JP6119242B2 - 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法に関する。

フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。

米国特許第７８６４２９２号

露光装置において、振動が発生すると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体上に液体の液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な回収部及び回収部からの液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材と、可動部材に接続され、第１流路からの液体が流通可能な第２流路を有し、少なくとも一部が変形可能な変形部材と、を備える露光装置が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体上に液体の液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な回収部及び回収部からの液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材と、少なくとも一部が前記可動部材と対向し、第１流路からの液体が流通可能な第２流路を有し、少なくとも一部が可動部材に対して相対移動可能な接続装置と、を備え、第１流路と液体回収装置に通じる第３流路とが第２流路を介して接続される露光装置が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、第１、第２のいずれか一つの態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第４の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体上に液体の液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な回収部及び回収部からの液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、可動部材を移動することと、回収部から回収され第１流路を流れる液体を、可動部材に接続され、少なくとも一部が変形可能な変形部材の第２流路を介して回収することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第５の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体上に液体の液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な回収部及び回収部からの液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、可動部材を移動することと、回収部から回収され第１流路を流れる液体を、少なくとも一部が可動部材と対向し、少なくとも一部が可動部材に対して相対移動可能な接続装置の第２流路、及び第２流路を介して第１流路と接続される第３流路を介して液体回収装置で回収することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第６の態様に従えば、第４、第５のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第７の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体上に液体の液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な回収部及び回収部からの液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、可動部材を移動することと、回収部から回収され第１流路を流れる液体を、可動部材に接続され、少なくとも一部が変形可能な変形部材の第２流路を介して回収することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第８の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体上に液体の液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な回収部及び回収部からの液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、可動部材を移動することと、回収部から回収され第１流路を流れる液体を、少なくとも一部が前記可動部材と対向し、少なくとも一部が可動部材に対して相対移動可能な接続装置の第２流路、及び第２流路を介して第１流路と接続される第３流路を介して液体回収装置で回収することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第９の態様に従えば、第７、第８のいずれか一つの態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。

本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。

第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す分解斜視図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す分解斜視図である。 第１実施形態に係る支持装置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る支持装置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る支持装置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る支持装置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る配管システムの一例を示す図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための模式図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための模式図である。 第２実施形態に係る配管システムの一例を示す図である。 第３実施形態に係る配管システムの一例を示す図である。 第４実施形態に係る配管システムの一例を示す図である。 第５実施形態に係る配管システムの一例を示す図である。 第６実施形態に係る接続装置の一例を示す図である。 第７実施形態に係る接続装置の一例を示す図である。 第８実施形態に係る接続装置の一例を示す図である。 第８実施形態に係る接続装置の一例を示す図である。 液浸部材の一例を示す図である。 液浸部材の一例を示す図である。 基板ステージの一例を示す図である。 デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。

本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。

図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。

また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ、及び計測システム４を含む各種の計測システムを支持する基準フレーム８Ａと、基準フレーム８Ａを支持する装置フレーム８Ｂと、基準フレーム８Ａと装置フレーム８Ｂとの間に配置され、装置フレーム８Ｂから基準フレーム８Ａへの振動の伝達を抑制する防振装置１０とを備えている。防振装置１０は、ばね装置などを含む。本実施形態において、防振装置１０は、気体ばね（例えばエアマウント）を含む。なお、基板Ｐのアライメントマークを検出する検出システム及び基板Ｐなどの物体の表面の位置を検出する検出システムの一方又は両方が基準フレーム８Ａに支持されてもよい。

また、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置９を備えている。空間ＣＳには、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材５、基板ステージ２、及び計測ステージ３が配置される。本実施形態においては、マスクステージ１、及び照明系ＩＬの少なくとも一部も空間ＣＳに配置される。

マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。

基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。

照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。

マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１１は、リニアモータを含んでもよい。

投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態において、投影光学系ＰＬは、縮小系である。投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／４である。なお、投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／５、又は１／８等でもよい。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬは、倒立像及び正立像のいずれを形成してもよい。

投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ方向を向いている。射出面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。射出面１２は、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面１２は、凸面でもよいし、凹面でもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸は、Ｚ軸と平行である。

終端光学素子１３の光軸と平行な方向に関して、射出面１２側が−Ｚ側であり、入射面側が＋Ｚ側である。投影光学系ＰＬの光軸と平行な方向に関して、投影光学系ＰＬの像面側が−Ｚ側であり、投影光学系ＰＬの物体面側が＋Ｚ側である。

基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。

基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。Ｚ軸方向に関して、射出面１２と第１保持部に保持された基板Ｐの上面との距離は、射出面１２と第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しい。

なお、Ｚ軸方向に関して、射出面１２と基板Ｐの上面との距離が射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しいとは、射出面１２と基板Ｐの上面との距離と射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離との差が、基板Ｐの露光時における射出面１２と基板Ｐの上面との距離（所謂、ワーキングディスタンス）の例えば１０％以内であることを含む。なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。例えば、Ｚ軸方向に関して、基板Ｐの上面との位置とカバー部材Ｔの上面の位置とが異なってもよい。例えば、基板Ｐの上面とカバー部材Ｔの上面との間に段差があってよい。なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよいし、カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。

基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１５は、リニアモータを含んでもよい。

計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットを含む。なお、計測システムが、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。なお、計測システム４が、干渉計システム及びエンコーダシステムのいずれか一方のみを含んでもよい。

基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。

次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。なお、液浸部材を、ノズル部材、と称してもよい。図２は、ＸＺ平面と平行な液浸部材５の断面図である。図３は、図２の一部を拡大した図である。図４は、液浸部材５の動作の一例を示す図である。図５は、液浸部材５を下側（−Ｚ側）から見た図である。図６及び図７は、液浸部材５の分解斜視図である。

液浸部材５は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体上に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。

終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能である。その物体は、射出面１２と対向可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。その物体は、液浸部材５の下方で移動可能であり、液浸部材５と対向可能である。

本実施形態において、その物体は、基板ステージ２の少なくとも一部（例えば基板ステージ２のカバー部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つを含む。

基板Ｐの露光において、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。

以下の説明においては、物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、物体は、基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。

液浸空間ＬＳは、２つの物体を跨ぐように形成される場合がある。例えば、液浸空間ＬＳは、基板ステージ２のカバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように形成される場合がある。液浸空間ＬＳは、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。

液浸空間ＬＳは、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。

液浸部材５は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１と、第１部材２１の下方において光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される第２部材２２とを備えている。第２部材２２は、第１部材２１に対して可動である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が対向可能に配置される。

第１部材２１は、第２部材２２よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置される。

第１部材２１は、−Ｚ方向を向く下面２３と、下面２３の周囲の少なくとも一部に配置された流体回収部２４とを有する。第２部材２２は、＋Ｚ方向を向く上面２５と、−Ｚ方向を向く下面２６と、下面２６の周囲の少なくとも一部に配置された流体回収部２７とを有する。流体回収部２４は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。流体回収部２７は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。

第１部材２１は、終端光学素子１３の側面１３Ｆと対向する内側面２８と、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して外側を向く外側面２９とを有する。第２部材２２は、外側面２９と間隙を介して対向する内側面３０を有する。

第１部材２１の内側面２８は、終端光学素子１３の側面１３Ｆと間隙を介して対向する。

第２部材２２は、下面２３に対向可能である。第２部材２２は、流体回収部２４に対向可能である。第２部材２２の上面２５の少なくとも一部は、下面２３と間隙を介して対向する。上面２５の少なくとも一部は、射出面１２と間隙を介して対向する。

基板Ｐ（物体）は、下面２６に対向可能である。基板Ｐ（物体）は、流体回収部２７の少なくとも一部に対向可能である。基板Ｐの上面の少なくとも一部は、下面２６と間隙を介して対向する。基板Ｐの上面の少なくとも一部は、射出面１２と間隙を介して対向する。

下面２３及び流体回収部２４の下面と上面２５との間に第１空間ＳＰ１が形成される。下面２６及び流体回収部２７の下面と基板Ｐ（物体）の上面との間に第２空間ＳＰ２が形成される。側面１３Ｆと内側面２８との間に第３空間ＳＰ３が形成される。

終端光学素子１３の側面１３Ｆは、射出面１２の周囲に配置される。側面１３Ｆは、露光光ＥＬを射出しない非射出面である。露光光ＥＬは、射出面１２を通過し、側面１３Ｆを通過しない。

第１部材２１の下面２３は、液体ＬＱを回収しない。下面２３は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第１部材２１の下面２３は、第２部材２２との間で液体ＬＱを保持可能である。

第２部材２２の上面２５は、液体ＬＱを回収しない。上面２５は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第２部材２２の上面２５は、第１部材２１との間で液体ＬＱを保持可能である。

第２部材２２の下面２６は、液体ＬＱを回収しない。下面２６は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第２部材２２の下面２６は、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。

内側面２８、外側面２９、及び内側面３０は、液体ＬＱを回収しない。内側面２８、外側面２９、及び内側面３０は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。

本実施形態において、下面２３は、ＸＹ平面と実質的に平行である。上面２５も、ＸＹ平面と実質的に平行である。下面２６も、ＸＹ平面と実質的に平行である。すなわち、下面２３と上面２５とは、実質的に平行である。上面２５と下面２６とは、実質的に平行である。

なお、下面２３が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。下面２３は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

なお、上面２５が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。上面２５は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

なお、下面２６が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。下面２６は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

なお、下面２３と上面２５とは、平行でもよいし、非平行でもよい。上面２５と下面２６とは、平行でもよいし、非平行でもよい。下面２３と下面２６とは、平行でもよいし、非平行でもよい。

第１部材２１は、射出面１２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３４を有する。第２部材２２は、射出面１２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３５を有する。ＸＹ平面内における開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。本実施形態において、ＸＹ平面内における開口３５の形状は、長方形状である。開口３５は、Ｘ軸方向に長い。なお、開口３５の形状は、Ｘ軸方向に長い楕円形でもよいし、Ｘ軸方向に長い多角形でもよい。

開口３４の内側に終端光学素子１３の少なくとも一部が配置される。開口３４の下端の周囲に下面２３が配置される。開口３５の上端の周囲に上面２５が配置される。開口３５の下端の周囲に下面２６が配置される。

本実施形態において、光路Ｋに面する開口３５を規定する第２部材２２の内面３５Ｕの少なくとも一部は、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。これにより、第２部材２２の内面３５Ｕが液浸空間ＬＳに配置されている状態で、第２部材２２は円滑に移動可能である。また、第２部材２２の内面３５Ｕが液浸空間ＬＳに配置されている状態で第２部材２２が移動しても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動することが抑制される。

