JP2014120691A - 液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸部材を提供する。
【解決手段】液浸部材は、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する。液浸部材は、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口と、物体側に突出するように開口の周囲の少なくとも一部に配置される凸部と、を有する第２部材と、を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。

フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。

米国特許第７８６４２９２号

液浸露光装置において、露光光の光路の液体中に気泡（気体部分）が存在すると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口と、物体側に突出するように開口の周囲の少なくとも一部に配置される凸部と、を有する第２部材と、を備える液浸部材が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、開口を介して供給部から物体上に供給された液体の少なくとも一部を誘導する誘導部と、を備える液浸部材が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備え、第２部材の移動において、液体が第１供給量及び第１供給量とは異なる第２供給量で供給される液浸部材が提供される。

本発明の第４の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備え、第２部材の移動において、液体が第１回収量及び第１回収量とは異なる第２回収量で回収される液浸部材が提供される。

本発明の第５の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備え、第２部材は、光学部材の光軸と垂直な面内において移動可能であり、面内において移動する期間の少なくとも一部において、第２部材の少なくとも一部は、光軸と実質的に平行な方向に移動する液浸部材が提供される。

本発明の第６の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、第１〜第５のいずれか一つの態様の液浸部材を備える露光装置が提供される。

本発明の第７の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、物体は、基板を含み、液浸空間が形成された状態で、基板は、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動し、第２経路を移動した後、第３経路を移動し、第１経路において、基板の移動は、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、第２経路において、基板の移動は、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、第３経路において、基板の移動は、第１方向の反対の第３方向への移動を含み、第２部材は、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第３方向に移動し、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２方向の反対の第４方向に移動し、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、基板の第２経路の移動の期間における供給量よりも多い供給量で、供給部から液体が供給される露光装置が提供される。

本発明の第８の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、物体は、基板を含み、液浸空間が形成された状態で、基板は、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動し、第２経路を移動した後、第３経路を移動し、第１経路において、基板の移動は、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、第２経路において、基板の移動は、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、第３経路において、基板の移動は、第１方向の反対の第３方向への移動を含み、第２部材は、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第３方向に移動し、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２方向の反対の第４方向に移動し、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、基板の第２経路の移動の期間における回収量よりも少ない回収量で、回収部から液体が回収される露光装置が提供される。

本発明の第９の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、物体は、基板を含み、液浸空間が形成された状態で、基板は、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動し、第２経路を移動した後、第３経路を移動し、第１経路において、基板の移動は、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、第２経路において、基板の移動は、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、第３経路において、基板の移動は、第１方向の反対の第３方向への移動を含み、第２部材は、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第３方向に移動し、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２方向の反対の第４方向に移動し、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、第２部材の開口の周囲の下面と物体の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材及び物体の一方又は両方が移動される露光装置が提供される。

本発明の第１０の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、 第２部材と物体との間の液体の界面が開口に近づくように移動するとき、供給部からの液体の供給量が多くなる露光装置が提供される。

本発明の第１１の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、第２部材と物体との間の液体の界面が開口に近づくように移動するとき、回収部からの液体の回収量が少なくなる露光装置が提供される。

本発明の第１２の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、第２部材と物体との間の液体の界面が開口に近づくように移動するとき、第２部材の開口の周囲の下面と物体の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材及び物体の一方又は両方が移動される露光装置が提供される。

本発明の第１３の態様に従えば、第６〜第１２のいずれか一つの態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第１４の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口と、基板側に突出するように開口の周囲の少なくとも一部に配置される凸部と、を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１５の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、開口を介して供給部から基板上に供給された液体の少なくとも一部を誘導する誘導部と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１６の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、第２部材の移動において、液体を第１供給量及び第１供給量とは異なる第２供給量で供給することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１７の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、第２部材の移動において、液体を第１回収量及び第１回収量とは異なる第２回収量で回収することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１８の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材が面内において移動する期間の少なくとも一部において、第２部材の少なくとも一部を、光軸と実質的に平行な方向に移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１９の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間が形成された状態で、基板を、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、第１経路を移動させた後、基板を、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、第２経路を移動させた後、基板を、第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第３方向に移動させることと、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第２方向の反対の第４方向に移動させることと、基板が第１経路を移動するときに液浸空間の液体を介して基板のショット領域に露光光を照射することと、基板が第２経路を移動するときに露光光を照射しないことと、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、基板の第２経路の移動の期間における供給量よりも多い供給量で、供給部から液体を供給することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第２０の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間が形成された状態で、基板を、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、第１経路を移動させた後、基板を、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、第２経路を移動させた後、基板を、第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第３方向に移動させることと、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第２方向の反対の第４方向に移動させることと、基板が第１経路を移動するときに液浸空間の液体を介して基板のショット領域に露光光を照射することと、基板が第２経路を移動するときに露光光を照射しないことと、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、基板の第２経路の移動の期間における回収量よりも少ない回収量で、回収部から液体を回収することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第２１の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間が形成された状態で、基板を、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、第１経路を移動させた後、基板を、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、第２経路を移動させた後、基板を、第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第３方向に移動させることと、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第２方向の反対の第４方向に移動させることと、基板が第１経路を移動するときに液浸空間の液体を介して基板のショット領域に露光光を照射することと、基板が第２経路を移動するときに露光光を照射しないことと、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、第２部材の開口の周囲の下面と基板の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材及び基板の一方又は両方を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第２２の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材と基板との間の液体の界面が開口に近づくように移動するとき、供給部からの液体の供給量を多くすることと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第２３の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材と基板との間の液体の界面が開口に近づくように移動するとき、回収部からの液体の回収量を少なくすることと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第２４の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材と基板との間の液体の界面が開口に近づくように移動するとき、第２部材の開口の周囲の下面と基板の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材及び基板の一方又は両方を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第２５の態様に従えば、第１４〜第２４のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第２６の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口と、基板側に突出するように開口の周囲の少なくとも一部に配置される凸部と、を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２７の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、開口を介して供給部から基板上に供給された液体の少なくとも一部を誘導する誘導部と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２８の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、第２部材の移動において、液体を第１供給量及び第１供給量とは異なる第２供給量で供給することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２９の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、第２部材の移動において、液体を第１回収量及び第１回収量とは異なる第２回収量で回収することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第３０の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材が面内において移動する期間の少なくとも一部において、第２部材の少なくとも一部を、光軸と実質的に平行な方向に移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第３１の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間が形成された状態で、基板を、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、第１経路を移動させた後、基板を、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、第２経路を移動させた後、基板を、第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第３方向に移動させることと、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第２方向の反対の第４方向に移動させることと、基板が第１経路を移動するときに液浸空間の液体を介して基板のショット領域に露光光を照射することと、基板が第２経路を移動するときに露光光を照射しないことと、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、基板の第２経路の移動の期間における供給量よりも多い供給量で、供給部から液体を供給することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第３２の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間が形成された状態で、基板を、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、第１経路を移動させた後、基板を、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、第２経路を移動させた後、基板を、第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第３方向に移動させることと、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第２方向の反対の第４方向に移動させることと、基板が第１経路を移動するときに液浸空間の液体を介して基板のショット領域に露光光を照射することと、基板が第２経路を移動するときに露光光を照射しないことと、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、基板の第２経路の移動の期間における回収量よりも少ない回収量で、回収部から液体を回収することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第３３の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間が形成された状態で、基板を、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、第１経路を移動させた後、基板を、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、第２経路を移動させた後、基板を、第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第３方向に移動させることと、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第２方向の反対の第４方向に移動させることと、基板が第１経路を移動するときに液浸空間の液体を介して基板のショット領域に露光光を照射することと、基板が第２経路を移動するときに露光光を照射しないことと、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、第２部材の開口の周囲の下面と基板の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材及び基板の一方又は両方を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第３４の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材と基板との間の液体の界面が開口に近づくように移動するとき、供給部からの液体の供給量を多くすることと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第３５の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材と基板との間の液体の界面が開口に近づくように移動するとき、回収部からの液体の回収量を少なくすることと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第３６の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材と基板との間の基板の界面が開口に近づくように移動するとき、第２部材の開口の周囲の下面と基板の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材及び基板の一方又は両方を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第３７の態様に従えば、第２６〜第３６のいずれか一つの態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。

本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。

第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す分解斜視図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す分解斜視図である。 第１実施形態に係る第１部材の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 比較例を示す図である。 第１実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。 第２実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第３実施形態に係る第２部材の一例を示す側断面図である。 第４実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第５実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第６実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第６実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第７実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第８実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第８実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第８実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第８実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第８実施形態に係る液浸部材の一例を示す斜視図である。 液浸部材の一例を示す図である。 液浸部材の一例を示す図である。 基板ステージの一例を示す図である。 デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。

本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。

図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。

また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ、及び計測システム４を含む各種の計測システムを支持する基準フレーム８Ａと、基準フレーム８Ａを支持する装置フレーム８Ｂと、基準フレーム８Ａと装置フレーム８Ｂとの間に配置され、装置フレーム８Ｂから基準フレーム８Ａへの振動の伝達を抑制する防振装置１０とを備えている。防振装置１０は、ばね装置などを含む。本実施形態において、防振装置１０は、気体ばね（例えばエアマウント）を含む。なお、基板Ｐのアライメントマークを検出する検出システム及び基板Ｐなどの物体の表面の位置を検出する検出システムの一方又は両方が基準フレーム８Ａに支持されてもよい。

また、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置９を備えている。空間ＣＳには、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材５、基板ステージ２、及び計測ステージ３が配置される。本実施形態においては、マスクステージ１、及び照明系ＩＬの少なくとも一部も空間ＣＳに配置される。

マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。

基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。

照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。

マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１１は、リニアモータを含んでもよい。

投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態において、投影光学系ＰＬは、縮小系である。投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／４である。なお、投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／５、又は１／８等でもよい。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬは、倒立像及び正立像のいずれを形成してもよい。

投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ方向を向いている。射出面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。射出面１２は、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面１２は、凸面でもよいし、凹面でもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸は、Ｚ軸と平行である。

終端光学素子１３の光軸と平行な方向に関して、射出面１２側が−Ｚ側であり、入射面側が＋Ｚ側である。投影光学系ＰＬの光軸と平行な方向に関して、投影光学系ＰＬの像面側が−Ｚ側であり、投影光学系ＰＬの物体面側が＋Ｚ側である。

基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。

基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。Ｚ軸方向に関して、射出面１２と第１保持部に保持された基板Ｐの上面との距離は、射出面１２と第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しい。

なお、Ｚ軸方向に関して、射出面１２と基板Ｐの上面との距離が射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しいとは、射出面１２と基板Ｐの上面との距離と射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離との差が、基板Ｐの露光時における射出面１２と基板Ｐの上面との距離（所謂、ワーキングディスタンス）の例えば１０％以内であることを含む。

なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。例えば、Ｚ軸方向に関して、基板Ｐの上面との位置とカバー部材Ｔの上面の位置とが異なってもよい。例えば、基板Ｐの上面とカバー部材Ｔの上面との間に段差があってよい。

なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよい。カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。

基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１５は、リニアモータを含んでもよい。

計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットを含む。

なお、計測システムが、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。なお、計測システム４が、干渉計システム及びエンコーダシステムのいずれか一方のみを含んでもよい。

基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。

次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。なお、液浸部材を、ノズル部材、と称してもよい。図２は、ＸＺ平面と平行な液浸部材５の断面図である。図３は、図２の一部を拡大した図である。図４は、液浸部材５の動作の一例を示す図である。図５は、液浸部材５を下側（−Ｚ側）から見た図である。図６及び図７は、液浸部材５の分解斜視図である。

液浸部材５は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体上に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。

終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能である。その物体は、射出面１２と対向可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。その物体は、液浸部材５の下方で移動可能であり、液浸部材５と対向可能である。

本実施形態において、その物体は、基板ステージ２の少なくとも一部（例えば基板ステージ２のカバー部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つを含む。

基板Ｐの露光において、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。

以下の説明においては、物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、物体は、基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。

なお、液浸空間ＬＳは、２つの物体を跨ぐように形成される場合がある。例えば、液浸空間ＬＳは、基板ステージ２のカバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように形成される場合がある。液浸空間ＬＳは、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。

液浸空間ＬＳは、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。

液浸部材５は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１と、第１部材２１の下方において光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される第２部材２２とを備えている。

本実施形態において、第１部材２１は、終端光学素子１３の周囲に配置される。第１部材２１は、環状の部材である。第１部材２１は、終端光学素子１３に接触しないように配置される。第１部材２１と終端光学素子１３との間に間隙が形成される。

本実施形態において、第１部材２１は、射出面１２と対向しない。すなわち、第１部材２１は、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されない。換言すれば、射出面１２の直下に第１部材２１は配置されない。

本実施形態において、第２部材２２は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。第２部材２２は、環状の部材である。第２部材２２は、第１部材２１に接触しないように配置される。第２部材２２と第１部材２１との間に間隙が形成される。

第２部材２２の少なくとも一部は、終端光学素子１３の下方に配置される。終端光学素子１３の少なくとも一部は、第２部材２２の上方に配置される。終端光学素子１３は、第２部材２２よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置される。

第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１の下方に配置される。第１部材２１の少なくとも一部は、第２部材２２の上方に配置される。第１部材２１は、第２部材２２よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に配置される。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が対向可能に配置される。

本実施形態において、第２部材２２の少なくとも一部は、射出面１２と対向可能である。すなわち、第２部材２２の少なくとも一部は、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置される。

第２部材２２は、終端光学素子１３に対して可動（移動可能）である。本実施形態において、終端光学素子１３は、実質的に移動しない。第２部材２２と終端光学素子１３との相対位置は、変化する。

第２部材２２は、第１部材２１に対して可動（移動可能）である。本実施形態において、第１部材２１は、実質的に移動しない。第２部材２２と第１部材２１との相対位置は、変化する。

第２部材２２は、終端光学素子１３の少なくとも一部の下方で移動可能である。第２部材２２は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。

第２部材２２は、第１部材２１の少なくとも一部の下方で移動可能である。第２部材２２は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。

本実施形態において、第２部材２２は、駆動装置５６の作動により移動する。駆動装置５６は、例えばモータを含み、ローレンツ力を使って第２部材２２を移動可能である。駆動装置５６は、第２部材２２を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向に移動可能である。駆動装置５６は、終端光学素子１３及び第１部材２１に対して第２部材２２を移動可能である。駆動装置５６は、制御装置６に制御される。

第１部材２１は、射出面１２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３４を有する。第２部材２２は、射出面１２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３５を有する。

本実施形態において、ＸＹ平面内における開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。Ｘ軸方向に関して、開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。Ｙ軸方向に関して、開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。

ＸＹ平面内における開口３４の寸法は、射出面１２の寸法よりも大きい。開口３４の内側に射出面１２が配置される。

ＸＹ平面内における開口３５の寸法は、射出面１２の寸法よりも小さい。Ｙ軸方向に関して、開口３５の寸法は、射出面１２の寸法よりも小さい。Ｘ軸方向に関して、開口３５の寸法は、射出面１２の寸法よりも小さい。

本実施形態において、ＸＹ平面内における開口３５の形状は、長方形状である。開口３５は、Ｘ軸方向に長い。なお、開口３５の形状は、Ｘ軸方向に長い楕円形でもよいし、Ｘ軸方向に長い多角形でもよい。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）側に突出するように開口３５の周囲の少なくとも一部に配置される凸部７０を有する。なお、凸部を、壁部、と称してもよい。

本実施形態において、凸部７０は、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面７０Ｔと、下面７０Ｔの外側エッジと結ばれ、終端光学素子１３の光軸と実質的に平行な外面７０Ｆとを有する。

終端光学素子１３は、−Ｚ方向を向く射出面１２と、射出面１２の周囲に配置される側面１３Ｆとを有する。側面１３Ｆは、露光光ＥＬを射出しない非射出面である。露光光ＥＬは、射出面１２を通過し、側面１３Ｆを通過しない。

第１部材２１は、＋Ｚ方向を向く上面２１Ｔと、−Ｚ方向を向く下面２１Ｕと、光路Ｋ側を向く内側面２８と、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して外側を向く外側面２９とを有する。

開口（孔）３４は、上面２１Ｔと下面２１Ｕとを結ぶように形成される。上面２１Ｔは、開口３４の上端の周囲に配置される。下面２１Ｕは、開口３４の下端の周囲に配置される。

第２部材２２は、＋Ｚ方向を向く上面２２Ｔと、−Ｚ方向を向く下面２２Ｕと、光路Ｋ側を向く内側面３０とを有する。

開口（孔）３５は、上面２２Ｔと下面２２Ｕとを結ぶように形成される。上面２２Ｔは、開口３５の上端の周囲に配置される。下面２２Ｕは、開口３５の下端の周囲に配置される。

上面２２Ｔは、射出面１２と対向可能である。上面２２Ｔは、間隙を介して、射出面１２と対向する。

上面２２Ｔは、下面２１Ｕと対向可能である。上面２２Ｔは、間隙を介して、下面２１Ｕと対向する。なお、上面２２Ｔの少なくとも一部が下面２１Ｕと接触してもよい。

基板Ｐ（物体）の上面は、射出面１２と対向可能である。基板Ｐ（物体）の上面は、間隙を介して、射出面１２と対向する。

基板Ｐ（物体）の上面は、下面２２Ｕと対向可能である。基板Ｐ（物体）の上面は、間隙を介して、下面２２Ｕと対向する。

内側面２８の少なくとも一部は、側面１３Ｆと対向する。内側面２８は、間隙を介して、側面１３Ｆと対向する。なお、内側面２８の少なくとも一部が側面１３Ｆと接触してもよい。

内側面３０の少なくとも一部は、外側面２９と対向可能である。内側面３０は、間隙を介して、外側面２９と対向する。なお、内側面３０の少なくとも一部が外側面２９と接触してもよい。

以下の説明において、下面２１Ｕと上面２２Ｔとの間の空間を適宜、第１空間ＳＰ１、と称する。下面２２Ｕと基板Ｐ（物体）の上面との間の空間を適宜、第２空間ＳＰ２、と称する。側面１３Ｆと内側面２８との間の空間を適宜、第３空間ＳＰ３、と称する。射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の光路Ｋを含む空間を適宜、光路空間ＳＰＫ、と称する。光路空間ＳＰＫは、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の空間、及び射出面１２と上面２２Ｔとの間の空間を含む。

