JP4454917B2 - 多数の光学要素を有する光学システム - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学要素から生じる力を転換する少なくとも一つの負荷−消散構造体と、前記負荷−消散構造体と独立的に構造される測定構造体を含む、多数の光学要素を有する光学システム、特に半導体リソグラフィ−用の露出レンズに関する。更に、本発明は、このような光学システムでの物体及び／又は像の位置を変更する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
極めて非常に高精度の光学的な像を生じさせるのに適合するように意図された光学システム、例えば極紫外線(EUV)領域の照射のような超短波照射用の光学システムにおいて、個々の光学要素を全ての６自由度内の整列に対してできる限り正確に位置させる必要がある。
【０００３】
このような目的のため、光学システムは、通常、光学要素の位置を適切にモニターするセンサー又はそのようなもの、一般的に前記EUV照射の場合には、ミラ−及び光学要素の位置を補正するか、又は調整するための調整機を有する。
【０００４】
半導体リソグラフィ−用の露出レンズであり得る、このような光学システムの作動中に、例えば対応する負荷が光学システム自体に生じ、負荷−消散構造体により光学システム内へ吸収される。各々の部品の自重による静的な負荷に加えて、この場合において、振動や反動力の発生による動的な負荷があり得る。しかし、レンズ自体にセンサーが統合されることにより、これらの負荷は、しばしば、測定されないが、これは測定の基準として用いられるセンサーの位置がこのような負荷に依存するためである。
【０００５】
力−閉鎖回路と、一方では負荷を支え、他方では測定手段を含む測定回路間の基本的な差異は、GORDON AND BREACH SCIENCE PUBLISHERSにより刊行された、イギリスのウォ−リックユニバ−シティ−(the University of Warwick)の“ナノ技術開発部(Development in Nanotechnology)”内のエス・ティ・スミス及びディ・ジ・チェットウィンドの論文“Foundation of Ultraprecision Mechanism Design”に記述されている。
【０００６】
前記論文に測定回路(測定ル−プ)として示された閉鎖経路は、この場合、測定される物体と測定工具を互いに調和しなければならない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、要求される測定の高正確性及びそれに伴ない、個々の光学システムの各々の位置の正確な調整を許容する光学システムを提供することである。
【０００８】
更に、本発明の目的は、このような光学システムでの物体及び／又は像の位置を変更する方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記目的は、光学要素から発生する力を転換する少なくとも一つの負荷−消散構造体と、前記負荷−消散構造体と独立的に構造される測定構造体を含む、多数の光学要素を有する光学システムにより達せられる。
【００１０】
前述の従来の技術とは異り、本発明の光学システムは、互いに完全に分離された２つの構造体を含み、一つの構造体は光学要素を保持し、光学要素の近くで生じた自重力及び動的な力の成分を消散させるための負荷−消散構造体として提供され、他の構造体は単純な測定構造体として、又は測定や基準フレ−ムとして設計されるという事実により、信頼性があり、一定基準との比較により負荷−消散構造体内に保持される各々の要素の位置をモニターするための理想的な可能性が生じる。前述のように、この場合において、負荷−消散構造体は光学要素の全負荷を支持し、光学要素が移動する間生じる反動力を受け入れる。これに対して、測定構造体は自体の重さ及びその上に結合されたセンサーの重さのみを支持するため、測定構造体の非常に高い安定性及び正確性が達せられる。
【００１１】
特に、本発明の改善点によれば、測定構造体は、この場合において光学システム自体に統合される。実際に、これは適切な機械装置内に本質的に閉鎖されたシステムであって、特に、良好な実施例において、適切なスキャナ−、ステッパ−等内の半導体リソグラフィ−用の露出レンズとして用いられる光学システムをもたらす。
【００１２】
光学システムは、本質的に正確で、事実上、外部の状況と関係ない方式で個々の光学要素が位置するようにし、結果的に周囲条件、老化及びセッティング等の影響と関係なく均一に優れた質の像がもたされる。
【００１３】