第１部材２１は、終端光学素子１３の周囲に配置される。第１部材２１は、環状の部材である。第１部材２１は、終端光学素子１３に接触しないように配置される。第１部材２１と終端光学素子１３との間に間隙が形成される。第１部材２１は、射出面１２と対向しない。

第２部材２２は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。第２部材２２は、環状の部材である。第２部材２２は、第１部材２１に接触しないように配置される。第２部材２２と第１部材２１との間に間隙が形成される。

第２部材２２は、第１部材２１に対して移動可能である。第２部材２２は、終端光学素子１３に対して移動可能である。第２部材２２と第１部材２１との相対位置は、変化する。第２部材２２と終端光学素子１３との相対位置は、変化する。

第２部材２２は、終端光学素子１３の光軸と垂直なＸＹ平面内を移動可能である。第２部材２２は、ＸＹ平面と実質的に平行に移動可能である。図４に示すように、本実施形態において、第２部材２２は、少なくともＸ軸方向に移動可能である。なお、第２部材２２が、Ｘ軸方向に加えて、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能でもよい。

本実施形態において、終端光学素子１３は、実質的に移動しない。第１部材２１も、実質的に移動しない。第１部材２１は、終端光学素子１３に対して実質的に移動しない。

第２部材２２は、第１部材２１の少なくとも一部の下方で移動可能である。第２部材２２は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。

第２部材２２がＸＹ平面内において移動することにより、第１部材２１の外側面２９と第２部材２２の内側面３０との間隙の寸法が変化する。換言すれば、第２部材２２がＸＹ平面内において移動することによって、外側面２９と内側面３０との間の空間の大きさが変化する。例えば、図４に示す例では、第２部材２２が−Ｘ方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外側面２９と内側面３０との間隙の寸法が小さくなる（外側面２９と内側面３０との間の空間が小さくなる）。第２部材２２が＋Ｘ方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外側面２９と内側面３０との間隙の寸法が大きくなる（外側面２９と内側面３０との間の空間が大きくなる）。本実施形態においては、第１部材２１（外側面２９）と第２部材２２（内側面３０）とが接触しないように、第２部材２２の移動可能範囲（可動範囲）が定められる。

液浸部材５は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する液体供給部３１を有する。液体供給部３１は、第１部材２１に配置される。

なお、液体供給部３１は、第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよい。なお、液体供給部３１は、第１部材２１に配置され、第２部材２２に配置されなくてもよい。なお、液体供給部３１は、第２部材２２に配置され、第１部材２１に配置されなくてもよい。なお、液体供給部３１は、第１部材２１及び第２部材２２とは異なる部材に配置されてもよい。

流体回収部２４及び流体回収部２７は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対する放射方向に関して液体供給部３１の外側に配置される。本実施形態において、液体供給部３１は、第１部材２１の内側面２８に配置される開口（液体供給口）を含む。液体供給部３１は、側面１３Ｆに対向するように配置される。液体供給部３１は、側面１３Ｆと内側面２８との間の第３空間ＳＰ３に液体ＬＱを供給する。本実施形態において、液体供給部３１は、光路Ｋ（終端光学素子１３）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。

なお、液体供給部３１は、光路Ｋ（終端光学素子１３）に対してＹ軸方向に配置されてもよいし、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路Ｋ（終端光学素子１３）の周囲に複数配置されてもよい。液体供給部３１は、一つでもよい。なお、液体供給部３１のかわりに、あるいは液体供給部３１に加えて、液体ＬＱを供給可能な液体供給部が下面２３に設けられてもよい。

本実施形態において、液体供給部（液体供給口）３１は、第１部材２１の内部に形成された供給流路３１Ｒを介して、液体供給装置３１Ｓと接続される。液体供給装置３１Ｓは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを液体供給部３１に供給可能である。液体供給部３１は、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給装置３１Ｓからの液体ＬＱを供給する。

下面２３の内側のエッジと上面２５との間に、開口４０が形成される。射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の光路Ｋを含む光路空間ＳＰＫと、下面２３と上面２５との間の第１空間ＳＰ１とは、開口４０を介して結ばれる。光路空間ＳＰＫは、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の空間、及び射出面１２と上面２５との間の空間を含む。開口４０は、光路Ｋに面するように配置される。側面１３Ｆと内側面２８との間の第３空間ＳＰ３と、第１空間ＳＰ１とは、開口４０を介して結ばれる。

液体供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４０を介して、下面２３と上面２５との間の第１空間ＳＰ１に供給される。液浸空間ＬＳを形成するために液体供給部３１から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３４及び開口３５を介して、射出面１２と対向する基板Ｐ（物体）上に供給される。これにより、光路Ｋが液体ＬＱで満たされる。液体供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部は、下面２６と基板Ｐ（物体）の上面との間の第２空間ＳＰ２に供給される。

Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法は、第２空間ＳＰ２の寸法よりも小さい。なお、Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法が、第２空間ＳＰ２の寸法と実質的に等しくてもよいし、第２空間ＳＰ２の寸法よりも大きくてもよい。

流体回収部２４は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して下面２３の外側に配置される。流体回収部２４は、下面２３の周囲に配置される。流体回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。なお、流体回収部２４は、下面２３の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、流体回収部２４は、下面２３の周囲において複数配置されてもよい。流体回収部２４は、第１空間ＳＰ１に面するように配置される。流体回収部２４は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。

流体回収部２７は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して下面２６の外側に配置される。流体回収部２７は、開口３５の中心に対して下面２６の外側に配置される。流体回収部２７は、下面２６の周囲に配置される。流体回収部２７は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。なお、流体回収部２７は、下面２６の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、流体回収部２７は、下面２６の周囲において複数配置されてもよい。流体回収部２７は、第２空間ＳＰ２に面するように配置される。流体回収部２７は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。

流体回収部２７は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１部材２１の外側に配置される。流体回収部２７は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１空間ＳＰ１の外側に配置される。

本実施形態においては、上面２５側の第１空間ＳＰ１及び下面２６側の第２空間ＳＰ２の一方から他方への液体ＬＱの移動が抑制されている。第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２部材２２によって仕切られている。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、開口３５を介して第２空間ＳＰ２に移動できる。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、開口３５を介さずに第２空間ＳＰ２に移動できない。光路Ｋに対して開口３５よりも外側の第１空間ＳＰ１に存在する液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に移動できない。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、開口３５を介して第１空間ＳＰ１に移動できる。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、開口３５を介さずに第１空間ＳＰ１に移動できない。光路Ｋに対して開口３５よりも外側の第２空間ＳＰ２に存在する液体ＬＱは、第１空間ＳＰ１に移動できない。すなわち、本実施形態において、液浸部材５は、開口３５以外に、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とを流体的に接続する流路を有しない。

本実施形態において、流体回収部２７は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収し、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱを回収しない。流体回収部２４は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収し、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱを回収しない。

また、光路Ｋに対して第１空間ＳＰ１の外側（外側面２９の外側）に移動した液体ＬＱは、内側面３０によって、基板Ｐ上（第２空間ＳＰ２）に移動することが抑制される。

流体回収部２４は、第１部材２１の下面２３の周囲の少なくとも一部に配置される開口（流体回収口）を含む。流体回収部２４は、上面２５に対向するように配置される。流体回収部２４は、第１部材２１の内部に形成された回収流路（空間）２４Ｒを介して、流体回収装置２４Ｃと接続される。流体回収装置２４Ｃは、流体回収部２４と真空システムとを接続可能である。流体回収部２４は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、流体回収部２４を介して回収流路２４Ｒに流入可能である。流体回収部２４からの液体ＬＱは、回収流路２４Ｒを流通可能である。

本実施形態において、流体回収部２４は、多孔部材３６を含み、流体回収口は、多孔部材３６の孔を含む。本実施形態において、多孔部材３６は、メッシュプレートを含む。多孔部材３６は、上面２５が対向可能な下面と、回収流路２４Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。流体回収部２４は、多孔部材３６の孔を介して液体ＬＱを回収する。流体回収部２４（多孔部材３６の孔）から回収された第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、回収流路２４Ｒに流入し、その回収流路２４Ｒを流れて、流体回収装置２４Ｃに回収される。

本実施形態においては、流体回収部２４を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体ＧＳの回収が制限されている。制御装置６は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが多孔部材３６の孔を通過して回収流路２４Ｒに流入し、気体ＧＳは通過しないように、多孔部材３６の下面側の圧力（第１空間ＳＰ１の圧力）と上面側の圧力（回収流路２４Ｒの圧力）との差を調整する。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号などに開示されている。

なお、多孔部材３６を介して液体ＬＱ及び気体ＧＳの両方が回収（吸引）されてもよい。なお、第１部材２１に多孔部材３６が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第１空間ＳＰ１の流体（液体ＬＱ及び気体ＧＳの一方又は両方）が回収されてもよい。

本実施形態において、流体回収部２４の下面は、多孔部材３６の下面を含む。流体回収部２４の下面は、下面２３の周囲に配置される。本実施形態において、流体回収部２４の下面は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本実施形態において、流体回収部２４の下面と下面２３とは、同一平面内に配置される（面一である）。

なお、流体回収部２４の下面が下面２３よりも＋Ｚ側に配置されてもよいし、−Ｚ側に配置されてもよい。なお、流体回収部２４の下面が下面２３に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

なお、第１空間ＳＰ１の流体（液体ＬＱ及び気体ＧＳの一方又は両方）を回収するための流体回収部２４が、第１空間ＳＰ１に面するように第２部材２２に配置されてもよい。流体回収部２４は、第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよい。流体回収部２４は、第１部材２１に配置され、第２部材２２に配置されなくてもよい。流体回収部２４は、第２部材２２に配置され、第１部材２１に配置されなくてもよい。

流体回収部２７は、第２部材２２の下面２６の周囲の少なくとも一部に配置される開口（流体回収口）を含む。流体回収部２７は、基板Ｐ（物体）の上面に対向するように配置される。流体回収部２７は、第２部材２２の内部に形成された回収流路（空間）２７Ｒを介して、流体回収装置２７Ｃと接続される。流体回収装置２７Ｃは、流体回収部２７と真空システムとを接続可能である。流体回収部２７は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、流体回収部２７を介して回収流路２７Ｒに流入可能である。流体回収部２７からの液体ＬＱは、回収流路２７Ｒを流通可能である。

本実施形態において、流体回収部２７は、多孔部材３７を含み、流体回収口は、多孔部材３７の孔を含む。本実施形態において、多孔部材３７は、メッシュプレートを含む。多孔部材３７は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面と、回収流路２７Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。流体回収部２７は、多孔部材３７の孔を介して流体（液体ＬＱ及び気体ＧＳの一方又は両方）を回収する。流体回収部２７（多孔部材３７の孔）から回収された第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、回収流路２７Ｒに流入し、その回収流路２７Ｒを流れて、流体回収装置２７Ｃに回収される。

