JP2003100846A

JP2003100846A - 基板受渡機構

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Publication number: JP2003100846A
Application number: JP2001297897A
Authority: JP
Inventors: Koichi Hashiguchi; 浩一橋口; Kazuhisa Imura; 和久井村
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2001-09-27
Filing date: 2001-09-27
Publication date: 2003-04-04
Anticipated expiration: 2021-09-27
Also published as: JP3976531B2

Abstract

(57)【要約】【課題】傷やパーティクルを付着させずに基板の受け
渡しを行う。【解決手段】搬送台車１００側の保持部材５２におけ
る支持部５２１と、処理装置側の保持部材２００におけ
る支持部２０１と、が平面視にて互いに嵌合するよう当
該各支持部を構成する事で、両者が同一の基板Ｗを同時
に支持し得るようにする。保持部材２００から保持部材
５２へ基板Ｗを移載する際は、支持部５２１が、支持部
２０１によって支持されている基板Ｗを下方からすくい
上げる。保持部材５２から保持部材２０１へ基板Ｗを移
載する際は、保持部材５２が保持部材２０１に向かって
下降する事により、基板Ｗを支持部材２０１に軟着下さ
せる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板の受け渡しを
行う技術に関し、より詳細には、フォトマスク等の製造
においてフォトマスクの製造基板に傷やパーティクルを
付着させずに当該基板の受け渡しを行う技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子や液晶表示装置の製造におい
て、フォトリソグラフィー工程ではフォトマスクが使用
される。フォトマスクは、概略次の様な工程を経て製作
される。即ち、先ず成膜装置により、石英ガラス等から
成る透光性基板上にクロム膜を成膜する。次いで、スピ
ンコータやＣａｐコータ等の塗布装置により、クロム膜
上にレジストを塗布する。次いで、レーザ描画装置、電
子線描画装置、或いは露光装置等により、当該レジスト
膜に所定のパターンを描画（露光）する。次いで、レジ
スト現像装置により、現像を行う。次いで、エッチング
装置により、クロム膜をエッチングする。次いで、洗浄
装置により、レジスト膜の剥離及び基板の洗浄を行う。
しかる後、欠陥検査装置により、遮光膜パターンの欠如
を検査し、パタン修正装置を用いて遮光膜パタンの修正
を行う事により製品としてのフォトマスクを得る。

【０００３】ところで、前述した成膜装置、塗布装置、
描画装置、露光装置、レジスト現像装置、エッチング装
置、洗浄装置、欠陥検査装置、パタン修正装置などの各
装置（以下、「処理装置」と総称する。）は、各々個別
の位置に配置されている。従って、フォトマスクの製造
過程においては、製造途中で得られるフォトマスクの素
材基板を、次の工程を担う処理装置まで搬送する必要が
ある。従来、そのような処理装置間における素材基板の
搬送は、製造ラインのフレキシビリティやコストメリッ
ト等を勘案して作業者の人手により行われていた。

【０００４】一方、近時では、液晶ディスプレイ（LC
D）、フラットパネルディスプレイ（FPD）、プラズマパ
ネルディスプレイ（PDP）、薄膜トランジスタ（TFT）、
カアラーフィルタ（CF）等の大型化に伴い、これらの製
造には例えば５００[ｍｍ]×７５０[ｍｍ]以上の大型の
フォトマスクが使用される様になってきており、フォト
マスクの製造過程において当該素材基板を人手により搬
送するのが困難な場合が生じてきた。

【０００５】この様な状況に鑑みて、特開平１１−２０
２４７３号公報には、搬送台車を用いて素材基板を搬送
する事が開示されている。具体的には、この搬送台車に
よれば、素材基板の上下両側面を回転ロールで挟持しつ
つ当該回転ロールを転がすことにより、処理装置との間
で素材基板の受け渡しを行えるので、素材基板の準備を
効率的に行うことができ、作業者の負担が軽減されるこ
ととなる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の技術では、回転ロールを転がしつつ素材基
板の受け渡しを行うので、素材基板と回転ロールとの接
触部分においてパーティクル（塵）が発生し、それが素
材基板に付着してしまうと云う問題を生じていた。すな
わち、素材基板にパーティクルが付着した場合には、微
細なパタンのフォトエッチング等に失敗し、歩留まりの
低下を招くこととなる。また、従来の搬送台車では、回
転ロールの位置が固定されていたので、同一サイズの素
材基板しか保持できない。従って、基板サイズの設計変
更等を行う毎に、異なる搬送台車を用意する必要があ
り、この点について改善の余地があった。

