｚ＝ｄＬ２＋ｈθｙ−ｄＬ１ で求めることができる。
【００２４】さて、このように、水平方向のバーミラー
をなくし、水平方向のミラー面を微動ステージ本体に直
接蒸着し、またはコーティングすること等により、一体
構造とすることで、高剛性化が可能となる。
をなくし、水平方向のミラー面を微動ステージ本体に直
接蒸着し、またはコーティングすること等により、一体
構造とすることで、高剛性化が可能となる。
【００２５】また、第１の実施例と同様に、本実施例に
おいても、鉛直方向計測のためのミラー面を水平方向計
測のためのミラー面の下方に、別個の構造体で構成して
いる点に特徴がある。これは、水平方向および鉛直方向
のためのバーミラーを同一の部材で構成した場合と比較
すると、さらに小型軽量化が可能となり、各々のミラ一
の固有振動数を高域にシフトさせることができる。よっ
て微動ステージ全体としても、高剛性を維持することが
可能となる。
おいても、鉛直方向計測のためのミラー面を水平方向計
測のためのミラー面の下方に、別個の構造体で構成して
いる点に特徴がある。これは、水平方向および鉛直方向
のためのバーミラーを同一の部材で構成した場合と比較
すると、さらに小型軽量化が可能となり、各々のミラ一
の固有振動数を高域にシフトさせることができる。よっ
て微動ステージ全体としても、高剛性を維持することが
可能となる。
【００２６】［第３の実施例］図３（ａ）および（ｂ）
は本発明の第３の実施例に係る微動ステージを示す平面
図および正面図である。これらの図において、図２と同
一の符号は図２と同じ要素を示す。４４〜４６は第１〜
第３の鉛直方向の変位計測のためのバーミラーである。
本実施例において図２の第２実施例と異なる点は、バー
ミラー４４〜４６が、これらに対応する図２のバーミラ
ー３４〜３６とは異なり、微動ステージ本体３の下面に
固定されている点にある。他の構成および計測動作は第
２実施例の場合と同様であり、本実施例も第２実施例と
同様の効果を奏する。
は本発明の第３の実施例に係る微動ステージを示す平面
図および正面図である。これらの図において、図２と同
一の符号は図２と同じ要素を示す。４４〜４６は第１〜
第３の鉛直方向の変位計測のためのバーミラーである。
本実施例において図２の第２実施例と異なる点は、バー
ミラー４４〜４６が、これらに対応する図２のバーミラ
ー３４〜３６とは異なり、微動ステージ本体３の下面に
固定されている点にある。他の構成および計測動作は第
２実施例の場合と同様であり、本実施例も第２実施例と
同様の効果を奏する。
【００２７】ただし本実施例はさらに次の効果を奏す
る。第１および第２の実施例では、例えば各バーミラー
の取り付けをビス締結する場合などにおいて、ミラー面
ｐ２、ｐ４およびｐ６の面、つまり傾いた面からビス締
結する必要があるため、取り付け強度および精度を保持
する上での難点がある。これに対し、本実施例では、バ
ーミラー４４〜４６を微動ステージ本体３の下面に配置
したため、底面よりビス締結することができる。
る。第１および第２の実施例では、例えば各バーミラー
の取り付けをビス締結する場合などにおいて、ミラー面
ｐ２、ｐ４およびｐ６の面、つまり傾いた面からビス締
結する必要があるため、取り付け強度および精度を保持
する上での難点がある。これに対し、本実施例では、バ
ーミラー４４〜４６を微動ステージ本体３の下面に配置
したため、底面よりビス締結することができる。
【００２８】［第４の実施例］図４は本発明の第４の実
施例である、微動ステージを利用した位置決め装置を示
したものであり、第３の実施例の微動ステージを利用し
て、長ストロークの位置決め装置を実現したものであ
る。なお、簡単のため＋ｘ方向の計測についてのみ説明
するが、他の方向についても全く同様である。
施例である、微動ステージを利用した位置決め装置を示
したものであり、第３の実施例の微動ステージを利用し