Ｚ軸方向に関して、光路空間ＳＰＫの寸法（基板Ｐの上面と射出面１２との間隙の寸法）は、第２空間ＳＰ２の寸法（基板Ｐの上面と下面２２Ｕとの間隙の寸法）よりも大きい。

Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法（下面２１Ｕと上面２２Ｔとの間隙の寸法）は、第２空間ＳＰ２の寸法（基板Ｐの上面と下面２２Ｕとの間隙の寸法）よりも小さい。

なお、Ｚ軸方向に関して、光路空間ＳＰＫの寸法が、第２空間ＳＰ２の寸法と実質的に等しくてもよいし、第２空間ＳＰ２の寸法よりも小さくてもよい。

なお、Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法が、第２空間ＳＰ２の寸法と実質的に等しくてもよいし、第２空間ＳＰ２の寸法よりも大きくてもよい。

本実施形態において、第２部材２２は、下面２１Ｕの全部と対向可能である。図２に示すように、終端光学素子１３の光軸と開口３５の中心とが実質的に一致する原点に第２部材２２が配置されているときに、第１部材２１の下面２１Ｕの全部と第２部材２２の上面２２Ｔとが対向する。また、第２部材２２が原点に配置されているときに、射出面１２の一部と第２部材２２の上面２２Ｔとが対向する。

また、本実施形態においては、第２部材２２が原点に配置されているときに、開口３４の中心と開口３５の中心とが実質的に一致する。

第２部材２２は、第１部材２１の下面２１Ｕと対向可能である。下面２１Ｕは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部２３と、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な流体回収部２４とを含む。

本実施形態において、流体回収部２４は、開口３４の中心に対して非回収部２３の外側に配置される。第２部材２２が原点に配置されているときに、流体回収部２４と第２部材２２の上面２２Ｔとが対向する。

第１部材２１の内側面２８、及び外側面２９のそれぞれは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部である。

第２部材２２の上面２２Ｔは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部である。第２部材２２の上面２２Ｔは、非回収部２３及び流体回収部２４に対向可能である。非回収部２３及び流体回収部２４の少なくとも一部は、第２部材２２との間で液体ＬＱを保持可能である。

第２部材２２の内側面３０は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部である。

基板Ｐ（物体）は、第２部材２２の下面２２Ｕと対向可能である。下面２２Ｕは、凸部７０の下面７０Ｔを含む部分２２Ｕａと、開口３５の中心に対して部分２２Ｕａの外側に配置され、部分２２Ｕａよりも上方（＋Ｚ側）に配置される部分２２Ｕｂと、部分２２Ｕｂよりも上方（＋Ｚ側）に配置される部分２２Ｕｃとを含む。

本実施形態において、部分２２Ｕａ（下面７０Ｔ）は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部である。

本実施形態において、外面７０Ｆは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部である。

本実施形態において、部分２２Ｕｃは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部である。

本実施形態において、部分２２Ｕｂは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部２６と、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な流体回収部２７とを含む。

本実施形態において、非回収部２３は、開口３５の中心に対して部分２２Ｕａ（下面７０Ｔ）の外側に配置される。流体回収部２７は、開口３５の中心に対して非回収部２３の外側に配置される。

基板Ｐ（物体）は、部分２２Ｕａ（非回収部７０Ｔ）及び部分２２Ｕｂ（非回収部２６及び流体回収部２７）と対向可能である。部分２２Ｕａ及び部分２２Ｕｂの少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。

すなわち、本実施形態において、基板Ｐ（物体）が対向可能な第２部材２２の下面２２Ｕは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部７０Ｔ及び非回収部２６と、開口３５の中心に対して非回収部７０Ｔ及び非回収部２６の外側に配置され、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な流体回収部２７とを含む。

非回収部７０Ｔは、非回収部２６よりも下方（−Ｚ側）に配置される。非回収部２６及び流体回収部２７は、非回収部７０Ｔよりも上方（＋Ｚ側）に配置される。

本実施形態において、流体回収部２７は、非回収部２６よりも上方（＋Ｚ側）に配置される。

本実施形態において、開口３５の中心に対して流体回収部２７の外側に配置される部分（非回収部）２２Ｕｃは、流体回収部２７よりも上方（＋Ｚ側）に配置される。本実施形態において、部分２２Ｕｃが、液体ＬＱに対して撥液性でもよい。液体ＬＱに対する部分２２Ｕｃの接触角が９０度以上でもよいし、１００度以上でもよいし、１１０度以上でもよいし、１２０度以上でもよい。部分２２Ｕｃが、液体ＬＱに対して撥液性の膜の表面（下面）を含んでもよい。撥液性の膜は、フッ素を含む樹脂で形成されてもよい。撥液性の膜は、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）を含んでもよいし、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）を含んでもよい。

液浸部材５は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する液体供給部３１を備えている。

本実施形態において、液体供給部３１は、第２部材２２よりも上方に配置される。本実施形態において、液体供給部３１は、第１部材２１に配置される。

なお、液体供給部３１は、第１部材２１及び第２部材２２とは異なる部材に配置されてもよい。

なお、液体供給部３１は、第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよい。なお、液体供給部３１は、第１部材２１に配置され、第２部材２２に配置されなくてもよい。

液体供給部３１は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対する放射方向に関して流体回収部２４及び流体回収部２７の内側に配置される。本実施形態において、液体供給部３１は、第１部材２１の内側面２８に配置される開口（液体供給口）を含む。液体供給部３１は、側面１３Ｆに対向するように配置される。液体供給部３１は、側面１３Ｆと内側面２８との間の第３空間ＳＰ３に液体ＬＱを供給する。

本実施形態において、液体供給部３１は、光路Ｋ（終端光学素子１３）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。

なお、液体供給部３１は、光路Ｋ（終端光学素子１３）に対してＹ軸方向に配置されてもよいし、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路Ｋ（終端光学素子１３）の周囲に複数配置されてもよい。液体供給部３１は、一つでもよい。なお、液体供給部３１のかわりに、あるいは液体供給部３１に加えて、液体ＬＱを供給可能な液体供給部が下面２１Ｕに設けられてもよい。

本実施形態において、液体供給部（液体供給口）３１は、第１部材２１の内部に形成された供給流路３１Ｒを介して、液体供給装置３１Ｓと接続される。液体供給装置３１Ｓは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを液体供給部３１に供給可能である。液体供給部３１は、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給装置３１Ｓからの液体ＬＱを供給する。

終端光学素子１３の側面１３Ｆと第１部材２１との間に形成された間隙の下端に、開口４１が形成される。開口４１は、第２部材２２の上面２２Ｔに面する。第３空間ＳＰ３と光路空間ＳＰＫとは、開口４１を介して結ばれる。

下面２１Ｕの内側のエッジと上面２２Ｔとの間に、開口４０が形成される。光路空間ＳＰＫと第１空間ＳＰ１とは、開口４０を介して結ばれる。開口４０は、光路Ｋに面するように配置される。第１空間ＳＰ１と第３空間ＳＰ３とは、開口４１及び開口４０を介して結ばれる。

液体供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４０を介して、第１空間ＳＰ１に供給される。液浸空間ＬＳを形成するために液体供給部３１から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３４及び開口３５を介して、射出面１２と対向する基板Ｐ（物体）上に供給される。これにより、光路Ｋが液体ＬＱで満たされる。液体供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部は、第２空間ＳＰ２に供給される。

流体回収部２４は、第１部材２１に配置される。流体回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋに対する放射方向に関して液体供給部３１の外側に配置される。流体回収部２４は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して非回収部２３の外側に配置される。

本実施形態において、流体回収部２４は、非回収部２３の周囲に配置される。流体回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。

流体回収部２４は、第１空間ＳＰ１に面するように配置される。流体回収部２４は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。

流体回収部２７は、第２部材２２に配置される。流体回収部２７は、露光光ＥＬの光路Ｋに対する放射方向に関して液体供給部３１の外側に配置される。流体回収部２７は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して非回収部２６の外側に配置される。

本実施形態において、流体回収部２７は、非回収部２６の周囲に配置される。流体回収部２７は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。

流体回収部２７は、第２空間ＳＰ２に面するように配置される。基板Ｐ（物体）は、流体回収部２７と対向可能である。流体回収部２７は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。

流体回収部２７は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１部材２１の外側に配置される。流体回収部２７は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１空間ＳＰ１の外側に配置される。

本実施形態においては、上面２２Ｔ側の第１空間ＳＰ１及び下面２２Ｕ側の第２空間ＳＰ２の一方から他方への液体ＬＱの移動が抑制されている。第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２部材２２によって仕切られている。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、開口３５を介して第２空間ＳＰ２に移動できる。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、開口３５を介さずに第２空間ＳＰ２に移動できない。光路Ｋに対して開口３５よりも外側の第１空間ＳＰ１に存在する液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に移動できない。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、開口３５を介して第１空間ＳＰ１に移動できる。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、開口３５を介さずに第１空間ＳＰ１に移動できない。光路Ｋに対して開口３５よりも外側の第２空間ＳＰ２に存在する液体ＬＱは、第１空間ＳＰ１に移動できない。すなわち、本実施形態において、液浸部材５は、開口３５以外に、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とを流体的に接続する流路を有しない。

本実施形態において、流体回収部２７は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収し、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱを回収しない。流体回収部２４は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収し、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱを回収しない。

また、光路Ｋに対して第１空間ＳＰ１の外側（外側面２９の外側）に移動した液体ＬＱは、内側面３０によって、基板Ｐ上（第２空間ＳＰ２）に移動することが抑制される。

流体回収部２４は、第１部材２１の非回収部２３の周囲の少なくとも一部に配置される開口（流体回収口）を有する。流体回収部２４は、上面２２Ｔに対向するように配置される。流体回収部２４（流体回収口）は、第１部材２１の内部に形成された回収流路（空間）２４Ｒを介して、液体回収装置２４Ｃと接続される。液体回収装置２４Ｃは、流体回収部２４と真空システムとを接続可能である。流体回収部２４は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、流体回収部２４（流体回収口）を介して回収流路２４Ｒに流入可能である。

本実施形態において、流体回収部２４は、多孔部材３６を含む。流体回収口は、多孔部材３６の孔を含む。本実施形態において、多孔部材３６は、メッシュプレートを含む。多孔部材３６は、上面２２Ｔが対向可能な下面と、回収流路２４Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。流体回収部２４は、多孔部材３６の孔を介して液体ＬＱを回収する。流体回収部２４（多孔部材３６の孔）から回収された第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、回収流路２４Ｒに流入し、その回収流路２４Ｒを流れて、液体回収装置２４Ｃに回収される。

本実施形態においては、流体回収部２４を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されている。制御装置６は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが多孔部材３６の孔を通過して回収流路２４Ｒに流入し、気体は通過しないように、多孔部材３６の下面側の圧力（第１空間ＳＰ１の圧力）と上面側の圧力（回収流路２４Ｒの圧力）との差を調整する。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号などに開示されている。

なお、多孔部材３６を介して液体ＬＱ及び気体の両方が回収（吸引）されてもよい。なお、第１部材２１に多孔部材３６が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第１空間ＳＰ１の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されてもよい。

本実施形態において、流体回収部２４は、多孔部材３６の下面を含む。多孔部材３６の下面（流体回収部２４）は、非回収部２３の周囲に配置される。本実施形態において、多孔部材３６の下面（流体回収部２４）は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本実施形態において、多孔部材３６の下面（流体回収部２４）と非回収部２３とは、同一平面内に配置される（面一である）。

なお、多孔部材３６の下面が非回収部２３よりも＋Ｚ側に配置されてもよいし、−Ｚ側に配置されてもよい。なお、多孔部材３６の下面が非回収部２３に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

なお、第１空間ＳＰ１の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）を回収するための流体回収部２４が、第１空間ＳＰ１に面するように第２部材２２に配置されてもよい。流体回収部２４は、第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよい。流体回収部２４は、第１部材２１に配置され、第２部材２２に配置されなくてもよい。流体回収部２４は、第２部材２２に配置され、第１部材２１に配置されなくてもよい。

流体回収部２７は、第２部材２２の非回収部２６の周囲の少なくとも一部に配置される開口（流体回収口）を有する。流体回収部２７は、基板Ｐ（物体）の上面に対向するように配置される。流体回収部２７（流体回収口）は、第２部材２２の内部に形成された回収流路（空間）２７Ｒを介して、液体回収装置２７Ｃと接続される。液体回収装置２７Ｃは、流体回収部２７と真空システムとを接続可能である。流体回収部２７は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、流体回収部２７（流体回収口）を介して回収流路２７Ｒに流入可能である。

本実施形態において、流体回収部２７は、多孔部材３７を含む。流体回収口は、多孔部材３７の孔を含む。本実施形態において、多孔部材３７は、メッシュプレートを含む。多孔部材３７は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面と、回収流路２７Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。液体回収部２７は、多孔部材３７の孔を介して流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）を回収する。流体回収部２７（多孔部材３７の孔）から回収された第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、回収流路２７Ｒに流入し、その回収流路２７Ｒを流れて、液体回収装置２７Ｃに回収される。

回収流路２７Ｒは、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して内側面３０の外側に配置される。回収流路２７Ｒは、液体回収部２７の上方に配置される。第２部材２２が移動することにより、第２部材２２の流体回収部２７及び回収流路２７Ｒが、第１部材２１の外側面２９の外側で移動する。

流体回収部２７を介して液体ＬＱとともに気体が回収される。なお、多孔部材３７を介して液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されてもよい。なお、第２部材２２に多孔部材３７が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第２空間ＳＰ２の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されてもよい。

本実施形態において、流体回収部２７は、多孔部材３７の下面を含む。多孔部材３７の下面（流体回収部２７）は、非回収部２６の周囲に配置される。本実施形態において、多孔部材３７の下面（流体回収部２７）は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本実施形態において、多孔部材３７の下面（流体回収部２７）は、非回収部２６よりも＋Ｚ側に配置される。

なお、多孔部材３７の下面と非回収部２６とが同一平面内に配置されてもよい（面一でもよい）。多孔部材３７の下面が非回収部２６よりも−Ｚ側に配置されてもよい。なお、多孔部材３７の下面の下面が非回収部２６に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

本実施形態においては、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給動作と並行して、流体回収部２７からの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。

また、本実施形態においては、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給動作、及び流体回収部２７からの流体の回収動作と並行して、流体回収部２４からの流体の回収動作が実行される。

本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される。

本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される。

本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。

以下の説明において、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第１界面ＬＧ１、と称する。第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第２界面ＬＧ２、と称する。終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第３界面ＬＧ３、と称する。

本実施形態において、第１界面ＬＧ１は、液体回収部２４と上面２２Ｔとの間に形成される。第２界面ＬＧ２は、液体回収部２７と基板Ｐ（物体）の上面との間に形成される。

本実施形態においては、第１界面ＬＧ１が液体回収部２４と上面２２Ｔとの間に形成され、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが液体回収部２４の外側の空間（例えば外側面２９と内側面３０との間の空間）に移動することが抑制されている。外側面２９と内側面３０との間の空間には液体ＬＱが存在しない。外側面２９と内側面３０との間の空間は気体空間である。

外側面２９と内側面３０との間の空間は、空間ＣＳと接続される。換言すれば、外側面２９と内側面３０との間の空間は、雰囲気に開放される。空間ＣＳの圧力が大気圧である場合、外側面２９と内側面３０との間の空間は、大気開放される。そのため、第２部材２２は円滑に移動可能である。なお、空間ＣＳの圧力は、大気圧よりも高くてもよいし、低くてもよい。

本実施形態において、第２部材２２は、終端光学素子１３の光軸（Ｚ軸）と垂直なＸＹ平面内において移動可能である。第２部材２２は、ＸＹ平面と実質的に平行に移動可能である。

図４に示すように、本実施形態において、第２部材２２は、少なくともＸ軸方向に移動可能である。

なお、第２部材２２が、Ｘ軸方向に加えて、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能でもよい。

第２部材２２がＸＹ平面内において移動することにより、第１部材２１の外側面２９と第２部材２２の内側面３０との間隙の寸法が変化する。換言すれば、第２部材２２がＸＹ平面内において移動することによって、外側面２９と内側面３０との間の空間の大きさが変化する。

例えば、図４に示す例では、第２部材２２が−Ｘ方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外側面２９と内側面３０との間隙の寸法が小さくなる（外側面２９と内側面３０との間の空間が小さくなる）。第２部材２２が＋Ｘ方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外側面２９と内側面３０との間隙の寸法が大きくなる（外側面２９と内側面３０との間の空間が大きくなる）。

本実施形態においては、第１部材２１（外側面２９）と第２部材２２（内側面３０）とが接触しないように、第２部材２２の移動可能範囲（可動範囲）が定められる。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態において、移動されてもよい。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが接触された状態で、移動されてもよい。

第２部材２２は、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給と並行して移動されてもよい。

第２部材２２は、流体回収部２４からの液体ＬＱの回収と並行して移動されてもよい。第２部材２２は、流体回収部２７からの液体ＬＱの回収と並行して移動されてもよい。

第２部材２２は、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給及び流体回収部２４（流体回収部２７）からの液体ＬＱの回収と並行して移動されてもよい。

第２部材２２は、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において、移動されてもよい。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において移動されてもよい。

第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。

第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動方向に移動されてもよい。例えば、基板Ｐが移動される期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、基板Ｐの移動方向に移動されてもよい。例えば、基板ＰがＸＹ平面内における一方向（例えば＋Ｘ方向）に移動されるとき、第２部材２２は、その基板Ｐの移動と同期して、ＸＹ平面内における一方向（＋Ｘ方向）に移動されてもよい。

本実施形態において、光路Ｋに面する開口３５を規定する第２部材２２の内面３５Ｕの少なくとも一部は、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。これにより、第２部材２２の内面３５Ｕが液浸空間ＬＳに配置されている状態で、第２部材２２は円滑に移動可能である。また、第２部材２２の内面３５Ｕが液浸空間ＬＳに配置されている状態で第２部材２２が移動しても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動することが抑制される。

図５及び図６に示すように、本実施形態において、凸部７０は、開口３５の周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、凸部７０は、液体供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部を誘導する誘導部７１として機能する。誘導部７１は、開口３５を介して液体供給部３１から基板Ｐ（物体）上に供給された液体ＬＱの少なくとも一部を誘導する。