光学システムでの物体及び／又は像の位置を変更する方法において、物体及び／又は像の位置は、光学システム内の前記光学要素の位置を変更することによって変更されるが、前記測定構造体に対する光学要素の位置は、前記構造体に対する物体の少なくとも一つの公知である位置及び像の目標位置で測定される。
【００１４】
光学システムの周辺部に関する実質的な単純化は、物体及び／又は像の位置が光学システム内の光学要素の位置を変更することにより、変更されることができるという事実により生じる。方法に対するこれらの可能性は、特に、このような光学システムの使用に対する良好な目的の場合に、詳しくは、前記半導体リソグラフィ−用のスキャナ−の露出レンズとして用いられる場合、決定的な長所をもたらす。
【００１５】
例えば、レチクル、即ち、ウエハ上に露出されるパタ−ンに対する出発基準を形成するマスクの位置は、光学要素を移すことによって、ウエハの正確な位置と比較して補正できる。これは、単に、測定構造体に対するレチクル及びウエハの位置が知られるか測定されることを要求する。光学システムにより生じる像の位置は、その後、実際に光学要素の適切な調整により調整可能である。
【００１６】
前述の理由を基礎として得られる像の質に関して対応する長所を有する、本発明にかかる光学システムの設計は、困難なく、光学要素の適切な位置変動により物体及び／又は像の位置を補正できるようにする。精密な機械的な部分のため、複雑で比較的高価である、レチクル及び／又はウエハを機械的に位置させるためのデバイスは、これにより除かれるか、又は単純化されることができるが、これは測定構造体を基準とした各々の光学要素の変位により対応する補正が手軽く実行できるためである。
【００１７】
本発明の更に好適な改善は、残りの従属項及び図面を参照して、以下に述べる例示的な実施例から明白になる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
図１は、多数の光学要素２を有する光学システム１の原理を説明する図面である。図示された非常に概略的な例示的実施例において、レンズとミラ−が光学要素２として示されている。しかし、根本的に、特に光学システム１を極紫外線(EUV)内の半導体リソグラフィ−内の露出レンズとして用いる良好な目的で用いられる、光学要素２を反映することを目的とする、全ての公知の光学要素、即ち、ミラ−を用いてもよい。
【００１９】
光学要素２は、非常に概略的に示された光学システム１の負荷−消散の構造体上に配列される。負荷−消散構造体３は、光学要素２及び構造体３自体の自重により生じた静的な力と、全体的に光学システムが受ける振動のため、光学システム１内で発生可能な全ての動的な力を吸収する。
【００２０】
光学要素２は、公知の装着技術により、負荷−消散構造体に吊るされている。これらは固定状態で装着されるか、又は適切な調整機(図示されていないが、従来技術により公知である)を通じて、それらの装着部内で、例えば３自由度、特に、全ての６自由度内で調整できる。
【００２１】
負荷−消散構造体３自体は、光学システム１のベ−ス板４上に結合され、特にベ−ス板に永久的に結合される。
【００２２】
また、光学システム１は、独立的な機械的基準フレ−ムとして作用し、全的に負荷−消散構造体３と独立的に構造される測定構造体５を有する。図１に原理的に図示された例示的な実施例において、測定構造体５はバネ手段６と、ダンパ−６の組み合せにより、光学システム１のベ−ス板４上に組み立てられる。結果的に、できる限り柔軟なバネ手段及び対応するダンパ−７により光学システム１内に統合された測定構造体５とベ−ス板４間の事実上の完全な分離が達せられる。
【００２３】
光学システム１に対する基準フレ−ムとして、できる限り、硬く、周辺の影響に係らない測定構造体５を得るため、測定構造体５自体は、例えば、４面体の支柱等で、できる限り、軽くて安定した姿勢に構造されなければならない。この場合に、特に適合な材料としては、温度の影響が測定構造体に全く影響を与えないように、少なくとも大略的にそれらの微視的な構造のために、巨視的に消える熱膨張係数を有する材料である。
【００２４】
このような材料は、Invar、ZERODURまたはULE、例えば、特に適合であると立証されたZERODUR及び／又はULEであり得る。
【００２５】
力と振動に関する分離に加えて、図1にかかる例示的な実施例に示された場合において、バネ手段６とダンパ−７からの分離は、測定構造体５の熱的な変動により影響を受けない組立体と、ベ−ス板４及び負荷−消散構造体３の熱的な長さの膨張により変わる組立体間の分離を保障する。
【００２６】