回収流路２７Ｒは、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して内側面３０の外側に配置される。回収流路２７Ｒは、流体回収部２７の上方に配置される。第２部材２２が移動することにより、第２部材２２の流体回収部２７及び回収流路２７Ｒが、第１部材２１の外側面２９の外側で移動する。

流体回収部２７を介して液体ＬＱとともに気体ＧＳが回収される。なお、多孔部材３７を介して液体ＬＱのみが回収され、気体ＧＳの回収が制限されてもよい。なお、第２部材２２に多孔部材３７が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第２空間ＳＰ２の流体（液体ＬＱ及び気体ＧＳの一方又は両方）が回収されてもよい。

本実施形態において、流体回収部２７の下面は、多孔部材３７の下面を含む。流体回収部２７の下面は、下面２６の周囲に配置される。本実施形態において、流体回収部２７の下面は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本実施形態において、流体回収部２７の下面は、下面２６よりも＋Ｚ側に配置される。

なお、流体回収部２７の下面と下面２６とが同一平面内に配置されてもよい（面一でもよい）。流体回収部２７の下面が下面２６よりも−Ｚ側に配置されてもよい。流体回収部２７の下面が下面２６に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

本実施形態においては、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給動作と並行して、流体回収部２７からの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。

また、本実施形態においては、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給動作、及び流体回収部２７からの流体の回収動作と並行して、流体回収部２４からの流体の回収動作が実行される。

本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。

以下の説明において、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第１界面ＬＧ１、と称する。第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される界面ＬＧを適宜、第２界面ＬＧ２、と称する。終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される界面ＬＧを適宜、第３界面ＬＧ３、と称する。

本実施形態において、第１界面ＬＧ１は、流体回収部２４の下面と上面２５との間に形成される。第２界面ＬＧ２は、流体回収部２７の下面と基板Ｐ（物体）の上面との間に形成される。

本実施形態においては、第１界面ＬＧ１が流体回収部２４の下面と上面２５との間に形成され、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが流体回収部２４の外側の空間（例えば外側面２９と内側面３０との間の空間）に移動することが抑制されている。外側面２９と内側面３０との間の空間には液体ＬＱが存在しない。外側面２９と内側面３０との間の空間は気体空間である。

外側面２９と内側面３０との間の空間は、空間ＣＳと接続される。換言すれば、外側面２９と内側面３０との間の空間は、雰囲気に開放される。空間ＣＳの圧力が大気圧である場合、外側面２９と内側面３０との間の空間は、大気開放される。そのため、第２部材２２は円滑に移動可能である。なお、空間ＣＳの圧力は、大気圧よりも高くてもよいし、低くてもよい。

次に、第２部材２２の動作の一例について説明する。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動と協調して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と独立して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して移動可能である。

第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動方向に移動されてもよい。例えば、基板Ｐが移動される期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、基板Ｐの移動方向に移動されてもよい。例えば、基板ＰがＸＹ平面内における一方向（例えば＋Ｘ方向）に移動されるとき、第２部材２２は、その基板Ｐの移動と同期して、ＸＹ平面内における一方向（＋Ｘ方向）に移動されてもよい。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成された状態で移動されてもよい。第２部材２２は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが接触された状態で移動されてもよい。第２部材２２は、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在する状態で移動されてもよい。第２部材２２は、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給と並行して移動されてもよい。第２部材２２は、流体回収部２４からの液体ＬＱの回収と並行して移動されてもよい。第２部材２２は、流体回収部２７からの液体ＬＱの回収と並行して移動されてもよい。第２部材２２は、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給及び流体回収部２４（流体回収部２７）からの液体ＬＱの回収と並行して移動されてもよい。

第２部材２２は、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において移動されてもよい。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において移動されてもよい。

第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）とが対向しないときに移動してもよい。例えば、第２部材２２は、その第２部材２２の下方に物体が存在しないときに移動してもよい。なお、第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱが存在しないときに移動してもよい。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されていないときに移動してもよい。

本実施形態において、第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて移動する。制御装置６は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して第２部材２２を移動する。制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成され続けるように、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給と流体回収部２７及び流体回収部２４からの液体ＬＱの回収とを行いながら、第２部材２２を移動する。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が小さくなるように移動可能である。第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との相対移動が、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との相対移動よりも小さくなるように移動可能である。第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との相対移動が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対移動よりも小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と同期して移動してもよい。

相対移動は、相対速度、及び相対加速度の少なくとも一方を含む。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対加速度よりも小さくなるように移動してもよい。

第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動方向に移動可能である。例えば、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ方向（または−Ｘ方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ方向（または−Ｘ方向）に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ方向に移動しつつ＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ方向に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が−Ｘ方向に移動しつつ＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に移動するとき、第２部材２２は−Ｘ方向に移動可能である。

すなわち、本実施形態においては、基板Ｐ（物体）がＸ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２はＸ軸方向に移動する。例えば、Ｘ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、第２部材２２がＸ軸方向に移動してもよい。

なお、第２部材２２がＹ軸方向に移動可能でもよい。基板Ｐ（物体）がＹ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。例えば、Ｙ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、基板Ｐ（物体）との相対速度差が小さくなるように、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。

次に、液浸部材５を支持する支持装置５０の一例について説明する。図８及び図９は、本実施形態に係る液浸部材５及び支持装置５０の一例を示す側面図である。図１０及び図１１は、本実施形態に係る液浸部材５及び支持装置５０の一例を示す平面図である。図８は、−Ｙ側から見た図、図９は、＋Ｘ側から見た図である。図１０は、＋Ｚ側から見た図、図１１は、−Ｚ側から見た図である。

本実施形態において、支持装置５０は、第１部材２１を支持する第１支持部材５１と、第２部材２２を支持する第２支持部材５２と、第１支持部材５１を支持する支持フレーム５３と、第２支持部材５２を支持する移動フレーム５４とを有する。

第１支持部材５１は、第１部材２１に接続される。第１部材２１は、第１支持部材５１に固定される。第１支持部材５１は、第１部材２１を囲むように配置される。

支持フレーム５３は、第１支持部材５１に接続される。第１支持部材５１は、支持フレーム５３に固定される。支持フレーム５３は、第１支持部材５１を介して、第１部材２１を支持する。

第２支持部材５２は、第２部材２２に接続される。第２部材２２は、第２支持部材５２に固定される。本実施形態において、第２支持部材５１は、開口３５の中心に対して＋Ｙ側の第２部材２２の一部分に接続される。第２支持部材５２は、光路Ｋに対して第１部材２１の外側で第２部材２２に接続される。第２支持部材５２は、＋Ｚ方向を向く上面５２Ａと、−Ｚ方向を向く下面５２Ｂとを有する。

移動フレーム５４は、第２支持部材５２に接続される。第２支持部材５２は、移動フレーム５４に固定される。移動フレーム５４は、第２支持部材５２を介して、第２部材２２を支持する。

本実施形態において、第１部材２１と第２部材２２とは接触しない。第１支持部材５１と第２支持部材５２とは接触しない。第１支持部材５１の下面５１Ｂと第２支持部材５２の上面５２Ａとは、間隙を介して対向する。

支持装置５０は、第１部材２１の振動を抑制する防止装置５５を有する。防振装置５５は、例えば、第２部材２２の移動に伴う第１部材２１の振動を抑制する。防振装置５５は、制御装置６に制御される。防振装置５５の少なくとも一部は、支持フレーム５３と装置フレーム８Ｂとの間に配置される。

支持装置５０は、第２部材２２を移動する駆動装置５６を有する。第２部材２２は、駆動装置５６によって移動される。駆動装置５６は、例えばモータを含み、ローレンツ力を使って第２部材２２を移動可能である。駆動装置５６は、第１部材２１に対して第２部材２２を移動可能である。駆動装置５６は、制御装置６に制御される。駆動装置５６の少なくとも一部は、装置フレーム８Ｂに支持される。

移動フレーム５４は、第２支持部材５２を介して、第２部材２２を支持する。本実施形態において、駆動装置５６は、移動フレーム５４を移動する。駆動装置５６によって移動フレーム５４が移動されることにより、第２支持部材５２が移動する。駆動装置５６によって第２支持部材５２が移動されることにより、第２部材２２が移動する。第２部材２２と第２支持部材５２とは一緒に移動する。

支持フレーム５３は、装置フレーム８Ｂに支持される。支持フレーム５３は、防振装置５５を介して、装置フレーム８Ｂに支持される。防振装置５５は、支持フレーム５３及び第１支持部材５１を介して、第１部材２１を支持する。第１部材２１は、第１支持部材５１及び支持フレーム５３を介して、防振装置５５に支持される。装置フレーム８Ｂは、防振装置５５、支持フレーム５３、及び第１支持部材５１を介して、第１部材２１を支持する。

移動フレーム５４は、装置フレーム８Ｂに支持される。移動フレーム５４は、駆動装置５６を介して、装置フレーム８Ｂに支持される。駆動装置５６は、移動フレーム５４及び第２支持部材５２を介して、第２部材２２を支持する。第２部材２２は、第２支持部材５２及び移動フレーム５４を介して、駆動装置５６に支持される。装置フレーム８Ｂは、駆動装置５６、移動フレーム５４、及び第２支持部材５２を介して、第２部材２２を支持する。

本実施形態において、装置フレーム８Ｂは、投影光学系ＰＬ（終端光学素子１３）を支持する基準フレーム８Ａ、第１部材２１を支持する支持フレーム５３（防振装置５５）、及び第２部材２２を支持する移動フレーム５４（駆動装置５６）を支持する。

本実施形態において、駆動装置５６は、終端光学素子１３の光軸に対して−Ｘ側に配置される。本実施形態において、移動フレーム５４は、Ｘ軸方向に長いロッド部材である。本実施形態において、移動フレーム５４の−Ｘ側の端部に駆動装置５６が接続される。移動フレーム５４の＋Ｘ側の端部に第２支持部材５２が接続される。

支持装置５０は、第２部材２２をガイドするガイド装置５７を有する。本実施形態において、ガイド装置５７は、第２部材２２をＸ軸方向にガイドする。本実施形態において、ガイド装置５７の少なくとも一部は、第１支持部材５１（第１部材２１）と第２支持部材５２（第２部材２２）との間に配置される。

ガイド装置５７によって、第２部材２２は、Ｘ軸方向にガイドされる。本実施形態において、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向に関する第２部材２２の移動は制限される。ガイド装置５７は、第１支持部材５１の下面５１Ｂと第２支持部材５２の上面５２Ａとの間に気体軸受５７Ｇを有する。ガイド装置５７は、所謂、エアガイド機構を含む。気体軸受５７Ｇにより、第２支持部材２２（第２部材２２）は、第１支持部材２１（第１部材２１）に非接触で支持される。気体軸受５７Ｇにより、第２支持部材２２（第２部材２２）は、第１支持部材２１（第１部材２１）に対して非接触状態でＸ軸方向にガイドされる。