て、長ストロークの位置決め装置を実現したものであ
る。なお、簡単のため＋ｘ方向の計測についてのみ説明
するが、他の方向についても全く同様である。
【００２９】図４において、Ｓｆは第３の実施例で説明
した微動ステージ、ｐｌおよびｐ５は並進ｘ方向計測の
ためのミラー面、ｐ２、ｐ６、ｐ７、ｐ９はｚ方向計測
のためのミラー面、５４、５６、５７、５９はバーミラ
ーである。
した微動ステージ、ｐｌおよびｐ５は並進ｘ方向計測の
ためのミラー面、ｐ２、ｐ６、ｐ７、ｐ９はｚ方向計測
のためのミラー面、５４、５６、５７、５９はバーミラ
ーである。
【００３０】また、Ｓｃは微動ステージＳｆをＸＹ方向
へ長ストローク移動せしめる粗動ステージ、Ｍｘは粗動
ステージＳｃのＸ方向可動子、Ｍｙは粗動ステージＳｃ
のＹ方向可動子、Ｆｘは粗動ステージＳｃのＸ方向固定
子、Ｆｙは粗動ステージＳｃのＹ方向固定子、ＧｙはＹ
方向ガイドである。
へ長ストローク移動せしめる粗動ステージ、Ｍｘは粗動
ステージＳｃのＸ方向可動子、Ｍｙは粗動ステージＳｃ
のＹ方向可動子、Ｆｘは粗動ステージＳｃのＸ方向固定
子、Ｆｙは粗動ステージＳｃのＹ方向固定子、ＧｙはＹ
方向ガイドである。
【００３１】さらに、Ｂｓは粗動ステージＳｃに対する
移動水平面を有するステージ定盤、Ｄｓはステージ定盤
Ｂｓに対する除振手段、１１および１５は並進ｘ方向計
測のための干渉計、１２および１６はΖ方向計測のため
の干渉計、Ｂｉはレーザ干渉計１１、１２、１５、１６
などから構成されるレーザ計測器の部品のうち、計測基
準側に設置すべき部品を搭載するための計測定盤、Ｄｉ
は計測定盤Ｂｉに対する除振手段、Ｈｓは本体フレーム
である。
移動水平面を有するステージ定盤、Ｄｓはステージ定盤
Ｂｓに対する除振手段、１１および１５は並進ｘ方向計
測のための干渉計、１２および１６はΖ方向計測のため
の干渉計、Ｂｉはレーザ干渉計１１、１２、１５、１６
などから構成されるレーザ計測器の部品のうち、計測基
準側に設置すべき部品を搭載するための計測定盤、Ｄｉ
は計測定盤Ｂｉに対する除振手段、Ｈｓは本体フレーム
である。
【００３２】つぎに、この図において、＋ｘ方向の端面
に着目すると、＋ｘ方向の微動ステージＳｆの端面には
ミラー面ｐｌが設けられており、ミラー面ｐｌに第１の
レーザ光Ｌｌが照射されることより、干渉計１１におい
て微動ステージのｘ方向の変位ｄｘが計測される。ｚ計
測の方法は、第３の実施例で説明した通りである。
に着目すると、＋ｘ方向の微動ステージＳｆの端面には
ミラー面ｐｌが設けられており、ミラー面ｐｌに第１の
レーザ光Ｌｌが照射されることより、干渉計１１におい
て微動ステージのｘ方向の変位ｄｘが計測される。ｚ計
測の方法は、第３の実施例で説明した通りである。
【００３３】したがって、本実施例における微動ステー
ジ自身の高剛性化の効果は、第３の実施例で述べた通り
であるが、さらに本実施例においては、移動体の基準と
なるステージ定盤Ｂｓとは別の計測定盤を設けてレーザ
計測器を搭載し、これを除振することによって、ステー
ジ加減速時の慣性力やステージ自体の自重が移動荷重と
して作用したときの、ステージガイド部の変形や、ステ
ージを支持搭載する定盤や構造体の変形に起因した計測
誤差を除去することが可能となり、以って高精度な位置
決めが可能となる。
ジ自身の高剛性化の効果は、第３の実施例で述べた通り
であるが、さらに本実施例においては、移動体の基準と
なるステージ定盤Ｂｓとは別の計測定盤を設けてレーザ
計測器を搭載し、これを除振することによって、ステー
ジ加減速時の慣性力やステージ自体の自重が移動荷重と
して作用したときの、ステージガイド部の変形や、ステ
ージを支持搭載する定盤や構造体の変形に起因した計測
誤差を除去することが可能となり、以って高精度な位置
決めが可能となる。
【００３４】［第５の実施例］図５、６は本発明の第５