図1に原理的に図示されたように、測定構造体５は基準フレ−ムとしての測定構造体５を基準として、光学要素２の正確な位置を測定するために表示されたデバイス８を有する。図1の原理の図示によれば、デバイス８はこれらのデバイス８の近くで測定構造体５と各々の光学要素２またはその負荷−消散構造体３との間に直接接触が生じないように設計される。例えば、光学要素２の位置を測定するために、デバイス８は無接触のセンサー９として設計されることができる。適合な類型のセンサーは、この場合においては、確実に容量変動センサー(capacitive ranging sensor)でもよく、または適切な場合に誘導型センサー(inductive sensor)でもよい。
【００２７】
図２aは、この場合において、容量変動センサー９であるセンサー９を配列する一つの可能性を示す。図２aは、３次元的図示に配列され、各場合において、互いに９０°の角度で交差する３つの平面１１a、１１ｂ、１１ｃ)から形成されたキューブコーナー(cube corner)１０を示す。このようなキューブコーナー１０は、例えば、各々の光学要素２に永久的に結合することができ、この際に、図２ｂに示されたような、測定構造体５に永久的に結合された３次元のコーナー１２に対応する。更に、３次元のコーナー１２は各々の場合に、互いに９０°の角度に一点で交差する３つの平面から構成される。
【００２８】
全ての６自由度において、光学要素２の位置変更を測定できるようにするために、対応する３次元のコーナー１２と共に、キューブコーナー１０を通じて、２つのセンサー９は各々の場合において、それぞれの平面１１a、１１ｂ、１１ｃ内に配列される。原理的に、一つの平面１１a内に３つのセンサー９を配列し、次の平面１１ｂ内に２つのセンサーを、最後の平面１１ｃ内に一つのセンサー９を配列してもよい。しかし、図２a及び図２ｂに示された組立体は非常に手軽く機械的に具現される単純な手段により非常に正確な測定を達せられるという長所を有し、このような測定手段は、それぞれ容量的に設計されたセンサーを用いる場合、絶対的な測定手段を構成する。各々の平面内のセンサー９の対は、この場合、２つのセンサー９間の仮想連結線１３が、角度２等分線１４に対して、略６0°ないし1２0°間の角度、望ましくは９０°の角度をなすように配列される。この場合、角度２等分線１４は、三つの平面１１a、１１ｂ、１１ｃの交差点から進行して、２つの隣り合う平面と共に、角度２等分線１４が置かれる各々の平面１１a、１１ｂ、１１ｃを形成する交差線間で角度２等分線に延びる。キューブコーナー１０と対応する３次元のコーナー１２の両方内のセンサー９９の組立体の助けで全ての６自由度の絶対的な見地から各々の光学要素２の位置を測定できる。
【００２９】
光学システム１の理想的な作動モ−ドを達するため、各々の光学要素２は、この場合、その位置を決定するためのデバイス８を有しなければならない。
【００３０】
光学要素２をキューブコーナー１０に、又は適切な場合、３次元のコーナー１２に永久的に結合する可能性及び測定構造体の近くに対応する相対片、即ち、３次元のコーナー１２又はキューブコーナー１０を具現する前記可能性に加えて、光学要素２自体が互いに垂直な３つの平面１１a、１１ｂ、１１ｃを含む可能性もある。
【００３１】
図３は、このような組立体を示すが、対応するセンサー９を支持する各々の平面１１a、１１ｂ、１１ｃが光学要素２のエッジ領域に提供される。ここで、センサー９の各々の相対片を有する対応する平面１１a、１１ｂ、１１ｃは、測定構造体５を基準として絶対的な見地で測定が行われるように測定構造体上に配列される。
【００３２】
もちろん、平面１１a、１１ｂ、１１ｃは、この場合のように存在する必要がない。センサー９が各々の実質的な平面１１a、１１ｂ、１１ｃ内に配列さればよい。
【００３３】
図４は、光学システム１の代案的なデザインを示すが、第一の相違点として、測定構造体５とベ−ス板４間の連結が直接的な機械的連結部として構造される。外部環境により、適切であれば、負荷−消散構造体３により、強すぎる影響がベ−ス板４に与えられないと予測できれば、これは可能である。測定構造体５に用いられる材料により、例えば巨視的な見地で一端部の特定な熱膨張係数から他端部の熱膨張係数への転移を含むように微小組織を有するように設計された適切な材料により行われる熱膨張係数からの分離を行うことが有利であることもある。
【００３４】
光学要素２の位置を測定するためのデバイス８は、レーザ干渉計１５により形成された干渉測定セクション１６、１６’として示された例示的な実施例で具現される。更に詳しくは、連続実線矢印の干渉測定セクション１６と、点線矢印の干渉測定セクション１６’間の相違点に対する例示的な実施例の追加過程で説明される。
【００３５】