【０００７】本発明は、上記の事情に鑑み成されたもの
であり、傷やパーティクルを付着させることなく基板の
受け渡しを行う基板受渡機構を提供する事を目的とす
る。また、本発明は、異なるサイズの基板を同一の搬送
台車を用いて受け渡す技術を提供する事を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の基板受渡機構
は、水平方向に突出して基板の下側縁を支持する支持部
と、前記支持部によって支持された前記基板が倒れるの
を阻止する阻止部とを有し、当該各部によって前記基板
を立てた状態で保持する保持部材を一対備え、これら保
持部材同士で前記基板の受け渡しを行う基板受渡機構で
あって、一方の前記支持部と、他方の前記支持部とが平
面視において互いに嵌り合うよう当該各支持部を構成す
る事によって、両者が同一の前記基板を同時に支持し得
るようにすると共に、一方の前記支持部が、他方の前記
支持部によって支持されている前記基板を、下方からす
くい上げる如く前記各保持部材同士が相対移動するよう
にした事を特徴とする。

【０００９】ここで、「基板を立てた状態」とは、基板
が鉛直方向に直立している状態、或いは鉛直方向に対し
て傾斜している状態を云う。

【００１０】本発明の基板受渡機構によれば、一方の支
持部と、他方の支持部とが平面視において互いに嵌り合
うよう当該各支持部を構成する事によって、両者が同一
の基板を同時に支持し得ると共に、一方の支持部が、他
方の支持部によって支持されている基板を、下方からす
くい上げる如く各保持部材同士が相対移動するので、基
板の受け渡しの際に、当該基板と保持部材との接触面積
を最小限に抑えることができる。しかも、当該接触箇所
では両者の間に摩擦等が生じる懸念はない。これによ
り、受け渡しの際に、基板に傷やパーティクルが付着す
るのが抑制される。

【００１１】本発明の具体的な態様においては、前記阻
止部を、前記基板の左右両側面を把持する左右一対の把
持部材とし、前記一対の把持部材は、当該左右方向に開
閉自在に構成し、一方の前記保持部材における前記一対
の把持部材と、他方の前記保持部材における前記一対の
把持部材と、が側面視において互いに嵌り合うよう当該
各把持部材を構成する事によって、両者が同一の前記基
板を同時に把持し得るように構成するのが好ましい。

【００１２】本発明の具体的な態様によれば、各々の保
持部材が、基板の下端縁を支持部によって支持すると共
に、当該基板の左右両側面を把持部材によって把持する
ので、これを安定した状態で保持できる。また、各々の
把持部材は、左右方向に自在に開閉するので、サイズの
異なる基板を保持できる。一方の保持部材によって保持
されている基板を他方の保持部材に受け渡す際には、予
め当該他方の保持部材の把持部材を開いておき、双方の
支持部材が当該基板を同時に支持し得るようにこれら保
持部材同士を相対向させる。次いで、当該一方の保持部
材を開くと共に、当該他方の把持部材を閉じる。このと
き、双方の把持部材は、側面視において互いに嵌り合う
よう構成されているので、互いに干渉する事は無い。次
いで、当該他方の支持部が、当該一方の支持部によって
支持されている基板を、下方からすくい上げる如く各保
持部材同士を相対移動させる。かくして、一方の保持部
材から他方の保持部材に基板が移載される。このよう
に、基板の受け渡しを行う過程で双方の把持部材が左右
方向に自在開閉するので、同一の基板受渡機構で以って
異なるサイズの基板の受け渡しを行える。

【００１３】また、本発明の更に具体的な態様において
は、前記基板をフォトマスク基板とし、一方の前記保持
部材を前記フォトマスク基板を搬送する搬送台車に昇降
自在に搭載すると共に、他方の前記保持部材を前記フォ
トマスク基板に現像、エッチング、洗浄その他の所定の
処理を施す処理装置に固定するのが好ましい。なお、こ
こでフォトマスク基板とは、ガラス基板その他の透光性
基板や、透光性基板に遮光膜が成膜されて成るフォトマ
スクブランク等の様なフォトマスクの製造途中の素材基
板、及びフォトマスクそのものを云う。

【００１４】本発明の更に具体的な態様によれば、一方
の前記保持部材を前記フォトマスク基板を搬送する搬送
台車に昇降自在に搭載すると共に、他方の前記保持部材
を前記フォトマスク基板に現像、エッチング、洗浄その
他の所定の処理を施す処理装置に固定するので、各々の
処理装置に保持部材を昇降させる手段を搭載する必要が
無くなり、各処理装置側の構成を簡略化できる。

【００１５】また、本発明のフォトマスクの製造方法
は、前記基板受渡機構を用いて前記フォトマスク基板の
受け渡しを行う工程を含む事を特徴とする。

【００１６】本発明のフォトマスクの製造方法によれ
ば、基板受渡機構を用いてフォトマスク基板の受け渡し
を行うので、フォトマスク基板に傷やパーティクルが付
着するのを最小限に抑えることができる。これにより、
歩留まりを向上できる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図１乃至図１０を参照して
本発明の実施の形態について説明する。 [第１の実施の形態]先ず、本発明が適用されたフォトマ
スク製造ラインの全体構成について説明する。図１は、
フォトマスク製造ラインを例示する鳥瞰概略図である。
図１において、符号１から符号８はそれぞれ処理装置を
示し、符号Ｌは床面に敷設されたレールガイドを示し、
符号１００は搬送台車を示す。

