JP6593493B2 - 露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
本願は、２０１２年４月１０日に出願された米国特許仮出願６１／６２２，１８２及び２０１３年３月１３日に出願された米国特許出願１３／８００，４４８に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。

米国特許第７８６４２９２号明細書

液浸露光装置において、例えば液体が所定の空間から流出したり基板等の物体の上に残留したりすると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と光路に対して第１下面の外側に配置された第１回収部とを有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有し、第１部材に対して可動な第２部材と、を備え、第１回収部の少なくとも一部に物体が対向可能であり、第２上面が面する第１空間及び第２下面が面する第２空間の少なくとも一方からの液体の少なくとも一部を第１回収部から回収可能な液浸部材が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第２下面を有し、第１部材に対して可動な第２部材と、光路に対して第１下面の外側に配置された回収部と、を備え、回収部により第１部材と第２部材との間の空間からの液体回収が行われる液浸部材が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第２下面を有し、第１部材に対して可動な第２部材と、少なくとも一部が光路に対して第２下面の外側で、第２部材と物体との間の空間からの液体を回収する回収部と、を備える液浸部材が提供される。

本発明の第４の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と対向可能な第２上面及び物体が対向可能な第２下面を有し、第１部材に対して可動な第２部材と、第２上面よりも上方に配置され、液体を供給可能な供給部と、第２上面よりも上方に配置され、液体を回収可能な回収部と、を備え、供給部からの液体の少なくとも一部が第１下面と第２上面との間の空間に供給され、回収部から第１下面と第２上面との間の空間の液体の少なくとも一部が回収される液浸部材が提供される。

本発明の第５の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、第１〜第４の態様のいずれか一つの液浸部材を備える露光装置が提供される。

本発明の第６の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材を備え、液浸部材は、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と光路に対して第１下面の外側に配置された第１回収部とを有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面と、第２下面に配置され、液体を回収可能な第２回収部を有する第２部材と、を備え、第１回収部の少なくとも一部に物体が対向可能であり、第２上面が面する第１空間及び第２下面が面する第２空間の少なくとも一方からの液体の少なくとも一部を第１回収部から回収する露光装置が提供される。

本発明の第７の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材を備え、液浸部材は、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と光路に対して第１下面の外側に配置された第１回収部とを有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、を備え、第１回収部の少なくとも一部に基板が対向可能であり、第２上面が面する第１空間及び第２下面が面する第２空間の少なくとも一方からの液体の少なくとも一部を第１回収部から回収し、液浸空間が形成された状態で、基板は、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動した後、第２経路を移動し、第１経路において、基板の移動は、第１軸と平行な第１方向への移動を含み、第２経路において、基板の移動は、第１軸と直交する第２軸と平行な第２方向への移動を含み、第２部材は、第１部分と、第２軸と平行な方向に関して第１部分に隣り合う第２部分とに分割可能であり、液浸空間が形成されている状態で基板が第１経路を移動している期間の少なくとも一部において、第１部分と第２部分とは離れて配置され、基板が第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、第１部分と第２部分とは接近又は接触する露光装置が提供される。

本発明の第８の態様に従えば、第５〜第７の態様のいずれか一つの露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第９の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と光路に対して第１下面の外側に配置された第１回収部とを有する第１部材に対して、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を移動することと、第２上面が面する第１空間及び第２下面が面する第２空間の少なくとも一方からの液体の少なくとも一部を第１回収部から回収することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１０の態様に従えば、第９の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第１１の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と光路に対して第１下面の外側に配置された第１回収部とを有する第１部材に対して、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を移動することと、第２上面が面する第１空間及び第２下面が面する第２空間の少なくとも一方からの液体の少なくとも一部を第１回収部から回収することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第１２の態様に従えば、第１１の態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。

本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。

第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す斜視図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための模式図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための模式図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための模式図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第２実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第３実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 第４実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第４実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第５実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第５実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための模式図である。 第５実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第６実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第７実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 基板ステージの一例を示す図である。 デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳとは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。

また、本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。

図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、基板ステージ２、及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液浸空間ＬＳを形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。

また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ、及び計測システム４を含む各種の計測システムを支持する基準フレーム８Ａと、基準フレーム８Ａを支持する装置フレーム８Ｂと、基準フレーム８Ａと装置フレーム８Ｂとの間に配置され、装置フレーム８Ｂから基準フレーム８Ａへの振動の伝達を抑制する防振装置１０とを備えている。防振装置１０は、ばね装置などを含む。本実施形態において、防振装置１０は、気体ばね（例えばエアマウント）を含む。なお、基板Ｐのアライメントマークを検出する検出システム、あるいは基板Ｐなどの物体の表面の位置を検出する検出システムが、基準フレーム８Ａに支持されてもよい。

また、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置９を備えている。空間ＣＳには、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材５、基板ステージ２、及び計測ステージ３が配置される。本実施形態においては、マスクステージ１、及び照明系ＩＬの少なくとも一部も空間ＣＳに配置される。

マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。

基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。

照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。

マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム１１が、リニアモータを含んでもよい。

投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。

投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ軸方向を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ軸方向を向いている射出面１２は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸は、Ｚ軸と平行である。本実施形態において、射出面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ軸方向に進行する。

基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。本実施形態において、ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。

本実施形態において、基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。本実施形態において、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよいし、カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。

基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ軸方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム１５が、リニアモータを含んでもよい。

計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットを含む。なお、計測システムが、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。なお、計測システム４が、干渉計システム及びエンコーダシステムのいずれか一方のみを含んでもよい。

基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。

次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。図２は、液浸部材５のＹＺ平面と平行な断面図である。図３は、液浸部材５のＸＺ平面と平行な断面図である。図４は、図２の一部を拡大した図である。図５は、液浸部材５を下側（−Ｚ軸側）から見た図である。図６は、液浸部材５の斜視図である。

液浸部材５は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能な物体と液浸部材５との間の空間の少なくとも一部を含む。

射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能な物体は、射出面１２と対向可能な物体を含み、投影領域ＰＲに配置可能な物体を含む。その物体は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体を含む。本実施形態において、その物体は、基板ステージ２の少なくとも一部（例えば、基板ステージ２のカバー部材Ｔや基板ステージ２（第１保持部））に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つを含む。基板Ｐの露光において、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。

以下の説明においては、射出面１２と対向する物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、射出面１２と対向可能な物体は、基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。また、基板ステージ２のカバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように液浸空間ＬＳが形成される場合もあるし、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように液浸空間ＬＳが形成される場合もある。

本実施形態において、液浸部材５は、終端光学素子１３（露光光の光路）の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１と、第１部材２１の下方において光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材２１に対して可動な第２部材２２と、液体ＬＱを回収可能な回収部２３とを備えている。なお、回収部２３から、気体とともに液体ＬＱを回収してもよいし、気体の回収を抑えつつ液体ＬＱを回収してもよい。
本実施形態において、露光光ＥＬの光路は、終端光学素子１３における露光光ＥＬの光路（終端光学素子１３を進行する露光光の光路）を含む。また、露光光ＥＬの光路は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋを含む。本実施形態において、第１部材２１は、終端光学素子１３（終端光学素子１３における露光光ＥＬの光路）の周囲の少なくとも一部に配置される。なお、第１部材２１は、終端光学素子１３の周囲に配置されず、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置されてもよい。第１部材２１は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部、及び射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置されてもよい。

本実施形態において、第１部材２１は、支持部材（不図示）を介して装置フレーム８Ｂに支持されている。なお、第１部材２１が支持部材（不図示）を介して基準フレーム８Ａに支持されていてもよい。

第１材２１は、第２部材２２よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に配置される。

本実施形態において、第１部材２１は、終端光学素子１３の周囲に配置される。第１部材２１は、環状の部材である。第１部材２１は、終端光学素子１３に接触しないように配置される。第１部材２１と終端光学素子１３との間に間隙が形成される。本実施形態において、第１部材２１は、射出面１２と対向しない。なお、第１部材２１の一部が、射出面１２と対向してもよい。すなわち、第１部材２１の一部が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。なお、第１部材２１は環状でなくてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲において複数配置されてもよい。

本実施形態において、第２部材２２は、光路Ｋの周囲に配置される。第２部材２２は、環状の部材である。

第１部材２１は、−Ｚ軸方向を向く下面２４を有する。第２部材２２は、＋Ｚ軸方向を向く上面２５と、−Ｚ軸方向を向く下面２６とを有する。基板Ｐ（物体）は、下面２６に対向可能である。上面２５は、下面２４と間隙を介して対向する。また、本実施形態においては、上面２５は、射出面１２と間隙を介して対向する。なお、上面２５が射出面１２と対向していなくてもよい。

本実施形態において、第１部材２１の下面２４は、液体ＬＱを回収しない。下面２４は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第１部材２１の下面２４は、第２部材２２との間で液体ＬＱを保持可能である。なお、第１部材２１の下面２４の一部が第２部材２２の上面２５と対向しなくてもよい。あるいは、第２部材２２の移動によって、第１部材２１の下面２４の一部が第２部材２２の上面２５と対向しない状態が発生してもよい。その場合、下面２４と基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能であり、下面２４と基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱ（液浸空間ＬＳ）の界面が形成されてもよい。

本実施形態において、下面２４は、ＸＹ平面と実質的に平行である。上面２５も、ＸＹ平面と実質的に平行である。下面２６も、ＸＹ平面と実質的に平行である。すなわち、下面２４と上面２５とは、実質的に平行である。上面２５と下面２６とは、実質的に平行である。

なお、下面２４が、ＸＹ平面に対して非平行でもよいし、曲面を含んでもよい。なお、上面２５が、ＸＹ平面に対して非平行でもよいし、曲面を含んでもよい。なお、下面２６が、ＸＹ平面に対して非平行でもよいし、曲面を含んでもよい。なお、下面２４と上面２５と下面２６の一つが、別の一つと非平行であってもよい。