本実施形態において、誘導部７１は、開口３５を介して液体供給部３１から基板Ｐ（物体）上に供給された液体ＬＱの少なくとも一部が、露光光ＥＬの光路Ｋから外側に向かうように誘導する。

本実施形態において、凸部７０（誘導部７１）は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。本実施形態においては、流体回収部２７は、露光光ＥＬの光路Ｋ（開口３５の中心）に対して凸部７０（誘導部７１）の外側に配置される。

誘導部７１は、液体供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部を流体回収部２７に誘導する。本実施形態において、凸部７０（誘導部７１）の周囲に非回収部２６が配置され、その非回収部２６の周囲に流体回収部２７が配置される。誘導部７１により、開口３５を介して基板Ｐ（物体）上に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、非回収部２６と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間を流れて、流体回収部２７に到達する。流体回収部２７に到達し、流体回収部２７に接触した液体ＬＱの少なくとも一部は、流体回収部２７（流体回収口）から回収される。

すなわち、本実施形態において、誘導部７１は、開口３５を介して液体供給部３１から基板Ｐ（物体）上に供給された液体ＬＱの少なくとも一部が開口３５から流体回収部２７に向かって流れるように、その液体ＬＱの少なくとも一部を誘導する。

誘導部７１の形状は、第２部材２２の移動方向に基づいて定められる。誘導部７１は、第２部材２２の移動方向と平行な方向の液体ＬＱの流れを促進するように設けられる。誘導部７１は、液体ＬＱの少なくとも一部を第２部材２２の移動方向と平行な方向に誘導可能である。

例えば、第２部材２２がＸ軸方向に移動する場合、第２空間ＳＰ２において液体ＬＱがＸ軸方向と平行な方向に流れて流体回収部２７に到達されるように、誘導部７１の形状が定められる。例えば、第２部材２２が＋Ｘ方向に移動する場合、誘導部７１によって、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、＋Ｘ方向に流れる。第２部材２２が−Ｘ方向に移動する場合、誘導部７１によって、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、−Ｘ方向に流れる。

本実施形態において、誘導部７１は、基板Ｐ（物体）側に突出するように第２部材２２の開口３５の周囲に配置される凸部７０と、凸部７０の一部に形成されるスリット（開口）７０Ｋとを有する。凸部７０は、開口３５を囲むように配置される。スリット７０Ｋは、開口３５の中心に対して第２部材２２の移動方向に形成される。第２部材２２がＸ軸方向に移動する場合、スリット７０Ｋは、開口３５の中心に対してＸ軸方向と平行な方向に形成される。本実施形態においては、スリット７０Ｋは、Ｘ軸方向と平行な方向の液体ＬＱの流れが促進されるように、光路Ｋに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに形成される。

誘導部７１により、第２部材２２の移動方向と平行な方向に関して、第２空間ＳＰ２における液体ＬＱの流速が高められる。本実施形態においては、誘導部７１により、第２空間ＳＰ２におけるＸ軸方向に関する液体ＬＱの流速が高められる。すなわち、流体回収部２７と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間に向かって流れる液体ＬＱの速度が高められる。これにより、第２部材２２に対する第２界面ＬＧ２の位置が変動したり、第２界面ＬＧ２の形状が変化したりすることが抑制される。そのため、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱが、第２空間ＳＰ２の外側に流出することが抑制される。また、界面ＬＧ２が、開口３５の内側に移動することが抑制される。

なお、スリット７０Ｋが形成される位置は、光路Ｋに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側に限定されない。例えば、第２部材２２がＸ軸方向のみならずＹ軸方向と平行な方向にも移動する場合、光路Ｋに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側に、スリット７０Ｋが追加されてもよい。なお、第２部材２２がＹ軸方向と平行な方向に移動しない場合でも、光路Ｋに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側に、スリット７０Ｋが追加されてもよい。

また、第２部材２２の移動方向に基づいて、誘導部３８の形状（スリット７０Ｋの位置など）が定められなくてもよい。例えば、光路Ｋの全周囲において、光路Ｋに対して放射状に液体ＬＱが流れるように、誘導部７１の形状が定められてもよい。

なお、本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収可能な流体回収部の少なくとも一部が、誘導部７１の内側（誘導部７１よりも光路Ｋ側）に配置されてもよい。

図８は、第１部材２１を下面２１Ｕ側から見た図である。本実施形態においては、第１部材２１の下面２１Ｕに、液体供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部を誘導する誘導部３８が配置される。誘導部３８は、下面２１Ｕに設けられた凸部である。誘導部３８は、液体供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部を流体回収部２４に誘導する。

誘導部３８の形状は、第２部材２２の移動方向に基づいて定められる。誘導部３８は、第２部材２２の移動方向と平行な方向の液体ＬＱの流れを促進するように設けられる。

例えば、第２部材２２がＸ軸方向に移動する場合、第１空間ＳＰ１において液体ＬＱがＸ軸方向と平行な方向に流れて流体回収部２４に到達されるように、誘導部３８の形状が定められる。例えば、第２部材２２が＋Ｘ方向に移動する場合、誘導部３８によって、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、＋Ｘ方向に流れる。第２部材２２が−Ｘ方向に移動する場合、誘導部３８によって、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、−Ｘ方向に流れる。

本実施形態においては、誘導部３８は、開口３４の周囲の少なくとも一部に配置される壁部３８Ｒと、その壁部３８Ｒの一部に形成されるスリット（開口）３８Ｋとを有する。壁部３８は、開口３４を囲むように配置される。スリット３８Ｋは、Ｘ軸方向と平行な方向の液体ＬＱの流れが促進されるように、光路Ｋに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに形成される。

誘導部３８により、第２部材２２の移動方向と平行な方向に関して、第１空間ＳＰ１における液体ＬＱの流速が高められる。本実施形態においては、誘導部３８により、第１空間ＳＰ１におけるＸ軸方向に関する液体ＬＱの流速が高められる。すなわち、流体回収部２４と上面２２Ｔとの間の空間に向かって流れる液体ＬＱの速度が高められる。これにより、第１部材２１に対する第１界面ＬＧ１の位置が変動したり、第１界面ＬＧ１の形状が変化したりすることが抑制される。

なお、スリット３８Ｋが形成される位置は、光路Ｋに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側に限定されない。例えば、第２部材２２がＹ軸と平行にも移動する場合、光路Ｋに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側に、スリット３８Ｋが追加されてもよい。第２部材２２がＹ軸と平行に移動しない場合でも、光路Ｋに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側に、スリット３８Ｋが追加されてもよい。

また、第２部材２２の移動方向に基づいて、誘導部３８の形状（スリット３８Ｋの位置など）が定められなくてもよい。例えば、光路Ｋの全周囲において、光路Ｋに対して放射状に液体ＬＱが流れるように、誘導部３８の形状が定められてもよい。

本実施形態において、上面２２Ｔは、液体ＬＱに対して撥液性である。本実施形態において、上面２２Ｔは、フッ素を含む樹脂の膜の表面を含む。上面２２Ｔは、ＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）の膜の表面を含む。なお、上面２２Ｔが、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）の膜の表面を含んでもよい。液体ＬＱに対する上面２２Ｔの接触角は、９０度よりも大きい。なお、液体ＬＱに対する上面２２Ｔの接触角が、１００度よりも大きくてもよいし、１１０度よりも大きくてもよいし、１２０度よりも大きくてもよい。

上面２２Ｔが液体ＬＱに対して撥液性であるため、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱに気体部分が生成されたり、液体ＬＱに気泡が混入したりすることが抑制される。

なお、液体ＬＱに対する上面２２Ｔの接触角が、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも大きくてもよい。なお、液体ＬＱに対する上面２２Ｔの接触角が、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも小さくてもよい。なお、液体ＬＱに対する上面２２Ｔの接触角が、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角と実質的に等しくてもよい。

なお、上面２２Ｔが液体ＬＱに対して親液性でもよい。液体ＬＱに対する上面２２Ｔの接触角が、９０度よりも小さくてもよいし、８０度よりも小さくてもよいし、７０度よりも小さくてもよい。これにより、第１空間ＳＰ１において液体ＬＱが円滑に流れる。

なお、下面２１Ｕの少なくとも一部が液体ＬＱに対して撥液性でもよい。例えば、非回収部２３が液体ＬＱに対して撥液性でもよい。非回収部２３及び上面２２Ｔの両方が液体ＬＱに対して撥液性でもよい。液体ＬＱに対する非回収部２３の接触角は、９０度よりも大きくてもよいし、１００度よりも大きくてもよいし、１１０度よりも大きくてもよいし、１２０度よりも大きくてもよい。

なお、非回収部２３が液体ＬＱに対して撥液性で、上面２２Ｔが液体ＬＱに対して親液性でもよい。液体ＬＱに対する非回収部２３の接触角が、液体ＬＱに対する上面２２Ｔの接触角よりも大きくてもよい。

なお、下面２１Ｕが液体ＬＱに対して親液性でもよい。非回収部２３及び流体回収部２４が液体ＬＱに対して親液性でもよい。例えば、下面２１Ｕ及び上面２２Ｔの両方が液体ＬＱに対して親液性でもよい。液体ＬＱに対する下面２１Ｕの接触角は、９０度よりも小さくてもよいし、８０度よりも小さくてもよいし、７０度よりも小さくてもよい。

なお、下面２１Ｕが液体ＬＱに対して親液性で、上面２２Ｔが液体ＬＱに対して撥液性でもよい。液体ＬＱに対する下面２１Ｕの接触角が、液体ＬＱに対する上面２２Ｔの接触角よりも小さくてもよい。

本実施形態において、下面２２Ｕの少なくとも一部は、液体ＬＱに対して親液性である。非回収部７０Ｔ、非回収部２６、及び流体回収部２７が液体ＬＱに対して親液性でもよい。液体ＬＱに対する下面２２Ｕの接触角が、９０度よりも小さくてもよいし、８０度よりも小さくてもよいし、７０度よりも小さくてもよい。本実施形態において、液体ＬＱに対する下面２２Ｕの接触角は、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも小さい。なお、液体ＬＱに対する下面２２Ｕの接触角は、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも大きくてもよいし、実質的に等しくてもよい。

本実施形態において、下面２１Ｕの非回収部２３は、ＸＹ平面と実質的に平行である。下面２１Ｕの流体回収部２４も、ＸＹ平面と実質的に平行である。

本実施形態において、上面２２Ｔも、ＸＹ平面と実質的に平行である。

下面２２Ｕの非回収部２６も、ＸＹ平面と実質的に平行である。下面２２Ｕの流体回収部２７も、ＸＹ平面と実質的に平行である。

すなわち、下面２１Ｕの少なくとも一部と上面２２Ｔとは、実質的に平行である。上面２２Ｔと下面２２Ｕの少なくとも一部とは、実質的に平行である。

なお、下面２１Ｕの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。下面２１Ｕの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

なお、上面２２Ｔの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。上面２２Ｔの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

なお、下面２２Ｕの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。下面２２Ｕの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

なお、下面２１Ｕと上面２２Ｔとは、平行でもよいし、非平行でもよい。上面２２Ｔと下面２２Ｕとは、平行でもよいし、非平行でもよい。下面２１Ｕと下面２２Ｕとは、平行でもよいし、非平行でもよい。

次に、第２部材２２の動作の一例について説明する。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動と協調して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と独立して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して移動可能である。第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成された状態で移動可能である。第２部材２２は、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在する状態で移動可能である。

第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）とが対向しないときに移動してもよい。例えば、第２部材２２は、その第２部材２２の下方に物体が存在しないときに移動してもよい。なお、第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱが存在しないときに移動してもよい。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されていないときに移動してもよい。

第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて移動する。制御装置６は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して第２部材２２を移動する。制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成され続けるように、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給と流体回収部２７及び流体回収部２４からの液体ＬＱの回収とを行いながら、第２部材２２を移動する。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が小さくなるように移動可能である。また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対移動よりも小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と同期して移動してもよい。

相対移動は、相対速度、及び相対加速度の少なくとも一方を含む。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対加速度よりも小さくなるように移動してもよい。

第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動方向に移動可能である。例えば、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ方向移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ方向に移動可能である。基板Ｐ（物体）が−Ｘ方向移動するとき、第２部材２２は−Ｘ方向に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ方向に移動しつつ＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ方向に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が−Ｘ方向に移動しつつ＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に移動するとき、第２部材２２は−Ｘ方向に移動可能である。

すなわち、本実施形態においては、基板Ｐ（物体）がＸ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２はＸ軸方向に移動する。例えば、Ｘ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、第２部材２２がＸ軸方向に移動してもよい。

なお、第２部材２２がＹ軸方向に移動可能でもよい。基板Ｐ（物体）がＹ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。例えば、Ｙ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、基板Ｐ（物体）との相対速度差が小さくなるように、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。

図９は、第２部材２２が移動する状態の一例を示す図である。図９は、液浸部材５を下側（−Ｚ側）から見た図である。

以下の説明においては、第２部材２２はＸ軸方向に移動することとする。なお、上述のように、第２部材２２は、Ｙ軸方向に移動してもよいし、Ｘ軸方向（又はＹ軸方向）の成分を含むＸＹ平面内における任意の方向に移動してもよい。

基板Ｐ（物体）がＸ軸方向（又はＸ軸方向の成分を含むＸＹ平面内における所定方向）に移動する場合、第２部材２２は、図９（Ａ）〜図９（Ｃ）に示すように、Ｘ軸方向に移動する。

本実施形態において、第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して規定された移動可能範囲（可動範囲）を移動可能である。図９（Ａ）は、移動可能範囲の最も−Ｘ側の端に第２部材２２が配置された状態を示す。図９（Ｂ）は、移動可能範囲の中央に第２部材２２が配置された状態を示す。図９（Ｃ）は、移動可能範囲の最も＋Ｘ側の端に第２部材２２が配置された状態を示す。

以下の説明において、図９（Ａ）に示す第２部材２２の位置を適宜、第１端部位置、と称し、図９（Ｂ）に示す第２部材２２の位置を適宜、中央位置、と称し、図９（Ｃ）に示す第２部材２２の位置を適宜、第２端部位置、と称する。なお、図９（Ｂ）に示すように、第２部材２２が中央位置に配置される状態は、第２部材２２が原点に配置される状態を含む。

本実施形態においては、射出面１２からの露光光ＥＬが開口３５を通過するように、第２部材２２の移動可能範囲の寸法に基づいて開口３５の寸法が定められる。第２部材２２の移動可能範囲の寸法は、Ｘ軸方向に関する第１端部位置と第２端部位置との距離を含む。第２部材２２がＸ軸方向に移動しても、射出面１２からの露光光ＥＬが第２部材２２に照射されないように、開口３５のＸ軸方向の寸法が定められる。

図９において、Ｘ軸方向に関する開口３５の寸法Ｗ３５は、露光光ＥＬ（投影領域ＰＲ）の寸法Ｗｐｒと、第２部材２２の移動可能範囲の寸法（Ｗａ＋Ｗｂ）との和よりも大きい。寸法Ｗ３５は、第２部材２２が第１端部位置と第２端部位置との間において移動した場合でも、射出面１２からの露光光ＥＬを遮らない大きさに定めされる。これにより、第２部材２２が移動しても、射出面１２からの露光光ＥＬは、第２部材２２に遮られずに基板Ｐ（物体）に照射可能である。

次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

液浸部材５から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び液浸部材５と対向するように配置される。制御装置６は、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給と、流体回収部２７からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳを形成する。

露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。

本実施形態においては、例えば米国特許出願公開第２００６／００２３１８６号、及び米国特許出願公開第２００７／０１２７００６号などに開示されているように、終端光学素子１３及び液浸部材５の下方に形成される液浸空間ＬＳが計測ステージ３上から基板ステージ２上へ移動するように、基板ステージ２の上面と計測ステージ３の上面とが接近又は接触された状態で、終端光学素子１３及び液浸部材５に対して、基板ステージ２及び計測ステージ３が、ＸＹ平面内において同期移動する。

以下の説明においては、基板ステージ２の上面と計測ステージ３の上面とを接近又は接触させた状態で、終端光学素子１３及び液浸部材５に対して、基板ステージ２及び計測ステージ３を、ＸＹ平面内において同期移動させる動作を適宜、スクラム移動動作、と称する。

なお、終端光学素子１３及び液浸部材５の下方に形成される液浸空間ＬＳが基板ステージ２上から計測ステージ３上へ移動するように、基板ステージ２の上面と計測ステージ３の上面とが接近又は接触された状態で、終端光学素子１３及び液浸部材５に対して、基板ステージ２及び計測ステージ３が、ＸＹ平面内において同期移動することも可能である。

本実施形態においては、スクラム移動動作において、基板ステージ２の上面の＋Ｘ側の辺と、計測ステージ３の上面の−Ｘ側の辺とが接近又は接触する。

スクラム移動動作により、終端光学素子１３及び液浸部材５の下方に形成される液浸空間ＬＳが、計測ステージ３上から基板ステージ２上へ移動する。

終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給と並行して流体回収部２７からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳが形成される。

本実施形態においては、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給及び流体回収部２７からの液体ＬＱの回収と並行して、流体回収部２４からの液体ＬＱの回収が行われる。

制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬは、マスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。

本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。

制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。

図１０は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置される。制御装置６は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬに対して、第１保持部に保持されている基板ＰをＹ軸方向（走査方向）に移動しつつ、射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、射出面１２から射出された露光光ＥＬで、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。

例えば基板Ｐの１つのショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２から射出される露光光ＥＬ（投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲ）に対して基板ＰをＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介してそのショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像がそのショット領域Ｓに投影され、そのショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。

そのショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次のショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＹ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、次のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、そのショット領域Ｓの露光を開始する。

制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域ＳをＹ軸方向に移動しながらそのショット領域Ｓを露光する動作と、そのショット領域Ｓの露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域Ｓが露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。

以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。

また、あるショット領域の露光終了後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域の露光が開始されるまでの間に、ＸＹ平面内において基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。

スキャン移動動作は、あるショット領域Ｓが露光開始位置に配置されている状態から露光終了位置に配置される状態になるまで基板ＰがＹ軸方向に移動する動作を含む。

ステップ移動動作は、あるショット領域Ｓが露光終了位置に配置されている状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に配置される状態になるまで基板ＰがＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に移動する動作を含む。