【００１８】図１に示す様に、各々の処理装置１，２，
３，４…は、それぞれ所定位置に配置されている。そし
て、当該各装置をつなぐ様にレールガイドＬが敷設され
ており、そのレールガイドＬに沿って、フォトマスク基
板を搬送する搬送台車１００を手押しにより移動させる
事ができる様に成っている。なお、ここに云うフォトマ
スク基板とは、フォトマスクの原板である透光性基板、
透光性基板の表面に遮光膜が成膜されて成るフォトマス
クブランク、遮光膜の上にレジスト膜が積層されて成る
基板、その他のフォトマスク製造過程で得られる製造途
中の素材基板、及びフォトマスクの総称である。

【００１９】具体的には、処理装置１から処理装置８は
それぞれ、成膜装置、塗布装置、露光装置、レジスト現
像装置、エッチング装置、洗浄装置、欠陥検査装置、パ
タン修正装置であり、搬送台車１００を用いてこの順に
フォトマスク基板の搬送を行うようにしたものである。
即ち、フォトマスクの製造過程において、搬送台車１０
０は、処理装置１によって処理されて成るフォトマスク
ブランクを当該処理装置１から受け取り、受け取ったフ
ォトマスクブランクを保持しつつ処理装置２まで搬送
し、次いで処理装置２に当該フォトマスクブランクを渡
す。以下同様にして、搬送台車１００は、或処理装置で
処理されたフォトマスク基板を当該或処理装置から受け
取り、受け取ったフォトマスク基板を、次の工程を担う
処理装置まで搬送し、次いで当該処理装置に当該フォト
マスク基板を渡す。

【００２０】次に、搬送台車１００について説明する。
搬送台車１００は、図２に示す様に、四隅にそれぞれロ
ーラキャスタ１１，１２，１３，１４が取り付けられた
平面視矩形の底面パネル２０を基礎として構成されてい
る。この底面パネル２０の相対面する左右両側面にはそ
れぞれ側面パネル３１，３２が立設されており、これら
側面パネル３１，３２の上端には梁材４１，４２が架け
渡されている。そして、この搬送台車１００の前方及び
後方は開口しており、当該何れかの開口部を介してフォ
トマスク基板Ｗの受け渡しが行われる様に成っている。

【００２１】フォトマスク基板Ｗの受け渡しは、側面パ
ネル３１と側面パネル３２の間に配置された受渡ユニッ
ト５０によって行われる。受渡ユニット５０は、水平に
配置されたターンテーブル５１と、このターンテーブル
５１上に載置された保持部材５２とを含んで構成されて
いる。

【００２２】ターンテーブル５１は、平面視において円
形をなしており、図示せぬボールベアリング等によって
当該周方向に自在に回転するよう構成されている。

【００２３】このターンテーブル５１上に載置された保
持部材５２は、図３（ａ）に示す様に、水平方向に突出
したフォーク部材５２１と、鉛直方向に延びる背凭板５
２２と、によって側面視略Ｌ字状に構成されて成る。フ
ォーク部材５２１によってフォトマスク基板Ｗを支持す
る支持部を構成し、背凭板５２２によって、フォトマス
ク基板Ｗが倒れるのを阻止する阻止部を構成している。
即ち、保持部材５２は、フォーク部材５２１によってフ
ォトマスク基板Ｗの下側縁を支持すると共に、背凭板５
２２によってフォトマスク基板Ｗの背部上端縁を受け止
める事により、当該フォトマスク基板Ｗを立て掛けた状
態で保持するものである。

【００２４】フォーク部材５２１は、図４（ａ）に示す
様に、一端が背凭板５２２に固着され、他端が自由端と
された複数の突出片５２１ａ，５２１ｂから成る。これ
ら突出片５２１ａ，５２１ｂは、所定間隔を隔てて断続
的に配されている。即ち、フォーク部材５２１は、フォ
トマスク基板Ｗの下側縁の一部のみを支持する。

【００２５】また、各々の突出片５２１ａ，５２１ｂの
自由端部には、フォトマスク基板Ｗの下端縁を係止する
係止手段としての凸部５２１ｃ，５２１ｄがそれぞれ設
けられている。これにより、フォトマスク基板Ｗの下端
縁が凸部５２１ｃ，５２１ｄによって係止されるので、
当該フォトマスク基板Ｗの下端縁が各突出片５２１ａ，
５２１ｂの当該突端方向に滑り落ちる事が阻止される。

【００２６】また、受渡ユニット５０は、図示はしない
が、保持部材５２の姿勢を保ったまま、当該保持部材５
２を前後方向に進退させる進退機構を具備している。具
体的には、この進退機構によって、フォーク部材５２１
の裏面がターンテーブル５１の表面に摺接しながら保持
部材５２全体が前後方向に自在に摺動する様に成ってい
る。ここで、搬送台車１００の前方或いは後方は開口し
ているので、保持部材５２を前後方向に摺動させる事に
よって、フォーク部材５２１を搬送台車１００の開口部
から完全に突出させる事ができる（図３（ｂ）参照）。
尚、この進退機構は、例えばラックとピオニオン等によ
って実現できる。

