CN102830593A - 夹持装置、组件和光刻投影设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种夹持装置、一种组件和一种光刻投影设备。所述夹持装置被构造和布置用于将两个部件夹持在一起。所述夹持装置具有：对准器，构造和布置用于将两个部件相对于彼此设置在对准位置；夹持器，构造和布置用于将两个部件保持在对准位置；分离器，构造和布置用于引导两个部件离开对准位置至分离位置；以及致动器，构造和布置用于将电流转化成动能。

Description

夹持装置、组件和光刻投影设备

技术领域

本发明涉及一种夹持装置、包括这种夹持装置的组件以及包括这种组件的光刻投影设备。

背景技术

光刻投影设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。光刻投影设备可用于例如集成电路（IC）制造过程中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底（例如，硅晶片）上的目标部分（例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯）上。通常，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料（抗蚀剂）层上而实现图案的转移。通常，单个衬底将包括相邻目标部分的网络，所述相邻目标部分被连续地图案化。

光刻技术被广泛地看作制造IC和其他器件和/或结构的关键步骤之一。然而，随着通过使用光刻技术制造的特征的尺寸变得越来越小，光刻技术正变成允许制造微型IC或其他器件和/或结构的更加关键的因素。

图案印刷的极限的理论估计可以由用于分辨率的瑞利法则给出，如等式（1）所示：

$\mathrm{CD}=k_1*\frac{\mathrm{\λ}}{\mathrm{NA}}---\left(1\right)$

其中λ是所用辐射的波长，NA是用以印刷图案的投影系统的数值孔径，k₁是依赖于工艺的调节因子，也称为瑞利常数，CD是印刷的特征的特征尺寸（或临界尺寸）。由等式（1）知道，特征的最小可印刷尺寸的减小可以由三种途径实现：通过缩短曝光波长λ、通过增大数值孔径NA或通过减小k₁的值。

为了缩短曝光波长，并因此减小最小可印刷尺寸，已经提出使用极紫外（EUV）辐射。EUV辐射是波长在5-20nm范围内的电磁辐射，例如在13-14nm范围内。进一步地，已经提出，可以使用波长小于10nm的EUV辐射，例如波长在5-10nm范围内，诸如6.7nm或6.8nm。这种辐射称为极紫外辐射或者软x射线辐射。可用的源包括例如激光产生的等离子体源、放电等离子体源或基于由电子存储环提供的同步加速器辐射的源。

可以通过使用等离子体产生EUV辐射。构造用于产生EUV辐射的辐射系统可以包括用于激发燃料以提供等离子体的激光器以及用于容纳等离子体的源收集器设备。

等离子体可以例如通过引导激光束至燃料来产生，燃料是例如合适材料（例如锡）的颗粒，或合适气体或蒸汽的流，例如氙（Xe）气或锂（Li）蒸汽。最终的等离子体发射辐射，例如EUV辐射，其通过使用辐射收集器收集。辐射收集器可以是正入射辐射收集器，其接收辐射并将辐射聚焦成束。源收集器设备可以包括包围结构或腔，布置成提供真空环境以支持等离子体。这种辐射系统通常称为激光产生等离子体（LPP）源。

可选地，可以通过在例如阴极和阳极之间的电场中喷射燃料液体液滴来生成等离子体。当液滴在预定位置处时，它被激光碰撞并且被蒸发。然后，在阴极和阳极之间发生放电，产生发射EUV辐射的等离子体。

通常，构造用于产生EUV辐射的辐射系统与光刻投影设备分开制造。这意味着，在光刻投影设备能够使用之前，需要对准和连接辐射系统和光刻投影设备。

需要大量的空间和电子装置来手动地彼此对准辐射系统与光刻投影设备以及相互连接辐射系统和光刻投影设备。由于辐射系统和/或光刻投影设备的其他部件的存在，因此可能不能获得这样的空间。

发明内容

期望限制对准和连接辐射系统和光刻投影设备所涉及的电子装置的数量。

本发明一方面提供一种夹持装置，构造和布置用于将两个部件夹持在一起，所述夹持装置包括：对准机构或对准器，构造和布置用于将两个部件相对于彼此设置在对准位置；夹持机构或夹持器，构造和布置用于将两个部件保持在对准位置；分离机构或者分离器，构造和布置成引导两个部件离开对准位置至分离位置；以及致动器，构造和布置用于将电流转化成动能，其中所述对准机构（对准器）、夹持机构（夹持器）以及分离机构（分离器）被构造和布置成被致动器驱动。