本実施形態において、第２支持部材５２は、回収流路２７Ｒからの液体ＬＱが流通可能な回収流路（空間）５２Ｒを有する。回収流路５２Ｒは、第２支持部材５２の内部に形成される。回収流路５２Ｒは、回収流路２７Ｒと接続される。流体回収部２７から回収され、回収流路２７Ｒに流入した液体ＬＱの少なくとも一部は、回収流路５２Ｒに流入する。

以下の説明において、終端光学素子１３に対して移動可能な第２部材２２及び第２支持部材５２を合わせて適宜、可動部材１００、と称する。また、流体回収部２７から回収された液体ＬＱが流入する回収流路２７Ｒ及び回収流路５２Ｒを合わせて適宜、第１流路１０１、と称する。

本実施形態において、露光装置ＥＸは、流体回収部２７から回収された液体ＬＱが流れる流路を有する配管システム６０を備えている。配管システム６０の少なくとも一部は、可動部材１００と流体回収装置２７Ｃとの間に配置される。本実施形態において、配管システム６０の少なくとも一部は、支持フレーム５３に支持される。

配管システム６０は、可動部材１００に接続され、第１流路１０１からの液体ＬＱが流通可能な第２流路６２を有し、少なくとも一部が変形可能な変形部材６１を有する。第２流路６２は、変形部材６１の内部に形成される。

変形部材６１は、第２支持部材５２に接続される。変形部材６１は、第２支持部材５２を介して、第２部材２２に接続される。

第１流路１０１は、第２流路６２と接続される。第１流路１０１の少なくとも一部は、第２流路６２に流入する。第１流路１０１からの液体ＬＱは、第２流路６２を流通可能である。

本実施形態において、変形部材６１は、少なくとも一部が変形可能なチューブ部材を含む。以下の説明において、変形部材６１を適宜、チューブ部材６１、と称する。

配管システム６０は、中継部材６３を有する。本実施形態において、中継部材６３は、第２流路６２からの液体ＬＱが流通可能な回収流路（空間）６３Ｒを有する。回収流路６３Ｒは、中継部材６３の内部に形成される。回収流路６３Ｒは、第２流路６２と接続される。第１流路１０１から第２流路６２に流入した液体ＬＱの少なくとも一部は、回収流路６３Ｒに流入する。

本実施形態において、中継部材６３は、支持フレーム５３に支持される。中継部材６３は、支持フレーム５３に固定される。中継部材６３の位置は、固定される。

チューブ部材６１の一端部は、可動部材１００（第２支持部材５２）に接続される。チューブ部材６１の他端部は、中継部材６３に接続される。第２流路６２の一端部は、第１流路１０１（回収流路５２Ｒ）に接続される。第２流路６２の他端部は、回収流路６３Ｒに接続される。

回収流路６３Ｒと流体回収装置２７Ｃとが、流路２７ＣＲを介して接続される。流体回収部２７からの液体ＬＱは、第１流路１０１（回収流路２７Ｒ及び回収流路５２Ｒ）、第２流路６２、回収流路６３Ｒ、及び流路２７ＣＲを介して、流体回収装置２７Ｃに流れる。液体回収装置２７Ｃは、流体回収部２７から回収された液体ＬＱを、第１流路１０１、第２流路６２、回収流路６３Ｒ、及び流路２７ＣＲを介して回収可能である。

チューブ部材６１は、支持フレーム５３の少なくとも一部と対向する。チューブ部材６１は、支持フレーム５３と間隙を介して対向する。チューブ部材６１は、支持フレーム５３と接触しないように、中継部材６３及び可動部材１００に支持される。

なお、チューブ部材（変形部材）６１は、支持フレーム５３の少なくとも一部と接触してもよい。支持フレーム５３でチューブ部材６１の少なくとも一部を支持してもよい。

図１２（Ａ）は、配管システム６０の一例を示す図、図１２（Ｂ）は、チューブ部材６１の一部を示す断面図である。

チューブ部材６１は、少なくとも一部に変形可能な柔軟部６１１を有する。すなわち、チューブ部材６１の少なくとも一部は、柔軟性を有する。チューブ部材６１の少なくとも一部が、可撓性を有してもよい。チューブ部材６１の少なくとも一部が、弾性変形可能でもよい。

図１２（Ａ）に示すように、可動部材１００は、Ｘ軸方向に移動する。チューブ部材６１は、可動部材１００の移動方向（Ｘ軸方向）に変形可能である。

チューブ部材６１は、弾性変形可能である。少なくとも可動部材１００が移動される移動可能範囲（可動範囲）において、チューブ部材６１は、弾性変形可能である。

柔軟部６１１は、第２流路６２に面するチューブ部材６１の内面６１３及び内面６１３の反対側の外面６１４の一方又は両方に形成された溝６１５を含む。図１２（Ｂ）に示すように、本実施形態において、溝６１５は、内面６１３及び外面６１４の両方に形成される。なお、溝６１５は、内面６１３に形成され、外面６１４に形成されなくてもよい。なお、溝６１５は、外面６１４に形成され、内面６１３に形成されなくてもよい。

溝６１５は、例えば、チューブ部材６１の軸を巻くようにスパイラル状に形成されてもよい。溝６１５により、チューブ部材６１（柔軟部６１１）は、変形可能である。

柔軟部６１１は、合成樹脂製でもよい。柔軟部６１１は、例えばフッ素を含む合成樹脂製でもよい。柔軟部６１１は、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）を含んでもよい。柔軟部６１１は、例えばＰＴＦＥ（Poly tetra fluoroethylene）を含んでもよい。

本実施形態において、チューブ部材６１は、屈曲部６１２を有する。屈曲部６１２は、柔軟性を有してもよいし、有しなくてもよい。本実施形態において、屈曲部６１２は、柔軟部６１１よりも柔軟性を有しない。屈曲部６１２は、柔軟部６１１よりも変形し難い。屈曲部６１２は、柔軟部６１１よりも硬い。

本実施形態においては、合成樹脂製（例えばＰＦＡ製）のチューブ部材の一部に溝６１５が形成される。溝６１５が形成された部分が柔軟部６１１となる。溝６１５が形成されない部分が屈曲部６１２となる。

本実施形態において、柔軟部６１１は、屈曲部６１２の一側（可動部材１００側）及び他側（中継部材６３側）に配置される。屈曲部６１２の一側（可動部材１００側）の柔軟部６１１は、実質的にＹ軸と平行に配置される。屈曲部６１２の他側（中継部材６３側）の柔軟部６１１は、実質的にＸ軸と平行に配置される。本実施形態において、柔軟部６１１を、ストレート部６１１、と称してもよい。

本実施形態においては、配管システム６０が、少なくとも一部が変形可能なチューブ部材６１を有するため、可動部材１００が移動しても、振動の発生が抑制される。すなわち、可動部材１００の移動により発生した振動が、変形可能なチューブ部材６１によって低減（減衰）される。また、変形可能なチューブ部材６１によって、可動部材１００の移動により発生した振動が、中継部材６３及び支持フレーム５３に伝達することが抑制される。したがって、可動部材１００が移動しても、例えば支持フレーム５３が振動することが抑制される。

なお、本実施形態において、屈曲部６１２が柔軟性を有してもよい。

次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

液浸部材５から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び液浸部材５と対向するように配置される。制御装置６は、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給と、流体回収部２７からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳを形成する。

露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給と並行して流体回収部２７からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳが形成される。

本実施形態においては、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給及び流体回収部２７からの液体ＬＱの回収と並行して、流体回収部２４からの液体ＬＱの回収が行われる。

制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。

本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。

図１３は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置される。制御装置６は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬに対して、第１保持部に保持されている基板ＰをＹ軸方向（走査方向）に移動しつつ、射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、射出面１２から射出された露光光ＥＬで、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。

例えば基板Ｐの１つのショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２から射出される露光光ＥＬ（投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲ）に対して基板ＰをＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介してそのショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像がそのショット領域Ｓに投影され、そのショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。

そのショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次のショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＹ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、次のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、そのショット領域Ｓの露光を開始する。

制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域のそれぞれを順次露光する。

以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光終了後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域の露光が開始されるまでの間に、ＸＹ平面内において基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。

本実施形態において、スキャン移動動作は、あるショット領域Ｓが露光開始位置に配置されている状態から露光終了位置に配置される状態になるまで基板ＰがＹ軸方向に移動する動作を含む。ステップ移動動作は、あるショット領域Ｓが露光終了位置に配置されている状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に配置される状態になるまで基板ＰがＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に移動する動作を含む。

露光開始位置は、あるショット領域Ｓの露光のために、そのショット領域ＳのＹ軸方向に関する一端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。露光終了位置は、露光光ＥＬが照射されたそのショット領域ＳのＹ軸方向に関する他端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。

ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作開始位置を含む。ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作終了位置を含む。

ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作終了位置を含む。ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓの露光終了後、次のショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作開始位置を含む。

以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光のためにスキャン移動動作が行われる期間を適宜、スキャン移動期間、と称する。以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始のためにステップ移動動作が行われる期間を適宜、ステップ移動期間、と称する。

スキャン移動期間は、あるショット領域Ｓの露光開始から露光終了までの露光期間を含む。ステップ移動期間は、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの基板Ｐの移動期間を含む。

スキャン移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。スキャン移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射される。ステップ移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出されない。ステップ移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射されない。

制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。なお、スキャン移動動作は、主にＹ軸方向に関する等速移動である。ステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向に関する加減速移動及びＸ軸方向に関する加減速移動の一方又は両方を含む。

なお、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）上に形成される場合がある。スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板Ｐと基板ステージ２（カバー部材Ｔ）とを跨ぐように形成される場合がある。基板ステージ２と計測ステージ３とが接近又は接触した状態で基板Ｐの露光が行われる場合、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板ステージ２（カバー部材Ｔ）と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。

制御装置６は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、駆動システム１５を制御して、基板Ｐ（基板ステージ２）を移動する。複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置７に記憶されている。

露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓの配列情報（基板Ｐにおける複数のショット領域Ｓそれぞれの位置）を含む。また、露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓのそれぞれの寸法情報（Ｙ軸方向に関する寸法情報）を含む。

制御装置６は、記憶装置７に記憶されている露光条件（露光制御情報）に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。基板Ｐ（物体）の移動条件は、移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及びＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。