【００２７】更に、受渡ユニット５０は、図示はしない
が、保持部材５２の姿勢を保ったまま、当該保持部材５
２を鉛直方向に昇降させる昇降機構を具備している。具
体的には、この昇降機構によって、ターンテーブル５１
を昇降させる事により、当該ターンテーブル５１に載置
された保持部材５２を昇降できる様に成っている。尚、
この昇降機構は、ラックとピオニオン或いはボールネジ
等によって実現できる。

【００２８】また、図２に示す様に、床パネル２０の左
右両側面には、それぞれガイドバー６１，６２が固着さ
れている。このガイドバー６１，６２は、レールガイド
Ｌを構成する案内溝に嵌っている。従って、これらガイ
ドバー６１，６２が案内溝の内壁に案内されるので、作
業者は、レールガイドＬに沿って搬送台車１００を手押
しする事ができる。

【００２９】次に、処理装置１，２，３…側の構成につ
いて説明すると、図３（ｂ）に示す様に、各処理装置
１，２，３…には、それぞれ保持部材２００が固定され
ている。保持部材２００は、前述した保持部材５２と対
をなすもので、この保持部材２００と受渡ユニット５０
とによって基板受渡機構を構成している。即ち、保持部
材２００は、図３（ｂ）及び図４（ｂ）に示す様に、水
平方向に延びるフォーク部材２０１と、鉛直方向に延び
る背凭板２０２とにより側面視Ｌ字状に構成されて成
る。

【００３０】但し、フォーク部材２０１は、図４（ｂ）
に示す様に、３つの突出片２０１ａ，２０１ｂ，２０１
ｃから成る。当該各突出片も、所定間隔を隔てて断続的
に配されている。但し、これら突出片２０１ａ，２０１
ｂ，２０１ｃは、平面視において前述した各突出片５２
１ａ，５２１ｂと嵌り合うように配置されており、これ
によって、フォーク部材５２１とフォーク部材２０１と
で同一のフォトマスク基板Ｗを同時に保持できる様に成
っている。即ち、フォーク部材２０１は、フォトマスク
基板Ｗの下側端のうち、前述した突出片５２１ａ，５２
１ｂによっては支持されない部分を支持するものであ
る。

【００３１】また、各々の突出片２０１ａ，２０１ｂ，
２０１ｃの自由端部には、フォトマスク基板Ｗの下端縁
を係止する係止手段としての凸部２０１ｄ，２０１ｅ，
２０１ｆがそれぞれ設けられている。

【００３２】以上説明したフォトマスク製造ラインで
は、次の様にして搬送台車１００と処理装置１，２，３
…との間でフォトマスク基板Ｗの受け渡しが行われる。
図５は、フォトマスク基板の受け渡し態様を模式的に示
す。

【００３３】先ず、作業者は、フォトマスク基板Ｗを保
持した搬送台車１００をレールガイドＬに沿って処理装
置１まで手押しする。搬送台車１００を処理装置１まで
搬送した場合には、搬送台車１００の前方或いは後方の
開口部が、処理装置１側の保持部材２００を臨むようレ
ールガイドＬが敷設されている。尚、このとき側面視に
おいて、搬送台車１００側のフォーク部材５２１は、処
理装置１側のフォーク部材２０１よりも上方に位置して
いる（図５（ａ）参照）。

【００３４】次いで、作業者は、保持部材５２を保持部
材２００に向かって摺動させる。このとき、図３（ｂ）
に示す様に、側面視において、フォトマスク基板Ｗの下
端縁が、フォーク部材２０１の凸部２０１ｄ，２０１
ｅ，２０１ｆよりも背凭板２０２側に位置するまで保持
部材５２を摺動させる（図５（ｂ）参照）。

【００３５】次いで、作業者は、保持部材５２を下降さ
せ、フォーク部材５２１とフォーク部材２０１とが同じ
高さになったら当該下降を一端停止する。その過程で、
フォーク部材５２１とフォーク部材２０１とが嵌り合
い、両者によって同一のフォトマスク基板Ｗが同時に支
持される。この状態で、作業者は、背凭板５２２に立て
掛けられているフォトマスク基板Ｗを背凭板２０２に立
て掛ける（図５（ｃ）参照）。

【００３６】次いで、作業者は、保持部材５２を更に下
降させる。これにより、フォーク部材２０１が、フォー
ク部材５２１によって支持されているフォトマスク基板
Ｗを下方からすくい上げる如く、これらフォーク部材２
０１，５２１同士が相対移動することとなって、保持部
材５２によるフォトマスク基板Ｗの保持が解除され、保
持部材２００側にフォトマスク基板Ｗが移載される（図
５（ｄ）参照）。ここで、フォーク部材５２１とフォー
ク部材２０１とは、平面視において互いに嵌り合うよう
構成されているので、当該各突出片は互いに干渉せずに
離合する。