前記容量センサーの助けによる個々の光学要素２の位置の絶対的測定の場合において、測定構造体５は測定される光学要素に非常に密接に突出しなければならない。これは、しばしば、このような光学システム１の設計の場合、負荷−消散構造体３との衝突をもたらすことができる。干渉測定セクション１６、１６’は、このような問題を示さないが、これは測定構造体５の近くのこれらの出発点が適切である場合、その位置に対して、測定される光学要素２から比較的大きい空間を示すことができるためである。レーザ干渉計１５と適切に作動できるようにするため、このような目的に要求されることは、単に各々の場合において、略数ミリの直径を有するビームに対する適切な経路を自由に保持することである。例えば、5mmの直径を有するボアにより具現されるこのようなビームの経路は負荷−消散構造体３の設計の際に具現が非常に容易であり、その強度に対する影響が殆どない。
【００３６】
また、非常に小さい移動の発生のため、３重のミラ−を有する干渉計１５を用いることが可能であるが、この干渉計の特性は、ここで明確に示されていない電子デ−タの処理ユニットにより行われる個々の光学要素２の全ての自由度における位置的計算から考えられる。
【００３７】
前述のように、本場合の目的は、各々の光学要素２の現位置が可能であれば、６自由度で測定可能なようにすることである。前記で用いられた６つの容量センサー９から類推して、測定される各々の光学要素２に対して６つのレーザ干渉計１５を用いることが可能である。
【００３８】
図5は、本デザインの原理に対する説明を示すが、レーザ干渉計１５のうち、３つのみが示されている。各々の測定セクション１６、１６’のレーザ干渉計１５から出されるビームは、この場合、光学要素２の近くに配列されたが逆反射体１７により反射される。これはまた、これらの逆反射体１７が、図３にかかる例示的な実施例において、平面１１a、１１ｂ、１１ｃの構成に対して記載したような方式で光学要素上に配列される際、有利である。従って、逆反射体１７は光学要素自体のエッジ領域に結合されてもよい。
【００３９】
ここで、各々の光学要素２の位置を全ての６自由度で測定できるようにするため、前述のように、６つのレーザの干渉計１５が必要である。レーザ干渉計１５は、レーザ干渉計のうち、３つが測定セクション１６により、図４に示すように、上方から斜めに光学要素２を測定するように配列しなければならない。これに対して、残りの３つのレーザ干渉計１５は、図４の測定セクション１６’により示されたように、下方から斜めに光学要素を測定しなければならない。
【００４０】
理想的な結果を得るため、各々の測定セクション１６、１６’は各々の場合において、互いに対して適切な角度で配列しなければならない。この設計は、図６の平面図で示され、前述した３つの測定セクション１６は、各々の場合において、互いに1２0°の角度で配列される。後述する３つの測定セクション１６’は、同様に各々の場合において、互いに対して1２0°の角度で、また測定セクション１６に対して６0°の角度で配列される。この設計は、光学要素２の位置を全ての６自由度で検出することに用いられ、またこれを正確で基準を含む測定構造体５からの対応する力に露出された負荷−消散構造体３の分離に基づいて、システム１内の動的及び静的な力の影響に関係なく測定することに用いられる。レーザ干渉計１５は、単に漸増的に測定するため、前記電子デ−タ処理ユニット(図示しない)を通じて、各々のシステムの開始の際、位置に対して、敏感な開始値を与えることが必要である。例えば、このような目的のため、基準点が接近され、その後測定構造体５を基準として、その正確な位置が0として規定される。
【００４１】
光学要素がレーザ干渉計１５の同一なカウント期間内の、例えば６３２／２ nmでの静止位置内に位置する場合、このようなオフセットは、単に一度だけ測定されるか、または決定される必要がある。この値は、全位置における追加決定または計算を具現することに用いられる。基準点がカウント期間を超えるときまで新たな基準選定が行われる必要がない。しかし、これは副次的な重要性を有するが、これは、この場合が実際に殆ど発生しないためである。従って、要求される基準は、実際に光学システム１の各々の連結に制限される。
【００４２】
原理的に、両デザインの場合において、即ち、レーザ干渉計１５及びセンサー９の両方の使用場合において、重複決定された形態の測定を行うことが可能である。これは、少なくとも７つのセンサー９又は測定セクション１６、１６’が６つの必須センサー９又は測定セクション１６、１６’の代りに使用されることを意味する。従って、測定は電子デ−タ処理ユニットで行われた位置の計算を通じて、より信頼性があるように行われる。また、各々の場合において、光学要素２のうち、一つの位置を決定するための少なくとも7つのデバイス８を有する、このようなデザインは、干渉計の測定セクション１６、１６’が用いられる際に、開始値の発生又は基準点への接近の前記問題がそれ以上発生しないが、これは絶対位置値の適切な計算が、重複決定された測定により可能であるためである。