一例として、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光するとき、制御装置６は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図１３中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して複数のショット領域Ｓのそれぞれを露光光ＥＬで順次露光する。制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐの露光処理の少なくとも一部において移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のステップ移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２の移動と並行して、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。なお、スキャン移動動作中に第２部材２２が移動しなくてもよい。すなわち、射出面１２からの露光光ＥＬの射出と並行して第２部材２２が移動しなくてもよい。第２部材２２は、例えば基板Ｐ（基板ステージ２）がステップ移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように、移動してもよい。また、第２部材２２は、基板Ｐ（基板ステージ２）がスキャン移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように、移動してもよい。

図１４は、基板Ｐを＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動を行いながら、ショット領域Ｓａ、ショット領域Ｓｂ、及びショット領域Ｓｃのそれぞれを順次露光するときの基板Ｐの移動軌跡の一例を模式的に示す図である。ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃは、Ｘ軸方向に配置される。

図１４に示すように、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるとき、基板Ｐは、終端光学素子１３の下において、位置ｄ１からその位置ｄ１に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ２までの経路Ｔｐ１、位置ｄ２からその位置ｄ２に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ３までの経路Ｔｐ２、位置ｄ３からその位置ｄ３に対して−Ｙ側に隣り合う位置ｄ４までの経路Ｔｐ３、位置ｄ４からその位置ｄ４に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ５までの経路Ｔｐ４、及び位置ｄ５からその位置ｄ５に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ６までの経路Ｔｐ５を順次移動する。位置ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５、ｄ６は、ＸＹ平面内における位置である。

経路Ｔｐ１の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ３の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ５の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線を含む。経路Ｔｐ２は、位置ｄ２．５を経由する曲線を含む。経路Ｔｐ４は、位置ｄ４．５を経由する曲線を含む。位置ｄ１は、経路Ｔｐ１の始点を含み、位置ｄ２は、経路Ｔｐ１の終点を含む。位置ｄ２は、経路Ｔｐ２の始点を含み、位置ｄ３は、経路Ｔｐ２の終点を含む。位置ｄ３は、経路Ｔｐ３の始点を含み、位置ｄ４は、経路Ｔｐ３の終点を含む。位置ｄ４は、経路Ｔｐ４の始点を含み、位置ｄ５は、経路Ｔｐ４の終点を含む。位置ｄ５は、経路Ｔｐ５の始点を含み、位置ｄ６は、経路Ｔｐ５の終点を含む。経路Ｔｐ１は、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ３は、基板Ｐが−Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ５は、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４は、基板Ｐが＋方向を主成分とする方向に移動する経路である。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓａに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｂに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｃに露光光ＥＬが照射される。基板Ｐが経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４を移動するとき、露光光ＥＬは照射されない。

基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する動作、経路Ｔｐ３を移動する動作、及び経路Ｔｐ５を移動する動作のそれぞれは、スキャン移動動作を含む。また、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する動作、及び経路Ｔｐ４を移動する動作のそれぞれは、ステップ移動動作を含む。

すなわち、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間、経路Ｔｐ３を移動する期間、及び経路Ｔｐ５を移動する期間のそれぞれは、スキャン移動期間（露光期間）である。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間、及び経路Ｔｐ４を移動する期間のそれぞれは、ステップ移動期間である。

図１５は、第２部材２２の動作の一例を示す模式図である。図１５は、第２部材２２を上面２５側から見た図である。

基板Ｐが位置ｄ１にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１５（Ａ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ２にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１５（Ｂ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）とは逆の−Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ２．５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１５（Ｃ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ３にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１５（Ｄ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）と同じ＋Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ４にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１５（Ｅ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）とは逆の−Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ４．５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１５（Ｆ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１５（Ｇ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）と同じ＋Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ６にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１５（Ｈ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）とは逆の−Ｘ方向に移動する。

本実施形態において、図１５（Ａ）、図１５（Ｄ）、図１５（Ｇ）に示す第２部材２２の位置は、Ｘ軸方向に関して規定された第２部材２２の移動可能範囲（可動範囲）の最も＋Ｘ側の端の位置（第２端部位置）である。図１５（Ｂ）、図１５（Ｅ）、図１５（Ｈ）に示す第２部材２２の位置は、Ｘ軸方向に関して規定された第２部材２２の移動可能範囲（可動範囲）の最も−Ｘ側の端の位置（第１端部位置）である。図１５（Ｃ）、図１５（Ｆ）に示す第２部材２２の位置は、Ｘ軸方向に関して規定された第２部材２２の移動可能範囲（可動範囲）の中央の位置（中央位置）である。

基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、第２部材２２は、図１５（Ａ）に示す状態から図１５（Ｂ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動するとき、第２部材２２は、図１５（Ｂ）に示す状態から図１５（Ｃ）に示す状態を経て図１５（Ｄ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第１端部位置から中央位置を経て第２端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、第２部材２２は、図１５（Ｄ）に示す状態から図１５（Ｅ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動するとき、第２部材２２は、図１５（Ｅ）に示す状態から図１５（Ｆ）に示す状態を経て図１５（Ｇ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第１端部位置から中央位置を経て第２端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、第２部材２２は、図１５（Ｇ）に示す状態から図１５（Ｈ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。

すなわち、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２に沿って移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐとの相対移動が小さくなるように、＋Ｘ方向に移動する。換言すれば、第２部材２２は、基板Ｐが＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作する期間の少なくとも一部に、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、＋Ｘ方向に移動する。同様に、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ４に沿って移動する期間の少なくとも一部において、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、＋Ｘ方向に移動する。

また、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ３に沿って移動する期間の少なくとも一部において、−Ｘ方向に移動する。これにより、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動後、経路Ｔｐ４の移動において、第２部材２２が＋Ｘ方向に移動しても露光光ＥＬは開口３５を通過可能である。基板Ｐが経路Ｔｐ１、Ｔｐ５を移動する場合も同様である。

すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作と＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合、ステップ移動動作中に、基板Ｐとの相対速度が小さくなるように第２部材２２が第１端部位置から第２端部位置へ＋Ｘ方向に移動し、スキャン移動動作中に、次のステップ移動動作において第２部材２２が再度＋Ｘ方向に移動できるように、第２部材２２が第２端部位置から第１端部位置へ戻る。すなわち、基板Ｐが経スキャン移動動作する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が−Ｘ方向に移動するので、開口３５の寸法が必要最小限に抑えられる。

また、本実施形態においては、第２部材２２が第１端部位置（第２端部位置）に配置されても、流体回収部２７の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）と対向し続ける。これにより、例えばステップ移動動作において、流体回収部２７は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収することができる。

なお、図１４及び図１５を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が第２端部位置に配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が、中央位置に配置されてもよいし、中央位置と第２端部位置との間に配置されてもよい。

なお、図１４及び図１５を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が第１端部位置に配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が、中央位置に配置されてもよいし、中央位置と第１端部位置との間に配置されてもよい。

また、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、中央位置とは異なる位置に配置されてもよい。すなわち、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、例えば中央位置と第２端部位置との間に配置されてもよいし、中央位置と第１端部位置との間に配置されてもよい。

以上説明したように、本実施形態によれば、流体回収部２７を有する可動部材１００に、少なくとも一部が変形可能な変形部材６１を接続するので、可動部材１００が移動しても、振動の発生が抑制される。また、振動の発生を抑制しつつ、流体回収部２７から回収された液体ＬＱを、第１流路１０１及び第２流路６２を介して回収することができる。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。

＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１６は、本実施形態に係る配管システム６０Ｂの一例を示す図である。配管システム６０Ｂは、可動部材１００に接続され、少なくとも一部が変形可能な変形部材（チューブ部材）６１Ｂを有する。チューブ部材６１Ｂは、可動部材１００の第１流路１０１からの液体ＬＱが流通可能な第２流路６２Ｂを有する。

チューブ部材６１Ｂは、変形可能な柔軟部６１１と、柔軟部６１２よりも変形し難い屈曲部６１２とを有する。チューブ部材６１Ｂは、柔軟部６１１を複数有する。また、チューブ部材６１Ｂは、屈曲部６１２を複数有する。柔軟部６１１は、複数の屈曲部６１２の間に配置される。

本実施形態において、チューブ部材６１Ｂは、蛇行するように屈曲部６１２を複数有する。複数の屈曲部６１２は、可動部材１００の移動方向（Ｘ軸方向）に配置される。複数の柔軟部６１１のそれぞれは、実質的にＹ軸と平行に配置される。

チューブ部材６１Ｂは、可動部材１００の移動方向（Ｘ軸方向）に変形可能である。可動部材１００が移動される可動範囲において、チューブ部材６１Ｂは、弾性変形可能である。

以上説明したように、本実施形態においても、配管システム６０Ｂが、少なくとも一部が変形可能なチューブ部材６１Ｂを有するため、可動部材１００が移動しても、振動の発生が抑制される。例えば、可動部材１００が移動しても、支持フレーム５３が振動することが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

本実施形態においては、チューブ部材６１Ｂは、Ｘ軸方向に配置される複数の屈曲部６１２、及びそれら複数の屈曲部６１２の間に配置される柔軟部６１１を有するため、可動部材１００が移動しても、チューブ部材６１Ｂにおいて応力が集中すること抑制される。

なお、本実施形態において、屈曲部６１２が柔軟性を有してもよい。

＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１７は、本実施形態に係る配管システム６０Ｃの一例を示す図である。配管システム６０Ｃは、可動部材１００に接続され、少なくとも一部が変形可能な変形部材（チューブ部材）６１Ｃを有する。チューブ部材６１Ｃは、可動部材１００の第１流路１０１からの液体ＬＱが流通可能な第２流路６２Ｃを有する。

チューブ部材６１Ｃは、柔軟性を有する。チューブ部材６１Ｃは、合成樹脂製でもよい。チューブ部材６１Ｃは、フッ素を含む合成樹脂製でもよい。チューブ部材６１Ｃは、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）を含んでもよい。チューブ部材６１Ｃは、例えばＰＴＦＥ（Poly tetra fluoroethylene）を含んでもよい。

チューブ部材６１Ｃは、可動部材１００の移動方向（Ｘ軸方向）と平行な軸（仮想軸）Ｊを巻くようにスパイラル状に形成される。

チューブ部材６１Ｃは、可動部材１００の移動方向（Ｘ軸方向）に変形可能である。可動部材１００が移動される可動範囲において、チューブ部材６１Ｃは、弾性変形可能である。本実施形態において、チューブ部材６１Ｃは、コイルばねのように弾性変形可能である。

本実施形態においても、振動の発生が抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１８は、本実施形態に係る配管システム６０Ｄの一例を示す図である。配管システム６０Ｄは、可動部材１００に接続され、少なくとも一部が変形可能な変形部材（チューブ部材）６１Ｄを有する。チューブ部材６１Ｄは、可動部材１００の第１流路１０１からの液体ＬＱが流通可能な第２流路６２Ｄを有する。