回収部２３は、光路Ｋに対して（終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して）下面２４の外側に配置される。本実施形態において、基板Ｐ（物体）は、回収部２３の少なくとも一部に対向可能である。すなわち、回収部２３の少なくとも一部は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対して、第２部材２２（下面２６）の外側に配置される。回収部２３は、上面２５が面する第１空間ＳＰ１及び下面２６が面する第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第１空間ＳＰ１は、下面２４と上面２５との間の空間を含む。すなわち、回収部２３は、第１空間ＳＰ１から回収部２３の下面と上面２５との間の空間へ流れてきた液体ＬＱを回収可能である。第２空間ＳＰ２は、下面２６と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間を含む。回収部２３は、第２部材２２（上面２５）よりも上方に配置される。回収部２３は、第１空間ＳＰ１よりも上方に配置される。回収部２３は、第２部材２２（第１空間ＳＰ１）の上方において、液体ＬＱを回収可能である。また、回収部２３は、第１空間ＳＰ１から回収部２３と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間に流れてきた液体ＬＱを、第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱとともに回収可能である。

なお、本実施形態において、終端光学素子１３の光軸ＡＸの方向（Ｚ軸方向）に関して、第１空間ＳＰ１の大きさは、第２空間ＳＰ２の大きさと同じであるが、一方の大きさが他方の大きさより小さくてもよい。

本実施形態において、第２部材２２の少なくとも一部は、回収部２３と対向する。本実施形態においては、第２部材２２が原点に位置している場合において、第２部材２２の一部は、下面２４と対向し、第２部材２２の他の一部（周縁部）は、回収部２３と対向する。本実施形態において、第２部材２２が原点に位置している場合において、回収部２３の一部（回収部２３の外縁部）は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第２部材２２（下面２６）の外側に配置される。なお、第２部材２２は、回収部２３に対向しなくてもよい。すなわち、第２部材２２が原点に位置している場合だけでなく、第２部材２２が原点から移動したときにも、第２部材２２の上面２５が回収部２３に対向しなくてもよい。また、第２部材２２が原点に位置している場合において、第２部材２２と回収部２３とが対向しておらず、第２部材２２が原点から移動したときに、第２部材２２と回収部２３とが対向してもよい。また、第２部材２２の移動期間の少なくとも一部において、回収部２３の少なくとも一部が第２部材２２の上面２５に面してもよいし、第２部材２２の移動期間の少なくとも一部において、回収部２３が第２部材２２の上面２４に面しなくてもよい。すなわち、第２部材２２の移動期間の少なくとも一部において、回収部２３の一部が光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第２部材２２（下面２６）の外側に配置されてもよいし、回収部２３の全部が光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第２部材２２（下面２６）の外側に配置されてもよい。また、第２部材２２の移動期間の少なくとも一部において、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第２部材２２の一部が回収部２３の外側に配置されてもよい。なお、本実施形態において、第２部材２２が原点に位置している状態とは、後述の第２部材２２の開口３５（例えば、開口３５の中心）と終端光学素子１３の光軸ＡＸとが一致している状態をいう。

本実施形態において、回収部２３は、第１部材２１に配置される。なお、回収部２３が、第１部材２１及び第２部材２２とは異なる部材に配置されてもよい。

第２部材２２は、駆動装置２７によって移動可能である。駆動装置２７は、例えばモータを含み、ローレンツ力を使って第２部材２２を移動する。本実施形態において、第２部材２２の上面２５の少なくとも一部に支持部材２８が接続される。本実施形態において、支持部材２８は、光路Ｋ（終端光学素子１３）に対して＋Ｙ軸側及び−Ｙ軸側のそれぞれに配置される。駆動装置２７は、支持部材２８を移動することによって、第２部材２２を移動する。

なお、複数の支持部材２８の配置は、＋Ｙ軸側及び−Ｙ軸側に限られない。例えば、＋Ｘ軸側及び−Ｘ軸側のそれぞれに配置されてもよいし、＋Ｙ軸側、−Ｙ軸側、＋Ｘ軸側、−Ｘ軸側のそれぞれに配置されてもよい。また、１つの支持部材で第２部材２２を支持してもよい。

また、駆動装置２７は、装置フレーム８Ｂに支持されている。そのため、第２部材２２を移動するときに振動が発生したとしても、防振装置１０によって、その振動が基準フレーム８Ａに伝達されない。

本実施形態において、第１部材２１は、終端光学素子１３の側面２９と対向する内側面３０と、内側面３０の上端の周囲に配置される上面３１とを有する。終端光学素子１３の側面２９は、露光光ＥＬが射出されない、非射出面である。露光光ＥＬは、側面２９を通過せずに、射出面１２を通過する。

本実施形態において、複数の支持部材２８は、第１部材２１に設けられた複数の孔３２のそれぞれに移動可能に配置されている。本実施形態において、光路Ｋに対して、＋Ｙ軸側及び−Ｙ軸側のそれぞれに孔３２が設けられている。孔３２のそれぞれは、Ｚ軸方向に関して、第１部材２１の上側の空間（第３空間ＳＰ３を含む）と下側の空間（第２空間ＳＰ２を含む）を結ぶように第１部材２１を貫通している。本実施形態において、孔３２のそれぞれは、第１部材２１の内側面３０と下面２４とを結ぶように形成されている。また、図６に示すように、孔３２のそれぞれは、Ｘ軸方向に延びており、孔３２に配置された支持部材２８は、Ｘ軸方向に移動可能である。駆動装置２７は、内側面３０側で支持部材２８に接続されている。すなわち、本実施形態において、駆動装置２７は、第１部材２１の上側空間で支持部材２８に、直接的に、または別の部材を介して間接的に接続される。
駆動装置２７により、支持部材２８がＸ軸方向に沿って移動されることによって、第２部材２２がＸ軸方向に移動する。

なお、支持部材２８が配置される孔３２の少なくとも一つは、第１部材２１の上面３１と下面２４とを結ぶように形成されてもよい。なお、複数の駆動装置２７を備えて、一つの支持部材２８を一つの駆動装置で動かしてもよいし、複数の支持部材２８を不図示の連結部材で接続し、その連結部材を一つの駆動装置で移動してもよい。

なお、駆動装置２７は、内側面３０（上面３１）と下面２４との間において、支持部材２８に接続されてもよいし、下面２４側で支持部材２８に接続されてもよい。

また、支持部材２８を配置するために、第１部材２１に孔３２を設けなくてもよい。例えば、第１部材２１を構成する複数の部材の間隙に支持部材２８を配置してもよい。

本実施形態において、第２部材２２及び支持部材２８は、第１部材２１と接触しない。
第１部材２１と第２部材２２との間に間隙が形成され、第１部材２１と支持部材２８との間に間隙が形成される。駆動装置２７は、第２部材２２及び支持部材２８と、第１部材２１とが接触しないように、第２部材２２及び支持部材２８を移動可能である。なお、第２部材２２及び支持部材２８の少なくとも一方と第１部材２１とが接触してもよい。

液浸部材５は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する複数の供給口３３を備えている。供給口３３は、終端光学素子１３の光軸ＡＸ（光路Ｋ）に対する放射方向に関して回収部２３の内側に配置される。本実施形態において、供給口３３は、第１部材２１に配置される。供給口３３は、第２部材２２（上面２５）よりも上方に配置される。供給口３３は、第１空間ＳＰ１よりも上方に配置される。供給口３３は、第２部材２２（第１空間ＳＰ１）の上方において、液体ＬＱを供給可能である。なお、供給口３３は、第２部材２２に配置されてもよいし、第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよい。

内側面３０は、側面２９と間隙を介して対向する。供給口３３は、側面２９に対向するように配置される。供給口３３は、終端光学素子１３と第１部材２１との間の第３空間ＳＰ３に面するように配置される。供給口３３は、側面２９と内側面３０との間の第３空間ＳＰ３に液体ＬＱを供給する。本実施形態において、供給口３３は、光路Ｋ（終端光学素子１３）に対して＋Ｘ軸側及び−Ｘ軸側のそれぞれに配置される。なお、供給口３３は、光路Ｋ（終端光学素子１３）に対してＹ軸方向に配置されてもよいし、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路Ｋ（終端光学素子１３）の周囲に複数配置されてもよい。また、供給口３３が一つでもよい。なお、供給口３３の替わりに、あるいは供給口３３に加えて、液体ＬＱを供給可能な供給口を下面２４に設けてもよい。下面２４に設けられた供給口は、下面２４と上面２５との間の第１空間ＳＰ１に面するように配置される。下面２４に設けられた供給口は、第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給可能である。下面２４に設けられた供給口からの液体ＬＱの少なくとも一部は、上面２５に供給される。下面２４に設けられた供給口は、第２部材２２よりも上方で液体ＬＱを供給可能である。回収部２３は、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱを回収可能である。したがって、下面２４に設けられた供給口から供給された液体ＬＱの少なくとも一部が回収部２３から回収されてもよい。下面２４に設けられた供給口からの液体ＬＱの供給の少なくとも一部と並行して、回収部２３からの液体ＬＱの回収が行われてもよい。

第１部材２１は、射出面１２からの露光光ＥＬが通過可能な開口３４を有する。第２部材２２は、射出面１２からの露光光ＥＬが通過可能な開口３５を有する。本実施形態において、ＸＹ平面内における開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。本実施形態において、Ｘ軸方向において、開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。本実施形態において、Ｙ軸方向において、開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。本実施形態において、射出面１２の直下には、第１部材２１が配置されておらず、開口３４は、射出面１２の周囲に配置される。本実施形態において、開口３４は、射出面１２より大きい。本実施形態において、終端光学素子１３の側面２９と第１部材２１との間に形成された間隙の下端は、第２部材２２の上面２５に面している。また、第２部材２２の開口３５は、射出面１２と対向するように配置される。本実施形態において、ＸＹ平面内における開口３５の形状は、Ｘ軸方向に長い長方形状である。なお、開口３５の形状は、長方形に限定されず、Ｘ軸方向に長い楕円形であってもよいし、Ｘ軸方向に長い多角形であってもよい。

第１部材２１は、内側面３０の下端に接続され、下面２４の反対方向（＋Ｚ軸方向）を向く上面３６を有する。上面３６は、開口３４の上端の周囲に配置される。下面２４は、開口３４の下端の周囲に配置される。上面２５は、開口３５の上端の周囲に配置される。
下面２６は、開口３５の下端の周囲に配置される。

供給口３３から供給された液体ＬＱは、上面３６を流れた後、上面２５に供給される。
その上面２５に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第２部材２２に設けられた開口３５を介して基板Ｐ（物体）上に供給される。これにより、光路Ｋが液体ＬＱで満たされる。また、開口３５からの液体ＬＱの少なくとも一部は、第２空間ＳＰ２に供給される。

