JP2005501240A5

JP2005501240A5 -

Info

Publication number: JP2005501240A5
Application number: JP2003523929A
Authority: JP
Filing date: 2002-08-14
Publication date: 2006-01-05

Claims

偏光干渉計装置であって、該装置は、少なくとも２つの光線を受け取るための干渉計手段を備え、そして第１および第２測定レグを提供し、該第１および第２測定レグは、該２つの光線を該第１および第２測定レグそれぞれに沿って進むよう分離し、各光線が該第１および第２測定レグを進む上で経験する光学経路におけるそれぞれの差についての情報を含む出口光線を生じ、該第１および第２測定レグが、それらの少なくとも１つが、変化し得る物理長を有するように構成および調整された光学経路を有し、該第１および第２測定レグの間の光学経路長差は、それらの光学経路の各物理長の間の差に従って変化し、該干渉計手段は、該測定経路の１つに沿って可動し得る平面対象鏡を備える台を含む複数の光学要素を備え；該台および該平面対象鏡以外の該複数の光学要素は、他の場合には該出口光線中の干渉要素と重なり干渉し得る分数調波周期誤差の寄与を、実質的に排除および軽減するために、該台および該平面対象鏡に対して同じ角度方向に微小角度で集合的に回転する、偏光干渉装置。
請求項１に記載の偏光干渉計装置であって、さらに、前記第１および第２測定レグの所定の光学経路の対応する１つからの各前記出口光線の間の位相差に対応する情報を含む混合された光学信号を生じさせるように、該出口光線を組み合わせる手段を備える、偏光干渉計装置。
請求項２に記載の偏光干渉計装置であって、さらに、前記混合された光学信号を検出し、そして前記測定レグの物理経路長およびそれらの相対変化率における差に対応する情報を含む電気干渉信号を発生させる手段を備える、偏光干渉計装置。
請求項３に記載の偏光干渉計装置であって、さらに前記電気干渉信号を解析するための電気的な手段を備える、偏光干渉計装置。
前記干渉手段が、前記第１および第２測定レグの対応する１つに沿って進む直交に偏光した光線を分離するために構成および調整された少なくとも１つの偏光光線スプリッターを備える、請求項１に記載の偏光干渉計装置。
前記光線が同一の広がりをもつ経路に沿って進む、請求項１に記載の偏光干渉計装置。
請求項１に記載の偏光干渉計装置であって、前記複数の光学要素が、複数の面を有する偏光光線スプリッター、該面の所定の１つと隣接するように調整された第１固定平面参照鏡、該面の所定の１つと隣接するように位置する第１四分波プレート、ならびに平面対象鏡を備える可動式台を備え；台および平面対象鏡以外の該複数の光学要素が、該台および平面対象鏡に対して同じ角度方向に微小角度で回転している、偏光干渉計装置。
前記干渉計が、前記直交に偏光した光線がそれらを通じた二重の経路を生じるよう調整される、請求項７に記載の偏光干渉計装置。
請求項１に記載の偏光干渉計装置であって、さらに、ウェハーを製造するための該偏光干渉計装置と動作可能に連結するマイクロリソグラフィー手段を備え、該マイクロリソグラフィー手段が、以下：
ウェハーを支持するための少なくとも１つの台；
該ウェハー上への空間的にパターン化された照射を画像化する照明システム；および
該画像化された照射に対して、該少なくとも１つの台の位置を調節する位置決めシステム；
を備え、
ここで、該偏光干渉計装置は、該画像化された照射に対して該ウェハーの位置を測定するように適合される、偏光干渉計装置。
請求項１に記載の偏光干渉計装置であって、さらに、ウェハー上に集積回路を製造するのに使用される、該偏光干渉計装置と動作可能に連結するマイクロリソグラフィー手段を備え、該マイクロリソグラフィー手段が、以下：
ウェハーを支持するための少なくとも１つの台；
照射源、遮蔽物、位置決めシステム、レンズアセンブリ、および該偏光干渉計装置の所定の部分を備える照明システム
を備え、
該マイクロリソグラフィー手段が、空間的にパターン化された照射を生じさせるよう、光源が該遮蔽物を通じて照射を方向付けるように動作可能であり、該位置決めシステムが、該光源からの照射に対して該遮蔽物の位置を調節し、該レンズアセンブリがウェハー上に該空間的にパターン化された照射を画像化し、そして該偏光干渉計装置が、該光源からの該照射に対する該遮蔽物の位置を測定する、偏光干渉計装置。
請求項１に記載の偏光干渉計装置であって、さらに、前記第１および第２要素を備える集積回路を製造するために、該偏光干渉計装置と動作可能に連結するマイクロリソグラフィー装置を備え、該第１および第２要素が互いにそして該偏光干渉計装置に対して可動し得、該偏光干渉計装置が該第２要素に対する該第１要素の位置を測定するように、該第１および第２要素が、それぞれ前記第１および第２測定レグと接続されており、それらとともに可動する、偏光干渉計装置。
請求項１に記載の偏光干渉計装置であって、さらに、リソグラフィー遮蔽物の製造に使用するための該偏光干渉計装置と動作可能に連結する光線書き込みシステムを備え、該光線書き込みシステムが、以下：
基材をパターン化するための書き込み光線を提供する光源；
基材を支持するための少なくとも１つの台；
該基材に該書き込み光線を送達するための光線指向用アセンブリ；ならびに
該少なくとも１つの台および該光線指向用アセンブリを互いに対して位置決めするための位置決めシステム
を備え、
該偏光干渉計装置が、該光線指向用アセンブリに対して、該少なくとも１つの台の位置を測定するように適合される、偏光干渉計装置。