露光開始位置は、あるショット領域Ｓの露光のために、そのショット領域ＳのＹ軸方向に関する一端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。

露光終了位置は、露光光ＥＬが照射されたそのショット領域ＳのＹ軸方向に関する他端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。

ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作開始位置を含む。ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作終了位置を含む。

ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作終了位置を含む。ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓの露光終了後、次のショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作開始位置を含む。

以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光のためにスキャン移動動作が行われる期間を適宜、スキャン移動期間、と称する。

以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始のためにステップ移動動作が行われる期間を適宜、ステップ移動期間、と称する。

スキャン移動期間は、あるショット領域Ｓの露光開始から露光終了までの露光期間を含む。ステップ移動期間は、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの基板Ｐの移動期間を含む。

スキャン移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。スキャン移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射される。

ステップ移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出されない。ステップ移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射されない。

制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。なお、スキャン移動動作は、主にＹ軸方向に関する等速移動である。ステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向に関する加減速移動及びＸ軸方向に関する加減速移動の一方又は両方を含む。

なお、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）上に形成される場合がある。スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板Ｐと基板ステージ２（カバー部材Ｔ）とを跨ぐように形成される場合がある。基板ステージ２と計測ステージ３とが接近又は接触した状態で基板Ｐの露光が行われる場合、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板ステージ２（カバー部材Ｔ）と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。

制御装置６は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、駆動システム１５を制御して、基板Ｐ（基板ステージ２）を移動する。複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置７に記憶されている。

露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓの配列情報（基板Ｐにおける複数のショット領域Ｓそれぞれの位置）を含む。また、露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓのそれぞれの寸法情報（Ｙ軸方向に関する寸法情報）を含む。

制御装置６は、記憶装置７に記憶されている露光条件（露光制御情報）に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。

基板Ｐ（物体）の移動条件は、移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及びＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。

一例として、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光するとき、制御装置６は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図１０中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して複数のショット領域Ｓのそれぞれを露光光ＥＬで順次露光する。制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。

なお、本実施形態においては、スキャン移動方向がＹ軸方向であり、スクラム移動動作において、基板ステージ２の上面の＋Ｘ側の辺と、計測ステージ３の上面の−Ｘ側の辺とが接近又は接触する。

スキャン移動方向がＸ軸方向であり、スクラム移動動作において、基板ステージ２の上面の＋Ｘ側の辺と、計測ステージ３の上面の−Ｘ側の辺とが接近又は接触してもよい。

スキャン移動方向がＹ軸方向であり、スクラム移動動作において、基板ステージ２の上面の＋Ｙ側の辺（又は−Ｙ側の辺）と、計測ステージ３の上面の−Ｙ側の辺（又は＋Ｙ側の辺）とが接近又は接触してもよい。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐの露光処理の少なくとも一部において移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のステップ移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２の移動と並行して、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。

なお、スキャン移動動作中に第２部材２２が移動しなくてもよい。すなわち、射出面１２からの露光光ＥＬの射出と並行して第２部材２２が移動しなくてもよい。第２部材２２は、例えば基板Ｐ（基板ステージ２）がステップ移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように、移動してもよい。なお、第２部材２２は、基板Ｐ（基板ステージ２）がスキャン移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように、移動してもよい。

図１１は、基板Ｐを＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動を行いながら、ショット領域Ｓａ、ショット領域Ｓｂ、及びショット領域Ｓｃのそれぞれを順次露光するときの基板Ｐの移動軌跡の一例を模式的に示す図である。ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃは、Ｘ軸方向に配置される。

図１１に示すように、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるとき、基板Ｐは、終端光学素子１３の下において、位置ｄ１からその位置ｄ１に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ２までの経路Ｔｐ１、位置ｄ２からその位置ｄ２に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ３までの経路Ｔｐ２、位置ｄ３からその位置ｄ３に対して−Ｙ側に隣り合う位置ｄ４までの経路Ｔｐ３、位置ｄ４からその位置ｄ４に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ５までの経路Ｔｐ４、及び位置ｄ５からその位置ｄ５に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ６までの経路Ｔｐ５を順次移動する。位置ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５、ｄ６は、ＸＹ平面内における位置である。

経路Ｔｐ１の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ３の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ５の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。

経路Ｔｐ２は、位置ｄ２．５を経由する曲線を含む。経路Ｔｐ４は、位置ｄ４．５を経由する曲線を含む。

位置ｄ１は、経路Ｔｐ１の始点を含み、位置ｄ２は、経路Ｔｐ１の終点を含む。位置ｄ２は、経路Ｔｐ２の始点を含み、位置ｄ３は、経路Ｔｐ２の終点を含む。位置ｄ３は、経路Ｔｐ３の始点を含み、位置ｄ４は、経路Ｔｐ３の終点を含む。位置ｄ４は、経路Ｔｐ４の始点を含み、位置ｄ５は、経路Ｔｐ４の終点を含む。位置ｄ５は、経路Ｔｐ５の始点を含み、位置ｄ６は、経路Ｔｐ５の終点を含む。

経路Ｔｐ１は、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ３は、基板Ｐが−Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ５は、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する経路である。

経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４は、基板Ｐが＋Ｘ方向を主成分とする方向に移動する経路である。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐのショット領域Ｓａに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐのショット領域Ｓｂに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐのショット領域Ｓｃに露光光ＥＬが照射される。

基板Ｐが経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４を移動するとき、露光光ＥＬは照射されない。

基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する動作、経路Ｔｐ３を移動する動作、及び経路Ｔｐ５を移動する動作のそれぞれは、スキャン移動動作を含む。

基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する動作、及び経路Ｔｐ４を移動する動作のそれぞれは、ステップ移動動作を含む。

すなわち、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間、経路Ｔｐ３を移動する期間、及び経路Ｔｐ５を移動する期間のそれぞれは、スキャン移動期間（露光期間）である。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間、及び経路Ｔｐ４を移動する期間のそれぞれは、ステップ移動期間である。

図１２は、第２部材２２の動作の一例を示す模式図である。図１２は、第２部材２２を上面２２Ｔ側から見た図である。基板Ｐが位置ｄ１にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ａ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ２にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｂ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）とは逆の−Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ２．５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｃ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ３にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｄ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）と同じ＋Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ４にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｅ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）とは逆の−Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ４．５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｆ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｇ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）と同じ＋Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ６にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｈ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）とは逆の−Ｘ方向に移動する。

本実施形態において、図１２（Ａ）、図１２（Ｄ）、図１２（Ｇ）に示す第２部材２２の位置は、第２端部位置を含む。図１２（Ｂ）、図１２（Ｅ）、図１２（Ｈ）に示す第２部材２２の位置は、第１端部位置を含む。図１２（Ｃ）、図１２（Ｆ）に示す第２部材２２の位置は、中央位置を含む。

以下の説明においては、図１２（Ａ）、図１２（Ｄ）、図１２（Ｇ）に示す第２部材２２の位置が、第２端部位置であることとし、図１２（Ｂ）、図１２（Ｅ）、図１２（Ｈ）に示す第２部材２２の位置が、第１端部位置であることとし、図１２（Ｃ）、図１２（Ｆ）に示す第２部材２２の位置が、中央位置であることとする。

基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ａ）に示す状態から図１２（Ｂ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。

基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ｂ）に示す状態から図１２（Ｃ）に示す状態を経て図１２（Ｄ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第１端部位置から中央位置を経て第２端部位置へ移動する。

基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ｄ）に示す状態から図１２（Ｅ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。

基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ｅ）に示す状態から図１２（Ｆ）に示す状態を経て図１２（Ｇ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第１端部位置から中央位置を経て第２端部位置へ移動する。

基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ｇ）に示す状態から図１２（Ｈ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。

すなわち、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２に沿って移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐとの相対移動が小さくなるように、＋Ｘ方向に移動する。換言すれば、第２部材２２は、基板Ｐが＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作する期間の少なくとも一部に、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、＋Ｘ方向に移動する。同様に、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ４に沿って移動する期間の少なくとも一部において、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、＋Ｘ方向に移動する。

また、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ３に沿って移動する期間の少なくとも一部において、−Ｘ方向に移動する。これにより、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動後、経路Ｔｐ４の移動において、第２部材２２が＋Ｘ方向に移動しても露光光ＥＬは開口３５を通過可能である。基板Ｐが経路Ｔｐ１、Ｔｐ５を移動する場合も同様である。

すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作と＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合、ステップ移動動作中に、基板Ｐとの相対速度が小さくなるように第２部材２２が第１端部位置から第２端部位置へ＋Ｘ方向に移動し、スキャン移動動作中に、次のステップ移動動作において第２部材２２が再度＋Ｘ方向に移動できるように、第２部材２２が第２端部位置から第１端部位置へ戻る。すなわち、基板Ｐが経スキャン移動動作する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が−Ｘ方向に移動するので、開口３５の寸法が必要最小限に抑えられる。

また、本実施形態においては、第２部材２２が第１端部位置（第２端部位置）に配置されても、流体回収部２７の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）と対向し続ける。これにより、例えばステップ移動動作において、流体回収部２７は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収することができる。

図１３は、Ｘ軸方向に関する基板Ｐ（基板ステージ２）の速度及び第２部材２２の速度と時間との関係の一例を示す図である。図１３に示すグラフにおいて、横軸は時間、縦軸はＸ軸方向に関する速度である。図１３において、ラインＬＰは、基板Ｐ（基板ステージ２）の速度を示し、ラインＬ２２は、第２部材２２の速度を示す。

図１３において、期間Ｔｃは、スキャン移動動作が行われている期間である。例えば図１１に示した例において、期間Ｔｃ１は、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動期間に対応する。期間Ｔｃ２は、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動期間に対応する。期間Ｔｃ３は、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン移動期間に対応する。

図１３において、期間Ｔｓは、ステップ移動動作が行われている期間である。例えば図１１に示した例において、期間Ｔｓ１は、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動期間に対応する。期間Ｔｓ２は、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動期間に対応する。

図１３に示すように、スキャン移動期間Ｔｃ（Ｔｃ１、Ｔｃ２、Ｔｃ３）においては、Ｘ軸方向に関する基板Ｐ（基板ステージ２）の速度は、零である。スキャン移動期間Ｔｃにおいては、第２部材２２は、−Ｘ方向に移動する。

図１３に示すように、ステップ移動期間Ｔｓ（Ｔｓ１、Ｔｓ２）においては、基板Ｐ（基板ステージ２）及び第２部材２２のそれぞれが、＋Ｘ方向に移動する。

図１３に示すように、本実施形態においては、ステップ移動期間ＴｓにおけるＸ軸方向に関する第２部材２２の移動速度は、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動速度よりも低い。

なお、第２部材２２の移動速度が、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動速度と実質的に等しくてもよいし、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動速度よりも高くてもよい。すなわち、基板Ｐ（基板ステージ２）は、第２部材２２よりも高速で移動してもよいし、低速で移動してもよいし、同じ速度で移動してもよい。

図１３に示すように、本実施形態においては、ステップ移動期間ＴｓにおけるＸ軸方向に関する第２部材２２の加速度は、基板Ｐ（基板ステージ２）の加速度よりも低い。

なお、第２部材２２の加速度が、基板Ｐ（基板ステージ２）の加速度と等しくてもよいし、基板Ｐ（基板ステージ２）の加速度よりも高くてもよい。

なお、図１３に示す例においては、第２部材２２は、停止することなく、移動し続ける。なお、スキャン移動期間Ｔｃの一部において、第２部材２２は、停止してもよい。なお、ステップ移動期間Ｔｓの一部において、第２部材２２は、停止してもよい。

なお、ステップ移動期間Ｔｓの一部において、基板Ｐ（基板ステージ２）がＸ軸方向に等速で移動してもよい。

なお、ステップ移動期間Ｔｓの一部において、第２部材２２がＸ軸方向に等速で移動してもよい。なお、スキャン移動期間Ｔｃの一部において、第２部材２２がＸ軸方向に等速で移動してもよい。

なお、図１１、図１２、及び図１３を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が第２端部位置に配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が、中央位置に配置されてもよいし、中央位置と第２端部位置との間に配置されてもよい。

なお、図１１、図１２、及び図１３を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が第１端部位置に配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が、中央位置に配置されてもよいし、中央位置と第１端部位置との間に配置されてもよい。

また、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、中央位置とは異なる位置に配置されてもよい。すなわち、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、例えば中央位置と第２端部位置との間に配置されてもよいし、中央位置と第１端部位置との間に配置されてもよい。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２が移動する場合、露光光ＥＬの光路Ｋを含む光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡が生成されたり、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気体部分が生成されたりするなど、光路空間ＳＰＫが液体ＬＱで十分に満たされなくなる可能性がある。

本実施形態においては、凸部７０が設けられているため、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成されてしまうことが抑制される。

図１４は、凸部を有しない第２部材２２Ｊの一例を示す。第２部材２２Ｊは、露光光ＥＬが通過可能な開口３５Ｊを有する。液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２Ｊが移動することによって、第２部材２２Ｊと基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５Ｊに近づくように移動する可能性がある。例えば、第２部材２２ＪがＸ軸方向に移動しつつ、基板Ｐ（物体）がＹ軸方向に移動することによって、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５Ｊに近づくように移動する可能性がある。液体ＬＱの界面ＬＧ２が界面３５Ｊに近づくように移動し、その界面ＬＧ２の少なくとも一部が開口３５ｌの下に移動すると、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成される可能性がある。

図１５は、本実施形態に係る第２部材２２の一例を示す。凸部７０が設けられているため、液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２が移動しても、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動したり、界面ＬＧ２の少なくとも一部が開口３５の下に移動したりすることが抑制される。つまり、凸部７０によって、界面ＬＧ２の移動（界面ＬＧ２の開口３５側への移動）が抑制される。

すなわち、凸部７０は、開口３５の中心に対して凸部７０の外側に存在する界面ＬＧ２が凸７０の内側に移動することを抑制することができる。凸部７０が設けられているため、凸部７０と基板Ｐ（物体）との間において界面ＬＧ２が留まる現象（所謂、ピンニング現象）が発生する可能性が高い。例えば、下面７０Ｔと外面７０Ｆとの間に形成される角部７０Ｋにおいてピンニング現象が発生する可能性が高い。そのため、凸部７０の外側において開口３５に近づくように移動する界面ＬＧ２は、凸部７０によるピンニング現象により、その凸部７０よりも開口３５に近づくことが抑制される。

したがって、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成されることが抑制される。

また、本実施形態においては、誘導部７１が設けられている。誘導部７１は、開口３５を介して液体供給部３１から基板Ｐ（物体）上に供給された液体ＬＱの少なくとも一部が露光光ＥＬの光路Ｋ（開口３５）から外側に向かうように誘導する。これにより、界面ＬＧ２が開口３５に近づくことが抑制される。

また、誘導部７１により、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの少なくとも一部は、第２部材２２の移動方向（Ｘ軸方向）と平行な方向に移動される。これにより、第２部材２２がＸ軸方向に移動しても、界面ＬＧ２が開口３５に近づくことが抑制される。

また、本実施形態においては、流体回収部２７の外側において、流体回収部２７よりも上方（＋Ｚ側）に部分２２Ｕｃが配置される。すなわち、部分２２Ｕｃと基板Ｐ（物体）との距離は、流体回収部２７と基板Ｐ（物体）との距離よりも大きい。これにより、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが部分２２Ｕｃに接触しても、液浸空間ＬＳから液体ＬＱの一部が分離してしまう現象、及びその分離した液体ＬＱが部分２２Ｕｃと基板Ｐ（物体）との間に留まってしまう現象（ブリッジ現象）の発生が抑制される。

以上説明したように、本実施形態によれば、凸部７０（誘導部７１）を設けたので、露光不良の発生及び不良デバイスの発生を抑制することができる。

なお、本実施形態において、流体回収部２７は、非回収部２６よりも上方（＋Ｚ側）に配置される。流体回収部２７と非回収部２６とが、Ｚ軸方向に関して実質的に同じ位置（高さ）に配置されてもよい。流体回収部２７と非回収部２６とが実質的に同一平面内に配置されてもよい（面一でもよい）。すなわち、本実施形態において、非回収部２６と多孔部材３７の下面とが実質的に同じ高さに配置されてもよいし、同一平面内に配置されてもよい。流体回収部２７が、非回収部２６よりも下方（−Ｚ側）に配置されてもよい。流体回収部２７が非回収部２６に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。

＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１６は、本実施形態に係る第２部材２２Ｂを下面２２Ｕｂ側から見た図である。図１６に示すように、第２部材２２Ｂは、基板Ｐ（物体）側に突出するように開口３５の周囲に配置される凸部７０Ｂを有する。図１６に示す例において、凸部７０Ｂにはスリット（開口）が形成されていない。

図１６に示すように、凸部７０Ｂは、開口３５の中心に対する放射方向に関する寸法（幅）が第１寸法Ｗ７０ａの第１部分７０１Ｂと、第１寸法Ｗ７０ａよりも大きい第２寸法Ｗ７０ｂの第２部分７０２Ｂとを有する。図１６に示す例では、開口３５の中心に対してＸ軸方向に第２寸法Ｗ７０ｂの第２部分７０２Ｂが配置され、Ｙ軸方向に第１寸法Ｗ７０ａの第１部分７０１Ｂが配置される。なお、開口３５の中心に対してＸ軸方向に第１寸法Ｗ７０ａの第１部分７０１Ｂが配置され、Ｙ軸方向に第１寸法Ｗ７０ａよりも大きい第２寸法Ｗ７０ｂの第２部分７０２Ｂが配置されてもよい。

なお、第１寸法Ｗ７０ａの第１部分７０１Ｂと第２寸法Ｗ７０ｂの第２部分７０２Ｂとを有する凸部７０Ｂにスリット（開口）が形成されてもよい。

なお、本実施形態において、第１寸法Ｗ７０ａと第２寸法７０ｂとが実質的に等しくてもよい。

本実施形態においても、界面ＬＧ２が開口３５に近付くことが抑制される。そのため、液体ＬＱ中に気泡が発生することが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１７は、本実施形態に係る第２部材２２Ｃの一例を示す側断面図である。第２部材２２Ｃは、基板Ｐ（物体）側に突出するように開口３５の周囲に配置される凸部７０Ｃを有する。