本发明的还一方面提供一种夹持装置，构造和布置用于将两个部件夹持在一起，所述夹持装置包括：对准机构或对准器，构造和布置用于将两个部件相对于彼此设置在对准位置；夹持机构或夹持器，构造和布置用于将两个部件保持在对准位置；分离机构或者分离器，构造和布置成与夹持机构一起操作将两个部件引导离开对准位置至分离位置；以及致动器，构造和布置用于将电流转化成动能，其中所述对准机构（对准器）、夹持机构（夹持器）以及分离机构（分离器）被构造和布置成被致动器驱动。

所述夹持装置可以包含在一组件中，所述组件包括照射系统和辐射源，其中所述夹持装置被构造和布置用于将照射系统和辐射源夹持在一起。所述组件可以包含在一光刻投影设备中。

附图说明

现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本发明的实施例，其中，在附图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中：

图1示出根据本发明一个实施例的光刻投影设备；

图2是图1中的设备的更详细的视图；

图3是图1中的设备的源收集器设备的实施例的更详细的视图；

图4是夹持装置的实施例的透视图；

图5是图4中的夹持装置的俯视图；

图6是图4中的夹持装置的侧视图；

图7是图4-6中的夹持装置的变更实施方式的透视图；

图8是图7中的夹持装置的侧视图；

图9是图4-6中的夹持装置的另一变更实施方式的透视图；以及

图10是图9中的夹持装置的侧视图。

具体实施方式

图1示意地示出了根据本发明一个实施例的包括源收集器设备SO的光刻投影设备100。所述光刻投影设备包括：照射系统（照射器）IL，其配置成调节辐射束B（例如EUV辐射）；支撑结构（例如掩模台）MT，其构造用于支撑图案形成装置（例如掩模或掩模版）MA，并与配置用于精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相连；衬底台（例如晶片台）WT，其构造用于保持衬底（例如涂覆有抗蚀剂的晶片）W，并与配置用于精确地定位衬底的第二定位装置PW相连；和投影系统（例如反射式投影系统）PS，其配置成用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C（例如包括一根或多根管芯）上。

照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。

所述支撑结构MT以依赖于图案形成装置的方向、光刻投影设备的设计以及诸如例如图案形成装置是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置MA。所述支撑结构可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术保持图案形成装置。所述支撑结构可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述支撑结构可以确保图案形成装置位于所需的位置上（例如相对于投影系统）。

术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。被赋予辐射束的图案可以与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。

图案形成装置可以是透射式或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示（LCD）面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同的方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。

与照射系统类似，投影系统可以包括多种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型光学部件、或其它类型的光学部件，或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用真空之类的其他因素所适合的。希望将真空环境用于EUV辐射，这是因为其他气体会吸收太多的辐射。因此借助真空壁和真空泵可以在整个束路径上提供真空环境。

如图所示，所述设备是反射型的（例如采用反射掩模）。

光刻投影设备可以是具有两个（双台）或更多衬底台（和/或两个或更多的掩模台）的类型。在这种“多台”机器中，可以并行地使用附加的台，或可以在一个或更多个台上执行预备步骤的同时，将一个或更多个其它台用于曝光。

参照图1，所述照射器IL接收从源收集器设备SO发出的极紫外（EUV）辐射束。产生EUV光的方法包括但不必限于将材料转换为等离子体状态，该材料具有至少一个元素（例如氙、锂或锡），其在EUV范围内具有一个或多个发射线。在一种通常称为激光产生等离子体（“LPP”）的这样的方法中，所需的等离子体可以通过用激光束照射燃料来产生，其中燃料可以例如是具有所需发射线的元素的材料的液滴、流或簇。源收集器设备SO可以是包括用于提供激发燃料的激光束的激光器（图1中未示出）的EUV辐射系统的一部分。最终的等离子体发射输出辐射，例如EUV辐射，其通过使用设置在源收集器设备内的辐射收集器而被收集。激光器和源收集器设备可以是分立的实体（例如当使用CO₂激光器提供用于燃料激发的激光束时）。