また、供給口３３から上面２５に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４０を介して、第１空間ＳＰ１に供給される。なお、第１空間ＳＰ１に面する供給口が配置される場合、第３空間ＳＰ３に面する供給口３３からの液体ＬＱは第１空間ＳＰ１に流入しなくてもよい。

供給口３３は、第１部材２１の内部に形成された供給流路３３Ｒを介して、液体供給装置と接続される。供給口３３は、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給装置からの液体ＬＱを供給する。

回収部２３の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）が対向するように配置される。また、回収部２３の少なくとも一部は、第２部材２２が対向するように配置される。回収部２３は、液体ＬＱを回収するための回収口３７を有する。回収口３７は、第１部材２１の内部に形成された回収流路（空間）３７Ｒを介して、液体回収装置（不図示）と接続される。
液体回収装置は、回収口３７と真空システム（不図示）とを接続可能である。回収口３７は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱの少なくとも一部は、回収口３７を介して回収流路３７Ｒに流入可能である。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、回収口３７を介して回収流路３７Ｒに流入可能である。また、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、回収口３７を介して回収流路３７Ｒに流入可能である。

本実施形態において、回収部２３は、多孔部材３８を含む。本実施形態において、回収口３７は、多孔部材３８の孔を含む。本実施形態において、多孔部材３８は、メッシュプレートを含む。多孔部材３８は、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面３９と、回収流路３７Ｒに面する上面と、下面３９と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。回収口３７（多孔部材３８の孔）から回収された基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、回収流路３７Ｒに流入する。

本実施形態において、回収部２３の下面は、多孔部材３８の下面３９を含む。下面３９は、下面２４の周囲に配置される。本実施形態において、回収部２３の下面３９は、ＸＹ平面と実質的に平行である。

本実施形態において、第２部材２２は、下面２４の全部と対向可能である。例えば図２及び図３に示すように、終端光学素子１３の光軸ＡＸと開口３５の中心とが実質的に一致している原点に第２部材２２が位置しているときに、下面２４の全部が第２部材２２の上面２５と対向し、回収部２３（下面３９）の一部が第２部材２２の上面２５と対向する。
なお、本実施形態において、第２部材２２が原点に位置しているときに、開口３４の中心と開口３５の中心も実質的に一致している。また、本実施形態においては、第２部材２２が原点に位置しているときに、光路Ｋに近い回収部２３（下面３９）の第１部分３９１が第２部材２２（上面２５）と対向し、光路Ｋに対して第１部分３９１の外側の回収部２３（下面３９）の第２部分３９２が第２部材２２（上面２５）と対向しない。すなわち、本実施形態においては、第２部材２２が原点に位置しているときに、下面３９の内縁部（第１部分３９１）が第２部材２２の上面２５と対向可能であり、下面３９の第１部分３９１の周囲の第２部分３９２は、基板Ｐ（物体）と対向可能である。

また、第２部材２２（上面２５）の少なくとも一部は、射出面１２と対向する。

また、本実施形態において、下面２４の内側のエッジと上面２５との間に、開口４０が形成される。射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の光路Ｋを含む第４空間ＳＰ４と、下面２４と上面２５との間の第１空間ＳＰ１とは、開口４０を介して結ばれる。本実施形態において、第４空間ＳＰ４は、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の空間、及び射出面１２と上面２５との間の空間を含む。開口４０は、光路Ｋに面するように配置される。

本実施形態においては、供給口３３からの液体ＬＱの供給動作と並行して、回収部２３（回収口３７）からの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。

液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間に形成される。本実施形態においては、例えば図２、図３、及び図４において、界面ＬＧは、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に形成されている。

また、本実施形態においては、第３空間ＳＰ３の少なくとも一部が、液浸空間ＬＳの液体ＬＱで満たされる。液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。

以下の説明において、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第１界面ＬＧ１、と称し、第１部材２１と終端光学素子１３との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第２界面ＬＧ２、と称する。なお、後述するように、液浸空間ＬＳが形成されている状態では、第１部材２１と第２部材２２の上面２５との間に液体ＬＱの界面が形成される場合もあるし、第２部材２２の下面２６と基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱの界面が形成される場合もある。

第２部材２２は、第１部材２１に対して移動可能である。また、第２部材２２は、終端光学素子１３に対して移動可能である。すなわち、本実施形態において、第２部材２２と第１部材２１との相対位置は、変化する。第２部材２２と終端光学素子１３との相対位置は、変化する。

第２部材２２は、Ｘ軸方向に移動可能である。第２部材２２は、ＸＹ平面と実質的に平行に移動可能である。なお、第２部材２２が、Ｘ軸方向に加えて、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能でもよい。

本実施形態において、終端光学素子１３は、実質的に移動しない。第１部材２１も、実質的に移動しない。

第２部材２２は、第１部材２１の少なくとも一部の下方で移動可能である。第２部材２２は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して移動可能である。また、本実施形態において、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成された状態で移動可能である。また、第２部材２２は、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在する状態で移動可能である。なお、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動と協調して移動可能であるし、基板Ｐ（物体）と独立して移動可能である。

なお、第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）とが対向しないときに移動してもよい。例えば、第２部材２２は、その第２部材２２の下方に物体が存在しないときに移動してもよい。なお、第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱが存在しないときに移動してもよい。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されていないときに移動してもよい。

第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて移動する。制御装置６は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して第２部材２２を移動する。制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成され続けるように、供給口３３からの液体ＬＱの供給と回収口３７からの液体ＬＱの回収とを行いながら、第２部材２２を移動する。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が小さくなるように移動可能である。また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対移動よりも小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と同期して移動してもよい。

相対移動は、相対速度、及び相対加速度の少なくとも一方を含む。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が小さくなるように移動してもよい。また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が小さくなるように移動してもよい。また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動してもよい。また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対加速度よりも小さくなるように移動してもよい。

第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動方向に移動可能である。例えば、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ軸方向（又は−Ｘ軸方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ軸方向（又は−Ｘ軸方向）に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ軸方向に移動しつつ、＋Ｙ軸方向（又は−Ｙ軸方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ軸方向に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が−Ｘ軸方向に移動しつつ、＋Ｙ軸方向（又は−Ｙ軸方向）に移動するとき、第２部材２２は−Ｘ軸方向に移動可能である。すなわち、本実施形態においては、基板Ｐ（物体）がＸ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２がＸ軸方向へ移動可能である。なお、第２部材２２がＹ軸方向へ移動可能な場合には、基板Ｐ（物体）のＹ軸方向の成分を含む移動の少なくとも一部と並行して、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。

図７は、第２部材２２が移動する状態の一例を示す図である。図７は、液浸部材５を下側（−Ｚ軸側）から見た図である。

以下の説明においては、第２部材２２はＸ軸方向に移動することとする。なお、上述のように、第２部材２２は、Ｙ軸方向に移動してもよいし、Ｘ軸方向（又はＹ軸方向）の成分を含むＸＹ平面内における任意の方向に移動してもよい。

基板Ｐ（物体）がＸ軸方向（又はＸ軸方向の成分を含むＸＹ平面内における所定方向）に移動する場合、第２部材２２は、図７（Ａ）〜図７（Ｃ）に示すように、Ｘ軸方向に移動する。

本実施形態において、第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して規定された移動可能範囲を移動可能である。図７（Ａ）は、移動可能範囲の最も−Ｘ軸側の端に第２部材２２が配置された状態を示す。図７（Ｂ）は、移動可能範囲の中央に第２部材２２が配置された状態を示す。図７（Ｃ）は、移動可能範囲の最も＋Ｘ軸側の端に第２部材２２が配置された状態を示す。

以下の説明において、図７（Ａ）に示す第２部材２２の位置を適宜、第１端部位置、と称し、図７（Ｂ）に示す第２部材２２の位置を適宜、中央位置、と称し、図７（Ｃ）に示す第２部材２２の位置を適宜、第２端部位置、と称する。なお、図７（Ｂ）の中央位置は、第２部材２２が原点に位置するときである。

本実施形態においては、射出面１２からの露光光ＥＬが開口３５を通過するように、第２部材２２の移動可能範囲の寸法に基づいて開口３５の寸法が定められる。本実施形態において、第２部材２２の移動可能範囲の寸法は、Ｘ軸方向に関する第１端部位置と第２端部位置との距離を含む。第２部材２２がＸ軸方向に移動しても、射出面１２からの露光光ＥＬが第２部材２２に照射されないように、開口３５のＸ軸方向の寸法が定められる。

図７において、Ｘ軸方向に関する開口３５の寸法Ｗ３５は、露光光ＥＬ（投影領域ＰＲ）の寸法Ｗｐｒと、第２部材２２の移動可能範囲の寸法（Ｗａ＋Ｗｂ）との和よりも大きい。寸法Ｗ３５は、第２部材２２が第１端部位置と第２端部位置との間において移動した場合でも、射出面１２からの露光光ＥＬを遮らない大きさに定めされる。これにより、第２部材２２が移動しても、射出面１２からの露光光ＥＬは、第２部材２２に遮られずに基板Ｐ（物体）に照射可能である。

また、図８に示すように、本実施形態においては、Ｘ軸方向に関して、開口３５の＋Ｘ軸側の端部と第２部材２２の−Ｘ軸側の端部との距離Ｌａは、露光光ＥＬの光路Ｋの＋Ｘ軸側の端部と露光光ＥＬの光路Ｋに対して−Ｘ軸側に配置された回収部２３（下面３９）の−Ｘ軸側の端部との距離Ｌｂよりも小さい。これにより、第２部材２２が第１端部位置に配置されても、射出面１２からの露光光ＥＬは、第２部材２２に遮られずに基板Ｐ（物体）に照射可能である。また、第２部材２２が第１端部位置に配置されても、下面３９の一部は第２部材２２と対向し、下面３９の一部は第２部材２２と対向しない。

また、図８に示すように、本実施形態においては、Ｘ軸方向に関して、開口３５の−Ｘ軸側の端部と第２部材２２の＋Ｘ軸側の端部との距離Ｌｃは、露光光ＥＬの光路Ｋの−Ｘ軸側の端部と露光光ＥＬの光路Ｋに対して＋Ｘ軸側に配置された回収部２３（下面３９）の＋Ｘ軸側の端部との距離Ｌｄよりも小さい。これにより、第２部材２２が第２端部位置に配置されても、射出面１２からの露光光ＥＬは、第２部材２２に遮られずに基板Ｐ（物体）に照射可能である。また、第２部材２２が第２端部位置に配置されても、下面３９の一部は第２部材２２と対向し、下面３９の一部は第２部材２２と対向しない。