の実施例である、微動ステージを利用した位置決め装置
を示したものである。なお、簡単のため、ｘ方向の計測
についてのみ説明するが、他の方向についても全く同様
である。
の実施例である、微動ステージを利用した位置決め装置
を示したものである。なお、簡単のため、ｘ方向の計測
についてのみ説明するが、他の方向についても全く同様
である。
【００３５】図５において、Ｓｆは第３の実施例で説明
した微動ステージ、ｐｌおよびｐ５は並進ｘ方向計測の
ためのミラー面、ｐ２、ｐ６、ｐ７、ｐ９はｚ方向計測
のためのミラー面、６４、６６、６７、６９はバーミラ
ーである。
した微動ステージ、ｐｌおよびｐ５は並進ｘ方向計測の
ためのミラー面、ｐ２、ｐ６、ｐ７、ｐ９はｚ方向計測
のためのミラー面、６４、６６、６７、６９はバーミラ
ーである。
【００３６】また、Ｓｃは微動ステージＳｆをＸＹ方向
へ長ストローク移動せしめる粗動ステージ、Ｍｘは粗動
ステージＳｃのＸ方向可動子、Ｍｙは粗動ステージＳｃ
のＹ方向可動子、Ｆｘは粗動ステージＳｃのＸ方向固定
子、Ｆｙは粗動ステージＳｃのＹ方向固定子、ＧｙはＹ
方向ガイドである。
へ長ストローク移動せしめる粗動ステージ、Ｍｘは粗動
ステージＳｃのＸ方向可動子、Ｍｙは粗動ステージＳｃ
のＹ方向可動子、Ｆｘは粗動ステージＳｃのＸ方向固定
子、Ｆｙは粗動ステージＳｃのＹ方向固定子、ＧｙはＹ
方向ガイドである。
【００３７】さらに、Ｂｓは粗動ステージＳｃに対する
移動水平面を有するステージ定盤、Ｄｓはステージ定盤
Ｂｓに対する除振手段、１１および１５は並進ｘ方向計
測のための干渉計、Ｒ１およびＲ２はｚ方向計測のため
のレシーバ、Ｂｉはレーザ干渉計やレシーバなどから構
成されるレーザ計測器の部品のうち、計測基準側に設置
すべき部品を搭載するための計測定盤、Ｄｉは計測定盤
Ｂｉに対する除振手段、Ｈｓは本体フレームである。
移動水平面を有するステージ定盤、Ｄｓはステージ定盤
Ｂｓに対する除振手段、１１および１５は並進ｘ方向計
測のための干渉計、Ｒ１およびＲ２はｚ方向計測のため
のレシーバ、Ｂｉはレーザ干渉計やレシーバなどから構
成されるレーザ計測器の部品のうち、計測基準側に設置
すべき部品を搭載するための計測定盤、Ｄｉは計測定盤
Ｂｉに対する除振手段、Ｈｓは本体フレームである。
【００３８】図６は、＋ｘ方向のバーミラー６４を拡大
した図であり、この図において、Ｑ１は１／４λ板、ｐ
ｌｌ、ｐｌ２はミラー面、Ｔ１はレーザ干渉のためのハ
ーフミラーである。
した図であり、この図において、Ｑ１は１／４λ板、ｐ
ｌｌ、ｐｌ２はミラー面、Ｔ１はレーザ干渉のためのハ
ーフミラーである。
【００３９】次に、この図において、バーミラー６４に
着目すると、まずミラー面ｐｌに第１のレーザ光Ｌ１が
照射され、干渉計１１において微動ステージのｘ方向の
変位ｄｘが計測される。
着目すると、まずミラー面ｐｌに第１のレーザ光Ｌ１が
照射され、干渉計１１において微動ステージのｘ方向の
変位ｄｘが計測される。
【００４０】さらに、ミラー面ｐｌの下部には、水平方
向および鉛直方向に対して４５度の傾斜角を有するミラ
ー面ｐ２が設けられ、ステージ本体フレームＨｓにはバ
ーミラー６７があり、そこに水平なミラー面ｐ７が設け
られている。
向および鉛直方向に対して４５度の傾斜角を有するミラ
ー面ｐ２が設けられ、ステージ本体フレームＨｓにはバ
ーミラー６７があり、そこに水平なミラー面ｐ７が設け
られている。
【００４１】図６において、水平方向から入射され、第
２のミラー面ｐ２によって鉛直方向に反射される第２の
レーザ光Ｌ２は、ハーフミラーＴ１および１／４λ板Ｑ
１を透過してバーミラー６７に設けられたミラー面ｐ７
によって反射され、ハーフミラーＴ１へ戻る。この過程
で１／４λ板を２回透過したことにより、今度はハーフ
ミラーＴｌによって水平方向へ反射され、その後再び上
方へ反射され、ミラーｐ７を経てハーフミラーＴｌへ戻