チューブ部材６１Ｄの一端部は、可動部材１００に接続される。チューブ部材６１Ｄの他端部は、中継部材６３に接続される。中継部材６３の位置は、固定されている。

可動部材１００は、Ｘ軸方向に移動する。中継部材６３は、可動部材１００に対して、可動部材１００の移動方向と平行な方向（Ｘ軸方向）に配置されている。図１８に示す例では、中継部材６３は、可動部材１００に対して、−Ｘ側に配置されている。

チューブ部材６１Ｄは、屈曲部６１２Ｄと、屈曲部６１２Ｄの一側（可動部材１００側）に配置され、実質的にＹ軸と平行に配置されるストレート部６１１Ｄと、屈曲部６１２Ｄの他側（中継部材６３側）に配置され、実質的にＹ軸と平行に配置されるストレート部６１１Ｄとを含む。チューブ部材６１Ｄは、柔軟性（可撓性）を有する。チューブ部材６１Ｄは、例えばポリオレフィンなどの合成樹脂を含む。

図１８に示すように、可動部材１００がＸ軸方向に移動することにより、チューブ部材６１Ｄの少なくとも一部は変形する。例えば、可動部材１００が−Ｘ方向に移動（中継部材６３に近付くように移動）することにより、屈曲部６１２Ｄの一側のストレート部６１１Ｄと他側のストレート部６１１Ｄとが接近するとともに、屈曲部６１２Ｄの曲率が大きくなるように、チューブ部材６１Ｄが変形する。可動部材１００が＋Ｘ方向に移動（中継部材６３から離れるように移動）することにより、屈曲部６１２Ｄの一側のストレート部６１１Ｄと他側のストレート部６１１Ｄとが離れるとともに、屈曲部６１２Ｄの曲率が小さくなるように、チューブ部材６１Ｄが変形する。可動部材１００が移動される可動範囲において、チューブ部材６１Ｄは、弾性変形可能である。

本実施形態においても、振動の発生が抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

＜第５実施形態＞
第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１９は、本実施形態に係る配管システム６０Ｅの一例を示す図である。配管システム６０Ｅは、可動部材１００に接続され、少なくとも一部が変形可能な変形部材（チューブ部材）６１Ｅを有する。チューブ部材６１Ｅは、可動部材１００の第１流路１０１からの液体ＬＱが流通可能な第２流路６２Ｅを有する。

チューブ部材６１Ｅの一端部は、可動部材１００に接続される。チューブ部材６１Ｅの他端部は、中継部材６３に接続される。中継部材６３の位置は、固定されている。

可動部材１００は、Ｘ軸方向に移動する。中継部材６３は、可動部材１００に対して、可動部材１００の移動方向と交差する方向（Ｙ軸方向）に配置されている。図１９に示す例では、中継部材６３は、可動部材１００に対して、＋Ｙ側に配置されている。

チューブ部材６１Ｅは、屈曲部６１２Ｅと、屈曲部６１２Ｅの一側（可動部材１００側）に配置され、実質的にＸ軸と平行に配置されるストレート部６１１Ｅと、屈曲部６１２Ｅの他側（中継部材６３側）に配置され、実質的にＸ軸と平行に配置されるストレート部６１１Ｅとを含む。チューブ部材６１Ｅは、柔軟性（可撓性）を有する。チューブ部材６１Ｅは、例えばポリオレフィンなどの合成樹脂を含む。

図１９に示すように、可動部材１００がＸ軸方向に移動することにより、チューブ部材６１Ｅの少なくとも一部は変形する。本実施形態においては、可動部材１００がＸ軸方向に移動しても、屈曲部６１２Ｅの曲率は、ほぼ変化しない。可動部材１００が移動される可動範囲において、チューブ部材６１Ｅは、弾性変形可能である。

本実施形態においても、振動の発生が抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

＜第６実施形態＞
第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２０（Ａ）は、本実施形態に係る配管システム６０Ｆの一例を示す図、図２０（Ｂ）は、本実施形態に係る配管システム６０Ｆの一部を示す断面図である。配管システム６０Ｆは、少なくとも一部が可動部材１００と対向し、可動部材１００の第１流路１０１からの液体ＬＱが流通可能な第２流路６２Ｆを有し、少なくとも一部が可動部材１００に対して相対移動可能な接続装置７０を備えている。

本実施形態において、接続装置７０は、第１ジョイント部７１１を介して可動部材１００と接続される第１リンク部材７１と、第２ジョイント部７２を介して第１リンク部材７１と接続される第２リンク部材７２とを有するリンク機構７０Ｒを含む。

第２流路６２Ｆは、第１リンク部材７１及び第２リンク部材７２に設けられる。第２流路６２Ｆの一部分６２１Ｆが、第１リンク部材７１の内部に形成される。第２流路６２Ｆの一部分６２２Ｆが、第２リンク部材７２の内部に形成される。

以下の説明において、第１リンク部材７１に形成される第２流路６２Ｆの一部分６２１Ｆを適宜、第１部分６２１Ｆ、と称する。第２リンク部材７２に形成される第２流路６２Ｆの一部分６２２Ｆを適宜、第２部分６２２Ｆ、と称する。

第１流路１０１は、第２流路６２Ｆ（第１部分６２１Ｆ）と接続される。流体回収部２７から回収され、第１流路１０１に流入した液体ＬＱの少なくとも一部は、第２流路６２Ｆの第１部分６２１Ｆに流入する。

第１部分６２１Ｆは、第２部分６２２Ｆと接続される。第１流路１０１から第１部分６２１Ｆに流入した液体ＬＱの少なくとも一部は、第２部分６２２Ｆに流入する。

配管システム６０Ｆは、中継部材６３Ｆを有する。中継部材６３Ｆは、第３ジョイント部７１３を介して第２リンク部材７２と接続される。中継部材６３Ｆは、第２流路６２Ｆ（第２部分６２２Ｆ）からの液体ＬＱが流通可能な回収流路６３ＦＲを有する。回収流路６３ＦＲは、中継部材６３Ｆの内部に形成される。

第２流路６２Ｆ（第２部分６２２Ｆ）は、回収流路６３ＦＲと接続される。第１流路１０１から第２流路６２Ｆ（第２部分６２２Ｆ）に流入した液体ＬＱの少なくとも一部は、回収流路６３ＦＲに流入する。

中継部材６３Ｆは、支持フレーム５３に支持される。中継部材６３Ｆは、支持フレーム５３に固定される。中継部材６３Ｆの位置は、固定される。支持フレーム５３は、接続装置７０を支持する。なお、中継部材６３Ｆが接続装置７０の少なくとも一部を支持し、支持フレーム５３が中継部材６３Ｆを介して接続装置７０の少なくとも一部を支持してもよい。

回収流路６３ＦＲと液体回収装置２７Ｃとが、流路２７ＣＲを介して接続される。回収流路６３ＦＲ及び流路２７ＣＲは、液体回収装置２７Ｃに通じる。第１流路１０１と、液体回収装置２７Ｃに通じる回収流路６３ＦＲとが、接続装置７０の第２流路６２Ｆを介して接続される。流体回収部２７からの液体ＬＱは、第１流路１０１、第２流路６２Ｆ、回収流路６３ＦＲ、及び流路２７ＣＲを介して、液体回収装置２７Ｃに回収される。

接続装置７０は、少なくとも一部が可動部材１００と対向した状態で、可動部材１００に対して相対移動する。本実施形態においては、第１リンク部材７１は、少なくとも一部が可動部材１００と対向した状態で、第１ジョイント部７１１を中心に、可動部材１００に対してθＺ方向に移動（回動、回転）可能である。

また、第２リンク部材７２は、少なくとも一部が第１リンク部材７１と対向した状態で、第２ジョイント部７１２を中心に、第１リンク部材７１に対してθＺ方向に移動（回動、回転）可能である。

また、第２リンク部材７２は、少なくとも一部が中継部材６３Ｆと対向した状態で、第３ジョイント部７１３を中心に、中継部材６３Ｆに対してθＺ方向に移動（回動、回転）可能である。

図２０（Ｂ）は、第１ジョイント部７１１における断面図である。図２０（Ｂ）に示すように、第１ジョイント部７１１において、第１流路１０１と第２流路６２Ｆ（第１部分６２１Ｆ）とが接続されるように、可動部材１００と第１リンク部材７１とが接続される。第１リンク部材７１の少なくとも一部と可動部材１００とは、間隙を介して対向する。これにより、第１リンク部材７１と可動部材１００とは円滑に相対移動可能である。また、振動の発生が抑制される。

接続装置７０は、第１ジョイント部７１１において第１流路１０１と第２流路６２Ｆ（第１部分６２１Ｆ）との接続部をシールするシール部材７３を有する。シール部材７３により、第１ジョイント部７１１において液体ＬＱの漏出が抑制される。

シール部材７３は、潤滑性を有する。シール部材７３の摩擦係数は、可動部材１００及び接続装置７０（第１リンク部材７１）の摩擦係数よりも小さい。これにより、第１リンク部材７１と可動部材１００とは円滑に移動可能である。また、振動の発生が抑制される。

シール部材７３は、耐薬品性を有する。シール部材７３は、液体ＬＱと接触した場合でも、液体ＬＱに溶解し難い。換言すれば、シール部材７３は、液体ＬＱに対する溶出が少ない。これにより、第１流路１０１及び第２流路６２Ｆを流れる液体ＬＱの汚染が抑制される。

シール部材７３は、合成樹脂製でもよい。シール部材７３は、例えばフッ素を含む合成樹脂製でもよい。シール部材７３は、例えばＰＴＦＥ（Poly tetra fluoroethylene）を含んでもよい。

第２ジョイント部７１２及び第３ジョイント部７１３は、第１ジョイント部７１１と同等の構成である。

すなわち、第２ジョイント部７１２において、第２流路６２Ｆの第１部分６２１Ｆと第２部分６２２Ｆとが接続されるように、第１リンク部材７１と第２リンク部材７２とが接続される。第２リンク部材７２の少なくとも一部と第１リンク部材７１とは、間隙を介して対向する。第２ジョイント部７１２において第２流路６２Ｆの第１部分６２１Ｆと第２部分６２２Ｆとの接続部をシールするシール部材が設けられる。

第３ジョイント部７１３において、第２流路６２Ｆ（第２部分６２２Ｆ）と回収流路６３ＦＲとが接続されるように、第２リンク部材７２と中継部材６３Ｆとが接続される。中継部材６３Ｆの少なくとも一部と第２リンク部材７２とは、間隙を介して対向する。第３ジョイント部７１３において第２流路６２Ｆの第２部分６２２Ｆと回収流路６３ＦＲとの接続部をシールするシール部材が設けられる。