在这种情况下，不会将激光器考虑成形成光刻设备的一部分，并且通过包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器的束传递系统的帮助，将所述辐射束从激光器传到源收集器设备。在其它情况下，所述源SO可以是源收集器设备的组成部分（例如当所述源是放电产生的等离子体EUV产生器（通常称为DPP源）时）。

所述照射器IL可以包括用于调整所述辐射束的角强度分布的调整器。通常，可以对所述照射器的光瞳平面中的强度分布的至少所述外部和/或内部径向范围（一般分别称为σ-外部和σ-内部）进行调整。此外，所述照射器IL可以包括各种其它部件，例如琢面场和光瞳反射镜装置。可以将所述照射器用于调节所述辐射束，以在其横截面中具有所需的均匀性和强度分布。

所述辐射束B入射到保持在支撑结构（例如，掩模台MT）上的所述图案形成装置（例如，掩模）MA上，并且通过所述图案形成装置来形成图案。已经被图案形成装置（例如，掩模）MA反射后，所述辐射束B通过投影系统PS，所述投影系统将辐射束聚焦到所述衬底W的目标部分C上。通过第二定位装置PW和位置传感器PS2（例如，干涉仪器件、线性编码器或电容传感器）的帮助，可以精确地移动所述衬底台WT，例如以便将不同的目标部分C定位于所述辐射束B的路径中。类似地，可以将所述第一定位装置PM和另一个位置传感器PS1用于相对于所述辐射束B的路径精确地定位图案形成装置（例如，掩模）MA。可以使用掩模对准标记M1、M2和衬底对准标记P1、P2来对准图案形成装置（例如，掩模）MA和衬底W。

示出的设备可以用于下列模式中的至少一种：

1.在步进模式中，在将支撑结构（例如掩模台）MT和衬底台WT保持为基本静止的同时，将赋予所述辐射束的整个图案一次投影到目标部分C上（即，单一的静态曝光）。然后将所述衬底台WT沿X和/或Y方向移动，使得可以对不同目标部分C曝光。

2.在扫描模式中，在对支撑结构（例如掩模台）MT和衬底台WT同步地进行扫描的同时，将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上（即，单一的动态曝光）。衬底台WT相对于支撑结构(例如掩模台)MT的速度和方向可以通过所述投影系统PS的（缩小）放大率和图像反转特征来确定。

3.在另一个模式中，将用于保持可编程图案形成装置的支撑结构（例如掩模台）MT保持为基本静止，并且在对所述衬底台WT进行移动或扫描的同时，将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上。在这种模式中，通常可以采用脉冲辐射源，并且在所述衬底台WT的每一次移动之后、或在扫描期间的连续辐射脉冲之间，根据需要更新所述可编程图案形成装置。这种操作模式可易于应用于利用可编程图案形成装置（例如，如上所述类型的可编程反射镜阵列）的无掩模光刻术中。

也可以采用上述使用模式的组合和/或变体，或完全不同的使用模式。

图2更详细地示出设备100，包括源收集器设备SO、照射系统IL以及投影系统PS。源收集器设备SO构造并布置成使得在源收集器设备SO的包围结构220内可以保持真空环境。发射EUV辐射的等离子体210可以由放电产生等离子体源形成。EUV辐射可以通过气体或蒸汽，例如Xe气体、Li蒸汽或Sn蒸汽来产生，在所述气体或蒸汽中非常高温的等离子体210被产生以发射电磁光谱中EUV范围内的辐射。通过例如引起至少部分电离的等离子体的放电来产生非常高温的等离子体210。对于有效地产生辐射来说，可能需要例如10Pa的分压的Xe、Li、Sn蒸汽或者任何其他合适的气体或蒸汽。在一实施例中，提供被激发的锡（Sn）的等离子体，用于产生EUV辐射。

由高温等离子体210发射的辐射从源腔211、经由可选的气体阻挡件或污染物阱230（在某些情况中也被称为污染物阻挡件或者翼片阱）传播到收集器腔212中，其中所述气体阻挡件或污染物阱定位在源腔211内的开口内或源腔211内的开口之后。污染物阱230可以包括通道结构。污染物阱230还可以包括气体阻挡件或气体阻挡件与通道结构的组合。这里进一步示出的污染物阱或污染物阻挡件230至少包括通道结构，如本领域中已知的。