る。このときｌ／４λ板を再度２回透過したことにな
り、今度はハーフミラーＴｌを通過し、ミラー面ｐ２で
水平方向へ戻される。
２のミラー面ｐ２によって鉛直方向に反射される第２の
レーザ光Ｌ２は、ハーフミラーＴ１および１／４λ板Ｑ
１を透過してバーミラー６７に設けられたミラー面ｐ７
によって反射され、ハーフミラーＴ１へ戻る。この過程
で１／４λ板を２回透過したことにより、今度はハーフ
ミラーＴｌによって水平方向へ反射され、その後再び上
方へ反射され、ミラーｐ７を経てハーフミラーＴｌへ戻
る。このときｌ／４λ板を再度２回透過したことにな
り、今度はハーフミラーＴｌを通過し、ミラー面ｐ２で
水平方向へ戻される。
【００４２】したがって、ハーフミラーＴ１の位置にお
いて、第２のレーザ光Ｌ２と、参照光との間で干渉が生
じ、これをレシーバＲ１で受けることによって、微動ス
テージのｘ方向の変位と垂直方向の変位の和ｄｘ＋ｄｚ
が計測されることになる。これから先の前記第１のミラ
ー面ｐｌによって計測されるｄｘを引くことによって、
垂直方向の変位ｄｚが求まる。他の計測点についても同
様にして垂直方向の変位ｄｚを計測することができる。
いて、第２のレーザ光Ｌ２と、参照光との間で干渉が生
じ、これをレシーバＲ１で受けることによって、微動ス
テージのｘ方向の変位と垂直方向の変位の和ｄｘ＋ｄｚ
が計測されることになる。これから先の前記第１のミラ
ー面ｐｌによって計測されるｄｘを引くことによって、
垂直方向の変位ｄｚが求まる。他の計測点についても同
様にして垂直方向の変位ｄｚを計測することができる。
【００４３】さて、本実施例における、ステージを支持
搭載する定盤や構造体の変形に起因した計測誤差の除去
効果については、第４の実施例で述べた通りである。
搭載する定盤や構造体の変形に起因した計測誤差の除去
効果については、第４の実施例で述べた通りである。
【００４４】さらに本実施例においては、ハーフミラー
Ｔ１を微動ステージに搭載されたバーミラー６４に設
け、そこで干渉を発生させており、ｘ位置計測のための
干渉計１１と、ｙ方向およびｚ方向の位置が同一になる
ように設けられている点が大きな特徴である。
Ｔ１を微動ステージに搭載されたバーミラー６４に設
け、そこで干渉を発生させており、ｘ位置計測のための
干渉計１１と、ｙ方向およびｚ方向の位置が同一になる
ように設けられている点が大きな特徴である。
【００４５】すなわち、ｘ方向の計測点と、ｚ方向の計
測点における、ｙ方向およびｚ方向の位置が同一になる
ように設けられていることになる。
測点における、ｙ方向およびｚ方向の位置が同一になる
ように設けられていることになる。
【００４６】したがって、例えばｘ方向の計測点と、ｚ
方向の計測点の高さがｈだけ異なる場合のｚ位置計測に
おいて必要となる、微動ステージのθｙ方向の回転に起
因した水平方向の変位ｈ・θｙの補正が不要となる。つ
まり、本実施例ではθｙの計測誤差がｚ変位計測におけ
るアッベ（ａｂｂｅ）誤差として重畳することがなく、
アッベ誤差をゼロとすることが可能になる。
方向の計測点の高さがｈだけ異なる場合のｚ位置計測に
おいて必要となる、微動ステージのθｙ方向の回転に起
因した水平方向の変位ｈ・θｙの補正が不要となる。つ
まり、本実施例ではθｙの計測誤差がｚ変位計測におけ
るアッベ（ａｂｂｅ）誤差として重畳することがなく、
アッベ誤差をゼロとすることが可能になる。
【００４７】これによって、高精度の位置計測、ひいて
は高精度の位置制御が可能となるわけである。
は高精度の位置制御が可能となるわけである。
【００４８】
【発明の効果】したがって、本発明の位置決め装置によ
れば、簡単な構成によって、メカ振動や慣性力・自重変
動等による計測誤差の生じにくいＺ方向変位の計測を提
供することができる。
れば、簡単な構成によって、メカ振動や慣性力・自重変