可動部材１００は、ＸＹ平面内において移動可能である。本実施形態において、可動部材１００は、Ｘ軸方向に移動する。可動部材１００がＸ軸方向に移動することにより、可動部材１００に対して、接続装置７０の少なくとも一部がＸ軸方向に相対移動する。可動部材１００が移動される可動範囲において、接続装置７０の少なくとも一部は、相対移動可能である。例えば、図２０（Ａ）において、可動部材１００が−Ｘ方向に移動（中継部材６３Ｆに近付くように移動）する場合、第１リンク部材７１と第２リンク部材７２とがなす角度θが小さくなるように、第１リンク部材７１と第２リンク部材７２とが相対移動するとともに、第１リンク部材７１と可動部材１００とが相対移動し、第２リンク部材７２と中継部材６３Ｆとが相対移動する。可動部材１００が＋Ｘ方向に移動（中継部材６３Ｆから離れるように移動）する場合、第１リンク部材７１と第２リンク部材７２とがなす角度θが大きくなるように、第１リンク部材７１と第２リンク部材７２とが相対移動するとともに、第１リンク部材７１と可動部材１００とが相対移動し、第２リンク部材７２と中継部材６３Ｆとが相対移動する。

以上説明したように、本実施形態によれば、少なくとも一部が可動部材１００に対して相対移動可能な接続装置７０を設けたので、可動部材１００が移動しても、振動の発生が抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

＜第７実施形態＞
第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２１は、本実施形態に係る配管システム６０Ｇの一例を示す断面図である。配管システム６０Ｇは、少なくとも一部が可動部材１００と対向し、可動部材１００の第１流路１０１からの液体ＬＱが流通可能な第２流路６２Ｇを有し、少なくとも一部が可動部材１００に対して相対移動可能な接続装置７０Ｂを備えている。第１流路１０１と液体回収装置２７Ｃに通じる流路２７ＣＲとが第２流路６２Ｇを介して接続される。

本実施形態において、接続装置７０Ｂは、可動部材１００の少なくとも一部が対向可能な中継部材７０Ｓを含む。第２流路６２Ｇは、中継部材７０Ｓの内部に形成される。

本実施形態において、可動部材１００は、Ｘ軸方向に移動する。中継部材７０Ｓと可動部材１００とは、Ｘ軸方向に相対移動可能である。中継部材７０Ｓは、少なくとも一部が可動部材１００と対向した状態で、可動部材１００に対して相対移動可能である。

本実施形態において、中継部材７０Ｓの少なくとも一部は、支持フレーム５３に接続される。中継部材７０Ｓの位置は、固定される。なお、中継部材７０Ｓが支持フレーム５３に対して移動してもよい。

可動部材１００は、中継部材７０Ｓの外面７４と対向する対向面１０２を有する。外面７４と対向面１０２とは間隙を介して対向する。なお、外面７４と対向面１０２との間に気体軸受が設けられてもよい。

可動部材１００にＸ軸方向に貫通する孔（貫通孔）が形成されてもよい。中継部材７０Ｓは、その貫通孔の内側に配置されるロッド部材でもよい。外面７４は、そのロッド部材の外面でもよい。対向面１０２は、可動部材１００に形成された貫通孔の内面でもよい。

対向面１０２に第１流路１０１の端部（開口）１０３が配置される。外面７４に第２流路６２Ｇの端部（開口）７５が配置される。開口７５は、開口１０３よりも大きい。開口１０３は、可動部材１００の可動範囲において可動部材１００がＸ軸方向に移動された場合においても、開口７５と開口１０３とが対向し続けることができる程度の大きさを有する。

すなわち、可動部材１００がＸ軸方向に移動した場合においても、第１流路１０１は、第２流路６２Ｇと接続され続ける。流体回収部２７から回収され、第１流路１０１に流入した液体ＬＱの少なくとも一部は、第２流路６２Ｇに流入することができる。

第２流路６２Ｇと液体回収装置２７Ｃとが、流路２７ＣＲを介して接続される。流路２７ＣＲは、液体回収装置２７Ｃに通じる。第１流路１０１と、液体回収装置２７Ｃに通じる流路２７ＣＲとが、接続装置７０Ｂの第２流路６２Ｇを介して接続される。流体回収部２７からの液体ＬＱは、第１流路１０１、第２流路６２Ｇ、及び流路２７ＣＲを介して、液体回収装置２７Ｃに回収される。

接続装置７０Ｂは、第１流路１０１と第２流路６２Ｇとの接続部をシールするシール部材７３Ｂを有する。上述の第６実施形態で説明したシール部材７３と同様、シール部材７３Ｂは、潤滑性などを有する。シール部材７３Ｂにより、第１流路１０１と第２流路６２Ｇとの接続部において液体ＬＱの漏出が抑制される。

なお、開口７５は、可動部材１００がＸ軸方向に移動した場合においても、シール部材７３Ｂと対向しない大きさを有する。すなわち、可動部材１００がＸ軸方向に関して可動範囲を移動した場合において、開口７５の内側にシール部材７３Ｂが配置されないように、Ｘ軸方向に関する開口７５の寸法が定められる。なお、可動部材１００が移動した場合において、開口７５の内側にシール部材７３Ｂの少なくとも一部が配置されてもよい。

以上説明したように、本実施形態においても、可動部材１００と接続装置７０Ｂ（中継部材７０Ｓ）とが相対移動可能である。また、可動部材１００と接続装置７０Ｂ（中継部材７０Ｓ）とは、間隙を介して対向した状態で相対移動する。そのため、可動部材１００が移動しても、振動の発生が抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

＜第８実施形態＞
第８実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２２（Ａ）は、本実施形態に係る配管システム６０Ｈの一例を示す断面図、図２２（Ｂ）は、配管システム６０Ｈの一例を示す側面図、図２２（Ｃ）は、配管システム６０Ｈの一部を示す模式図である。

配管システム６０Ｈは、少なくとも一部が可動部材１００と対向し、可動部材１００の第１流路１０１からの液体ＬＱが流通可能な第２流路６２Ｈを有し、少なくとも一部が可動部材１００に対して相対移動可能な接続装置７０Ｃを備えている。第１流路１０１と液体回収装置２７Ｃに通じる流路２７ＣＲとが第２流路６２Ｈを介して接続される。

本実施形態において、接続装置７０Ｃは、可動部材１００の少なくとも一部が対向可能であり、可動部材１００を移動可能に支持する支持面７６を有する中継部材７０Ｔを含む。第２流路６２Ｈは、中継部材７０Ｔの内部に形成される。

本実施形態において、可動部材１００は、Ｘ軸方向に移動する。中継部材７０Ｔと可動部材１００とは、Ｘ軸方向に相対移動可能である。中継部材７０Ｔは、少なくとも一部が可動部材１００と対向した状態で、可動部材１００に対して相対移動可能である。可動部材１００は、中継部材７０Ｔに支持された状態で、Ｘ軸方向に移動可能である。

本実施形態において、中継部材７０Ｔの少なくとも一部は、支持フレーム５３に接続される。本実施形態において、中継部材７０Ｔは、支持フレーム５３の下面５３Ｂに接続された保持部材７７に接続される。中継部材７０Ｔは、保持部材７７に固定される。中継部材７０Ｔは、保持部材７７を介して、支持フレーム５３に接続される。中継部材７０Ｔの位置は、固定される。

以下の説明において、保持部材７７及びその保持部材７７に接続される中継部材７０Ｔを合わせて適宜、中継装置９０、と称する。中継装置９０は、支持フレーム５３に固定される。

本実施形態において、可動部材１００の少なくとも一部は、支持フレーム５３と中継装置９０との間の空間７８の内側に配置される。中継装置９０（中継部材７０Ｔ）は、可動部材１００を移動可能に支持する。空間７８において可動部材１００が可動範囲を移動しても、可動部材１００と保持部材７７とが接触しない程度に、空間７８の大きさが定められる。

可動部材１００は、中継部材７０Ｔの支持面７６と対向する対向面１０４を有する。本実施形態において支持面７６は上方（＋Ｚ側）を向く。対向面１０４は下方（−Ｚ側）を向く。

支持面７６と対向面１０４とは間隙を介して対向する。支持面７６は、非接触で可動部材１００を支持する。

図２２（Ｃ）に示すように、支持面７６と対向面１０４との間に気体軸受１０５が設けられる。本実施形態において、気体軸受１０５は、可動部材１００に配置された多孔部材１０６の孔から支持面７６と対向面１０４との間に供給される気体によって形成される。対向面１０４は、多孔部材１０６の下面を含む。なお、気体軸受１０５は、多孔部材１０６から供給される気体によって形成されなくてもよい。気体軸受１０５を形成するための、支持面７６と対向面１０４との間に気体を供給する給気口と、支持面７６と対向面１０４との間の気体の少なくとも一部を排出する排気口とが、可動部材１００の対向面１０４及び中継部材７０Ｔの支持面７６の一方又は両方に設けられてもよい。

対向面１０４に第１流路１０１の端部（開口）１０７が配置される。支持面７６に第２流路６２Ｈの端部（開口）７９が配置される。開口７９は、開口１０７よりも大きい。開口１０７は、可動部材１００の可動範囲において可動部材１００がＸ軸方向に移動された場合においても、開口７９と開口１０７とが対向し続けることができる程度の大きさを有する。

すなわち、可動部材１００がＸ軸方向に移動した場合においても、第１流路１０１は、第２流路６２Ｈと接続され続ける。流体回収部２７から回収され、第１流路１０１に流入した液体ＬＱの少なくとも一部は、第２流路６２Ｈに流入することができる。

第２流路６２Ｈと液体回収装置２７Ｃとが、流路２７ＣＲを介して接続される。流路２７ＣＲは、液体回収装置２７Ｃに通じる。第１流路１０１と、液体回収装置２７Ｃに通じる流路２７ＣＲとが、接続装置７０Ｃの第２流路６２Ｈを介して接続される。流体回収部２７からの液体ＬＱは、第１流路１０１、第２流路６２Ｈ、及び流路２７ＣＲを介して、液体回収装置２７Ｃに回収される。

接続装置７０Ｃは、第１流路１０１と第２流路６２Ｈとの接続部をシールするシール部を有してもよい。本実施形態においては、開口７９及び開口１０７の外側に配置される気体軸受１０５によって、シール部が形成される。シール部（気体軸受１０５）により、第１流路１０１と第２流路６２Ｈとの接続部において液体ＬＱの漏出が抑制される。

以上説明したように、本実施形態においても、可動部材１００と接続装置７０Ｃ（中継部材７０Ｔ）とは相対移動可能である。そのため、可動部材１００が移動しても、振動の発生が抑制される。また、可動部材１００と接続装置７０Ｃ（中継部材７０Ｔ）とは、間隙を介して対向した状態で相対移動する。そのため、可動部材１００の移動に伴って発生する保持装置９０に作用する反力を小さくすることができる。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