收集器腔211可以包括辐射收集器CO，所述辐射收集器CO可以是所谓的掠入射收集器。辐射收集器CO具有上游辐射收集器侧251和下游辐射收集器侧252。横过收集器CO的辐射可以被反射离开光栅光谱滤光片240，以被聚焦到虚源点IF处。虚源点IF通常被称为中间焦点，并且源收集器设备SO可以布置成使得中间焦点IF位于包围结构220内的开口221处或附近。虚源点IF是发射辐射的等离子体的像。

随后，辐射穿过照射系统IL，所述照射系统IL可以包括琢面场反射镜装置22和琢面光瞳反射镜装置24，其布置成在图案形成装置MA处提供辐射束21的想要的角分布以及在图案形成装置MA处提供辐射束强度的想要的均匀性。通过辐射束21在图案形成装置MA处的反射（图案形成装置MA由支撑结构MT保持），形成图案化束26，并且图案化束26通过投影系统PS经由反射元件28、30成像到由晶片平台或衬底台WT保持的衬底W上。

通常在照射光学单元IL和投影系统PS中存在比图示更多的元件。可选地，可以设置光栅光谱滤光片240，这依赖于光刻投影设备的类型。此外，可以存在比图示更多的反射镜，例如在投影系统PS内可以存在比图2中示出的多1-6个附加的反射元件。

如图2所示，收集器光学装置CO被示出为具有掠入射反射器253、254和255的巢状收集器，仅作为收集器（或收集器反射镜）的示例。掠入射反射器253、254和255围绕光轴O轴向对称地设置，并且这种类型的收集器光学装置CO优选与放电产生等离子体源（通常称为DPP源）结合使用。

可替代地，源收集器设备SO可以是如图3所示的LPP辐射系统的一部分。激光器LA布置成将激光能量照射到燃料（例如氙（Xe）、锡（Sn）或锂（Li））中，生成高度电离的等离子体210，其具有几十电子伏特的电子温度。在这些离子去激发和再结合期间产生的高能辐射由等离子体发射，通过近正入射收集器光学装置CO收集并聚焦到包围结构220内的开口221上。

图4-6示出夹持装置301的实施例。夹持装置301包括基板302和两个致动器304、304’，它们构造和布置成将电能转化为动能。基板302设置有通孔（在图中未示出）。基板还设置有对准机构，所述对准机构可以称为对准器，包括两个臂306、306’和两个可转动构件，例如可转动对准盘308、308’。盘308、308’安装在臂306、306’上。每个致动器304、304’可以固定至一个可转动盘308、308’。每个盘308、308’具有第一边缘310、310’，第二边缘312、312’和引导部314、314’，所述引导部具有径向部分314_rad、314’_rad和切向部分314_tan、314’_tan。致动器304、304’被构造和布置成围绕第一轴线A、A’转动盘308、308’。

在该实施例中，夹持装置301具有夹持机构，所述夹持机构可以被称为夹持器，所述夹持机构包括两对另外的可转动盘316、316’。这些另外的可转动盘316、316’可以偏心地安装到各个另外的臂318、318’上，意味着旋转轴线位于离开另外的盘316、316’的中心轴线一距离的位置处。另外的臂318、318’设置在基板302上。另外的一对盘316可以围绕第二轴线B转动，而另外的另一对盘316’可以围绕另一第二轴线B’转动。在该实施例中，第二轴线B、B’平行于对应的第一轴线A、A’，但是与对应的第一轴线A、A’相距一定距离，有效地产生了力倍增器，如在图5中可以看到的。在本实施例中，夹持机构（夹持器）包括两个铰链320、320’，两个铰链连接或耦接到对应的一对另外的可转动盘316、316’。铰链320、320’还可以围绕各自的第二轴线B、B’转动，每个铰链具有凸轮322、322’，所述凸轮装配到引导部314、314’中。盘316、316’中的一个或更多个可以包括内部部分316_in、316_in’和外部部分316_out、316_out’，在它们之间设置有滚柱轴承（在图中未示出）。