【００３７】次いで、作業者は、保持部材５２を後退さ
せ、これを搬送台車１００に収める（図５（ｅ）参
照）。次いで、作業者は、搬送台車１００を所定位置ま
で復帰させる（図５（ｆ）参照）。

【００３８】以上、搬送台車１００から処理装置１への
フォトマスク基板Ｗの移載について説明したが、処理装
置１から搬送台車１００へのフォトマスク基板Ｗの移載
も同様にして行われる。

【００３９】即ち、作業者は、空の状態の搬送台車１０
０をレールガイドＬに沿って処理装置１まで手押しす
る。このとき側面視において、搬送台車１００側のフォ
ーク部材５２１は、処理装置１側のフォーク部材２０１
よりも下方に位置している。

【００４０】次いで、作業者は、フォトマスク基板Ｗの
下端縁が、フォーク部材５２１の凸部５２１ｃ、５２１
ｄよりも背凭板５２２側に位置するまで、保持部材５２
を保持部材２００に向かって摺動させる。

【００４１】次いで、作業者は、保持部材５２を上昇さ
せ、フォーク部材５２１とフォーク部材２０１とが同じ
高さになったら当該下降を一端停止する。その過程で、
フォーク部材５２１とフォーク部材２０１とが嵌り合
い、両者によって同一のフォトマスク基板Ｗが同時に支
持される。この状態で、作業者は、背凭板２０２に立て
掛けられているフォトマスク基板Ｗを背凭板５２２に立
て掛ける。

【００４２】次いで、作業者は、保持部材５２を更に上
昇させる。これにより、フォーク部材５２１が、フォー
ク部材２０１によって支持されているフォトマスク基板
Ｗを下方からすくい上げる如く移動することとなって、
保持部材２００によるフォトマスク基板Ｗの保持が解除
され、保持部材５２側にフォトマスク基板Ｗが移載され
る。次いで、作業者は、保持部材５２を後退させ、これ
を搬送台車１００に収める。次いで、作業者は、搬送台
車１００を次の工程を担う処理装置２まで手押しする。

【００４３】本実施の形態においては、次の様な効果が
得られる。（１）各保持部材５２，２００はそれぞれ、フォーク部
材５２１，２０１によってフォトマスク基板Ｗの下端縁
を支持し、背凭板５２２，２０２によってフォトマスク
基板Ｗの上端縁を受けとめる事により、フォトマスク基
板Ｗを立て掛けた状態で保持するので、これとフォトマ
スク基板Ｗとの接触面積を最小限に抑えることができ
る。即ち、各保持部材は、フォトマスク基板Ｗの端縁の
みに接触する。しかも、当該接触箇所においては、摩擦
等を発生する懸念が無い。これにより、フォトマスク基
板Ｗへの傷或いはパーティクルの付着を防止できる。

【００４４】（２）保持部材５２，２００は、フォトマ
スク基板Ｗの上端縁と下端縁のみを支える事によって、
これを立て掛けた状態で保持するので、フォーク部材と
背凭板とによって安定して保持できる範囲であれば、様
々なサイズのフォトマスク基板を保持できる。また、こ
れにより、保持部材５２，２００同士で、様々なサイズ
のフォトマスク基板の受け渡しが可能となる。

【００４５】（３）フォーク部材５２１と、フォーク部
材２０１とが平面視において互いに嵌り合うよう構成す
る事によって、両者が同一のフォトマスク基板Ｗを同時
に支持し得るようにすると共に、一方のフォーク部材
が、他方のフォーク部材によって支持されている基板
を、下方からすくい上げる如く各フォーク部材２０１，
５２１同士が相対的に昇降するようにしたので、受け渡
しの際におけるフォトマスク基板Ｗと保持部材との接触
面積を最小限に抑える事ができる。これにより、傷やパ
ーティクルを付着させることなく基板の受け渡しを行う
ことができる。

【００４６】（３）搬送台車１００の前後両方向を開口
すると共に、保持部材５２をターンテーブルによって旋
廻自在に構成したので、処理装置同士が向かい合わせの
レイアウトの場合には、搬送台車１００全体を取り回す
必要が無くなる。これにより、製造効率が向上する。即
ち、図１に示す様に、処理装置６と処理装置７とは向か
い合わせのレイアウトである。この場合、作業者は、フ
ォトマスク基板Ｗを処理装置６から搬送台車１００に移
載した後、当該搬送台車１００の姿勢を保ったまま、保
持部材５２のみを１８０度回転させ、処理装置７に臨ま
せることにより、フォトマスク基板Ｗを処理装置７に移
載させることができる。

【００４７】（４）搬送台車１００をガイドレールＬに
沿って移動させることとして、当該稼動エリアを限定し
たので、搬送台車１００が処理装置などに衝突する事が
確実に回避される。また、これにより、搬送台車１００
の移動ルートと作業者の動線を確実に分離できるので、
製造ラインの安全性を向上できる。