また、寸法Ｗ３５は、Ｘ軸方向に関して、露光光ＥＬの光路Ｋの＋Ｘ軸側の端部と露光光ＥＬの光路Ｋに対して−Ｘ軸側に配置された回収部２３（下面３９）の＋Ｘ軸側の端部との距離Ｌｅよりも小さい。これにより、第２部材２２が第１端部位置に配置されても、射出面１２からの露光光ＥＬは、第２部材２２に遮られずに基板Ｐ（物体）に照射可能であるとともに、光路Ｋに対して−Ｘ軸側に配置された回収部２３（下面３９）の＋Ｘ軸側の端部は第２部材２２と対向し続ける。

また、寸法Ｗ３５は、Ｘ軸方向に関して、露光光ＥＬの光路Ｋの−Ｘ軸側の端部と露光光ＥＬの光路Ｋに対して＋Ｘ軸側に配置された回収部２３（下面３９）の−Ｘ軸側の端部との距離Ｌｆよりも小さい。これにより、第２部材２２が第２端部位置に配置されても、射出面１２からの露光光ＥＬは、第２部材２２に遮られずに基板Ｐ（物体）に照射可能であるとともに、光路Ｋに対して＋Ｘ軸側に配置された回収部２３（下面３９）の−Ｘ軸側の端部は第２部材２２と対向し続ける。

また、終端光学素子１３の光軸ＡＸと開口３５の中心とが一致している状態、すなわち、第２部材２２が原点（中央位置）に位置している状態において、Ｘ軸方向に関して、開口３５の中心と第２部材２２の外側の端部との距離をＸｐ、終端光学素子１３の光軸ＡＸと回収部２３（下面３９）の内側の端部との距離をＸｉｎ、終端光学素子１３の光軸ＡＸと回収部２３（下面３９）の外側の端部との距離をＸｏｕｔ、としたとき、下記の式（１）の関係を満たす。
Ｘｉｎ＜Ｘｐ＜Ｘｏｕｔ …式（１）

また、終端光学素子１３の光軸ＡＸと開口３５の中心とが一致している状態、すなわち、第２部材２２が原点（中央位置）に位置している状態において、Ｙ軸方向に関して、開口３５の中心と第２部材２２の外側の端部との距離をＹｐ、終端光学素子１３の光軸ＡＸと回収部２３（下面３９）の内側の端部との距離をＹｉｎ、終端光学素子１３の光軸ＡＸと回収部２３（下面３９）の外側の端部との距離をＹｏｕｔ、としたとき、下記の式（２）の関係を満たす。
Ｙｉｎ≦Ｙｐ＜Ｙｏｕｔ …式（２）

なお、回収部２３は、多孔部材３８を含んでもよいし、多孔部材３８が無くてもよい。
なお、回収部２３が、多孔部材３８を含まず、光路Ｋを囲むように配置される複数の回収口を含む場合、その回収部２３の内側の端部は、それら複数の回収口の内側エッジを結ぶ仮想線を含み、その回収部２３の外側の端部は、それら複数の回収口の外側エッジを結ぶ仮想線を含む。回収口の内側エッジは、光路Ｋに対する放射方向に関して光路Ｋに最も近いエッジである。回収口の外側エッジは、光路Ｋに対する放射方向に関して光路Ｋから最も遠いエッジである。

なお、本実施形態において、第２部材２２が原点に配置されている場合に、第1部材２１の下面２４と回収部２３（下面３９）の全部とが第２部材２２の上面２５と対向してもよい。例えば、ＸＹ平面内において、第２部材２２の外形が、回収部２３の外形よりも大きくてもよい。第２部材２２が原点に配置されている場合の第１部材２１と第２部材２２の相対的な位置関係において、＋Ｚ軸方向から見て第２部材２２の少なくとも一部が、回収部２３の外側に配置されてもよいし、第２部材２２の外形と回収部２３の外縁形状とがほぼ一致してもよい。また、第２部材２２が原点に配置されている状態において、＋Ｚ軸方向から見て第２部材２２が回収部２３の外側に配置されず、移動可能範囲における第２部材２２の移動期間の少なくとも一部において、第２部材２２の少なくとも一部が回収部２３の外側に配置されてもよい。例えば、第２部材２２が原点に配置されている状態において、＋Ｚ軸方向から見て第２部材２２が回収部２３の外側に配置されず、第２部材２２が第１端部位置及び第２端部位置の一方又は両方に配置されている状態において、第２部材２２の少なくとも一部が第１部材２１の外側に配置されてもよい。

次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

液浸部材５から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。また、基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び液浸部材５と対向するように配置される。制御装置６は、供給口３３からの液体ＬＱの供給と回収部２３（回収口３７）からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳを形成する。

露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５と、基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。終端光学素子１３及び液浸部材５と、基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、供給口３３からの液体ＬＱの供給と並行して回収口３７からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び液浸部材５と、基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳが形成される。

制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と、基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。

本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。

図９は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置されている。制御装置６は、第１保持部に保持されている基板Ｐの複数のショット領域Ｓを液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで順次露光する。

例えば基板Ｐの第１ショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板Ｐ（第１ショット領域Ｓ）を投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して第１ショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。
これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐの第１ショット領域Ｓに投影され、その第１ショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。第１ショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次の第２ショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＸ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、第２ショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、第２ショット領域Ｓの露光を開始する。

制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域を順次露光する。

以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光完了後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域の露光が開始されるまでの間に、ＸＹ平面内において基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。

スキャン移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射される。ステップ移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出されない。基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射されない。

制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓを順次露光する。なお、スキャン移動動作は、専らＹ軸方向に関する等速移動である。ステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、Ｘ軸方向に隣接する２つのショット領域間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向に関する加減速移動、及びＸ軸方向に関する加減速移動を含む。

なお、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）上に形成される場合もある。

制御装置６は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、駆動システム１５を制御して、基板Ｐ（基板ステージ２）を移動する。複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置７に記憶されている。制御装置６は、その記憶装置７に記憶されている露光条件に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓを順次露光する。基板Ｐ（物体）の移動条件は、移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及びＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。

一例として、制御装置６は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図９中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して基板Ｐの複数のショット領域Ｓを露光光ＥＬで順次露光する。

以下、上述の処理が繰り返され、複数の基板Ｐが順次露光される。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐの露光処理の少なくとも一部において移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のステップ移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。また本実施形態においては、第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。すなわち、第２部材２２の移動と並行して、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。なお、スキャン移動動作中に第２部材２２を動かさなくてもよい。すなわち、射出面１２からの露光光ＥＬの射出と並行して第２部材２２を移動しなくてもよい。第２部材２２は、例えば基板Ｐ（基板ステージ２）がステップ移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように、移動してもよい。また、第２部材２２は、基板Ｐ（基板ステージ２）がスキャン移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように、移動してもよい。

図１０は、基板Ｐを＋Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動を行いながら、ショット領域Ｓａ、ショット領域Ｓｂ、及びショット領域Ｓｃを順次露光するときの基板Ｐの移動軌跡の一例を模式的に示す図である。

図１０に示すように、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるとき、基板Ｐは、終端光学素子１３の下において、位置ｄ１からその位置ｄ１に対して＋Ｙ軸側に隣り合う位置ｄ２までの経路Ｔｐ１、位置ｄ２からその位置ｄ２に対して＋Ｘ軸側に隣り合う位置ｄ３までの経路Ｔｐ２、位置ｄ３からその位置ｄ３に対して−Ｙ軸側に隣り合う位置ｄ４までの経路Ｔｐ３、位置ｄ４からその位置ｄ４に対して＋Ｘ軸側に隣り合う位置ｄ５までの経路Ｔｐ４、及び位置ｄ５からその位置ｄ５に対して＋Ｙ軸側に隣り合う位置ｄ６までの経路Ｔｐ５を順次移動する。位置ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５、ｄ６は、ＸＹ平面内における位置である。

経路Ｔｐ１の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ３の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ５の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線を含む。経路Ｔｐ２は、位置ｄ２．５を経由する曲線を含む。経路Ｔｐ４は、位置ｄ４．５を経由する曲線を含む。位置ｄ１は、経路Ｔｐ１の始点を含み、位置ｄ２は、経路Ｔｐ１の終点を含む。位置ｄ２は、経路Ｔｐ２の始点を含み、位置ｄ３は、経路Ｔｐ２の終点を含む。位置ｄ３は、経路Ｔｐ３の始点を含み、位置ｄ４は、経路Ｔｐ３の終点を含む。位置ｄ４は、経路Ｔｐ４の始点を含み、位置ｄ５は、経路Ｔｐ４の終点を含む。位置ｄ５は、経路Ｔｐ５の始点を含み、位置ｄ６は、経路Ｔｐ５の終点を含む。経路Ｔｐ１は、基板Ｐが＋Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ３は、基板Ｐが−Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ５は、基板Ｐが＋Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４は、基板Ｐが＋Ｘ軸方向を主成分とする方向に移動する経路である。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓａに露光光ＥＬが照射される。基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する動作は、スキャン移動動作を含む。また、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｂに露光光ＥＬが照射される。
基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する動作は、スキャン移動動作を含む。また、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｃに露光光ＥＬが照射される。基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動する動作は、スキャン移動動作を含む。また、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する動作、及び経路Ｔｐ４を移動する動作は、ステップ移動動作を含む。基板Ｐが経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４を移動するとき、露光光ＥＬは照射されない。

図１１は、第２部材２２の動作の一例を示す模式図である。図１１は、第２部材２２を上面２５側から見た図である。基板Ｐが、図１０における位置ｄ１にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１１（Ａ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ２にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１１（Ｂ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ軸方向）とは逆の−Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐが位置ｄ２．５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１１（Ｃ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ３にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１１（Ｄ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステッピング動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ軸方向）と同じ＋Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐが位置ｄ４にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１１（Ｅ）に示す位置に配置される。
すなわち、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ軸方向）とは逆の−Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐが位置ｄ４．５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１１（Ｆ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１１（Ｇ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステッピング動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ軸方向）と同じ＋Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐが位置ｄ６にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１１（Ｈ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ軸方向）とは逆の−Ｘ軸方向に移動する。