動等による計測誤差の生じにくいＺ方向変位の計測を提
供することができる。
【００４９】また、位置計測のためのミラー面をステー
ジに構成する際に、できるだけ高剛性を維持できる構成
方法を提供することができ、さらに、Ζ方向変位の計測
におけるアッベ（Ａｂｂｅ）誤差をなくし、アッベ誤差
に起因する位置決め精度の劣化が発生しない構成方法を
提供することも可能となる。
ジに構成する際に、できるだけ高剛性を維持できる構成
方法を提供することができ、さらに、Ζ方向変位の計測
におけるアッベ（Ａｂｂｅ）誤差をなくし、アッベ誤差
に起因する位置決め精度の劣化が発生しない構成方法を
提供することも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施例に係る微動ステージを
示す図である。
示す図である。
【図２】 本発明の第２の実施例に係る微動ステージを
示す図である。
示す図である。
【図３】 本発明の第３の実施例に係る位置決め装置を
示す図である。
示す図である。
【図４】 本発明の第４の実施例に係る位置決め装置を
示す図である。
示す図である。
【図５】 本発明の第５の実施例に係る位置決め装置を
示す図である。
示す図である。
【図６】 本発明の第５の実施例に係る位置決め装置の
拡大図である。
拡大図である。
１：ウエハ、２：ウエハチャック、３：微動ステージ本
体、４〜６：第１〜第３の並進方向の変位計測のための
バーミラー、７〜９，３４〜３６，４４〜４６：第１〜
第３の鉛直方向の変位計測のためのバーミラー、２４〜
２６：水平方向および鉛直方向変位計測用のミラー面が
形成されたバーミラー、ｐｌ，ｐ３，ｐ５：水平方向変
位計測用のミラー面、ｐ２，ｐ４，ｐ６：鉛画方向変位
計測用のミラー面、Ｌ１〜Ｌ６：レーザ光、Ｓｆ：微動
ステージ、５４，５６，５７，５９；バーミラー、Ｓ
ｃ：粗動ステージ、Ｍｘ：粗動ステージＳｃのＸ方向可
動子、Ｍｙ：粗動ステージＳｃのＹ方向可動子、Ｆｘ：
粗動ステージＳｃのＸ方向固定子、Ｆｙ：粗動ステージ
ＳｃのＹ方向固定子、Ｇｙ：Ｙ方向ガイド、Ｂｓ：ステ
ージ定盤、Ｄｓ：ステージ定盤Ｂｓに対する除振手段、
１１，１５：並進ｘ方向計測のための干渉計、Ｒ１，Ｒ
２：並進ｚ方向計測のためのレシーバ、Ｂｉ：計測定
盤、Ｄｉ：計測定盤Ｂｉに対する除振手段、Ｈｓ：本体
フレーム、６４，６６，６７，６９：バーミラー、１
２，１６：並進ｚ方向計測のための干渉計、Ｑ１：１／
４λ板、ｐｌｌ，ｐ１２：ミラー面、Ｔ１：ハーフミラ
ー。
体、４〜６：第１〜第３の並進方向の変位計測のための
バーミラー、７〜９，３４〜３６，４４〜４６：第１〜
第３の鉛直方向の変位計測のためのバーミラー、２４〜
２６：水平方向および鉛直方向変位計測用のミラー面が
形成されたバーミラー、ｐｌ，ｐ３，ｐ５：水平方向変
位計測用のミラー面、ｐ２，ｐ４，ｐ６：鉛画方向変位
計測用のミラー面、Ｌ１〜Ｌ６：レーザ光、Ｓｆ：微動
ステージ、５４，５６，５７，５９；バーミラー、Ｓ
ｃ：粗動ステージ、Ｍｘ：粗動ステージＳｃのＸ方向可
動子、Ｍｙ：粗動ステージＳｃのＹ方向可動子、Ｆｘ：
粗動ステージＳｃのＸ方向固定子、Ｆｙ：粗動ステージ
ＳｃのＹ方向固定子、Ｇｙ：Ｙ方向ガイド、Ｂｓ：ステ
ージ定盤、Ｄｓ：ステージ定盤Ｂｓに対する除振手段、
１１，１５：並進ｘ方向計測のための干渉計、Ｒ１，Ｒ
２：並進ｚ方向計測のためのレシーバ、Ｂｉ：計測定
盤、Ｄｉ：計測定盤Ｂｉに対する除振手段、Ｈｓ：本体
フレーム、６４，６６，６７，６９：バーミラー、１
２，１６：並進ｚ方向計測のための干渉計、Ｑ１：１／
４λ板、ｐｌｌ，ｐ１２：ミラー面、Ｔ１：ハーフミラ
ー。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5F031 CA02 JA06 JA14 JA17 JA22 KA06 KA08 MA27 5F046 CB02 CB07 CC01 CC03 CC05 CC16