本実施形態において、凸部７０Ｃは、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面７０Ｔｃと、下面７０Ｔｃの外側エッジと結ばれ、終端光学素子１３の光軸（Ｚ軸）に対して傾斜する外面７０Ｆｃとを有する。外面７０Ｆｃは、終端光学素子１３の光軸（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

本実施形態において、光路Ｋに面する開口３５を規定する第２部材２２の内面３５Ｕの少なくとも一部は、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

基板Ｐ（物体）が対向可能な第２部材２２Ｃの下面２２Ｕｃは、凸部７０Ｃの下面７０Ｔｃを含む部分２２Ｕａｃと、開口３５の中心に対して部分２２Ｕａｃの外側に配置され、少なくとも一部が部分２２Ｕａｃよりも上方に配置される部分２２Ｕｂｃとを含む。

部分２２Ｕｂｃは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部２６Ｃと、開口３５の中心に対して非回収部２６Ｃの外側に配置され、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な流体回収部２７Ｃとを含む。

本実施形態において、流体回収部２７Ｃは、非回収部２６Ｃよりも下方（−Ｚ側）に配置される。非回収部２６Ｃは、下面（非回収部）７０Ｔｃ及び流体回収部２７Ｃよりも上方（＋Ｚ側）に配置される。

本実施形態において、流体回収部２７Ｃは、非回収部７０Ｔｃよりも上方に配置される。すなわち、流体回収部２７Ｃは、非回収部７０Ｔｃよりも上方に配置され、非回収部２６Ｃよりも下方に配置される。

本実施形態において、下面７０Ｔｃと基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法（Ｚ軸方向の距離）Ｈａは、例えば０．２〜０．５ｍｍ程度である。非回収部２６Ｃと基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法（Ｚ軸方向の距離）Ｈｂは、例えば０．５〜１．０ｍｍ程度である。流体回収部２７Ｃと基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法（Ｚ軸方向の距離）Ｈｃは、例えば０．２〜０．５ｍｍ程度である。

なお、流体回収部２７Ｃは、非回収部７０Ｔｃと実質的に同じ高さ（Ｚ軸方向に関する位置）に配置されてもよい。

なお、流体回収部２７Ｃは、非回収部７０Ｔｃ及び非回収部２６Ｃよりも下方に配置されてもよい。

なお、Ｚ軸方向に関して、流体回収部２７Ｃが非回収部２６Ｃと実質的に等しい位置（同じ高さ）に配置されてもよいし、流体回収部２７Ｃと非回収部２６Ｃとが同一平面内に配置されてもよい。

本実施形態においても、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成されることが抑制される。

本実施形態においては、外面７０Ｆｃが終端光学素子１３の光軸に対して傾斜している。そのため、外面７０Ｆｃと基板Ｐ（物体）の上面との間において液体ＬＱの界面ＬＧ２が移動しても、液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成されることが抑制される。

したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。

なお、上述の第１、第２実施形態においても、流体回収部２７が非回収部２６と同じ高さ（Ｚ軸方向に関する位置）に配置されてもよいし、流体回収部２７と非回収部２６とが同一平面内に配置されてもよい。

なお、上述の第１、第２実施形態においても、流体回収部２７が非回収部２６よりも下方に配置されてもよい。流体回収部２７は、非回収部７０Ｔよりも上方に配置され、非回収部２６よりも下方に配置されてもよい。

なお、上述の第１、第２実施形態においても、流体回収部２７は、非回収部７０Ｔと実質的に同じ高さ（Ｚ軸方向に関する位置）に配置されてもよい。

なお、上述の第１、第２実施形態においても、流体回収部２７は、非回収部７０Ｔ及び非回収部２６よりも下方に配置されてもよい。

なお、上述の第１〜第３実施形態において、液体供給部３１が第２部材２２に配置され、第１部材２１に配置されなくてもよい。

なお、上述の第１〜第３実施形態において、流体回収部２４は、非回収部２３の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、流体回収部２４は、非回収部２３の周囲において複数配置されてもよい。

なお、上述の第１〜第３実施形態において、流体回収部２７（２７Ｃ）は、非回収部２６（２６Ｃ）の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、流体回収部２７（２７Ｃ）は、非回収部２６（２６Ｃ）の周囲において複数配置されてもよい。

なお、上述の第１〜第３実施形態において、開口３４の寸法が開口３５の寸法よりも小さくてもよい。なお、開口３４の寸法が開口３５の寸法と実質的に等しくてもよい。

なお、上述の第１〜第３実施形態において、Ｘ軸方向に関して、開口３５の寸法が、射出面１２の寸法よりも大きくてもよい。なお、Ｘ軸方向に関して、開口３５の寸法が、射出面１２の寸法と実質的に等しくてもよい。

＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

本実施形態においては、第２部材２２の移動において、液体供給部３１から液体ＬＱが第１供給量Ｆ１で供給されるとともに、第１供給量Ｆ１とは異なる第２供給量Ｆ２で供給される例について説明する。

なお、本実施形態に係る第２部材２２は、上述の第１〜第３実施形態で説明したような凸部（７０など）を有してもよいし、凸部（７０など）を有しなくてもよい。

上述のように、基板Ｐの露光において、基板Ｐ（基板ステージ２）は、ＸＹ平面内において移動する。基板Ｐの露光において、基板Ｐ（基板ステージ２）は、スキャン移動動作及びステップ移動動作を行う。また、基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部と並行して、第２部材２２がＸＹ平面内において移動する。

ＸＹ平面内における基板Ｐ（物体）の移動及び第２部材２２の移動の一方又は両方に起因して、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動する可能性がある。

本実施形態においては、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動するとき、制御装置６は、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給量を多くする。

本実施形態において、液体供給部３１は、第２部材２２の上方（開口３５の上方）に配置される。液体供給部３１からの液体ＬＱは、開口３５を介して、基板Ｐ（物体）上に供給され、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の第２空間ＳＰ２に供給される。そのため、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給量を多くすることにより、界面ＬＧ２が開口３５に近づくことが抑制される。

開口３５の中心に対する放射方向に関する液体ＬＱの界面ＬＧ２の移動（界面ＬＧ２の位置）は、液浸空間ＬＳが形成された状態における基板Ｐ（物体）の移動条件及び第２部材２２の移動条件の一方又は両方に基づいて定まる。

基板Ｐ（物体）の移動条件は、ＸＹ平面内における移動速度、加速度（減速度）、移動方向、移動距離、及び移動軌跡の少なくとも一つを含む。

第２部材２２の移動条件は、ＸＹ平面内における移動速度、加速度（減速度）、移動方向、移動距離、及び移動軌跡の少なくとも一つを含む。

基板Ｐ（物体）の移動条件は、露光制御情報（露光レシピ）に基づいて定められる。基板Ｐ（物体）の移動条件は、記憶装置７に記憶される。

第２部材２２の移動条件は、基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて定められる。なお、第２部材２２の移動条件が、露光制御情報（露光レシピ）に基づいて定められてもよい。第２部材２２の移動条件は、記憶装置７に記憶される。

基板Ｐ（物体）の移動条件及び第２部材２２の移動条件の一方又は両方に基づく界面ＬＧ２の移動（界面ＬＧ２の位置）は、例えば予備実験、あるいはシミュレーションにより求めることができる。基板Ｐ（物体）の移動条件及び第２部材２２の移動条件の一方又は両方に基づく界面ＬＧ２の移動（界面ＬＧ２の位置）に関する情報は、記憶装置７に記憶される。

制御装置６は、記憶装置７の記憶情報に基づいて、基板Ｐ（物体）及び第２部材２２の一方又は両方が、界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動する（界面ＬＧ２が開口３５の近傍に配置される）状況を引き起こすような移動条件で移動すると判断したとき、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給量を多くする。

以下の説明において、界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動する（界面ＬＧ２が開口３５の近傍に配置される）状況を引き起こすような、基板Ｐ（物体）の移動条件を適宜、基板Ｐ（物体）の所定移動条件、と称する。

また、界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動する（界面ＬＧ２が開口３５の近傍に配置される）状況を引き起こすような、第２部材２２の移動条件を適宜、第２部材２２の所定移動条件、と称する。

また、以下の説明においては、第１供給量Ｆ１が、第２供給量Ｆ２よりも多いこととする。液体ＬＱの供給量は、液体供給部３１から供給される単位時間当たりの液体供給量を含む。

なお、液体ＬＱの供給量が、開口３５を介して第２空間ＳＰ２に供給される単位時間当たりの液体供給量を含む概念でもよい。

液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動する（界面ＬＧ２が開口３５の近傍に配置される）状況は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、第２部材２２が、例えば＋Ｘ方向（又は−Ｘ方向）に高速で移動したり、高加速度で移動したり、長距離を移動したりしたときに発生する可能性が高い。

そのため、制御装置６は、＋Ｘ方向（又は−Ｘ方向）への第２部材２２の移動において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給すること、及び第１供給量Ｆ１とは異なる第２供給量Ｆ２で液体ＬＱを供給することの両方を行ってもよい。例えば、制御装置６は、＋Ｘ方向への第２部材２２の一部の期間において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給し、一部の期間において、液体供給部３１から第２供給量Ｆ２で液体ＬＱを供給してもよい。

図１８は、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給量と、第２部材２２の移動条件との関係の一例を示す模式図である。図１８のグラフにおいて、横軸は時間、縦軸はＸ軸方向に関する第２部材２２の移動速度である。

図１８に示す例において、第２部材２２は、＋Ｘ方向に移動された後、−Ｘ方向に移動される。時点ｅ１は、第２部材２２が＋Ｘ方向への移動を開始する時点である。時点ｅ４は、第２部材２２が＋Ｘ方向への移動を終了する時点である。時点ｅ４は、第２部材２２が−Ｘ方向への移動を開始する時点でもある。時点ｅ７は、第２部材２２が−Ｘ方向への移動を終了する時点である。

時点ｅ２は、時点ｅ１と時点ｅ４との間の時点である。時点ｅ３は、時点ｅ１と時点ｅ４との間の時点である。時点ｅ３は、時点ｅ２と時点ｅ４との間の時点である。

時点ｅ５は、時点ｅ４と時点ｅ７との間の時点である。時点ｅ６は、時点ｅ４と時点ｅ７との間の時点である。時点ｅ６は、時点ｅ５と時点ｅ７との間の時点である。

時点ｅ１と時点ｅ２との間の期間Ｔｈ１において、第２部材２２は、＋Ｘ方向に加速する。時点ｅ２と時点ｅ３との間の期間Ｔｌ１の少なくとも一部において、第２部材２２の移動速度（＋Ｘ方向への移動速度）が最高速度に到達する。時点ｅ３と時点ｅ４との間の期間Ｔｈ２において、第２部材２２は、減速する。

時点ｅ４と時点ｅ５との間の期間Ｔｈ３において、第２部材２２は、−Ｘ方向に加速する。時点ｅ５と時点ｅ６との間の期間Ｔｌ２の少なくとも一部において、第２部材２２の移動速度（−Ｘ方向への移動速度）が最高速度に到達する。時点ｅ６と時点ｅ７との間の期間Ｔｈ４において、第２部材２２は、減速する。

時点ｅ１と時点ｅ２との間の期間Ｔｈ１は、時点ｅ２と時点ｅ４との間の期間（Ｔｌ１＋Ｔｈ２）よりも短い。

時点ｅ３と時点ｅ４との間の期間Ｔｈ２は、時点ｅ１と時点ｅ３との間の期間（Ｔｈ１＋Ｔｌ１）よりも短い。

時点ｅ４と時点ｅ５との間の期間Ｔｈ３は、時点ｅ５と時点ｅ７との間の期間（Ｔｌ２＋Ｔｈ４）よりも短い。

時点ｅ６と時点ｅ７との間の期間Ｔｈ４は、時点ｅ４と時点ｅ６との間の期間（Ｔｈ３＋Ｔｌ２）よりも短い。

本実施形態においては、制御装置６は、少なくとも、第２部材２２の＋Ｘ方向への移動開始の時点ｅ１において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、第２部材２２の＋Ｘ方向への移動開始の時点ｅ１から時点ｅ２までの期間Ｔｈ１において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、時点ｅ２の後の期間Ｔｌ１において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１よりも少ない第２供給量Ｆ２で液体ＬＱを供給する。

本実施形態においては、制御装置６は、少なくとも、第２部材２２の＋Ｘ方向への移動終了の時点ｅ４において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、第２部材２２の時点ｅ３から＋Ｘ方向への移動終了の時点ｅ４までの期間Ｔｈ２において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、時点ｅ３の前の期間Ｔｌ１において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１よりも少ない第２供給量Ｆ２で液体ＬＱを供給する。

本実施形態においては、制御装置６は、少なくとも、第２部材２２の−Ｘ方向への移動開始の時点ｅ４において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、第２部材２２の−Ｘ方向への移動開始の時点ｅ４から時点ｅ５までの期間Ｔｈ３において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、時点ｅ５の後の期間Ｔｌ２において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１よりも少ない第２供給量Ｆ２で液体ＬＱを供給する。

なお、本実施形態においては、第２部材２２の＋Ｘ方向への移動終了の時点ｅ４と、−Ｘ方向への移動開始の時点ｅ４とは、同じである。第２部材２２の＋Ｘ方向への移動終了の時点と、−Ｘ方向への移動開始の時点とが、異なってもよい。例えば、第２部材２２の＋Ｘ方向への移動が終了後、ある期間、第２部材２２の移動が停止され、その期間の経過後、第２部材２２の−Ｘ方向への移動が開始されてもよい。

図１８に示す例では、期間Ｔｈ１、Ｔｈ２における第２部材２２の加速度（減速度）は、期間Ｔｌ１における第２部材２２の加速度（減速度）よりも高い。期間Ｔｈ３、Ｔｈ４における第２部材２２の加速度（減速度）は、期間Ｔｌ２における第２部材２２の加速度（減速度）よりも高い。第２部材２２の加速度（減速度）が高い期間Ｔｈ１、Ｔｈ２、Ｔｈ３、Ｔｈ４において液体供給部３１からの液体ＬＱの供給量を多くすることによって、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付くことが抑制される。

本実施形態において、制御装置６は、記憶装置７の記憶情報に基づいて、基板Ｐ（物体）及び第２部材２２の一方又は両方が、界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動する（界面ＬＧ２が開口３５の近傍に配置される）状況を引き起こすような移動条件で移動すると判断したとき、流体回収部２７及び流体回収部２４の一方又は両方からの液体ＬＱの回収量を少なくしてもよい。

本実施形態において、制御装置６は、＋Ｘ方向（又は−Ｘ方向）への第２部材２２の移動において、流体回収部２７（流体回収部２４）から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収すること、及び第１回収量Ｃ１とは異なる第２回収量Ｃ２で液体ＬＱを回収することの両方を行ってもよい。例えば、制御装置６は、＋Ｘ方向への第２部材２２の一部の期間において、流体回収部２７（流体回収部２４）から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収し、一部の期間において、流体回収部２７（流体回収部２４）から第２回収量Ｃ２で液体ＬＱを回収してもよい。

以下の説明においては、第１回収量Ｃ１が、第２回収量Ｃ２よりも少ないこととする。液体ＬＱの回収量は、流体回収部２７から回収される単位時間当たりの液体回収量を含む。なお、液体ＬＱの回収量が、流体回収部２４から回収される単位時間当たりの液体回収量を含む概念でもよい。

例えば、図１８に示した例において、制御装置６は、少なくとも、第２部材２２の＋Ｘ方向への移動開始の時点ｅ１において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、第２部材２２の＋Ｘ方向への移動開始の時点ｅ１から時点ｅ２までの期間Ｔｈ１において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、時点ｅ２の後の期間Ｔｌ１において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１よりも多い第２回収量Ｃ２で液体ＬＱを回収する。

本実施形態においては、制御装置６は、少なくとも、第２部材２２の＋Ｘ方向への移動終了の時点ｅ４において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、第２部材２２の時点ｅ３から＋Ｘ方向への移動終了の時点ｅ４までの期間Ｔｈ２において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、時点ｅ３の前の期間Ｔｌ１において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１よりも多い第２回収量Ｃ２で液体ＬＱを回収する。

本実施形態においては、制御装置６は、少なくとも、第２部材２２の−Ｘ方向への移動開始の時点ｅ４において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、第２部材２２の−Ｘ方向への移動開始の時点ｅ４から時点ｅ５までの期間Ｔｈ３において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収する。

また、本実施形態においては、制御装置６は、時点ｅ５の後の期間Ｔｌ２において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１よりも多い第２回収量Ｃ２で液体ＬＱを回収する。

なお、本実施形態においては、第２部材２２の＋Ｘ方向への移動終了の時点ｅ４と、−Ｘ方向への移動開始の時点ｅ４とは、同じである。第２部材２２の＋Ｘ方向への移動終了の時点と、−Ｘ方向への移動開始の時点とが、異なってもよい。例えば、第２部材２２の＋Ｘ方向への移動が終了後、ある期間、第２部材２２の移動が停止され、その期間の経過後、第２部材２２の−Ｘ方向への移動が開始されてもよい。

図１８に示す例では、期間Ｔｈ１、Ｔｈ２における第２部材２２の加速度（減速度）は、期間Ｔｌ１における第２部材２２の加速度（減速度）よりも高い。期間Ｔｈ３、Ｔｈ４における第２部材２２の加速度（減速度）は、期間Ｔｌ２における第２部材２２の加速度（減速度）よりも高い。第２部材２２の加速度（減速度）が高い期間Ｔｈ１、Ｔｈ２、Ｔｈ３、Ｔｈ４において流体回収部２７からの液体ＬＱの回収量を少なくすることによって、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付くことが抑制される。

なお、期間Ｔｈ１、Ｔｈ２、Ｔｈ３、Ｔｈ４において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給するとともに、流体回収部２７（流体回収部２４）から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収してもよい。

なお、期間Ｔｌ１、Ｔｌ２において、液体回収部３１から第２供給量Ｆ２で液体ＬＱを供給するとともに、流体回収部２７（流体回収部２４）から第２回収量Ｃ２で液体ＬＱを回収してもよい。