本実施形態において、図１１（Ａ）、図１１（Ｄ）、図１１（Ｇ）に示す第２部材２２の位置は、第２端部位置を含む。図１１（Ｂ）、図１１（Ｅ）、図１１（Ｈ）に示す第２部材２２の位置は、第１端部位置を含む。図１１（Ｃ）、図１１（Ｆ）に示す第２部材２２の位置は、中央位置を含む。

以下の説明においては、図１１（Ａ）、図１１（Ｄ）、図１１（Ｇ）に示す第２部材２２の位置が、第２端部位置であることとし、図１１（Ｂ）、図１１（Ｅ）、図１１（Ｈ）に示す第２部材２２の位置が、第１端部位置であることとし、図１１（Ｃ）、図１１（Ｆ）に示す第２部材２２の位置が、中央位置であることとする。

なお、基板Ｐが図１０の位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が中央位置に配置されてもよいし、第２端部位置と中央位置との間に配置されてもよい。また、基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が中央位置に配置されてもよいし、第１端部位置と中央位置との間に配置されてもよい。また、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２は中央位置とは異なる位置に配置されてもよい。すなわち、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が第１端部位置と中央位置との間、あるいは第２端部位置と中央位置との間に配置されてもよい。

基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、第２部材２２は、図１１（Ａ）に示す状態から図１１（Ｂ）に示す状態に変化するように、−Ｘ軸方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動するとき、第２部材２２は、図１１（Ｂ）に示す状態から図１１（Ｃ）に示す状態を経て図１１（Ｄ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ軸方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第１端部位置から中央位置を経て第２端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、第２部材２２は、図１１（Ｄ）に示す状態から図１１（Ｅ）に示す状態に変化するように、−Ｘ軸方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動するとき、第２部材２２は、図１１（Ｅ）に示す状態から図１１（Ｆ）に示す状態を経て図１１（Ｇ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ軸方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第１端部位置から中央位置を経て第２端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、第２部材２２は、図１１（Ｇ）に示す状態から図１１（Ｈ）に示す状態に変化するように、−Ｘ軸方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。

すなわち、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２に沿って移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐとの相対移動が小さくなるように、＋Ｘ軸方向に移動する。換言すれば、第２部材２２は、基板Ｐが＋Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動動作する期間の少なくとも一部に、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、＋Ｘ軸方向に移動する。同様に、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ４に沿って移動する期間の少なくとも一部において、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、＋Ｘ軸方向に移動する。

また、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ３に沿って移動する期間の少なくとも一部において、−Ｘ軸方向に移動する。これにより、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動後、経路Ｔｐ４の移動において、第２部材２２が＋Ｘ軸方向に移動しても露光光ＥＬは開口３５を通過可能である。基板Ｐが経路Ｔｐ１、Ｔｐ５を移動する場合も同様である。

すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作と＋Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合、ステップ移動動作中に、基板Ｐとの相対速度が小さくなるように第２部材２２が第１端部位置から第２端部位置へ＋Ｘ軸方向に移動し、スキャン移動動作中に、次のステップ移動動作において第２部材２２が再度＋Ｘ軸方向に移動できるように、第２部材２２が第２端部位置から第１端部位置へ戻る。すなわち、基板Ｐが経スキャン移動動作する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が−Ｘ軸方向に移動するので、開口３５の寸法を必要最小限に抑えることができる。

また、実施形態においては、第２部材２２が第１端部位置（第２端部位置）に配置されても、回収部２３（下面３９）の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）と対向し続ける。換言すれば、第２部材２２が第１端部位置（第２端部位置）に配置された状態において、回収部２３（下面３９）の一部は第２部材２２と対向し、回収部２３（下面３９）の一部は第２部材２２と対向しない。これにより、例えばステップ移動動作において、回収部２３は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収することができる。

なお、本実施形態において、基板Ｐが＋Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動動作を開始する前に、第２部材２２が第１端部位置から第２端部位置への移動を開始する。すなわち、基板Ｐが経路Ｔｐ２（Ｔｐ４）の移動を開始する前に、第２部材２２の＋Ｘ軸方向への移動を開始する。なお、基板Ｐが＋Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動動作の開始と同時に、第２部材２２が第１端部位置から第２端部位置への移動を開始してもよい。換言すれば、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２（Ｔｐ４）の移動を開始するときと同時に、＋Ｘ軸方向への移動を開始してもよい。あるいは、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２（Ｔｐ４）の移動を開始した後に、＋Ｘ軸方向への移動を開始してもよい。

また、本実施形態においては、基板Ｐのスキャン移動動作の開始と同時に、第２部材２２が第２端部位置から第１端部位置への移動を開始する。換言すれば、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ１（Ｔｐ３、Ｔｐ５）の移動を開始するときと同時に、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ軸方向）とは逆向きの−Ｘ軸方向への移動を開始する。なお、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ１（Ｔｐ３、Ｔｐ５）の移動を開始した後に、−Ｘ軸方向への移動を開始してもよい。あるいは、第２部材２２は、基板ＰがＴｐ１（Ｔｐ３、Ｔｐ５）の移動を開始する前に、−Ｘ軸方向への移動を開始してもよい。

図１２は、本実施形態における、Ｘ軸方向に関する基板Ｐ（基板ステージ２）の速度及び第２部材２２の速度と、時間との関係の一例を示す図である。図１２に示すグラフにおいて、横軸は時間、縦軸は速度である。図１２において、ラインＬＰは、基板Ｐ（基板ステージ２）の速度を示し、ラインＬ２２は、第２部材２２の速度を示す。

図１２において、期間Ｔ１、Ｔ３，Ｔ５は、スキャン移動動作が行われている期間である。すなわち、期間Ｔ１は、図１０において、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２への移動期間に対応する。期間Ｔ３は、図１０において、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４への移動期間に対応する。期間Ｔ５は、図１０において、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６への移動期間に対応する。また、期間Ｔ２、Ｔ４は、ステップ移動動作が行われている期間である。
すなわち、期間Ｔ２は、図１０において、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３への移動期間に対応する。期間Ｔ４は、図１０において、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５への移動期間に対応する。図１２中、部分Ｂ２、Ｂ４に示すように、本実施形態においては、基板Ｐが経路Ｔｐ２、Ｔｐ４の移動を開始する前に（基板Ｐが＋Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動動作を開始する前に）、第２部材２２が＋Ｘ軸方向への移動を開始する。

図１３は、基板Ｐが経路Ｔｐ２（Ｔｐ４）の移動を開始する前に、第２部材２２が＋Ｘ軸方向への移動を開始する状態の一例を示す。図１３（Ａ）は、第２部材２２が移動を開始する前の状態の一例を示し、図１３（Ｂ）は、第２部材２２が移動を開始した直後の状態の一例を示す。すなわち、図１３（Ａ）は、スキャン移動動作における状態の一例を示す。

図１３（Ａ）において、液体ＬＱの第１界面ＬＧ１は、第１部材２１（多孔部材３８）と基板Ｐ（物体）との間に形成される。回収部２３は、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱ及び第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱを回収可能である。すなわち、本実施形態においては、スキャン移動動作の少なくとも一部において、回収部２３は、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱ及び第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱを回収可能である。なお、図１３（Ａ）においては、回収部２３の一部と第２部材２２とが対向し、回収部２３の一部が光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第２部材２２（下面２６）の外側に配置されているが、回収部２３の全部が光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第２部材２２（下面２６）の外側に配置されてもよい。すなわち、スキャン移動動作の少なくとも一部において、回収部２３が第２部材２２の上面２３に面しないように配置されてもよい。
また、スキャン移動動作の少なくとも一部において、回収部２３は、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱに接触しない可能性がある。例えば、図１３（Ａ）において、第２部材２２が−Ｘ軸方向に移動しているときに、液体ＬＱの界面が第１部材２１の下面２４と第２部材２２の上面２５との間に形成される可能性がある。この場合、回収部２３からは、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱが回収されず、専ら第２空間ＰＳ２からの液体ＬＱが回収される。

図１３（Ｂ）に示すように、基板Ｐが経路Ｔｐ２（Ｔｐ４）における移動を開始する前に、第２部材２２が＋Ｘ軸方向への移動を開始することによって、第１部材２１と第２部材２２との間に液体ＬＱの界面ＬＧ１ａが形成され、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱの界面ＬＧ１ｂが形成される。これにより、基板Ｐが＋Ｘ軸方向へ移動しても、液体ＬＱの流出が抑制される。図１３（Ｂ）に示す状態においては、専ら第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱが回収部２３から回収され、第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱが回収部２３から回収されることが抑制される。なお、図１３（Ｂ）においては、回収部２３の一部と第２部材２２とが対向し、回収部２３の一部が光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第２部材２２（下面２６）の外側に配置されている。すなわち図１３（Ｂ）の状態においては、回収部２３の一部が第２部材２２の上面２５に面している。なお、基板Ｐが経路Ｔｐ２（Ｔｐ４）における移動を開始する前に、回収部２３の全部が第２部材２２の上面２５に面していてもよい。

また、図１２に示すように、本実施形態においては、ステップ移動動作におけるＸ軸方向に関する第２部材２２の速度が、基板Ｐ（基板ステージ２）の速度よりも低い。なお、第２部材２２の速度が、基板Ｐ（基板ステージ２）の速度と等しくてもよいし、基板Ｐ（基板ステージ２）の速度よりも高くてもよい。すなわち、基板Ｐ（基板ステージ２）は、第２部材２２よりも高速で移動してもよいし、低速で移動してもよいし、同じ速度で移動してもよい。

また、図１２に示すように、本実施形態においては、ステップ移動動作におけるＸ軸方向に関する第２部材２２の加速度が、基板Ｐ（基板ステージ２）の加速度よりも低い。なお、第２部材２２の加速度が、基板Ｐ（基板ステージ２）の加速度と等しくてもよいし、基板Ｐ（基板ステージ２）の加速度よりも高くてもよい。