Claims (11)
- 【請求項１】 複数の方向に移動可能な移動体と、 該移動体に設けられた第１反射面と、 該移動体に設けられ、該移動体を構成する部材の下面も
しくは側面に該移動体とは別個の部材で形成された第２
反射面と、 該第１反射面で第１のレーザ計測ビームを反射させて該
移動体の水平方向及び該水平方向に平行な回転方向の位
置情報、さらに該第２反射面で第２のレーザ計測ビーム
を反射させて該水平方向を複数含む面と交差する方向の
該移動体の位置情報をそれぞれ計測する位置計測器と、 を有することを特徴とする位置決め装置。 - 【請求項２】 前記第１反射面を、前記移動体を構成す
る部材の部材面に対して直接設けることを特徴とする請
求項１に記載の位置決め装置。 - 【請求項３】 前記第２反射面は、前記水平方向とほぼ
平行な前記位置計測器の前記第２のレーザ計測ビームを
上方に反射させることを特徴とする請求項１または２に
記載の位置決め装置。 - 【請求項４】 複数の方向に移動可能な移動体と、 該移動体に設けられた第１反射面と、 該移動体に設けられ、該第１反射面とは平行でない第２
反射面と、 該移動体に設けられ、水平方向と交差する方向における
変位をレーザ干渉により計測するためのハーフミラー面
と、 該第１反射面で第１のレーザ計測ビームを反射させて該
移動体の水平方向及び該水平方向に平行な回転方向の位
置情報、さらに該第２反射面で第２のレーザ計測ビーム
を反射させて該水平方向を複数含む面と交差する方向の
該移動体の位置情報をそれぞれ計測する位置計測器と、 を有することを特徴とする位置決め装置。 - 【請求項５】 前記第１反射面へ前記第１のレーザ計測
ビームが照射される前記第１反射面上の第１照射点と、
前記第２反射面から反射された前記第２のレーザ計測ビ
ームが前記ハーフミラー面へ照射される前記ハーフミラ
ー面上の第２照射点の、前記水平方向と交差する方向に
対する位置を、同一もしくはほぼ同一に設定することを
特徴とする請求項４に記載の位置決め装置。 - 【請求項６】 前記第２反射面は、前記水平方向とほぼ
平行な前記第２のレーザ計測ビームを、上方に反射させ
ることを特徴とする請求項４または５に記載の位置決め
装置。 - 【請求項７】 前記移動体は、前記移動水平面を有する
移動体定盤に搭載されることを特徴とする請求項１〜６
のいずれかｌ項に記載の位置決め装置。 - 【請求項８】 前記移動体定盤は、該移動体定盤を除振
する移動体除振手段によって除振されることを特徴とす
る請求項１〜７のいずれか１項に記載の位置決め装置。 - 【請求項９】 前記位置計測器は、前記移動体定盤とは
別の計測定盤に搭載され、該計測定盤は、該計測定盤を
除振する計測定盤除振手段によって除振されることを特
徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の位置決め
装置。 - 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれかの位置決め装
置を備えることを特徴とする露光装置。 - 【請求項１１】 請求項１０の露光装置を用いてデバイ
スを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32400199A JP2001143997A (ja) | 1999-11-15 | 1999-11-15 | 位置決め装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32400199A JP2001143997A (ja) | 1999-11-15 | 1999-11-15 | 位置決め装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001143997A true JP2001143997A (ja) | 2001-05-25 |