【００４３】
前記例示的な実施例で設計された光学システム１の像の質に対する非常に好ましい影響に加えて、本発明にかかる光学システム１０は光学システム１での物体及び／又は像の位置を変更させる方法を具現できる。
【００４４】
原理的に公知である方式で調整されることが可能であり、負荷−消散構造体３の近くに位置する光学要素２は基準フレ−ムとして作用する測定構造体５に基づいて、共に一方向に正確に変位されてもよい。光学システム１が、例えば半導体リソグラフィ−での露出レンズとして用いられる場合、光軸に垂直な平面内のレチクル及び／又はウエハの誤位置を補正できる。このような目的に、全ての光学要素２は、誤位置を補償する量ほど各々の平面内で光軸に対して再調整される。固定された光学システム１の場合、全ての光学要素２は一方向へ変位されることが可能であり、これはレチクルの位置に対して全体光学システム１を再調整することに対応する。これは、特に追加に発生する動的な負荷が新たな位置の測定を歪めることができないという事実により可能になるが、これは、各々の場合において、基準フレ−ムとして作用する測定構造体５に対して測定され、このような構造体は光学システム１の残りから熱的な機械的な分離により、これらの作動により影響を受けない状態で残っているためである。要求条件に従い、適切であれば、無理して許容され得るエラ−及び不正確性が光学システム１の近くで発生する可能性があるが、光軸を中心としてレチクル及び／又はウエハの傾斜の場合、何れの類似するものがあってもよい。
【００４５】
任意の場合において、半導体コンポ−ネントを露出するための機械装置内のウエハ及びレチクルの両方に対する非常に複雑で微細な位置調整を節約するため、イメ−ジの場合において、良好な特性を可能としたこのようなデザインを用いるものがあってもよいが、これはレチクル又はウエハの微細位置調整でのエラ−を補正するため、全ての光学要素２が測定構造体５に対するその位置の正確な測定可能性に基づいて、適切に再調整できるためである。
【００４６】
従って、現在の従来の技術の場合における目標された正確性のため、非常に高価なウエハ及びレチクルに対する複雑で微細な位置調整を節約できる。理想的に作動する光学システム１であって、光学システム１の任意の場合において、前記デザインを含むため、物体及び／又は像の位置変動が最少の付加的な制御費用で、また付加的なコンポ−ネントなしに具現できる。
【００４７】
【発明の効果】
本発明は、要求される測定の高正確性及びそれに伴ない、個々の光学システムの各々の位置の正確な調整を許容する光学システムの提供する。
【００４８】
また、本発明は、前述の従来の技術とは異なり、本発明の光学システムは、互いに完全に分離された２つの構造体を含み、一つの構造体は光学要素を保持し、光学要素の近くで生じた自重力及び動的な力の成分を消散させるための負荷−消散構造体として提供され、他の構造体は単純な測定構造体として、又は測定や基準フレ−ムとして設計されるという事実により、信頼性があり、一定基準との比較により負荷−消散構造体内に保持される各々の要素の位置をモニターするための理想的な可能性が生じる。前述のように、この場合において、負荷−消散構造体は光学要素の全負荷を支持し、光学要素が移動する間生じる反動力を受け入れる。これに対して、測定構造体は自体の重さ及びその上に結合されたセンサーの重さのみを支持するため、測定構造体の非常に高い安定性及び正確性が達せられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる光学システムの原理を説明する図面である。
【図２】（ａ）は、キューブコーナーへの変動センサーの可能な配置を示す図面であり、（ｂ）は、３次元のコーナーにおける変動センサーの可能な配置を示す図面である。
【図３】光学要素上の測定のために求められる３つの平面の配置を示す図面である。
【図４】本発明の変形例にかかる光学システムの原理を説明する図面である。
【図５】干渉測定セクションで製造された場合の可能なデザインの原理を説明する図面である。
【図６】図５にかかるデザインの平面図である。
【符号の説明】
１ 光学システム
２ 光学要素
３ 負荷−消散構造体
４ ベース板
５ 測定構造体
６ バネ手段
７ ダンパー
８ デバイス
９ センサー
１０ キューブコーナー
１２ ３次元のコーナー
１５ レーザ干渉計
１６，１６’ 干渉測定セクション