また、本実施形態においては、ステップ移動動作期間中におけるＸ軸方向に関する第２部材２２の移動距離は、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動距離よりも短い。例えば、ステップ移動動作における第２部材２２の移動距離は、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動距離の４５〜６５％でもよい。例えば、第２部材２２の移動距離は、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動距離の４５％、５０％、５５％、６０％、６５％のいずれかでもよい。本実施形態において、ステップ移動動作における第２部材２２の移動距離は、第１端部位置と第２端部位置との距離である。また、本実施形態において、ステップ移動動作期間中におけるＸ軸方向に関する第２部材２２の移動距離は、あるショット領域Ｓの中心とそのショット領域Ｓに対してＸ軸方向に関して隣り合うショット領域Ｓの中心との距離（距離Ａ）よりも短い。例えば、ステップ移動動作における第２部材２２の移動距離は、距離Ａの４５〜６５％としてもよい。例えば、ステップ移動動作における第２部材２２の移動距離は、距離Ａの４５％、５０％、５５％、６０％、６５％のいずれかでもよい。また、ステップ移動動作期間中におけるＸ軸方向に関する第２部材２２の移動距離は、Ｘ軸方向に関する１つのショット領域Ｓの寸法（寸法Ｂ）よりも短い。例えば、ステップ移動動作における第２部材２２の移動距離を、寸法Ｂの４５〜６５％としてもよい。例えば、ステップ移動動作における第２部材２２の移動距離を、寸法Ｂの４５％、５０％、５５％、６０％、６５％のいずれかでもよい。例えば、Ｘ軸方向に関するショット領域Ｓの寸法（寸法Ｂ）が２６ｍｍである場合、第２部材２２の移動距離は、約１４ｍｍでもよい。

第２部材２２の移動距離は、例えば基板Ｐの表面条件に基づいて定めてもよい。基板Ｐの表面条件は、基板Ｐの表面を形成する感光膜の表面における液体ＬＱの接触角（後退接触角など）を含む。また、基板Ｐの表面条件は、基板Ｐの表面を形成する保護膜（トップコート膜）の表面における液体ＬＱの接触角（後退接触角など）を含む。なお、基板Ｐの表面が、例えば反射防止膜で形成されてもよい。なお、第２部材２２の移動距離は、ステップ移動動作において液体ＬＱの流出（残留）が抑制されるように、予備実験あるいはシミュレーションによって求めてもよい。

なお、第２部材２２の移動距離が、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動距離と等しくてもよいし、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動距離よりも長くてもよい。

なお、本実施形態において、開口３５の−Ｘ軸側の端部と第２部材２２の−Ｘ軸側の端部との距離Ｗｆｘ（図７参照）は、ステップ移動動作におけるＸ軸方向に関する第２部材２２の移動距離以上である。なお、本実施形態において、開口３５の−Ｘ軸側の端部と第２部材２２の−Ｘ軸側の端部との距離Ｗｆｘは、開口３５の＋Ｘ軸側の端部と第２部材２２の＋Ｘ軸側の端部との距離と等しい。なお、距離Ｗｆｘがステップ移動動作におけるＸ軸方向に関する第２部材２２の移動距離より小さくてもよい。また、本実施形態においては、上記（１）式の条件を満すように、距離Ｗｆｘが定められる。

なお、本実施形態において、開口３５の−Ｙ軸側の端部と第２部材２２の−Ｙ軸側の端部との距離Ｗｆｙ（図７参照）は、Ｙ軸方向に関する１つのショット領域Ｓの寸法以上である。例えば、Ｙ軸方向に関するショット領域Ｓの寸法が３３ｍｍである場合、距離Ｗｆｙは、３３ｍｍ以上である。なお、本実施形態において、開口３５の−Ｙ軸側の端部と第２部材２２の−Ｙ軸側の端部との距離Ｗｆｙは、開口３５の＋Ｙ軸側の端部と第２部材２２の＋Ｙ軸側の端部との距離と等しい。また、本実施形態においては、上記（２）式の条件を満たすように、距離Ｗｆｙが定められる。

なお、Ｙ軸方向に関して、開口３５の中心と第２部材２２の外側の端部との距離Ｙｐが、Ｙ軸方向に関する１つのショット領域Ｓの寸法以上でもよい。

以上説明したように、本実施形態によれば、第１部材２１の下方において移動可能な第２部材２２を設けたので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ等の物体がＸＹ平面内において移動しても、例えば液体ＬＱが液浸部材５と物体との間の空間から流出したり、物体上に液体ＬＱが残留したりすることが抑制される。また、液浸空間ＬＳの液体ＬＱに気泡（気体部分）が発生することも抑制される。

また、基板Ｐ（物体）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように第２部材２２を移動することにより、液浸空間ＬＳが形成されている状態で物体が高速度で移動しても、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりすることが抑制される。

したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生を抑制することができる。

また、本実施形態においては、第１部材２１は終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置されているので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で物体が移動したり、第２部材２２が移動したりした場合においても、終端光学素子１３と第１部材２１との間において圧力が変動したり、液体ＬＱの第１界面ＬＧ１の形状が大きく変動したりすることが抑制される。したがって、例えば液体ＬＱに気泡が発生したり、終端光学素子１３に過剰な力が作用したりすることが抑制される。また、本実施形態においては、第１部材２１は実質的に移動しないため、終端光学素子１３と第１部材２１との間において圧力が大きく変動したり、液体ＬＱの第２界面ＬＧ２の形状が大きく変動したりすることが抑制される。

なお、第１部材２１は移動可能であってもよい。なお、第１部材２１は、終端光学素子１３に対して移動可能であってもよい。第１部材２１は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向のうちの少なくとも一つの方向に移動可能であってもよい。例えば、終端光学素子１３と第１部材２１との位置関係を調整したり、第１部材２１と第２部材２２との位置関係を調整したりするために、第１部材２１は移動可能であってもよい。
また、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、第１部材２１は移動可能であってもよい。例えば、第１部材２１は、ＸＹ平面内において第２部材２２よりも短い距離だけ移動可能であってもよい。また、第１部材２１は、第２部材２２よりも低速度で移動可能であってもよい。また、第１部材２１は、第２部材２２よりも低加速度で移動可能であってもよい。

なお、本実施形態において、第２部材２２の移動条件に基づいて、供給口３３からの液体供給量が調整されてもよい。また、第２部材２２の位置に基づいて供給口３３からの液体供給量が調整されてもよい。例えば、第２部材２２が第１端部位置及び第２端部位置の少なくとも一方に配置されるときの供給口３３からの液体供給量が、第２部材２２が中央位置に配置されるときの供給口３３からの液体供給量よりも多くなるように調整されてもよい。また、第２部材２２が第２端部位置から第１端部位置へ移動するとき、光路Ｋに対して＋Ｘ軸側に配置されている供給口３３からの液体供給量を、−Ｘ軸側に配置されている供給口３３からの液体供給量よりも多くしてもよい。また、第２部材２２が第１端部位置から第２端部位置へ移動するとき、光路Ｋに対して−Ｘ軸側に配置されている供給口３３からの液体供給量を、＋Ｘ軸側に配置されている供給口３３からの液体供給量よりも多くしてもよい。こうすることにより、液体ＬＱに気泡が発生することが抑制される。

なお、本実施形態において、第１部材２１は、第１部材２１の内側面３０と下面２４とを結ぶように形成された孔３２を有する。そのため、図１４に示すように、終端光学素子１３の側面２９と第１部材２１の内側面３０との間の液体ＬＱの少なくとも一部を、孔３２を介して、第２部材２２の上面２５に流してもよい。すなわち、第３空間ＳＰ３の液体ＬＱが、孔３２を介して第２空間ＳＰ２に流れるようにしてもよい。これにより、側面２９と内側面３０との間の第３空間ＳＰ３の液体ＬＱが、上面３１等に流出（溢れる）ことが抑制される。もちろん、内側面３０の形状などを工夫して、第３空間ＳＰ２の液体ＬＱが第２空間ＳＰ３に流れないようにしてもよい。

また、第１部材２１に、孔３２とは異なる流路を設けて、その流路を介して第３空間ＳＰ３の液体ＬＱを第２部材２２の上面２５に流してもよい。

なお、本実施形態においては、基板Ｐのステップ移動動作に起因する液体ＬＱの残留を抑えるために、基板Ｐのステップ移動動作に、第２部材２２をステップ方向（Ｘ軸方向）に移動するようにしている。しかし、基板Ｐのスキャン移動動作に起因する液体ＬＱの残留を抑えるために、基板Ｐのスキャン移動動作に、第２部材２２をスキャン方向（Ｙ軸方向）に移動するようにしてもよい。

＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１５は、本実施形態に係る液浸部材５Ｂの一例を示す図である。第１実施形態においては、下面２４と回収部２３（多孔部材３８）の下面３９とが同一面内に設けられているが、下面２４と下面３９とが角度を持っていてもよい。例えば、図１５に示すように、回収部２３（多孔部材３８）の下面３９の少なくとも一部が、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。図１５のように、下面３９を傾斜させることによって、例えば基板Ｐ（物体）がＸＹ平面内において移動しても、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間から液体ＬＱが流出することが抑制される。

なお、下面２４と下面３９が、ＸＹ平面とほぼ平行に設けられている場合に、下面２４と下面３９の高さ（Ｚ軸方向に位置）が異なっていてもよい。

＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

本実施形態の露光装置ＥＸは、図１６に示すように、第１部材２１の周囲の少なくとも一部に配置され、下面２４（下面３９）側から流出する液体ＬＱを回収するための少なくとも一つの回収部材４１を備えている。回収部材４１は、基板Ｐ（物体）が対向可能な多孔部材４２と、多孔部材４２との間において空間（回収流路）４３を形成する支持部材４４とを備えている。支持部材４４は、多孔部材４２を支持する。回収流路４３は、真空システムを含む液体回収装置（不図示）に接続される。液体回収装置の作動により、多孔部材４２の下面に接触した基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、多孔部材４２の孔を介して、回収流路４３に流入し、液体回収装置に回収される。多孔部材４２の孔は、回収部材４１の回収口として機能する。

回収部材４１は、第１部材２１を囲む環状の部材でもよい。図１６は、第１部材２１に対して−Ｙ軸側に配置された回収部材４１を示す。

本実施形態において、回収部材４１は、駆動システム４５によって移動される。回収部材４１は、基板Ｐ（物体）の上方に配置される。駆動システム４５は、基板Ｐ（物体）の上方において、回収部材４１を移動する。駆動システム４５は、回収部材４１と基板Ｐ（物体）とが接触しないように、回収部材４１を移動する。また、駆動システム４５は、回収部材４１と第１部材２１及び第２部材２２とが接触しないように、回収部材４１を移動する。

駆動システム４５は、回収部材４１を上下方向（Ｚ軸方向）に移動可能である。すなわち、駆動システム４５は、回収部材４１と基板Ｐ（物体）とが接近するように、回収部材４１を移動することができる。また、駆動システム４５は、回収部材４１と基板Ｐ（物体）とが離れるように、回収部材４１を移動することができる。なお、駆動システム４５は、回収部材４１を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動してもよい。