【００４８】尚、フォーク部材２０１とフォーク部材５
２１とは、これらの自由端部分が平面視において嵌まり
合い、且つ、両者によって同一のフォトマスク基板Ｗを
同時に支持できれば、その形状は特に限定されない。従
って、図６に示す様に、両者の突出片の本数を適宜変更
する事もできる。また、何れか一方のフォーク部材は、
少なくとも１つの突出片によって構成できる。この場
合、他方のフォーク部材の突出片は、少なくとも２つの
フォーク部材によって構成できる。また、双方のフォー
ク部材を、多数の突出片によって櫛歯状に構成し、フォ
トマスク基板の受け渡しの際には、これらが互いに噛み
合うようにしてもよい。また、双方のフォーク部材が充
分な隙間をもって嵌まり合うようにしてもよいし、殆ど
隙間の無い状態で嵌まり合うようにしてもよい。

【００４９】〔第２の実施の形態〕以下、第２の実施の
形態について、第１の実施の形態と重複する構成につい
ては、同一符号を用いて説明する。第２の実施の形態
は、搬送台車１００に代えて、垂直保持方式の搬送台車
（VCT;Vertical Cramp Trolley）を採用したものであ
る。

【００５０】図７に示す様に、垂直保持方式の搬送台車
３００は、四隅にそれぞれローラキャスタ７１，７２，
７３，７４が取り付けられた底面パネル８０を基礎とし
て構成されている。この底面パネル８０の側面には、側
面パネル８１，８２，８３が平面視においてコ字状をな
すよう立設されている。即ち、この搬送台車３００では
その前面のみが開口している。

【００５１】また、各側面パネル８１，８２，８３によ
って取り囲まれるように、受渡ユニット９０が配置され
ている。この受渡ユニット９０は、保持部材９１と、保
持部材９１を前後方向に進退させる進退機構（図示せ
ず）と、保持部材９１を昇降させる昇降機構（図示せ
ず）と、を含んで構成されている。

【００５２】保持部材９１は、鉛直方向に起立し基部を
構成する背板９１１と、この背板の下端から当該法線方
向に突出する複数の基板受けローラ９１２ａ，９１２
ｂ，９１２ｃ，９１２ｄから成る支持部９１２と、フォ
トマスク基板Ｗの左右両側面を把持する阻止部としての
クランパ９１３と、により構成されている。

【００５３】各々の基板受けローラは、略円柱状の本体
部より成る。本体部は、当該円柱の中心軸回りに自在に
回転するようになっている。また、図８に示す様に、基
板受けローラ９１２ａ，９１２ｂ，９１２ｃ，９２１ｄ
の本体部には夫々、係止手段としての凹溝９１２ｄ，９
１２ｅ，９１２ｆ，９１２ｇが全周に亘って形成されて
いる。当該凹溝の幅は、フォトマスク基板Ｗの板厚に略
等しい。従って、この凹溝にフォトマスク基板Ｗの下側
面を嵌合させる事ができる。これにより、フォトマスク
基板Ｗを安定して保持できる。尚、溝の形状はフォトマ
スク基板Ｗが嵌まり得るものであれば特に限定されない
が、フォトマスク基板Ｗの下側面を嵌合させた際に、フ
ォトマスク基板Ｗのエッジが当接しないような形状が好
ましい。

【００５４】クランパ９１３は、図９（ａ）に示す様
に、左右一対の把持部９１３１，９１３２と、当該各把
持部９１３１，９１３２を左右方向に開閉させる開閉機
構（図示せず）と、を備えて成る。左方の把持部９１３
１は、鉛直方向に沿って所定間隔（ピッチ）を隔てて均
等に配置された複数の係止部材９１３１ａ，９１３１
ｂ，９１３１ｃ，９１３１ｄより成り、右方の把持部９
１３２は、同じく鉛直方向に沿って所定間隔を隔てて均
等に配置された複数の係止部材９１３２ａ，９１３２
ｂ，９１３２ｃ，９１３２ｄより成る。これら把持部９
１３１，９１３２同士が側面投影視において重なり合う
よう各々の係止部材が配置されている。

【００５５】また、これら把持部９１３１，９１３２
は、図示せぬ開閉機構によって、互いに近づく方向、或
いは互いに遠ざかる方向に均等に変位する。詳細には、
開閉機構は、把持部９１３１，９１３２を互いに連動さ
せて、同じストロークで変位させるセンタリング機能を
有している。従って、図９（ｂ）に示す様に、異なるサ
イズのフォトマスク基板Ｗ´を把持する場合であって
も、両サイドから均等にクランプが行われ、当該フォト
マスク基板Ｗ´は、その中心軸と、背板９１１の中心軸
とが正面視において一致する位置にセンタリングされ
る。これにより、フォトマスク基板の位置決めを確実か
つ容易に行える。なお、センタリングの際には、フォト
マスク基板が支持部９１２上を移動するが、このとき基
板受けローラ９１２ａ，９１２ｂ，９１２ｃが回転する
ので、フォトマスク基板の下側面に摩擦が発生すること
はない。