Claims (23)

1. 多数の光学要素を有する光学システムにおいて、光学要素を保持し、該光学要素から生じる自重による静的な力および該光学システムの振動により生じる動的な力の成分を消散させる、少なくとも一つの負荷−消散構造体と、前記静的な力および前記動的な力において前記負荷−消散構造体と独立的に構造される測定構造体を含む光学システム。
2. 前記光学システムは半導体リソグラフィ−用露出レンズである請求項1記載の光学システム。
3. 前記測定構造体は光学システムに統合される請求項1記載の光学システム。
4. 前記測定構造体はデバイスを有するが、該デバイスを通じて前記測定構造体に対する少なくとも多数の光軸要素の位置を測定できる請求項１記載の光学システム。
5. 前記位置を測定するためのデバイスは前記測定構造体からの対応する各々の相対要素に対する絶対距離を測定するセンサーであり、少なくとも３つのセンサーが各々の光学要素に対して存在する請求項４記載の光学システム。
6. 前記センサーは容量センサーである請求項５記載の光学システム。
7. 光学要素当たり３つの相互垂直な平面内に配列された、少なくとも６つのセンサーが提供される請求項６記載の光学システム。
8. 前記各平面のセンサーは対として配列され、各々の場合において、仮像の連結線が、前記３つの平面の交差点から、隣り合う平面と前記各々の平面の交差線間に、前記センサーを有する各々の平面内で進行する角度２等分線に対して６０°ないし1２０°の角度で前記センサーの間に置かれる請求項７記載の光学システム。
9. 前記角度は９０°に達する請求項８記載の光学システム。
10. 前記各々の光学要素の近くにおける平面は、前記測定構造体の近くに割り当てられる前記平面の各々に対応する請求項７記載の光学システム。
11. 前記光学要素の近くに、前記平面がキューブコーナーとして前記光学要素に永久的に連結される請求項１０記載の光学システム。
12. 前記光学要素の近くに、前記平面が前記光学要素自体上の基準面として設計される請求項１０記載の光学システム。
13. 前記光学要素の位置を測定するためのデバイスは、干渉計の測定セクションとして設計される請求項４記載の光学システム。
14. 前記測定セクションはレーザ干渉計を通じて構造され、前記光学要素の各々はその部分に対して前記測定構造体に固定形態で連結される、少なくとも６つのレーザ干渉計が割り当てられる請求項1３記載の光学システム。
15. 前記レーザ干渉計のレーザビームは前記光学要素に永久的に結合された逆反射体により反射され、各々の光学要素は少なくとも６つの逆反射体を有し、前記各々の逆反射体は前記レーザ干渉計のうち一つに対応する請求項1２記載の光学システム。
16. 各々の光学要素に対して、光学要素の位置を測定するための少なくとも７つのデバイスが提供される請求項３記載の光学システム。
17. 各々の光学要素の絶対位置値は、前記光学要素の位置を測定するためのデバイスにより決定された全ての値から電子デ−タ処理ユニットで計算される請求項３記載の光学システム。
18. 前記負荷−消散構造体と前記測定構造体は、共通ベ−ス板上に配列される請求項１記載の光学システム。
19. 前記測定構造体と、前記負荷−消散構造体間の連結は、少なくとも一つのバネ部材と少なくとも一つのダンパ−の組み合せを通じて構築される請求項１記載の光学システム。
20. 前記測定構造体は、少なくとも巨視的に少なくとも略０である熱膨張係数を有する材料から構成される請求項１記載の光学システム。
21. 第１項に記載の光学システムでの物体の位置を変更する方法において、
    前記物体の位置は前記光学システム内の光学要素の位置を変更することによって変更され、前記測定構造体に対する前記光学要素の位置は、前記測定構造体に対する物体の少なくとも公知である位置及び像の目標位置で測定される光学システム。
22. 第１項に記載の光学システムでの像の位置を変更する方法において、
    前記像の位置は、前記光学システム内の光学要素の位置を変更することによって変更され、前記測定構造体に対する前記光学要素の位置は、前記測定構造体に対する物体の少なくとも公知である位置及び像の目標位置で測定される光学システム。
23. 第１項に記載の光学システムでの物体及び像の位置を変更する方法において、
    前記物体及び像の位置は、前記光学システム内の光学要素の位置を変更することによって変更され、前記測定構造体に対する前記光学要素の位置は、前記測定構造体に対する物体の少なくとも公知である位置及び像の目標位置で測定される光学システム。

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