駆動システム４５は、基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて、回収部材４１を上下方向に移動する。

図１６（Ａ）に示すように、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板Ｐ（物体）が例えば−Ｙ軸方向に移動する場合、駆動システム４５は、回収部材４１（多孔部材４２）と基板Ｐ（物体）とが接近するように、回収部材４１を−Ｚ軸方向に移動する。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）が−Ｙ軸方向に移動すると、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが第１部材２１の−Ｙ軸側に流出する可能性がある。第１部材２１の−Ｙ軸側において基板Ｐ（物体）に接近するように回収部材４１を移動することにより、その流出した液体ＬＱは、回収部材４１で回収することができる。

また、図１６（Ｂ）に示すように、回収部材４１を使用しないとき、駆動システム４５は、基板Ｐ（物体）から離れるように回収部材４１を移動することができる。なお、回収部材４１を使用しないときとは、例えば液体ＬＱが流出しない（液体ＬＱの流出が抑制される）移動条件で基板Ｐ（物体）が移動する場合を含む。

なお、回収部材４１が液体回収装置に接続されてなくてもよい。

また、第３実施形態は、第２実施形態の液浸部材５Ｂを備える露光装置ＥＸにも適用できる。

なお、上述の各実施形態において、回収部２３とは別に、回収部２３よりも内側（光路Ｋ）側に、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な液体回収部が設けられてもよい。

＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１７は、本実施形態に係る液浸部材５Ｄの一例を示す図である。本実施形態において、液浸部材５Ｄは、第２部材１２２を有する。第２部材１２２は、露光光ＥＬが通過する開口１３５と、基板Ｐ（物体）が対向する下面１２６を有する。また、第２部材１２２は、下面１２６に配置され、液体ＬＱを回収可能な回収部４６を有する。回収部４６は、下面１２６に配置され、真空システムに接続可能な回収口４７を含む。

本実施形態において、第２部材１２２の回収部４６の液体回収力は、第１部材２１の回収部２３の液体回収力よりも小さい。回収部４６は、光路Ｋに気体部分が生成されないように、回収部２３の液体回収力よりも小さい液体回収力で液体ＬＱを回収する。なお、液体回収力とは、単位時間当たりの液体回収量を含む。

本実施形態において、回収部４６は、Ｘ軸方向に関して露光光ＥＬの光路Ｋの両側に配置されている。回収部４６は、光路Ｋに対して＋Ｘ軸側に配置されている回収部４６Ａと、−Ｘ軸側に配置されている回収部４６Ｂとを含む。本実施形態において、回収部４６Ａは、光路Ｋに対して＋Ｘ軸側において、Ｙ軸方向に配置された７つの回収口４７を含む。
回収部４６Ｂは、光路Ｋに対して−Ｘ軸側において、Ｙ軸方向に配置された７つの回収口４７を含む。なお、回収口４７の数は、７つに限られず、任意の複数でよい。また、回収部（４６Ａ、４６Ｂ）に沿ってスリット状の回収口を設けてもよい。

本実施形態において、制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動条件に基づいて、回収部４６の回収動作を制御する。制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一方と同期して、回収部４６の回収動作を実行する。

本実施形態において、回収部４６は、ショット領域Ｓに露光光ＥＬが照射されるスキャン移動動作期間の少なくとも一部において、第２部材１２２と基板Ｐとの間の液体ＬＱを回収する。また、回収部４６は、そのショット領域Ｓの露光終了位置から次のショット領域Ｓの露光開始位置まで基板Ｐが移動するステップ移動動作が行われるときに液体ＬＱを回収しない。

本実施形態において、複数の回収口４７のそれぞれに開閉機構を配置されてもよい。制御装置６は、回収部４６で液体ＬＱを回収するとき、回収口４７を開ける。また、制御装置６は、回収部４６で液体ＬＱを回収しないとき、回収口４７を閉じる。なお、回収口４７と真空システムとの間の流路の開閉によって、回収口４７の吸引動作を制御してもよい。

スキャン移動動作において、回収部４６から第２部材１２２と基板Ｐとの間の液体ＬＱが回収されることにより、第２部材１２２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳが拡大することが抑制される。すなわち、スキャン移動動作において回収部４６から液体ＬＱが回収されることにより、Ｘ軸方向において、第２部材１２２と基板Ｐとの間の液体ＬＱの界面を、最終光学部材１３の光軸に近づけた状態で、スキャン移動動作の後のＸ軸方向へのステップ移動動作を開始することができる。したがって、基板Ｐのステップ移動動作中の基板ＰのＸ軸方向への移動によって、液体ＬＱが、第１部材２１と基板Ｐとの間の空間の外側へ引き出されることが抑制できる。

また、ステップ移動動作において回収部４６から液体ＬＱを回収しないことにより、ステップ移動動作中に、第２部材１２２の下面１２６と基板Ｐ（物体）の上面との間の液体ＬＱが、第２部材１２２の下面１２６から離れて、基板Ｐ上で薄膜になることが抑制される。したがって、基板Ｐ上に液体ＬＱが残留することが抑制される。

なお、ステップ移動動作中に、回収部４６Ａの回収口４７からの液体回収、および回収部４６Ｂの回収口４７からの液体回収の両方を停止しなくてもよい。例えば、基板Ｐが＋Ｘ軸方向に移動するステップ移動動作中には、回収部４６Ｂの回収口４７からの液体吸引は停止せずに、回収部４６Ａの回収口４７からの液体吸引を停止してもよい。また、基板Ｐが−Ｘ軸方向に移動するステップ移動動作中には、回収部４６Ａの回収口４７からの液体吸引を停止せずに、回収部４６Ｂの回収口４７からの液体吸引を停止してもよい。

なお、ステップ移動動作中に、回収部４６（４６Ａ、４６Ｂ）の回収口４７からの液体回収を停止しなくてもよい。例えば、ステップ移動動作中の回収部４６（４６Ａ、４６Ｂ）の回収口４７の吸引力を、スキャン移動動作中の回収部４６（４６Ａ、４６Ｂ）の回収口４７の吸引力よりも弱くしてもよい。また、ステップ動作移動中に、回収部４６Ａと回収部４６Ｂのいずれか一方の回収口４７の吸引力を弱くしてもよい。例えば、基板Ｐが＋Ｘ軸方向に移動するステップ移動動作中は、回収部４６Ａの回収口４７の吸引力を弱くし、基板Ｐが−Ｘ軸方向に移動するステップ移動動作中は、回収部４６Ｂの回収口４７の吸引力を弱くしてもよい。

なお、図１７に示す例では、回収部４６Ａ（４６Ｂ）の複数の回収口４７を結ぶ線は、曲線である。図１８に示すように、回収部４６Ａ（４６Ｂ）の複数の回収口４７を結ぶ線が、Ｙ軸と平行な直線でもよい。

また、本実施形態において、第２部材１２２は、上述の各実施形態と同様に、基板Ｐの移動の少なくとも一部と並行して移動してもよいが、移動しなくてもよい。この場合、駆動機構２７などを省略できる。

＜第５実施形態＞
第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１９は、本実施形態に係る液浸部材５Ｅの一例を示す図である。本実施形態において、液浸部材５Ｅは、回収部２３を有する第１部材２１と、少なくとも一部が第１部材２１に対して移動可能な第２部材２２０とを有する。

本実施形態において、第２部材２２０は、射出面１２からの露光光ＥＬが通過可能な開口２３５を有する第１部分２２１と、第１部分２２１の＋Ｘ軸側に配置され、第１部分２２１に対して移動可能な第２部分２２２と、第１部分２２１の−Ｘ軸側に配置され、第１部分２２１に対して移動可能な第３部分２２３とを有する。

本実施形態において、第１部分２２１は、実質的に移動しない。第２部分２２２は、第１部分２２１の＋Ｘ軸側の空間において、Ｘ軸方向に移動可能である。第３部分２２３は、第１部分２２１の−Ｘ軸側の空間において、Ｘ軸方向に移動可能である。

第２部分２２２の上面は、第１部材２１の回収部２３と対向可能である。第２部分２２２は、回収部２３が対向する状態でＸ軸方向に移動可能である。第３部分２２３は、回収部２３と対向可能である。第３部分２２３は、回収部２３が対向する状態でＸ軸方向に移動可能である。

例えば図１９（Ｂ）に示すように、第１部分２２１の＋Ｘ軸側のエッジと、その第１部分２２１の＋Ｘ軸側のエッジに対向する第２部分２２２の−Ｘ軸側のエッジとは、接近又は接触可能である。また、図１９（Ｂ）に示すように、第１部分２２１の−Ｘ軸側のエッジと、その第１部分２２１の−Ｘ軸側のエッジに対向する第３部分２２３の＋Ｘ軸側のエッジとは、接近又は接触可能である。

また、図１９（Ａ）に示すように、第２部分２２２は、第１部分２２１から＋Ｘ軸方向に離れることができる。第１部分２２１と第２部分２２２とが離れた状態において、第１部分２２１と第２部分２２２との間のギャップＧａの上方には、第１部材２１の回収部２３が配置されている。ギャップＧａの上方の回収部２３は、基板Ｐ（物体）と対向可能である。また、第１部分２２１と第２部分２２２とが離れた状態において、第１部材２１の回収部２３は、第１部分２２１と第２部分２２２との間のギャップＧａを介して、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収可能である。

また、図１９（Ｃ）に示すように、第３部分２２３は、第１部分２２１から−Ｘ軸方向に離れることができる。第１部分２２１と第３部分２２３とが離れた状態において、第１部分２２１と第３部分２２３との間のギャップＧｂの上方には回収部２３が配置されている。ギャップＧｂの上方の回収部２３は、基板Ｐ（物体）と対向可能である。また、第１部分２２１と第３部分２２３とが離れた状態において、第１部材２１の回収部２３は、第１部分２２１と第３部分２２３との間のギャップＧｂを介して、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収可能である。

本実施形態の第２部材２２０の動きについて図１０を参照して説明する。本実施形態においては、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２０は、図１９（Ａ）に示す状態となる。基板Ｐが経路Ｔｐ２の移動を開始するとき、第２部材２２０は、図１９（Ａ）に示す状態から図１９（Ｂ）に示す状態に変化する。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動するとき、第２部材２２０は、図１９（Ｂ）に示す状態となる。基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２０は、図１９（Ａ）に示す状態となる。基板Ｐが経路Ｔｐ４の移動を開始するとき、第２部材２２０は、図１９（Ａ）に示す状態から図１９（Ｂ）に示す状態に変化する。基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動するとき、第２部材２２０は、図１９（Ｂ）に示す状態となる。基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２０は、図１９（Ａ）に示す状態となる。