なお、本実施形態において、図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）に示すように、支持フレーム５３と中継装置９０との間に、中継装置９０を移動（揺動）可能に支持する支持装置８０が設けられてもよい。支持装置８０は、例えばヒンジ機構を含む。支持装置８０は、保持部材７７及びその保持部材７７に接続される中継部材７０Ｔを含む中継装置９０を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向に移動可能に支持する。

上述の実施形態で説明したように、可動部材１００（第２部材２２、第２支持部材５２）をガイドするガイド装置５７及び気体軸受５７Ｇが、第１支持部材５１と可動部材１００との間に設けられる。ガイド装置５７は、可動部材１００をＸ軸方向にガイドし、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向に関する可動部材１００の移動を制限する。気体軸受５７Ｇにより、可動部材１００は、第１支持部材２１に対して非接触状態でＸ軸方向にガイドされる。

図２３に示す例においては、支持装置８０により中継装置９０が支持フレーム５３に対して移動可能であるため、可動部材１００の移動に伴って発生する中継装置９０に作用する反力をより小さくすることができる。また、中継装置９０が支持フレーム５３に対して移動可能であるため、気体軸受５７Ｇにおける第１支持部材５１と可動部材１００との間隙の寸法、及び気体軸受１０５における中継部材７０Ｔと可動部材１００との間隙の寸法のそれぞれを適切な寸法に維持することができる。

なお、上述の第１〜第８実施形態において、図２４に示すように、第１部材２１の少なくとも一部が、終端光学素子１３の射出面１２と対向してもよい。すなわち、第１部材２１の一部が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。

図２４に示す例において、第１部材２１は、開口３４の周囲に配置された上面４４を有する。開口３４の上端の周囲に上面４４が配置される。また、図２４に示す例では、第２部材２２の上面の一部も、射出面１２と対向する。

なお、上述の各実施形態において、図２４に示すように、第１空間ＳＰ１に面するように液体供給部（液体供給口）３１００が設けられてもよい。図２４に示す例において、液体供給部３１００は、第１空間ＳＰ１に面するように第１部材２１の下面に配置される。なお、液体供給部３１００は、第１空間ＳＰ１に面するように第２部材２２の上面に配置されてもよい。

液体供給部３１００から液体ＬＱが供給されることにより、例えば第３空間ＳＰ３に面する液体供給部３１から供給された液体ＬＱが第１空間ＳＰ１に流入しなくても、第１空間ＳＰ１が液体ＬＱで満たされる。

なお、上述の各実施形態において、第２部材２２が、射出面１２と対向しなくてもよい。すなわち、第２部材２２が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されなくてもよい。例えば、図２５に示すように、第１部材２１の下面が、射出面１２よりも＋Ｚ側に配置されてもよい。すなわち、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法が、基板Ｐの上面と第２部材２２の下面との間隙の寸法よりも小さくてもよい。

なお、上述の各実施形態において、Ｚ軸方向に関する第１部材２１の下面の位置（高さ）と射出面１２の位置（高さ）とが実質的に等しくてもよい。第１部材２１の下面が、射出面１２よりも−Ｚ側に配置されてもよい。

なお、上述の各実施形態において、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法が、基板Ｐの上面と第２部材２２の下面との間隙の寸法と実質的に等しくてもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１部材２１と終端光学素子１３との間の空間から液体ＬＱ及び気体の少なくとも一方を吸引する吸引口を第１部材２１に設けてもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１部材２１は環状でなくてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲において複数配置されてもよい。

なお、上述の各実施形態において、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。

なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。

記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。

記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体上に液体の液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な回収部及び回収部からの液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、可動部材を移動することと、回収部から回収され第１流路を流れる液体を、可動部材に接続され、少なくとも一部が変形可能な変形部材の第２流路を介して回収することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体上に液体の液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な回収部及び回収部からの液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、可動部材を移動することと、回収部から回収され第１流路を流れる液体を、少なくとも一部が可動部材と対向し、少なくとも一部が可動部材に対して相対移動可能な接続装置の第２流路、及び第２流路を介して第１流路と接続される第３流路を介して液体回収装置で回収することと、を実行させてもよい。

記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。

なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。

なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。

また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。

また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。

また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図２６に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。

また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。

露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。

なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。

上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。

また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。

上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２７に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。

なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、８Ａ…基準フレーム、８Ｂ…装置フレーム、１２…射出面、１３…終端光学素子、２１…第１部材、２２…第２部材、２３…下面、２４…流体回収部、２５…上面、２６…下面、２７…流体回収部、２７Ｃ…流体回収装置、２７ＣＲ…流路、２９…外側面、３０…内側面、３１…液体供給部、３２…駆動装置、３４…開口、３５…開口、３６…多孔部材、３７…多孔部材、５１…第１支持部材、５２…第２支持部材、５３…支持フレーム、５４…移動フレーム、５５…防振装置、５６…駆動装置、６０…配管システム、６１…変形部材、６２…第２流路、６２Ｆ…第２流路、６２１Ｆ…第１部分、６２２Ｆ…第２部分、６３…中継部材、６３Ｒ…回収流路、７０…接続装置、７０Ｒ…リンク機構、７１…第１リンク部材、７２…第２リンク部材、１００…可動部材、１０１…第１流路、６１１…柔軟部、６１２…屈曲部、７１１…第１ジョイント部、７１２…第２ジョイント部、７１３…第３ジョイント部、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＧＳ…気体、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板。

Claims (21)

1. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
   前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
   前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に前記液体の液浸空間を形成可能であり、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な第１回収部及び前記第１回収部からの前記液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材と、
   前記可動部材に接続され、前記第１流路からの前記液体が流通可能な第２流路を有し、少なくとも一部が変形可能な変形部材と、を備え、
   前記液浸部材は、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を有し、
   前記可動部材は、前記第２部材を含み、
   前記第２部材は、前記第１回収部を有し、
   前記第１部材は、前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な第２回収部を有する露光装置。
2. 前記可動部材が移動される可動範囲において、前記変形部材は弾性変形可能である請求項１に記載の露光装置。
3. 前記可動部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動され、
   前記変形部材は、前記可動部材の移動方向に変形可能である請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記変形部材は、少なくとも一部に柔軟部を有するチューブ部材を含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
5. 前記光学部材を支持する基準フレームと、
   前記液浸部材の少なくとも一部を支持する支持フレームと、
   前記基準フレーム及び前記支持フレームを支持する装置フレームと、を備え、
   前記変形部材は、前記支持フレームに支持される請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
6. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
   前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
   前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に前記液体の液浸空間を形成可能であり、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な第１回収部及び前記第１回収部からの前記液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材と、
   少なくとも一部が前記可動部材と対向し、前記第１流路からの前記液体が流通可能な第２流路を有し、少なくとも一部が前記可動部材に対して相対移動可能な接続装置と、を備え、
   前記第１流路と液体回収装置に通じる第３流路とが前記第２流路を介して接続され、
   前記液浸部材は、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を有し、
   前記可動部材は、前記第２部材を含み、
   前記第２部材は、前記第１回収部を有し、
   前記第１部材は、前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な第２回収部を有する露光装置。
7. 前記接続装置は、第１ジョイント部を介して前記可動部材と接続され、前記第２流路の第１部分が形成される第１リンク部材と、第２ジョイント部を介して前記第１リンク部材と接続され、前記第２流路の第２部分が形成される第２リンク部材と、を含むリンク機構を有する請求項６に記載の露光装置。
8. 前記光学部材を支持する基準フレームと、
   前記液浸部材の少なくとも一部を支持する支持フレームと、
   前記基準フレーム及び前記支持フレームを支持する装置フレームと、を備え、
   前記接続装置は、前記支持フレームに支持される請求項６又は７に記載の露光装置。
9. 前記可動部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動する請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
10. 前記物体が対向可能に配置される多孔部材を備え、
    前記第１回収部及び前記第２回収部のうちの少なくとも一方は、前記多孔部材を含む請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
11. 前記液浸空間が形成されている状態において、前記可動部材は移動可能である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
12. 前記射出面から前記露光光が射出される期間の少なくとも一部において、前記可動部材は移動可能である請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置。
13. 前記可動部材は、前記物体との相対移動が小さくなるように移動される請求項１〜１２のいずれか一項に記載の露光装置。
14. 前記可動部材は、前記可動部材と前記物体との相対移動が、前記光学部材と前記物体との相対移動よりも小さくなるように移動される請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置。
15. 前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動後、第２経路を移動し、
    前記第１経路において、前記基板の移動は、前記面内における第１軸と実質的に平行な第１方向への移動を含み、
    前記第２経路において、前記基板の移動は、前記面内において前記第１軸と直交する第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、
    前記可動部材は、前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向に移動する請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置。
16. 前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光が照射され、前記第２経路を移動するときに前記露光光が照射されない請求項１５に記載の露光装置。
17. 前記基板は、前記第２経路を移動した後に、第３経路を移動し、
    前記第３経路において、前記基板の移動は、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含み、
    前記可動部材は、前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向の反対の第４方向に移動する請求項１５又は１６に記載の露光装置。
18. 請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
19. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に前記液体の液浸空間を形成可能であり、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な第１回収部及び前記第１回収部からの前記液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記可動部材を移動することと、
    前記第１回収部から回収され前記第１流路を流れる液体を、前記可動部材に接続され、少なくとも一部が変形可能な変形部材の第２流路を介して回収することと、を含み、
    前記液浸部材は、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を有し、
    前記可動部材は、前記第２部材を含み、
    前記第１部材に設けられた供給部から前記液浸空間を形成するための液体を供給することと、
    前記第２部材に設けられた前記第１回収部によって、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収することと、
    前記第１部材に設けられた第２回収部によって、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収することと、をさらに含む露光方法。
20. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に前記液体の液浸空間を形成可能であり、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な第１回収部及び前記第１回収部からの前記液体が流通可能な第１流路を有する可動部材を含む液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記可動部材を移動することと、
    前記第１回収部から回収され前記第１流路を流れる液体を、少なくとも一部が前記可動部材と対向し、少なくとも一部が前記可動部材に対して相対移動可能な接続装置の第２流路、及び前記第２流路を介して前記第１流路と接続される第３流路を介して液体回収装置で回収することと、を含み、
    前記液浸部材は、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を有し、
    前記可動部材は、前記第２部材を含み、
    前記第１部材に設けられた供給部から前記液浸空間を形成するための液体を供給することと、
    前記第２部材に設けられた前記第１回収部によって、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収することと、
    前記第１部材に設けられた第２回収部によって、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収することと、をさらに含む露光方法。
21. 請求項１９又は２０に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。

Images