＜第５実施形態＞
第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

本実施形態においては、基板Ｐ（物体）の移動条件及び第２部材２２の移動条件の両方に基づいて、液体ＬＱの供給量及び液体ＬＱの回収量が調整される例について説明する。

基板Ｐ（物体）の移動条件及び第２部材２２の移動条件の両方に基づく界面ＬＧ２の移動（界面ＬＧ２の位置）は、例えば予備実験、あるいはシミュレーションにより求めることができる。基板Ｐ（物体）の移動条件及び第２部材２２の移動条件の両方に基づく界面ＬＧ２の移動（界面ＬＧ２の位置）に関する情報は、記憶装置７に記憶される。

制御装置６は、記憶装置７の記憶情報に基づいて、基板Ｐ（物体）及び第２部材２２が、界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動する（界面ＬＧ２が開口３５の近傍に配置される）状況を引き起こすような移動条件で移動すると判断したとき、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給量を多くする。

図１９は、液体供給部３１からの液体ＬＱの供給量と、基板Ｐ（物体）の移動条件と、第２部材２２の移動条件との関係の一例を示す模式図である。

図１９において、期間Ｔｃは、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐのスキャン移動動作が行われている期間である。期間Ｔｓは、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐのステップ移動動作が行われている期間である。

図１１に示した例において、期間Ｔｃ１は、基板Ｐが位置ｄ１から位置ｄ２までの経路Ｔｐ１を移動する期間である。期間Ｔｓ１は、基板Ｐが位置ｄ２から位置ｄ３までの経路Ｔｐ２を移動する期間である。期間Ｔｃ２は、基板Ｐが位置ｄ３から位置ｄ４までの経路Ｔｐ３を移動する期間である。期間Ｔｓ２は、基板Ｐが位置ｄ４から位置ｄ５までの経路Ｔｐ４を移動する期間である。期間Ｔｃ３は、基板Ｐが位置ｄ５から位置ｄ６までの経路Ｔｐ５を移動する期間である。

図１９において、時点ｇ１は、基板Ｐが経路Ｔｐ１の移動を開始する時点である。

時点ｇ２は、基板Ｐが経路Ｔｐ１の移動を終了する時点である。時点ｇ２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２の移動を開始する時点でもある。

時点ｇ３は、基板Ｐが経路Ｔｐ２の移動を終了する時点である。時点ｇ３は、基板Ｐが経路Ｔｐ３の移動を開始する時点でもある。

時点ｇ４は、基板Ｐが経路Ｔｐ３の移動を終了する時点である。時点ｇ４は、基板Ｐが経路Ｔｐ４の移動を開始する時点でもある。

時点ｇ５は、基板Ｐが経路Ｔｐ４の移動を終了する時点である。時点ｇ５は、基板Ｐが経路Ｔｐ５の移動を開始する時点でもある。

時点ｇ６は、基板Ｐが経路Ｔｐ５の移動を終了する時点である。

第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間の少なくとも一部において、−Ｘ方向に移動する。第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間の少なくとも一部において、＋Ｘ方向に移動する。第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する期間の少なくとも一部において、−Ｘ方向に移動する。第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動する期間の少なくとも一部において、＋Ｘ方向に移動する。第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動する期間の少なくとも一部において、−Ｘ方向に移動する。

本実施形態において、時点ｇ１は、第２部材２２が−Ｘ方向への移動を開始する時点である。

時点ｇ２は、第２部材２２が−Ｘ方向への移動を終了する時点である。時点ｇ２は、第２部材２２が＋Ｘ方向への移動を開始する時点でもある。

時点ｇ３は、第２部材２２が＋Ｘ方向への移動を終了する時点である。時点ｇ３は、第２部材２２が−Ｘ方向への移動を開始する時点でもある。

時点ｇ４は、第２部材２２が−Ｘ方向への移動を終了する時点である。時点ｇ４は、第２部材２２が＋Ｘ方向への移動を開始する時点でもある。

時点ｇ５は、第２部材２２が＋Ｘ方向への移動を終了する時点である。時点ｇ５は、第２部材２２が−Ｘ方向への移動を開始する時点でもある。

時点ｇ６は、第２部材２２が−Ｘ方向への移動を終了する時点である。

本実施形態において、制御装置６は、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動の少なくとも一部の期間において、基板Ｐの経路Ｔｐ２の移動の期間における供給量よりも多い供給量で、液体供給部３１から液体ＬＱを供給する。

基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間Ｔｓ１の全部において、制御装置６は、液体供給部３１から第２供給量Ｆ２で液体ＬＱを供給する。

基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する期間Ｔｃ２の少なくとも一部において、制御装置６は、液体供給部３１から第２供給量Ｆ２よりも多い第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給する。

本実施形態においては、基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する期間Ｔｃ２の一部において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱが供給される。例えば、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動開始の時点ｇ３から時点ｇ３ａまでの期間Ｔｃ２ａにおいて、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱが供給され、時点ｇ３ａから時点ｇ４までの期間Ｔｃ２ｂにおいて、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１よりも少ない第２供給量Ｆ２で液体ＬＱが供給されてもよい。

時点ｇ３と時点ｇ３ａとの間の期間Ｔｃ２ａは、時点ｇ３ａと時点ｇ４との間の期間Ｔｃ２ｂよりも短い。なお、期間Ｔｃ２ａは、期間Ｔｃ２ｂよりも長くてもよい。

基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する期間Ｔｃ２の全部において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱが供給されてもよい。

なお、本実施形態において、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間Ｔｓ１の一部において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱが供給されてもよい。例えば、基板Ｐの経路Ｔｐ２の移動開始の時点ｇ２から時点ｇ２ａまでの期間Ｔｓ１ａにおいて、液体供給部３１から第２供給量Ｆ２で液体ＬＱが供給され、時点ｇ２ａから時点ｇ３までの期間Ｔｓ１ｂにおいて、液体供給部３１から第２供給量Ｆ２よりも多い第１供給量Ｆ１で液体ＬＱが供給されてもよい。

時点ｇ２と時点ｇ２ａとの間の期間Ｔｓ１ａは、時点ｇ２ａと時点ｇ３との間の期間Ｔｓ１ｂよりも長い。なお、期間Ｔｓ１ａは、期間Ｔｓ１ｂよりも短くてもよい。

本実施形態において、制御装置６は、基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動する期間Ｔｓ２の全部において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１よりも少ない第２供給量Ｆ２で液体ＬＱを供給してもよい。

なお、基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動する期間Ｔｓ２の一部において、液体供給部３１から第２供給量Ｆ２で液体ＬＱが供給され、期間Ｔｓ２の一部において、液体供給部３１から第２供給量Ｆ２よりも多い第１供給量Ｆ１で液体ＬＱが供給されてもよい。

例えば、基板Ｐの経路Ｔｐ４の移動開始の時点ｇ４から時点ｇ４ａまでの期間Ｔｓ２ａにおいて、液体供給部３１から第２供給量Ｆ２で液体ＬＱが供給され、時点ｇ４ａから時点ｇ５までの期間Ｔｓ２ｂにおいて、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱが供給されてもよい。

時点ｇ４と時点ｇ４ａとの間の期間Ｔｓ２ａは、時点ｇ４ａと時点ｇ５との間の期間Ｔｓ２ｂよりも長い。なお、期間Ｔｓ２ａは、期間Ｔｓ２ｂよりも短くてもよい。

本実施形態においても、液体ＬＱ中に気泡が発生することが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

本実施形態において、制御装置６は、記憶装置７の記憶情報に基づいて、基板Ｐ（物体）及び第２部材２２の両方が、界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動する（界面ＬＧ２が開口３５の近傍に配置される）状況を引き起こすような移動条件で移動すると判断したとき、流体回収部２７及び流体回収部２４の一方又は両方からの液体ＬＱの回収量を少なくしてもよい。

本実施形態において、制御装置６は、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動の少なくとも一部の期間において、基板Ｐの経路Ｔｐ２の移動の期間における回収量よりも少ない回収量で、流体回収部２７から液体ＬＱを回収する。

なお、以下の説明においては、流体回収部２７からの液体ＬＱの回収量が調整される例について説明する。流体回収部２４からの液体ＬＱの回収量が調整されてもよいし、流体回収部２７からの液体ＬＱの回収量及び流体回収部２４からの液体ＬＱの回収量の両方が調整されてもよい。

本実施形態においては、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間Ｔｓ１の全部において、制御装置６は、流体回収部２７から第２供給量Ｃ２で液体ＬＱを回収する。基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する期間Ｔｃ２の少なくとも一部において、制御装置６は、流体回収部２７から第２回収量Ｃ２よりも少ない第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収する。

本実施形態においては、基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する期間Ｔｃ２の一部において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱが回収される。例えば、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動開始の時点ｇ３から時点ｇ３ａまでの期間Ｔｃ２ａにおいて、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱが回収され、時点ｇ３ａから時点ｇ４までの期間Ｔｃ２ｂにおいて、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１よりも多い第２回収量Ｃ２で液体ＬＱが回収されてもよい。

時点ｇ３と時点ｇ３ａとの間の期間Ｔｃ２ａは、時点ｇ３ａと時点ｇ４との間の期間Ｔｃ２ｂよりも短い。なお、期間Ｔｃ２ａは、期間Ｔｃ２ｂよりも長くてもよい。

基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する期間Ｔｃ２の全部において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱが回収されてもよい。

なお、本実施形態において、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間Ｔｓ１の一部において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱが回収されてもよい。例えば、基板Ｐの経路Ｔｐ２の移動開始の時点ｇ２から時点ｇ２ａまでの期間Ｔｓ１ａにおいて、流体回収部２７から第２回収量Ｃ２で液体ＬＱが回収され、時点ｇ２ａから時点ｇ３までの期間Ｔｓ１ｂにおいて、流体回収部２７から第２回収量Ｃ２よりも少ない第１回収量Ｃ１で液体ＬＱが回収されてもよい。

時点ｇ２と時点ｇ２ａとの間の期間Ｔｓ１ａは、時点ｇ２ａと時点ｇ３との間の期間Ｔｓ１ｂよりも長い。なお、期間Ｔｓ１ａは、期間Ｔｓ１ｂよりも短くてもよい。

本実施形態において、制御装置６は、基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動する期間Ｔｓ２の全部において、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１よりも多い第２回収量Ｃ２で液体ＬＱを回収してもよい。

なお、基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動する期間Ｔｓ２の一部において、流体回収部２７から第２回収量Ｃ２で液体ＬＱが回収され、期間Ｔｓ２の一部において、流体回収部２７から第２回収量Ｃ２よりも少ない第１回収量Ｃ１で液体ＬＱが回収されてもよい。

例えば、基板Ｐの経路Ｔｐ４の移動開始の時点ｇ４から時点ｇ４ａまでの期間Ｔｓ２ａにおいて、流体回収部２７から第２回収量Ｃ２で液体ＬＱが回収され、時点ｇ４ａから時点ｇ５までの期間Ｔｓ２ｂにおいて、流体回収部２７から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱが回収されてもよい。

時点ｇ４と時点ｇ４ａとの間の期間Ｔｓ２ａは、時点ｇ４ａと時点ｇ５との間の期間Ｔｓ２ｂよりも長い。なお、期間Ｔｓ２ａは、期間Ｔｓ２ｂよりも短くてもよい。

なお、例えば、基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する期間Ｔｃ２の少なくとも一部において、液体供給部３１から第１供給量Ｆ１で液体ＬＱを供給するとともに、流体回収部２７（流体回収部２４）から第１回収量Ｃ１で液体ＬＱを回収してもよい。

なお、例えば、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間Ｔｓ１の少なくとも一部において、液体回収部３１から第２供給量Ｆ２で液体ＬＱを供給するとともに、流体回収部２７（流体回収部２４）から第２回収量Ｃ２で液体ＬＱを回収してもよい。

なお、上述の各実施形態において、第２部材２２がＸ軸方向に移動する場合、液体供給部３１は、第２部材２２の移動方向と交差する方向（Ｙ軸方向）から、開口３５に向けて液体ＬＱを供給してもよい。換言すれば、第２部材２２がＸ軸方向に移動する場合、終端光学素子１３の光軸に対して＋Ｙ側及び−Ｙ側の少なくとも一方に液体供給部３１が配置されてもよい。第２部材２２がＸ軸方向に移動されている状態で、第２部材２２よりも上方に配置されている液体供給部３１が、第２部材２２の移動方向（Ｘ軸方向）と交差する方向（Ｙ軸方向）から開口３５に向けて液体ＬＱを供給することにより、開口３５を介して基板Ｐ（物体）上に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第２部材２２の誘導部７１によって、開口３５から外側に向かうように誘導される。これにより、界面ＬＧ２が開口３５に近付くことを抑制することができる。

＜第６実施形態＞
第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２０は、本実施形態に係る第２部材２２の動作の一例を説明するための図である。本実施形態において、制御装置６は、第２部材２２がＸＹ平面内において移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２の少なくとも一部を、終端光学素子１３の光軸（Ｚ軸）と実質的に平行な方向に移動する。

なお、本実施形態に係る第２部材２２は、上述の第１〜第３実施形態で説明したような凸部（７０など）を有してもよいし、凸部（７０など）を有しなくてもよい。

また、本実施形態において、第２部材２２がＸＹ平面内において移動する期間の少なくとも一部において、上述の第４、第５実施形態で説明したような液体供給部３１からの液体供給量の調整が行われてもよいし、行われなくてもよい。

また、第２部材２２がＸＹ平面内において移動する期間の少なくとも一部において、上述の第４、第５実施形態で説明したような流体回収部２７（流体回収部２４）からの液体回収量の調整が行われてもよいし、行われなくてもよい。

本実施形態において、制御装置６は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付くように移動するとき、第２部材２２の下面２２Ｕのうち、少なくとも開口３５の周囲の下面（領域）と、基板Ｐ（物体）の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材２２の少なくとも一部を下方に移動する。

なお、制御装置６は、界面ＬＧ２が開口３５に近付くように移動するとき、開口３５の周囲の第２部材２２の下面２２Ｕと、基板Ｐ（物体）の上面との間隙の寸法が小さくなるように、基板Ｐ（基板ステージ２、物体）を上方に移動してもよいし、第２部材２２を下方に移動するとともに、基板Ｐ（基板ステージ２、物体）を上方に移動してもよい。

開口３５の中心に対する放射方向に関する液体ＬＱの界面ＬＧ２の移動（界面ＬＧ２の位置）は、液浸空間ＬＳが形成された状態における基板Ｐ（物体）の移動条件及び第２部材２２の移動条件の一方又は両方に基づいて定まる。

基板Ｐ（物体）の移動条件及び第２部材２２の移動条件の一方又は両方に基づく界面ＬＧ２の移動（界面ＬＧ２の位置）は、例えば予備実験、あるいはシミュレーションにより求めることができる。基板Ｐ（物体）の移動条件及び第２部材２２の移動条件の一方又は両方に基づく界面ＬＧ２の移動（界面ＬＧ２の位置）に関する情報は、記憶装置７に記憶される。

制御装置６は、記憶装置７の記憶情報に基づいて、基板Ｐ（物体）及び第２部材２２の一方又は両方が、界面ＬＧ２が開口３５に近づくように移動する（界面ＬＧ２が開口３５の近傍に配置される）状況を引き起こすような移動条件で移動すると判断したとき、第２部材２２の開口３５の周囲の下面２２Ｕと基板Ｐ（物体）の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材２２及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方を移動する。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で、第２部材２２の下面２２Ｕと基板Ｐ（物体）の上面との間隙の寸法が小さくなることにより、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの界面ＬＧ２は、開口３５から離れるように移動する。これにより、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付くことが抑制される。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。

なお、第２部材２２がＺ軸方向に移動する場合、その第２部材２２に追従するように、第１部材２１がＺ軸方向に移動されてもよい。例えば、制御装置６は、第２部材２２を−Ｚ方向に移動した場合、第１部材２１も−Ｚ方向に移動する。制御装置６は、第２部材２２を＋Ｚ方向に移動した場合、第１部材２１も＋Ｚ方向に移動する。制御装置６は、第１部材２１の下面２１Ｕと第２部材２２の上面２２Ｔとの間隙の寸法の変化が抑制されるように、Ｚ軸方向に関する第２部材２２の移動と同期して、第１部材２１をＺ軸方向に移動してもよい。

図２０に示すように、制御装置６は、第２部材２２が終端光学素子１３の光軸と垂直なＸＹ平面内において移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２を終端光学素子１３の光軸と実質的に平行な方向に移動してもよい。

図２１に示すように、制御装置６は、第２部材２２が終端光学素子１３の光軸と垂直なＸＹ平面内において移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐ（物体）が対向する第２部材２２の下面２２Ｕが傾斜するように、第２部材２２を移動してもよい。換言すれば、制御装置６は、終端光学素子１３の光軸に対して第２部材２２を傾斜させるように、第２部材２２を移動してもよい。

例えば、第２部材２２がＸ軸方向に移動される場合、制御装置６は、θＹ方向に第２部材２２を移動（傾斜）してもよい。

例えば、第２部材２２を＋Ｘ方向に移動しつつ第２部材２２をＺ軸方向に移動する場合、制御装置６は、第２部材２２が＋Ｘ方向に移動する期間の少なくとも一部において、少なくとも、開口３５の中心に対して＋Ｘ側の第２部材２２の少なくとも一部を下方に移動してもよい。

また、図１１及び図１２などを参照して説明したように、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動し、経路Ｔｐ２を移動した後、経路Ｔｐ３を移動する場合、制御装置６は、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動の少なくとも一部の期間において、第２部材２２の開口３５の周囲の下面２２Ｕと基板Ｐ（物体）の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材２２及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方が移動されてもよい。

＜第７実施形態＞
第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２２は、本実施形態に係る液浸部材５Ｇの一例を示す模式図である。液浸部材５Ｇは、第１部材２１と、第２部材２２Ｇとを有する。本実施形態において、第２部材２２Ｇの少なくとも一部は、変形可能である。

第２部材２２Ｇは、開口３５を含む部分２２１Ｇと、部分２２１Ｇの周囲に配置される部分２２２Ｇとを有する。部分２２２Ｇに流体回収部２７が配置される。部分２２１Ｇと部分２２２Ｇとは、変形可能な部分２２３Ｇを介して連結される。部分２２１Ｇは、部分２２２Ｇに対して、Ｚ軸方向に移動可能である。また、部分２２１Ｇは、θＹ方向に傾斜可能である。