| JP2001143997A5 JP2001143997A5 (ja) | 2006-12-28 |
Family
ID=18161028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32400199A Pending JP2001143997A (ja) | 1999-11-15 | 1999-11-15 | 位置決め装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001143997A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006156508A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Nikon Corp | 目標値決定方法、移動方法及び露光方法、露光装置及びリソグラフィシステム |
| JP2006222206A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Canon Inc | 位置決め装置 |
| US7193723B2 (en) | 2004-07-02 | 2007-03-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus and photolithography apparatus including the same |
| JP2017147407A (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 日本特殊陶業株式会社 | 位置決めステージ用のテーブルおよびこれを用いた位置決め方法 |
-
1999
- 1999-11-15 JP JP32400199A patent/JP2001143997A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7193723B2 (en) | 2004-07-02 | 2007-03-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus and photolithography apparatus including the same |
| EP1612608A3 (en) * | 2004-07-02 | 2007-10-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus and photolithography apparatus including the same |
| JP2006156508A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Nikon Corp | 目標値決定方法、移動方法及び露光方法、露光装置及びリソグラフィシステム |
| JP2006222206A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Canon Inc | 位置決め装置 |
| US8031328B2 (en) | 2005-02-09 | 2011-10-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus |
| JP2017147407A (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 日本特殊陶業株式会社 | 位置決めステージ用のテーブルおよびこれを用いた位置決め方法 |
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