【００５６】また、各々の処理装置１，２，３…側に
は、保持部材９１と対をなす保持部材４００が適宜位置
に固定されている。この保持部材４００と、受渡ユニッ
ト９０とによって基板受渡機構を構成している。保持部
材４００は、保持部材９１と同様に構成されて成るもの
で、鉛直方向に起立した背板４０１と、この背板４０１
の下端から当該法線方向に突出する複数の基板受けロー
ラから成る支持部４０２と、フォトマスク基板Ｗの左右
両側面を把持するクランパ４０３と、により構成されて
いる。

【００５７】クランパ４０３は、左右一対の把持部と、
当該各把持部を左右方向に開閉させる開閉機構（図示せ
ず）と、を備えて成る。双方の把持部は、鉛直方向に沿
って配置された複数の係止部材より成り、これらは側面
投影視において重なり合うよう配置されている。

【００５８】但し、このクランパ４０３は、側面視にお
いて、搬送台車側のクランパ９１３と、嵌り合うよう構
成されている（図１０（ｃ）参照）。従って、両者のク
ランパ４０３，９１３が同一のフォトマスク基板Ｗを同
時に把持し得るように成っている。

【００５９】本実施の形態では、次の様にして搬送台車
３００と処理装置１，２，３…との間でフォトマスク基
板Ｗの受け渡しが行われる。図１０は、フォトマスク基
板Ｗの受け渡し態様を模式的に示す。

【００６０】先ず、作業者は、フォトマスク基板Ｗを保
持した搬送台車３００をレールガイドＬに沿って処理装
置１まで搬送する。搬送台車３００を処理装置１まで搬
送した場合には、搬送台車３００の開口部が処理装置１
側の保持部材４００を臨み、且つ、背板９１１の中心軸
と、背板４０１の中心軸が揃うように搬送台車３００が
ガイドレールＬによって位置決めされる。尚、このとき
平面視において、搬送台車３００側の支持部９１２は、
処理装置１側の支持部４０２よりも上方に位置している
（図１０（ａ）参照）。また、処理装置側のクランパ４
０３は、完全に開いた状態とされている。詳細には、ク
ランパ４０３の把持部材同士の間隔が、クランパ９１３
の把持部材９１３１，９３１２同士の間隔よりも広い状
態となっている。

【００６１】次いで、作業者は、保持部材９１を保持部
材４００に向かって摺動させる。このとき、平面視にお
いて双方の支持部９１２，４０２の凹溝が一直線上に並
ぶ状態まで保持部材９１を保持部材４００に近接させる
（図１０（ｂ）参照）。

【００６２】次いで、作業者は、保持部材９１を下降さ
せ、これと保持部材４００とが同じ高さになったら当該
下降を一端停止する。その過程で、支持部９１２と、４
０２とが嵌り合い、両者によって同一のフォトマスク基
板Ｗが同時に支持される。この状態で、作業者は、先ず
クランパ４０３を閉じ、次いでクランパ９１３を開く。
即ち、クランパ９１３による把持を排除して、クランパ
４０３によってフォトマスク基板Ｗを把持する。このと
き、双方のクランパ４０３，９１３は、側面視において
互いに嵌り合うよう構成されているので、互いに干渉せ
ずに離合する（図１０（ｃ）参照）。

【００６３】次いで、作業者は、保持部材９１を更に下
降させる。かくして、支持部４０２が、支持部９１２に
よって支持されているフォトマスク基板Ｗを下方からす
くい上げる如く、これら支持部４０２，９１２同士が相
対移動することとなって、保持部材９１によるフォトマ
スク基板Ｗの保持が解除され、保持部材４００側にフォ
トマスク基板Ｗが移載される。ここで、支持部４０２と
支持部９１２とは、平面視において互いに嵌り合うよう
構成されているので、当該各支持部４０２，９１２は互
いに干渉せずに離合する（図１０（ｄ）参照）。

【００６４】次いで、作業者は、保持部材９１を後退さ
せ、これを搬送台車３００に収める（図１０（ｅ）参
照）。次いで、作業者は、搬送台車３００を所定位置ま
で復帰させる（図１０（ｆ）参照）。

【００６５】以上、搬送台車３００から処理装置１への
フォトマスク基板Ｗの移載について説明したが、処理装
置１から搬送台車３００へのフォトマスク基板Ｗの移載
も同様にして行われる。

【００６６】即ち、作業者は、空の状態の搬送台車３０
０をレールガイドＬに沿って処理装置１まで手押しす
る。このとき側面視において、搬送台車３００側の支持
部９１２は、処理装置１側の支持部４０２よりも下方に
位置している。また、搬送台車３００側のクランパ９１
３は、完全に開いた状態とされている。詳細には、クラ
ンパ９１３の把持部材９１３１，９１３２同士の間隔
が、クランパ４０３の把持部材同士の間隔よりも広い状
態となっている。

【００６７】次いで、作業者は、平面視において双方の
支持部９１２，４０２の凹溝が一直線上に並ぶ状態とな
るまで保持部材９１を保持部材４００に向かって摺動さ
せる。