図２２に示す例において、第２部材２２Ｇと基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付くように移動するとき、第２部材２２Ｇの開口３５の周囲の下面２２１ＧＵと基板Ｐ（物体）の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材２２Ｇの少なくとも一部及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方が移動される。

本実施形態において、開口３５の周囲の下面２２１ＧＵは、部分２２１Ｇの下面を含む。制御装置６は、開口３５の周囲の部分２２１Ｇの下面２２１ＧＵと基板Ｐ（物体）の上面との間隙の寸法が小さくなるように、部分２２１Ｇ及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方を移動する。制御装置６は、部分２２１Ｇの下面２２１ＧＵと基板Ｐ（物体）の上面との間隙の寸法が小さくなるように、部分２２１Ｇを−Ｚ方向に移動してもよいし、θＹ方向に移動（傾斜）させてもよい。

また、例えば第２部材２２Ｇが＋Ｘ側に移動する期間の少なくとも一部において、開口３５の中心に対して＋Ｘ側の部分２２１Ｇが下方に移動してもよい。

本実施形態においても、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付くことが抑制される。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。

＜第８実施形態＞
第８実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２３は、本実施形態に係る液浸部材５００のＹＺ平面と平行な断面図である。図２４は、液浸部材５００のＸＺ平面と平行な断面図である。図２５は、図２３の一部を拡大した図である。図２６は、液浸部材５００を下側（−Ｚ側）から見た図である。図２７は、液浸部材５００の斜視図である。

液浸部材５００は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１０と、第１部材２１０の下方において光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材２１０に対して可動な第２部材２２０とを備えている。

第１部材２１０は、終端光学素子１３の周囲に配置される環状の部材である。第２部材２２０は、光路Ｋの周囲に配置される環状の部材である。第１部材２１０は、射出面１２からの露光光ＥＬが通過可能な開口３４０を有する。第２部材２２０は、射出面１２からの露光光ＥＬが通過可能な開口３５０を有する。

第１部材２１０は、−Ｚ方向を向く下面２１０Ｕを有する。第１部材２１０の下面２１０Ｕは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部２４０と、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な回収部（流体回収部）２３０とを有する。流体回収部２３０は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して非回収部２４０の外側に配置される。

第２部材２２０は、＋Ｚ方向を向く上面２５０と、−Ｚ方向を向く下面２６０とを有する。上面２５０は、下面２１０Ｕと間隙を介して対向する。また、本実施形態においては、上面２５０の少なくとも一部は、射出面１２と間隙を介して対向する。なお、上面２５０が射出面１２と対向していなくてもよい。

また、液浸部材５００は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給可能な液体供給部３３０を備えている。液体供給部３３０は、終端光学素子１３の光軸（光路Ｋ）に対する放射方向に関して流体回収部２３０の内側に配置される。液体供給部３３０は、第２部材２２０よりも上方に配置される。液体供給部３３０は、第１部材２１０に配置される。

本実施形態において、液体供給部３３０は、側面１３Ｆに対向するように配置される。液体供給部３３０は、終端光学素子１３と第１部材２１０との間の第３空間ＳＰ３に液体ＬＱを供給する。なお、液体供給部３３０は、第２部材２２０に配置されてもよいし、第１部材２１０及び第２部材２２０の両方に配置されてもよい。

基板Ｐ（物体）は、間隙を介して下面２６０と対向可能である。基板Ｐ（物体）は、間隙を介して流体回収部２３０の少なくとも一部に対向可能である。流体回収部２３０は、上面２５０が面する第１空間ＳＰ１及び下面２６０が面する第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。

第１空間ＳＰ１は、下面２１０Ｕと上面２５０との間の空間を含む。第２空間ＳＰ２は、下面２６０と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間を含む。本実施形態において、流体回収部２３０は、第１部材２１０に配置される。第２部材２２０の少なくとも一部は、流体回収部２３０と対向する。なお、第２部材２２０は、流体回収部２３０と対向しなくてもよい。なお、流体回収部２３０が、第１部材２１０及び第２部材２２０とは異なる部材に配置されてもよい。

本実施形態において、流体回収部２３０は、多孔部材３８０を含む。基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、多孔部材３８０の孔を介して回収される。多孔部材３８０の孔（開口）が、液体ＬＱを回収する回収口として機能する。本実施形態において、多孔部材３８０は、メッシュプレートを含む。

第２部材２２０は、基板Ｐ（物体）側に突出するように開口３５０の周囲の少なくとも一部に配置される凸部７００を有する。凸部７００は、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面７００Ｔと、下面７００Ｔの外側エッジと結ばれる外面７００Ｆとを有する。

凸部７００にはスリット（開口）７００Ｋが形成される。凸部７００は、開口３５０を介して液体供給部３３０から基板Ｐ（物体）上に供給された液体ＬＱの少なくとも一部を誘導する誘導部として機能する。

下面２６０は、凸部７００の下面７００Ｔを含む部分２２０Ｕａと、開口３５０の中心に対して部分２２０Ｕａの外側に配置され、部分２２０Ｕａよりも上方に配置される部分２２０Ｕｂとを含む。

本実施形態において、部分２２０Ｕｂは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部２６０を含む。下面７００Ｔも、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収不可能な非回収部である。

すなわち、本実施形態において、第２部材２２０は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収可能な流体回収部を有しない。

流体回収部２３０の少なくとも一部は、開口３５０の中心に対して部分２２０Ｕａの外側に配置される。流体回収部２３０の少なくとも一部は、開口３５０の中心に対して第２部材２２０の外側に配置される。

液体供給部３３０からの液体ＬＱの供給動作と並行して、流体回収部２３０からの液体ＬＱの回収動作が行われることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５００と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。

第２部材２２０は、駆動装置２７０の作動によって移動される。駆動装置２７０は、例えばモータを含み、ローレンツ力を使って第２部材２２０を移動する。駆動装置２７０は、第２部材２２０を、少なくともＸ軸方向に移動する。なお、駆動装置２７０は、第２部材２２０を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向に移動してもよい。

第２部材２２０に支持部材２８０が接続される。本実施形態においては、支持部材２８０が駆動装置２７０によって移動されることにより、第２部材２２０が移動する。本実施形態において、支持部材２８０の下端部が、第２部材２２０の上面２２０Ｔの少なくとも一部と接続される。

本実施形態において、支持部材２８０は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに配置される。

なお、複数の支持部材２８０の配置は、＋Ｙ側及び−Ｙ側に限られない。例えば、＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置されてもよいし、＋Ｙ側、−Ｙ側、＋Ｘ側、−Ｘ側のそれぞれに配置されてもよい。

本実施形態において、第１部材２１０は、終端光学素子１３の側面１３Ｆと対向する内側面３００と、内側面３００の上端の周囲に配置される上面３１０とを有する。終端光学素子１３の側面１３Ｆは、露光光ＥＬが射出されない、非射出面である。露光光ＥＬは、側面１３Ｆを通過せず、射出面１２を通過する。

本実施形態において、複数の支持部材２８０は、第１部材２１０に設けられた複数の孔３２０のそれぞれに移動可能に配置されている。本実施形態において、光路Ｋに対して、＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに孔３２０が設けられている。孔３２０のそれぞれは、Ｚ軸方向に関して、第１部材２１０の上側の空間と下側の空間を結ぶように第１部材２１０を貫通している。第１部材２１０の上側の空間は、終端光学素子１３と第１部材２１０との間の第３空間ＳＰ３を含む。第１部材２１０の下側の空間は、第１部材２１０と第２部材２２０との間の第１空間ＳＰ１を含む。なお、第１部材２１０の下側の空間が、第２部材２２０と物体（基板Ｐなど）との間の第２空間ＳＰ２を含んでもよい。

本実施形態において、孔３２０のそれぞれは、第１部材２１０の内側面３００と下面２１０Ｕ（非回収部２４０）とを結ぶように形成されている。ＸＹ平面内において、孔３２０のそれぞれは、Ｘ軸方向に長い。孔３２０に配置された支持部材２８０は、Ｘ軸方向に移動可能である。駆動装置２７０により支持部材２８０がＸ軸方向に移動されることによって、第２部材２２０がＸ軸方向に移動する。

なお、支持部材２８０が配置される孔３２０の少なくとも一つは、第１部材２１０の上面３１０と下面２４０とを結ぶように形成されてもよい。

本実施形態において、第２部材２２０及び支持部材２８０は、第１部材２１０と接触しない。第１部材２１０と第２部材２２０との間に間隙が形成され、第１部材２１０と支持部材２８０との間に間隙が形成される。駆動装置２７０は、第２部材２２０及び支持部材２８０と第１部材２１０とが接触しないように、第２部材２２０及び支持部材２８０を移動可能である。

なお、第２部材２２０及び支持部材２８０の少なくとも一方と第１部材２１０とが接触してもよい。

以上説明したように、本実施形態においても、凸部７００が設けられるため、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５０に近付くことが抑制される。そのため、液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成されることが抑制される。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。

なお、上述の第１〜第８実施形態において、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５（３５０）に近付かないように、基板Ｐの露光における第２部材２２の移動条件及び基板Ｐ（基板ステージ２）の移動条件の一方又は両方が定められてもよい。

第２部材２２の移動条件は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に関する移動速度、加速度（減速度）、移動方向、移動距離、及び移動軌跡の少なくとも一つを含む。

基板Ｐ（物体）の移動条件は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に関する移動速度、加速度（減速度）、移動方向、移動距離、及び移動軌跡の少なくとも一つを含む。

移動速度、加速度（減速度）、移動方向、移動距離、及び移動軌跡は、例えば終端光学素子１３に対する移動速度、加速度（減速度）、移動方向、移動距離、及び移動軌跡でもよい。

移動速度、加速度（減速度）、移動方向、移動距離、及び移動軌跡は、例えば第１部材２１に対する移動速度、加速度（減速度）、移動方向、移動距離、及び移動軌跡でもよい。

例えば、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付かないように、第２部材２２及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方の移動速度を制限したり、移動可能な最高速度を定めたりしてもよい。

また、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付かないように、第２部材２２及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方の加速度を制限したり、移動可能な最高加速度を定めたりしてもよい。

また、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付かないように、第２部材２２及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方の移動距離を制限したり、移動可能な最長距離を定めたりしてもよい。

また、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付かないように、第２部材２２及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方の移動軌跡を定めてもよい。

また、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付かないように、ある時点（ある地点）からある時点（ある地点）まで第２部材２２を移動する場合、第２部材２２を停止させる期間を設けてもよい。

また、液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付かないように、ある時点（ある地点）からある時点（ある地点）まで第２部材２２を移動する場合、基板Ｐ（物体）を停止させる期間を設けてもよい。

液体ＬＱの界面ＬＧ２が開口３５に近付かないようにするための移動条件は、例えば予備実験、あるいはシミュレーションにより求めることができる。その求めた移動条件を露光制御情報（露光レシピ）とし、その露光制御情報（露光レシピ）に基づいて、基板Ｐの露光において基板Ｐを移動したり、第２部材２２を移動したりしてもよい。

なお、上述の第１〜第８実施形態において、図２８に示すように、第１部材（２１など）の少なくとも一部が、終端光学素子１３の射出面１２と対向してもよい。すなわち、第１部材（２１など）の一部が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。

図２８に示す例において、第１部材２１は、開口３４の周囲に配置された上面４４を有する。開口３４の上端の周囲に上面４４が配置される。また、図２８に示す例では、第２部材（２２など）の上面の一部も、射出面１２と対向する。

なお、上述の各実施形態において、図２８に示すように、第１空間ＳＰ１に面するように液体供給部（液体供給口）３１００が設けられてもよい。図２８に示す例において、液体供給部３１００は、第１空間ＳＰ１に面するように第１部材２１の下面に配置される。なお、液体供給部３１００は、第１空間ＳＰ１に面するように第２部材２２の上面に配置されてもよい。

液体供給部３１００から液体ＬＱが供給されることにより、例えば第３空間ＳＰ３に面する液体供給部３１から供給された液体ＬＱが第１空間ＳＰ１に流入しなくても、第１空間ＳＰ１が液体ＬＱで満たされる。

なお、上述の各実施形態において、第２部材２２が、射出面１２と対向しなくてもよい。すなわち、第２部材２２が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されなくてもよい。例えば、図２９に示すように、第１部材（２１など）の下面が、射出面１２よりも＋Ｚ側に配置されてもよい。なお、Ｚ軸方向に関する第１部材（２１など）の下面の位置（高さ）と射出面１２の位置（高さ）とが実質的に等しくてもよい。第１部材（２１など）の下面が、射出面１２よりも−Ｚ側に配置されてもよい。

なお、上述の各実施形態において、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法が、基板Ｐの上面と第２部材（２２など）の下面との間隙の寸法と実質的に等しくてもよい。

なお、上述の各実施形態において、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法が、基板Ｐの上面と第２部材（２２など）の下面との間隙の寸法よりも小さくてもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１部材（２１など）と終端光学素子１３との間の空間から液体ＬＱ及び気体の少なくとも一方を吸引する吸引口を第１部材２１に設けてもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１部材（２１など）は環状でなくてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲において複数配置されてもよい。

なお、上述の各実施形態において、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。

なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。

記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。

記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口と、基板側に突出するように開口の周囲の少なくとも一部に配置される凸部と、を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、開口を介して供給部から基板上に供給された液体の少なくとも一部を誘導する誘導部と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、第２部材の移動において、液体を第１供給量及び第１供給量とは異なる第２供給量で供給することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、第２部材の移動において、液体を第１回収量及び第１回収量とは異なる第２回収量で回収することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材が面内において移動する期間の少なくとも一部において、第２部材の少なくとも一部を、光軸と実質的に平行な方向に移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間が形成された状態で、基板を、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、第１経路を移動させた後、基板を、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、第２経路を移動させた後、基板を、第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第３方向に移動させることと、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第２方向の反対の第４方向に移動させることと、基板が第１経路を移動するときに液浸空間の液体を介して基板のショット領域に露光光を照射することと、基板が第２経路を移動するときに露光光を照射しないことと、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、基板の第２経路の移動の期間における供給量よりも多い供給量で、供給部から液体を供給することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間が形成された状態で、基板を、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、第１経路を移動させた後、基板を、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、第２経路を移動させた後、基板を、第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第３方向に移動させることと、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第２方向の反対の第４方向に移動させることと、基板が第１経路を移動するときに液浸空間の液体を介して基板のショット領域に露光光を照射することと、基板が第２経路を移動するときに露光光を照射しないことと、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、基板の第２経路の移動の期間における回収量よりも少ない回収量で、回収部から液体を回収することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間が形成された状態で、基板を、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、第１経路を移動させた後、基板を、面内において第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、第２経路を移動させた後、基板を、第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第３方向に移動させることと、基板が第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材を、第２方向の反対の第４方向に移動させることと、基板が第１経路を移動するときに液浸空間の液体を介して基板のショット領域に露光光を照射することと、基板が第２経路を移動するときに露光光を照射しないことと、基板の第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、第２部材の開口の周囲の下面と基板の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材及び基板の一方又は両方を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材と基板との間の液体の界面が開口に近づくように移動するとき、供給部からの液体の供給量を多くすることと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材と基板との間の液体の界面が開口に近づくように移動するとき、回収部からの液体の回収量を少なくすることと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、光学部材の下方で移動可能な基板が対向可能に配置され、第１部材に対して可動であり、露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、第２部材と基板との間の基板の界面が開口に近づくように移動するとき、第２部材の開口の周囲の下面と基板の上面との間隙の寸法が小さくなるように、第２部材及び基板の一方又は両方を移動することと、を実行させてもよい。

記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理が実行される。

なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。

なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。

また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。

また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。

また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図３０に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。

また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。

露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。

なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。

上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。

また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。

上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図３１に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。

なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、２１…第１部材、２１Ｕ…下面、２２…第２部材、２２Ｔ…上面、２２Ｕ…下面、２２Ｕａ…部分、２２Ｕｂ…部分、２３…非回収部、２４…流体回収部、２６…非回収部、２７…流体回収部、２９…外側面、３０…内側面、３１…液体供給部、３４…開口、３５…開口、５６…駆動装置、７０…凸部、７０Ｔ…下面、７０Ｆ…外面、７０Ｋ…スリット、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＧ…界面、ＬＧ１…第１界面、ＬＧ２…第２界面、ＬＧ３…第３界面、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板、ＳＰ１…第１空間、ＳＰ２…第２空間、ＳＰ３…第３空間、Ｔｐ１…経路、Ｔｐ２…経路、Ｔｐ３…経路、Ｔｐ４…経路、Ｔｐ５…経路。

Claims (103)

1. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
   前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、
   前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
   前記第１部材の下方において前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口と、前記物体側に突出するように前記開口の周囲の少なくとも一部に配置される凸部と、を有する第２部材と、を備える液浸部材。
2. 前記凸部は、前記物体が対向可能な下面と、前記下面の外側エッジと結ばれ、前記光学部材の光軸と実質的に平行な外面と、を有する請求項１に記載の液浸部材。
3. 前記第２部材は、前記物体が対向可能な第２下面を有し、
   前記第２下面は、前記凸部の下面を含む第１部分と、前記開口の中心に対して前記第１部分の外側に配置され、前記第１部分よりも上方に配置される第２部分と、を含む請求項１又は２に記載の液浸部材。
4. 前記第２部分は、前記液浸空間の液体を回収不可能な非回収部を含む請求項３に記載の液浸部材。
5. 前記第２部分は、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な回収部を含む請求項３に記載の液浸部材。
6. 前記第２部分は、前記液浸空間の液体を回収不可能な非回収部と、前記開口の中心に対して前記非回収部の外側に配置され、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収可能な収部と、を含む請求項３に記載の液浸部材。
7. 前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部を備え、
   前記回収部の少なくとも一部は、前記開口の中心に対して前記第２部分の外側に配置される請求項３に記載の液浸部材。
8. 前記凸部は、前記開口の周囲に配置される請求項１〜７のいずれか一項に記載の液浸部材。
9. 前記凸部の一部に形成されるスリットを有する請求項８に記載の液浸部材。
10. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動し、
    前記スリットは、前記開口の中心に対して前記第２部材の移動方向に形成される請求項９に記載の液浸部材。
11. 前記開口を介して前記供給部から前記物体上に供給された液体の少なくとも一部を誘導する誘導部を有し、
    前記誘導部は、前記凸部を含む請求項９又は１０に記載の液浸部材。
12. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
    前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    前記第１部材の下方において前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、
    前記開口を介して前記供給部から前記物体上に供給された液体の少なくとも一部を誘導する誘導部と、を備える液浸部材。
13. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動し、
    前記誘導部は、前記液体の少なくとも一部を前記第２部材の移動方向と平行な方向に誘導する請求項１１又は１２に記載の液浸部材。
14. 前記誘導部は、前記液体の少なくとも一部が前記露光光の光路から外側に向かうように誘導する請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の液浸部材。
15. 前記誘導部は、前記第２部材の下方において前記露光光の光路の周囲に配置される壁部と、前記壁部の一部に形成されるスリットと、を含む請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の液浸部材。
16. 前記壁部は、前記第２部材に配置される請求項１５に記載の液浸部材。
17. 前記壁部は、前記開口の周囲に配置される請求項１６に記載の液浸部材。
18. 前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部を有し、
    前記回収部の少なくとも一部は、前記露光光の光路に対して前記誘導部の外側に配置される請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の液浸部材。
19. 前記第２部材の移動において、前記液体が第１供給量及び前記第１供給量とは異なる第２供給量で供給される請求項１〜１８のいずれか一項に記載の液浸部材。
20. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
    前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    前記第１部材の下方において前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備え、
    前記第２部材の移動において、前記液体が第１供給量及び前記第１供給量とは異なる第２供給量で供給される液浸部材。
21. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な第１軸と平行な第１方向に移動された後、前記第１方向と反対の第２方向に移動され、
    前記第１方向への前記第２部材の移動において、前記液体が前記第１供給量及び前記第２供給量で供給される請求項１９又は２０に記載の液浸部材。
22. 前記第２方向への前記第２部材の移動において、前記液体が前記第１供給量及び前記第２供給量で供給される請求項２１に記載の液浸部材。
23. 前記第１供給量は、前記第２供給量よりも多く、
    前記第２方向への移動開始の第１時点において、前記液体が前記第１供給量で供給される請求項２１又は２２に記載の液浸部材。
24. 前記第１供給量は、前記第２供給量よりも多く、
    前記第２方向への移動開始の第１時点から、前記第１時点と前記第２方向への移動終了の第２時点との間の第３時点までの期間において、前記液体が前記第１供給量で供給される請求項２１又は２２に記載の液浸部材。
25. 前記第１時点と前記第３時点との間の期間は、前記第３時点と前記第２時点との間の期間よりも短い請求項２４に記載の液浸部材。
26. 前記第３時点後、前記液体が前記第２供給量で供給される請求項２４又は２５に記載の液浸部材。
27. 前記第１供給量は、前記第２供給量よりも多く、
    前記第１方向への移動終了の第４時点において、前記液体が前記第１供給量で供給される請求項２１〜２６のいずれか一項に記載の液浸部材。
28. 前記第１供給量は、前記第２供給量よりも多く、
    前記第１方向への移動開始の第５時点と前記第１方向への移動終了の第４時点との間の第６時点から、前記第４時点までの期間において、前記液体が前記第１供給量で供給される請求項２１〜２６のいずれか一項に記載の液浸部材。
29. 前記第４期間と前記第６時点との間の期間は、前記第５時点と前記第６時点との間の期間よりも短い請求項２８に記載の液浸部材。
30. 前記第６時点前、前記液体が前記第２供給量で供給される請求項２８又は２９に記載の液浸部材。
31. 前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部を備え、
    前記第２部材の移動において、前記液体が第１回収量及び前記第１回収量とは異なる第２回収量で回収される請求項１〜３０のいずれか一項に記載の液浸部材。
32. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
    前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、
    前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    前記第１部材の下方において前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備え、
    前記第２部材の移動において、前記液体が第１回収量及び前記第１回収量とは異なる第２回収量で回収される液浸部材。
33. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な第１軸と平行な第１方向に移動された後、前記第１方向と反対の第２方向に移動され、
    前記第１方向への前記第２部材の移動において、前記液体が前記第１回収量及び前記第２回収量で回収される請求項３１又は３２に記載の液浸部材。
34. 前記第２方向への前記第２部材の移動において、前記液体が前記第１回収量及び前記第２回収量で回収される請求項３３に記載の液浸部材。
35. 前記第１回収量は、前記第２回収量よりも少なく、
    前記第２方向への移動開始の第１時点において、前記液体が前記第１回収量で回収される請求項３３又は３４に記載の液浸部材。
36. 前記第１回収量は、前記第２回収量よりも少なく、
    前記第２方向への移動開始の第１時点から、前記第１時点と前記第２方向への移動終了の第２時点との間の第３時点までの期間において、前記液体が前記第１回収量で回収される請求項３３又は３４に記載の液浸部材。
37. 前記第１時点と前記第３時点との間の期間は、前記第３時点と前記第２時点との間の期間よりも短い請求項３６に記載の液浸部材。
38. 前記第３時点後、前記液体が前記第２回収量で回収される請求項３６又は３７に記載の液浸部材。
39. 前記第１回収量は、前記第２回収量よりも少なく、
    前記第１方向への移動終了の第４時点において、前記液体が前記第１回収量で回収される請求項３３〜３８のいずれか一項に記載の液浸部材。
40. 前記第１回収量は、前記第２回収量よりも少なく、
    前記第１方向への移動開始の第５時点と前記第１方向への移動終了の第４時点との間の第６時点から、前記第４時点までの期間において、前記液体が前記第１回収量で回収される請求項３３〜３８のいずれか一項に記載の液浸部材。
41. 前記第４期間と前記第６時点との間の期間は、前記第５時点と前記第６時点との間の期間よりも短い請求項４０に記載の液浸部材。
42. 前記第６時点前、前記液体が前記第２回収量で回収される請求項４０又は４１に記載の液浸部材。
43. 前記供給部は、前記第２部材よりも上方に配置される請求項１〜４２のいずれか一項に記載の液浸部材。
44. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動し、
    前記供給部は、前記第２部材の移動方向と交差する方向から前記開口に向けて液体を供給する請求項４３に記載の液浸部材。
45. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動可能であり、
    前記面内において移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材の少なくとも一部は、前記光軸と実質的に平行な方向に移動する請求項１〜４４のいずれか一項に記載の液浸部材。
46. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
    前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    前記第１部材の下方において前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備え、
    前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動可能であり、
    前記面内において移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材の少なくとも一部は、前記光軸と実質的に平行な方向に移動する液浸部材。
47. 前記面内において移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材の少なくとも一部は、下方に移動する請求項４５又は４６に記載の液浸部材。
48. 前記第２部材が前記面内における第１軸と平行な方向の一側に移動する期間の少なくとも一部において、
    前記開口の中心に対して前記一側の前記第２部材の少なくとも一部が下方に移動する請求項４７に記載の液浸部材。
49. 前記面内において移動する期間の少なくとも一部において、前記物体が対向する前記第２部材の第２下面が傾斜するように、前記第２部材が移動される請求項４５〜４８のいずれか一項に記載の液浸部材。
50. 前記露光光の光路に対する放射方向に関して前記供給部の外側に配置され、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部を備える請求項１〜４９のいずれか一項に記載の液浸部材。
51. 前記回収部の少なくとも一部は、前記第２部材に配置される請求項５０に記載の液浸部材。
52. 前記回収部の少なくとも一部は、前記物体が対向可能である請求項５０又は５１に記載の液浸部材。
53. 前記回収部は、前記物体が対向可能な第１回収部と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に面する第２回収部と、を含む請求項５０〜５２のいずれか一項に記載の液浸部材。
54. 前記回収部の少なくとも一部は、多孔部材を含む請求項５０〜５３のいずれか一項に記載の液浸部材。
55. 前記液浸空間が形成されている状態において、前記第２部材は移動可能である請求項１〜５４のいずれか一項に記載の液浸部材。
56. 前記液浸空間の液体が接触された状態で、前記第２部材は移動可能である請求項１〜５５のいずれか一項に記載の液浸部材。
57. 前記射出面から前記露光光が射出される期間の少なくとも一部において、前記第２部材は移動可能である請求項１〜５６のいずれか一項に記載の液浸部材。
58. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動する請求項１〜５７のいずれか一項に記載の液浸部材。
59. 前記第１部材は、露光光が通過可能な開口を有する請求項１〜５８のいずれか一項に記載の液浸部材。
60. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    請求項１〜５９のいずれか一項に記載の液浸部材を備える露光装置。
61. 前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動後、第２経路を移動し、
    前記第１経路において、前記基板の移動は、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、
    前記第２経路において、前記基板の移動は、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、
    前記第２部材は、前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第３方向に移動する請求項６０に記載の露光装置。
62. 前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光が照射され、前記第２経路を移動するときに前記露光光が照射されない請求項６１に記載の露光装置。
63. 前記基板は、前記第２経路を移動した後に、第３経路を移動し、
    前記第３経路において、前記基板の移動は、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含み、
    前記第２部材は、前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向の反対の第４方向に移動する請求項６１又は６２に記載の露光装置。
64. 前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記基板の前記第２経路の移動の期間における供給量よりも多い供給量で、前記液浸部材に設けられた供給部から前記液体が供給される請求項６３に記載の露光装置。
65. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
    前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、前記物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、
    前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動し、第２経路を移動した後、第３経路を移動し、
    前記第１経路において、前記基板の移動は、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、
    前記第２経路において、前記基板の移動は、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、
    前記第３経路において、前記基板の移動は、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含み、
    前記第２部材は、前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第３方向に移動し、前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向の反対の第４方向に移動し、
    前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記基板の前記第２経路の移動の期間における供給量よりも多い供給量で、前記供給部から前記液体が供給される露光装置。
66. 前記第２部材と前記物体との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記供給部からの前記液体の供給量が多くなる請求項６５に記載の露光装置。
67. 前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記基板の前記第２経路の移動の期間における回収量よりも少ない回収量で、前記回収部から前記液体が回収される請求項６５又は６６に記載の露光装置。
68. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
    前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、前記物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、
    前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動し、第２経路を移動した後、第３経路を移動し、
    前記第１経路において、前記基板の移動は、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、
    前記第２経路において、前記基板の移動は、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、
    前記第３経路において、前記基板の移動は、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含み、
    前記第２部材は、前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第３方向に移動し、前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向の反対の第４方向に移動し、
    前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記基板の前記第２経路の移動の期間における回収量よりも少ない回収量で、前記回収部から前記液体が回収される露光装置。
69. 前記第２部材と前記物体との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記回収部からの前記液体の回収量が少なくなる請求項６８に記載の露光装置。
70. 前記第２部材が前記第４方向に移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材の前記開口の周囲の下面と前記物体の上面との間隙の寸法が小さくなるように、前記第２部材及び前記物体の一方又は両方が移動される請求項６３〜６９のいずれか一項に記載の露光装置。
71. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
    前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、前記物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、
    前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動し、第２経路を移動した後、第３経路を移動し、
    前記第１経路において、前記基板の移動は、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、
    前記第２経路において、前記基板の移動は、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、
    前記第３経路において、前記基板の移動は、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含み、
    前記第２部材は、前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第３方向に移動し、前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向の反対の第４方向に移動し、
    前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記第２部材の前記開口の周囲の下面と前記物体の上面との間隙の寸法が小さくなるように、前記第２部材及び前記物体の一方又は両方が移動される露光装置。
72. 前記第２部材と前記物体との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記間隙の寸法が小さくなる請求項７１に記載の露光装置。
73. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
    前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、前記物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、
    前記第２部材と前記物体との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記供給部からの前記液体の供給量が多くなる露光装置。
74. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
    前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、前記物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、
    前記第２部材と前記物体との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記回収部からの前記液体の回収量が少なくなる露光装置。
75. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
    前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を有し、前記物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、を備え、
    前記第２部材と前記物体との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記第２部材の前記開口の周囲の下面と前記物体の上面との間隙の寸法が小さくなるように、前記第２部材及び前記物体の一方又は両方が移動される露光装置。
76. 前記第２部材は、前記物体との相対移動が小さくなるように移動される請求項６０〜７５のいずれか一項に記載の露光装置。
77. 前記第２部材は、前記第２部材と前記物体との相対移動が、前記第１部材と前記物体との相対移動よりも小さくなるように移動される請求項６０〜７６のいずれか一項に記載の露光装置。
78. 前記物体は、前記基板を保持して移動する基板ステージを含む請求項６０〜７７のいずれか一項に記載の露光装置。
79. 請求項６０〜７８のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
80. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口と、前記基板側に突出するように前記開口の周囲の少なくとも一部に配置される凸部と、を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
81. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、前記開口を介して前記供給部から前記基板上に供給された液体の少なくとも一部を誘導する誘導部と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
82. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、
    前記第２部材の移動において、前記液体を第１供給量及び前記第１供給量とは異なる第２供給量で供給することと、を含む露光方法。
83. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、
    前記第２部材の移動において、前記液体を第１回収量及び前記第１回収量とは異なる第２回収量で回収することと、を含む露光方法。
84. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、
    前記第２部材が前記面内において移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材の少なくとも一部を、前記光軸と実質的に平行な方向に移動することと、を含む露光方法。
85. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板を、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、
    前記第１経路を移動させた後、前記基板を、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、
    前記第２経路を移動させた後、前記基板を、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、
    前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第３方向に移動させることと、
    前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第２方向の反対の第４方向に移動させることと、
    前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光を照射することと、
    前記基板が前記第２経路を移動するときに前記露光光を照射しないことと、
    前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記基板の前記第２経路の移動の期間における供給量よりも多い供給量で、前記供給部から前記液体を供給することと、を含む露光方法。
86. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板を、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、
    前記第１経路を移動させた後、前記基板を、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、
    前記第２経路を移動させた後、前記基板を、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、
    前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第３方向に移動させることと、
    前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第２方向の反対の第４方向に移動させることと、
    前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光を照射することと、
    前記基板が前記第２経路を移動するときに前記露光光を照射しないことと、
    前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記基板の前記第２経路の移動の期間における回収量よりも少ない回収量で、前記回収部から前記液体を回収することと、を含む露光方法。
87. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板を、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、
    前記第１経路を移動させた後、前記基板を、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、
    前記第２経路を移動させた後、前記基板を、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、
    前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第３方向に移動させることと、
    前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第２方向の反対の第４方向に移動させることと、
    前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光を照射することと、
    前記基板が前記第２経路を移動するときに前記露光光を照射しないことと、
    前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記第２部材の前記開口の周囲の下面と前記基板の上面との間隙の寸法が小さくなるように、前記第２部材及び前記基板の一方又は両方を移動することと、を含む露光方法。
88. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、
    前記第２部材と前記基板との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記供給部からの前記液体の供給量を多くすることと、を含む露光方法。
89. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、
    前記第２部材と前記基板との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記回収部からの前記液体の回収量を少なくすることと、を含む露光方法。
90. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、
    前記第２部材と前記基板との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記第２部材の前記開口の周囲の下面と前記基板の上面との間隙の寸法が小さくなるように、前記第２部材及び前記基板の一方又は両方を移動することと、を含む露光方法。
91. 請求項８０〜９０のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
92. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口と、前記基板側に突出するように前記開口の周囲の少なくとも一部に配置される凸部と、を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
93. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、前記開口を介して前記供給部から前記基板上に供給された液体の少なくとも一部を誘導する誘導部と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
94. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、
    前記第２部材の移動において、前記液体を第１供給量及び前記第１供給量とは異なる第２供給量で供給することと、を実行させるプログラム。
95. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、
    前記第２部材の移動において、前記液体を第１回収量及び前記第１回収量とは異なる第２回収量で回収することと、を実行させるプログラム。
96. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、
    前記第２部材が前記面内において移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材の少なくとも一部を、前記光軸と実質的に平行な方向に移動することと、を実行させるプログラム。
97. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板を、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、
    前記第１経路を移動させた後、前記基板を、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、
    前記第２経路を移動させた後、前記基板を、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、
    前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第３方向に移動させることと、
    前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第２方向の反対の第４方向に移動させることと、
    前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光を照射することと、
    前記基板が前記第２経路を移動するときに前記露光光を照射しないことと、
    前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記基板の前記第２経路の移動の期間における供給量よりも多い供給量で、前記供給部から前記液体を供給することと、を実行させるプログラム。
98. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板を、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、
    前記第１経路を移動させた後、前記基板を、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、
    前記第２経路を移動させた後、前記基板を、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、
    前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第３方向に移動させることと、
    前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第２方向の反対の第４方向に移動させることと、
    前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光を照射することと、
    前記基板が前記第２経路を移動するときに前記露光光を照射しないことと、
    前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記基板の前記第２経路の移動の期間における回収量よりも少ない回収量で、前記回収部から前記液体を回収することと、を実行させるプログラム。
99. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板を、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含む第１経路を移動させることと、
    前記第１経路を移動させた後、前記基板を、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含む第２経路を移動させることと、
    前記第２経路を移動させた後、前記基板を、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含む第３経路を移動させることと、
    前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第３方向に移動させることと、
    前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材を、前記第２方向の反対の第４方向に移動させることと、
    前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光を照射することと、
    前記基板が前記第２経路を移動するときに前記露光光を照射しないことと、
    前記基板の前記第３経路の移動の少なくとも一部の期間において、前記第２部材の前記開口の周囲の下面と前記基板の上面との間隙の寸法が小さくなるように、前記第２部材及び前記基板の一方又は両方を移動することと、を実行させるプログラム。
100. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
     液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
     前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
     前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、
     前記第２部材と前記基板との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記供給部からの前記液体の供給量を多くすることと、を実行させるプログラム。
101. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
     液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
     前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
     前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、
     前記第２部材と前記基板との間の前記液体の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記回収部からの前記液体の回収量を少なくすることと、を実行させるプログラム。
102. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
     液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、前記液浸空間の前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板が対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動であり、前記露光光が通過可能な開口を有する第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
     前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
     前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動することと、
     前記第２部材と前記基板との間の前記基板の界面が前記開口に近づくように移動するとき、前記第２部材の前記開口の周囲の下面と前記基板の上面との間隙の寸法が小さくなるように、前記第２部材及び前記基板の一方又は両方を移動することと、を実行させるプログラム。
103. 請求項９２〜１０２のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

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