JP2005020030A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. マスク・パターンを基板ホルダー上に配置された基板の複数の領域に投影する投影ステーションと、各基板領域の高さおよび基板ホルダーの基準面の高さを測定する測定ステーションとを備える装置で、装置を通る基板の経路が、測定ステーションを介して投影ステーションへと延在する装置であって、測定ステーションが、それぞれ基板領域および基板ホルダー基準面の高さを測定する第１および第２高さセンサーを収容し、投影ステーションが、基板ホルダー基準面の高さを測定する第３高さセンサーを収容し、３つの高さセンサーが光学的高さセンサーであるリソグラフィ投影装置において、
   第２および第３高さセンサーのうちの少なくとも１つが、基板のＸおよびＹ変位および位置を測定する別個の複合ＸＹＺ干渉計システムの一部を形成して、幾つかのＸおよびＹ測定軸を有し、その数が、少なくとも干渉計で求める基板の変位数に等しく、前記測定軸が、基板ホルダー上に配置されたＸおよびＹ測定鏡と協力し、前記干渉計システムが、さらに、ＸＹ面に対して鋭角で基板ホルダー上に配置されたＺ測定鏡と協力し、前記Ｚ測定軸およびＺ測定鏡が、Ｚ反射体およびＺ検出器とともに高さセンサーを構成することを特徴とする、リソグラフィ投影装置。
2. 測定ステーションが、基板領域に関連したアラインメント・マークを撮像する要素を備える光学的アラインメント・システムと、アラインメント・システム内の基準マーク上の少なくとも１つの基板ホルダー・アラインメント・マークとを含むことを特徴とする、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
3. 干渉計システムのＺ測定鏡が、ＸＹ面に対してほぼ４５°の角度で基板ホルダー上に配置されることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のリソグラフィ投影装置。
4. 干渉計システムのＺ測定鏡が、ＸまたはＹ測定鏡の面取り部分で構成されることを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
5. 干渉計システムのＺ測定鏡が、Ｘまたはｙ測定鏡も配置された基板ホルダーの側面に配置された面取り棒で構成され、前記棒が、Ｚ方向に前記側面の小さい部分のみ、およびこれに垂直の方向で側面全体に延在することを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
6. 干渉計システムのＺ測定鏡が、基板から遠い基板ホルダーの部分に配置されることを特徴とする、請求項５に記載のリソグラフィ投影装置。
7. Ｚ測定ビームに関連した基準ビームの基準鏡が、Ｚ測定鏡も配置された基板ホルダーの側面に配置されたＸまたはＹ測定鏡で構成されることを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
8. Ｚ測定ビームの経路が、Ｚ測定鏡で反射してＺ検出器に向けられるＺ測定ビームを、前記測定鏡でさらに反射させるために前記鏡に反射させる逆反射体を組み込むことを特徴とする、請求項１から請求項７のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
9. Ｚ測定軸に加えて、干渉計システムがさらに少なくとも５本の測定軸を備えることを特徴とする、請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
10. 干渉計システムが、波長の異なる２本の測定ビームが伝搬する測定軸を有する、請求項１から請求項９のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
11. 測定鏡を除き、投影ステーションと干渉計ステーション、さらにＺ反射体の構成要素が、投影ステーションも固定されている剛性の枠内に配置され、枠が装置の他の構成要素から動的に隔離されて吊り下げられることを特徴とする、請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
12. ＸおよびＹ測定ビームに関連する基準ビームの基準鏡が、投影システムのホルダー上に配置されることを特徴とする、請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。