夹持装置301的该实施例包括分离机构，所述分离机构可以称为分离器，所述分离机构包括一对提升臂324、324’，所述一对提升臂324、324’围绕对应的第三轴线C、C’可转动地安装在基板302上。成对的另外的可转动凸轮326、326’设置在分离机构（分离器）中，所述成对的另外的可转动凸轮能够围绕对应的第二轴线B、B’转动，每对连接或耦接至铰链320、320’中的一个。当转动至特定位置时，凸轮326、326’将压靠提升臂324、324’的一部分，导致提升臂324、324’的另一部分（在图中不可见）提升停置在基板302上的物体328。基板302还具有一个或更多个弹簧330，所述一个或更多个弹簧330布置用于将提升臂324、324’保持在非提升位置。

物体328包括另一板332和锥形部334。锥形部334具有两个端部，一个端部限定通过另一板332的孔（在图中未示出），该孔还对应于基板302中的孔。期望地，所述孔中的一个或两个孔设置有O形圈，以便能够在夹持装置301和物体328在对准位置中被夹持在一起时形成紧密密封。另一板332具有四个弹簧，在该实施例中是片簧336、336’，其中两个在图4中示出。物体还具有带两个V形槽340、340’的对准板338，在本实施例中每个V形槽包括多个球式传递单元341、341’，这些球式传递单元在使用时与可转动盘308、308’的第一边缘310、310’和第二边缘312、312’协同操作，如图5所示。

在本实施例中，透射式对准板342、342’固定至物体328，光源344、344’固定至夹持装置301。可转动盘308、308’和另外的可转动盘316、316’每个具有小的通孔345_A、345_A’、345_B、345_B’，来自光源344、344’的光束346、346’能够通过所述小的通孔、沿其各自的光路传播至对准板。透射式对准板342、342’每个具有白色中心348、348’，其对来自光源344、344’的白光束346、346’是透射的。对准板342、342’还具有四个着色区域350、350’、352、352’、354、354’、356、356’。这些着色区域中的每个着色区域主要对白光束346、346’中的一种颜色是透射的。在光束346、346’的光路中的下游，相应的传感器（在图中未示出）定位、固定至夹持装置301，这些传感器被构造和布置用于检测四种颜色中哪种颜色被对准板342、342’透射，或者检测白光是否正在被透射。

依赖于已经被传感器检测的颜色，物体328可以被移动更靠近至少大体上与夹持装置301对准的位置。一旦夹持装置301与物体大体上对准，物体328就被滑动到夹持装置301上。

图7-10示出图4-6中的夹持装置301的实施例的两个变更实施方式。在图7和8中，一个或更多个发光二极管（LED）358、358’位于相应的对准板342、342’的附近，照相机360、360’位于相应的致动器302附近。在图7和8的实施例中，照相机360、360’和LED 358、358’相对于夹持装置301被固定，在这种情况下对准板342、342’相对于物体328被固定。然而，可替代地，对准板342、342’可以相对于夹持装置301被固定，在这种情况下照相机360、360’和LED 358、358’相对于物体328被固定。

在图9和10中，代替透射式对准板，使用反射式对准板342、342’。在图9和10的实施例中，照相机360、360’和LED 358、358’相对于夹持装置301被固定，在这种情况下对准板342、342’相对于物体328被固定。然而，相反的情况也是可以的。

一旦物体328被滑到基板302上，可转动盘308、308’被相应的致动器304、304’转动，允许第一边缘310、310’和第二边缘312、312’推动球式传递单元340、340’，使得物体328被朝向对准位置引导。虽然物体328被引导至对准位置，但是引导部314、314’的切向部分314_tan、314’_tan沿对应的凸轮322、322’移动。

一旦到达对准位置，铰链320、320’的凸轮322、322’将到达引导部314、314’的对应的径向部分314_rad、314’_rad。可转动盘308、308’用作至铰链320、320’的凸轮322、322’的运载装置或托架（carrier）。结果，尽管致动器304、304’甚至进一步转动可转动盘，然而凸轮322、322’由于铰链320、320’围绕距离轴线A、A’一定距离的轴线B、B’可转动的事实而被引导部314、314’的径向部分314_rad、314’_rad向内引导。另外的可转动盘316、316’随着铰链320、320’以及它们的凸轮322、322’转动，直到它们向下压片簧336、336’。尽管向下压片簧336、336’，致动器通常会感觉到来自片簧336、336’的阻力，因为它们会向另外的可转动盘316、316’施加反作用力，直到另外的可转动盘316、316’经过由特定设计确定的特定的死点。在经过该死点之后，可转动盘316、316’将保持在稳定的被夹持位置，而无需致动器304、304’的帮助。