すなわち、スキャン移動動作の期間においては、第２部材２２０は図１９（Ａ）の状態となり、基板Ｐが＋Ｘ軸方向に移動するステップ移動動作期間においては、図１９（Ｂ）の状態となる。

上述したように、例えば図１９（Ａ）に示す状態においては、第１部材２１の回収部２３が、基板Ｐと対向し、基板Ｐ上の液体ＬＱがギャップＧａを介して回収される。したがって、液体ＬＱは第２部分２２２の下面側に実質的に存在せず、第２部材２２０と基板Ｐとの間の液体ＬＱの界面ＬＧ１ｂは、第１部分２２１の＋Ｘ軸側のエッジ２２１Ｅａの近傍に位置する。また、図１９（Ａ）に示す状態から図１９（Ｂ）に示す状態に変化した直後においても、第２部材２２０と基板Ｐとの間の液体ＬＱの界面ＬＧ１ｂは、第１部分２２１の＋Ｘ軸側のエッジ２２１Ｅａの近傍に位置する。

そのため、例えば図２０に示すように、第１部分２２１と第２部分２２２とが接近又は接触し、基板Ｐの＋Ｘ軸方向へのステップ移動動作が開始されるときには、第１部分２２１のエッジ２２１Ｅａの近傍に液体ＬＱの界面ＬＧ１ｂが形成され、第２部分２２２の下面側に液体ＬＱが実質的に存在しない。すなわち、Ｘ軸方向に関して、液体ＬＱの界面ＬＧ１ｂを、終端光学素子１３の光軸ＡＸに近づけた状態で、基板Ｐの＋Ｘ軸方向へのステッピング動作が開始される。したがって、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ軸方向へのステッピング移動動作を行っても、第２部材２２０と基板Ｐ（物体）との間から液体ＬＱが流出することが抑制され、第１部材２１と基板Ｐとの間の空間の外側へ液体ＬＱが引き出されることが抑制される。

また、ステッピング移動動作中には、第１部分２２１と第２部分２２２とが接近又は接触し、ギャップＧａを介して回収部２３から液体ＬＱが回収されないので、第２部材２２０の下面と基板Ｐとの間の液体ＬＱが第２部材２２０の下面から離れて、基板Ｐ上で薄膜になることが抑制される。したがって、基板Ｐ上に液体ＬＱが残留することが抑制される。

また、ステッピング移動動作中に、第２部材２２０と基板Ｐとの間の液体ＬＱの界面ＬＧ１ｂが、第２部分２２２と基板Ｐとの間に形成されたとしても、その後のスキャン移動動作期間の少なくとも一部において、第１部分２２１と第２部分２２２とが図１９（Ａ）に示すように離れて、第２部分２２２の下側の空間、及び第１部分２２１と第２部分２２２との間のギャップＧａの下側の空間の液体ＬＱが、第１部材２１の回収部２３からギャップＧａを介して回収される。そのため、基板Ｐ上の液体ＬＱの界面ＬＧ１ｂを第１部分２２１のエッジ２２１Ｅａの近傍に戻すことができる。

以上、図１０に示す経路（基板Ｐが＋Ｘ軸方向にステップ移動動作をする経路）を基板Ｐ（物体）が移動するときに、第１部分２２１に対して＋Ｘ軸側に配置された第２部分２２２が移動する場合を例にして説明した。図１０に示す経路とは逆方向に基板Ｐ（物体）がステップ移動動作をするとき、すなわち、基板Ｐが−Ｘ軸方向に移動するステップ移動動作をする経路を基板Ｐ（物体）が移動する場合には、図１９（Ｃ）に示すように、第１部分２２１に対して−Ｘ軸側に配置された第３部分２２３が−Ｘ軸方向に移動される。すなわち、基板Ｐのスキャン移動期間の少なくとも一部において、第２部材２２０は、図１９（Ｃ）に示す状態となる。基板Ｐが−Ｘ軸方向へのステッピング移動を開始するとき、第２部材２２０は、図１９（Ｃ）に示す状態から図１９（Ｂ）に示す状態に変化する。基板Ｐの−Ｘ軸方向へのステッピング移動期間の少なくとも一部において、第２部材２２０は、図１９（Ｂ）に示す状態となる。図１９（Ａ）の場合と同様に、図１９（Ｃ）に示す状態では、第３部分２２３の下面側に液体ＬＱが実質的に存在せず、第１部分２２１の−Ｘ軸側のエッジ２２１Ｅｂの近傍に液体ＬＱの界面ＬＧ１ｂが形成される。

なお、図１９に示した例では、第１部分２２１の＋Ｘ軸側のエッジ及び−Ｘ軸側のエッジ、第２部分２２２の−Ｘ軸側のエッジ、及び第３部分２２３の＋Ｘ軸側のエッジは、直線状である。図２１に示すように、それらのエッジが曲線状でもよい。

また、第１部分２２１が移動可能であってもよい。例えば、基板Ｐが＋Ｘ軸方向へ移動するステッピング移動動作期間の少なくとも一部において、図１９（Ｂ）に示すように、第１部分２２１と第２部分２２２と第３部分２２３が実質的に離れていない状態を維持したまま、第２部材２２０（２２１，２２２，２２３）を＋Ｘ軸方向に移動してもよい。同様に、基板Ｐが−Ｘ軸方向へ移動するステッピング移動動作期間の少なくとも一部において、図１９（Ｂ）に示すように、第１部分２２１と第２部分２２２と第３部分２２３が実質的に離れていない状態を維持したまま、第２部材２２０（２２１，２２２，２２３）を−Ｘ軸方向に移動してもよい。

また、図１９〜図２１に示す実施形態では、第２部材２２０の一部（２２２，２２３）が開口２３５を有する部分（２２１）から離れる方向は、Ｘ軸方向に限られない。例えば、ステッピング移動動作期間の少なくとも一部において、第２部材２２０の一部が、開口２３５を有する部分（２２１）からＹ軸方向に離れてもよい。この場合も、開口２３５を有する部分（２２１）が移動可能であってもよいし、移動可能でなくてもよい。

＜第６実施形態＞
第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２２は、本実施形態に係る液浸部材５Ｆの一例を下方から見た図である。上述の第１〜第５実施形態においては、ＸＹ平面内における第２部材（２２など）の外形は、Ｘ軸方向に関する寸法がＹ軸方向に関する寸法よりも大きい楕円形状であった。図２２に示すように、ＸＹ平面内における第２部材３２２の外形は、円形でもよい。また、第２部材３２２の外形は、三角形、四角形、五角形、六角形、七角形、及び八角形等の多角形でもよい。

＜第７実施形態＞
第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２３は、本実施形態に係る液浸部材５Ｇの一例を示す図である。図２３に示すように、液浸部材５Ｇの第１部材２１０は、終端光学素子１３の射出面１２と対向する対向部２１１を有する。対向部２１１は、射出面１２からの露光光ＥＬが通過可能な開口３４Ｇを有する。開口３４Ｇの寸法は、第２部材２２の開口３５の寸法よりも大きくてもよいし、小さくてもよいし、等しくてもよい。

なお、上述の第１〜第７実施形態においては、第２部材２２は、光路Ｋを囲む環状の部材であることとしたが、光路Ｋの周囲の一部に配置されてもよい。なお、第２部材２２が、光路Ｋの周囲に複数配置されてもよい。また、それら複数の第２部材２２が、独立して移動してもよい。また、複数の第２部材２２のうち、一部の第２部材２２が移動し、一部の第２部材２２が移動しなくてもよい。

また、上述の第１〜第７実施形態においては、第１部材２１が、第１部材２１の上側の空間（例えば、第３空間ＳＰ３）の液体ＬＱを除去する回収口を有していてもよい。

なお、上述の実施形態において、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。

なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。

記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。

記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と光路に対して第１下面の外側に配置された第１回収部とを有する第１部材に対して、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を移動することと、第２上面が面する第１空間及び第２下面が面する第２空間の少なくとも一方からの液体の少なくとも一部を第１回収部から回収することと、を実行させてもよい。

記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。

なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされている。しかし、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。

なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとした。しかし、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。

また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。

また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。

また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図２４に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。

また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。

露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。

なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いた。このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。

上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。

また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。

上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２５に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。

なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、２１…第１部材、２２…第２部材、２３…回収部、２４…下面、２５…上面、２６…下面、２７…駆動装置、２８…支持部材、２９…側面、３０…内側面、３２…孔、３３…供給口、３４…開口、３５…開口、３７…回収口、３８…多孔部材、３９…下面、４１…回収部材、４５…駆動システム、４６…回収部、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板。

Claims (6)

1. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
   光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材を備え、
   前記液浸部材は、
   前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、液体供給口と、第１回収部を有する第１部材と、
   前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を有し、
   前記第２部材は、前記露光光が通過する開口と、前記物体が対向可能に設けられた第２回収部を有し、
   前記物体は、前記基板を含み、
   前記液浸空間は、前記基板の表面の一部を覆うように形成され、
   前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、スキャン方向にスキャン移動しながら前記基板の第１ショット領域が露光された後、第２ショット領域が露光開始位置に配置されるようにステップ方向にステップ移動され、
   前記基板のステップ移動の少なくとも一部において、前記第２部材は、前記ステップ方向と実質的に同方向に移動され、
   前記第２部材は、前記基板との相対速度が、前記第１部材と前記基板との相対速度よりも小さくなるように移動される露光装置。
2. 前記第１ショット領域の露光が完了する前に、前記第２部材は、前記ステップ方向と実質的に同方向に移動される
   請求項１記載の露光装置。
3. 前記第２回収部は、複数の回収口を有し、
   前記複数の回収口は、前記ステップ方向において、前記開口の一側に設けられた回収口と他側に設けられた回収口とを含む請求項１又は２記載の露光装置。
4. 前記第２部材の少なくとも一部は、前記第１回収部と対向する請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
5. 前記第1回収部は、前記第１部材と前記第２部材との間の空間からの液体を回収可能である請求項４記載の露光装置。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
   露光された前記基板を現像することと、
   を含むデバイス製造方法。

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