典型地，物体328直接或者间接地连接至照射系统IL，基板302直接或者间接地连接至源收集器设备SO或者至少源收集器设备SO的一部分。

当夹持装置301处于夹持位置时，可以在源SO的包围结构220和照射系统IL中产生真空环境。

当物体328将要从夹持装置301分离时，致动器304、304’沿与用于将物体328带入对准位置、并且随后将物体328带入夹持位置的方向相反的方向转动。凸轮326、326’被带至压靠提升臂324、324’的位置。这将使得提升臂324、324’提升停置在基板302上的物体328，同时用于物体移动的空间保持被另外的可转动盘316、316’限制，防止物体328和基板302以不受控的方式相对于彼此“跳离开”。

虽然在本文中详述了光刻投影设备用于制造IC（集成电路），但是应该理解到这里所述的光刻投影设备可以有其他的应用，例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器（LCD）、薄膜磁头等。本领域技术人员应该认识到，在这种替代应用的情况中，可以将这里使用的任何术语“晶片”或“管芯”分别认为是与更上位的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光之前或之后进行处理，例如在轨道（一种典型地将抗蚀剂层涂到衬底上，并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具）、量测工具和／或检验工具中。在可应用的情况下，可以将此处的公开内容应用于这种和其他衬底处理工具中。另外，所述衬底可以处理一次以上，例如以便产生多层IC，使得这里使用的所述术语“衬底”也可以表示已经包含多个已处理层的衬底。

虽然上面已经详述了本发明的实施例在光学光刻术的情形中的应用，应该注意到，本发明可以用于其它的应用，例如压印光刻术，并且只要情况允许，不局限于光学光刻术。在压印光刻术中，图案形成装置中的拓扑限定了在衬底上产生的图案。可以将所述图案形成装置的拓扑印刷到提供给所述衬底的抗蚀剂层中，在其上通过施加电磁辐射、热、压力或其组合来使所述抗蚀剂固化。在所述抗蚀剂固化之后，所述图案形成装置从所述抗蚀剂上移走，并在抗蚀剂中留下图案。

在允许的情况下，术语“透镜”可以表示不同类型的光学部件中的任何一种或其组合，包括折射式的、反射式的、磁性式的、电磁式的以及静电式的光学部件。

尽管以上已经描述了本发明的具体实施例，但应该认识到，本发明可以以与上述不同的方式来实现。例如，本发明可以采用包含用于描述一种如上面公开的方法的一个或更多个机器可读指令序列的计算机程序的形式，或具有存储其中的这样的计算机程序的数据存储介质（例如半导体存储器、磁盘或光盘）的形式。以上的描述是说明性的，而不是限制性的。因此，本领域的技术人员应当明白，在不背离下文所附的权利要求的保护范围的条件下，可以对本发明进行修改。

Claims (19)

1.一种夹持装置，构造和布置用于将两个部件夹持在一起，所述夹持装置包括：

对准器，构造和布置用于将所述两个部件相对于彼此设置在对准位置；

夹持器，构造和布置用于将所述两个部件保持在对准位置；

分离器，构造和布置用于引导所述两个部件离开对准位置至分离位置；以及

致动器，构造和布置用于将电流转化成动能，其中所述对准器、夹持器以及分离器被构造和布置成被致动器驱动。

2.根据权利要求1所述的夹持装置，其中，所述夹持装置被构造成被固定至所述两个部件中的一个部件，其中所述对准器包括可转动构件，其中所述致动器被构造和布置用于转动可转动构件，所述可转动构件设置有凸起或者边缘，以与两个部件中的另一部件的凹陷协同操作，从而通过可转动构件的转动使两个部件处于对准位置，或者所述可转动构件设置有凹陷，以与两个部件中的另一部件的凸起协同操作，从而通过可转动构件的转动使两个部件处于对准位置。

3.根据权利要求2所述的夹持装置，其中，所述凹陷是凹槽。

4.根据权利要求3所述的夹持装置，其中，所述凹槽是V形凹槽。

5.根据前述任一权利要求所述的夹持装置，其中，所述夹持器包括能够偏心地转动的可转动装置，所述致动器被构造和布置用于通过使可转动装置转动至夹持位置而使两个部件彼此压靠。

6.根据权利要求5所述的夹持装置，其中，所述可转动装置包括圆柱形构件。

7.根据权利要求6所述的夹持装置，其中，所述可转动装置设置有圆柱形外壳，所述外壳能够相对于圆柱形构件转动。

8.根据权利要求7所述的夹持装置，其中，所述可转动装置包括在圆柱形构件与圆柱形外壳之间的轴承。

9.根据权利要求8所述的夹持装置，其中，所述轴承是滚柱轴承。

10.根据权利要求5-9中任一项所述的夹持装置，其中，所述夹持器被构造和布置成被固定至两个部件中的一个部件，其中所述对准器包括可转动构件，其中所述致动器被构造和布置用于转动可转动构件，所述可转动构件设置有凸起，以与两个部件中的另一个部件的凹陷协同操作，从而通过可转动构件的转动使两个部件处于对准位置中，或者所述可转动构件设置有凹陷，以与两个部件中的另一部件的凸起协同操作，从而通过可转动构件的转动使两个部件处于对准位置中，并且其中所述可转动构件设置有运载装置，所述运载装置被构造和布置用于将可转动装置运载至夹持位置。

11.根据权利要求10所述的夹持装置，其中，所述可转动装置耦接至凸轮，所述凸轮被布置用于转动可转动装置，并且其中所述运载装置是凹陷，所述凹陷被构造和布置用于卡住凸轮并且将凸轮带入其中可转动装置处于夹持位置的位置处。

12.根据权利要求5-11中任一项所述的夹持装置，其中，所述分离器包括提升构件，所述提升构件被构造和布置用于使两个部件彼此分离开。

13.根据权利要求12所述的夹持装置，其中，所述分离器包括限制构件，所述限制构件被构造和布置用于在提升构件使两个部件彼此分离开时限制两个部件之间的间距。

14.根据权利要求12或13所述的夹持装置，其中，所述分离器包括一个或更多个另外的可转动装置，所述另外的可转动装置被构造和布置用于推压提升构件，以便提升构件将两个部件彼此分离开。

15.根据权利要求14所述的夹持装置，其中，所述对准器包括可转动构件，所述可转动构件设置有凸起，以与两个部件中的第一部件的凹陷协同操作，从而通过可转动构件的转动使两个部件处于对准位置中，或者所述可转动构件设置有凹陷，以与两个部件中的第一部件的凸起协同操作，从而通过可转动构件的转动使两个部件处于对准位置中，其中所述致动器被构造和布置成旋转可转动构件，且其中所述可转动构件设置有运载装置，所述运载装置被构造和布置用于运载一个或更多个另外的可转动装置，以推压提升构件，以便提升构件使两个部件彼此分离开。

16.一种组件，包括照射系统、辐射源和根据前述任一项权利要求所述的夹持装置，所述夹持装置用于将照射系统和辐射源夹持在一起。

17.一种光刻投影系统，包括根据权利要求16所述的组件。

18.一种组件，包括：

辐射源，配置用于产生辐射；

照射系统，配置用于调节辐射；以及

夹持装置，构造和布置用于将辐射源和照射系统夹持在一起，所述夹持装置包括：

对准器，构造和布置用于将辐射源和照射系统相对于彼此设置在对准位置；

夹持器，构造和布置用于将辐射源和照射系统保持在对准位置；

分离器，构造和布置用于引导辐射源和照射系统离开对准位置至分离位置；以及

致动器，构造和布置用于将电流转化成动能，

其中所述对准器、夹持器以及分离器被构造和布置成被致动器驱动。

19.一种光刻投影系统，包括：

辐射源，配置用于产生辐射；

照射系统，配置用于调节辐射；以及

夹持装置，构造和布置用于将辐射源和照射系统夹持在一起，所述夹持装置包括：

对准器，构造和布置用于将辐射源和照射系统相对于彼此设置在对准位置；

夹持器，构造和布置用于将辐射源和照射系统保持在对准位置；

分离器，构造和布置用于引导辐射源和照射系统离开对准位置至分离位置；以及

致动器，构造和布置用于将电流转化成动能，

其中所述对准器、夹持器以及分离器被构造和布置成被致动器驱动；以及

投影系统，配置用于将图案化的辐射束投影到衬底上。

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