【００６８】次いで、作業者は、保持部材９１を上昇さ
せ、支持部９１２と支持部４０２とが同じ高さになった
ら当該上昇を一端停止する。その過程で、支持部９１２
と支持部４０２とが嵌り合い、両者によって同一のフォ
トマスク基板Ｗが同時に支持される。この状態で、作業
者は、先ずクランパ９１３を閉し、次いでクランパ４０
３を開く。即ち、クランパ４０３による把持を解除し
て、クランパ９１３によってフォトマスク基板Ｗを把持
する。

【００６９】次いで、作業者は、保持部材９１を更に上
昇させる。これにより、支持部９１２が、支持部４０２
によって支持されているフォトマスク基板Ｗを下方から
すくい上げる如く移動することとなって、保持部材４０
０によるフォトマスク基板Ｗの保持が解除され、保持部
材９１側にフォトマスク基板Ｗが移載される。次いで、
作業者は、保持部材９１を後退させ、これを搬送台車３
００に収める。次いで、作業者は、搬送台車３００を次
の工程を担う処理装置２まで手押しする。

【００７０】本実施の形態によれば、次の様な効果が得
られる。（１）保持部材９１の昇降及びクランパ４０３，９１１
の開閉によってフォトマスク基板Ｗの移載を行えるの
で、搬送台車３００と処理装置との間でフォトマスク基
板Ｗを受け渡す際には、作業者がフォトマスク基板Ｗを
直接触る事が無い。従って、フォトマスク基板Ｗにパー
ティクルが付着するのを一層確実に回避できる。

【００７１】（２）保持部材９１，４００においては、
フォトマスク基板Ｗの下側面が凹溝に嵌まると共に、フ
ォトマスク基板Ｗの左右両側面がクランパによって把持
されるので、フォトマスク基板Ｗを安定した状態で保持
できる。特に、搬送台車３００では、搬送中においてフ
ォトマスク基板Ｗを常に安定させることができる。

【００７２】（３）各々のクランパ４０３，９１３は、
センタリング機能を有するので、異なるサイズのフォト
マスク基板Ｗを把持できるのは勿論、これらを常に所定
位置に位置決めできる。従って、保持部材９１，４００
は、様々なサイズのフォトマスク基板を安定してバラン
スよく保持できる。

【００７３】（４）搬送台車３００は、フォトマスク基
板Ｗを垂直な状態で保持するので、これを立て掛けた状
態で保持する搬送台車１００に比較して、その幅をスリ
ムにできる。また、フォトマスク基板Ｗを垂直に保持す
ることによって、仮にフォトマスク基板Ｗが可撓性を有
するものであっても、これが自重で撓みにくくなる。

【００７４】以上、本発明の好適な実施の形態について
説明したが、本発明の技術思想はこれに限られない。例
えば、何れの実施の形態においても、搬送台車側の保持
部材が昇降する様にしたが、搬送台車側の保持部材と処
理装置側の保持部材とが相対的に昇降すれば、フォトマ
スク基板Ｗの受け渡しを行える。従って、処理装置側の
保持部材が昇降するようにしてもよいし、搬送台車側及
び処理装置側の双方の保持部材が昇降するようにしても
よい。

【００７５】また、前述した昇降機構、進退機構、開閉
機構、或いはターンテーブルの回転は、人力に基づいて
保持部材を移動させるものであってもよいし、モータ等
の駆動力によって自動的に保持部材を移動させるもので
あってもよい。人力によって保持部材を移動させる場合
は搬送台車の構造を簡素化できると共にこれを安価に実
現でき、モータ等の駆動力によって保持部材を移動させ
る場合は作業者の労力を著しく軽減できる。また、前述
した昇降機構、進退機構、開閉機構、及びターンテーブ
ルの回転等の各動作は、一台の垂直多関節型ロボット
（ハンドリング装置）で担う事もできる。

【００７６】また、搬送台車１００，３００は作業者に
よる手押しで移動するものとしたが、搬送台車にモータ
等を搭載してこれを電気的に制御することにより、フォ
トマスク基板Ｗの搬送を自動化することもできる。この
ようにして、所謂インタロックを構築した場合には、安
全面を強化することができる。また、凹溝９１２ｄ，９
１２ｅ，９１２ｆ，９１２ｇに代えてＶ状の溝等を形成
することとしてもよい。

【００７７】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、第
１に傷やパーティクルを付着させることなく基板の受け
渡しを行う事が実現され、第２に異なるサイズの基板を
同一の搬送台車を用いて受け渡す事が実現される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用されたフォトマスク製造ラインの
鳥瞰概略図である。

【図２】第１の実施の形態による搬送台車を示す斜視概
略図である。

【図３】第１の実施の形態による搬送台車を示す側面図
であり、（ａ）はフォトマスク基板の搬送時、（ｂ）は
フォトマスク基板の受渡時における状態を示す。

【図４】（ａ）は搬送台車側の保持部材を上方から見下
ろした図、（ｂ）は処理装置側の保持部材を上方から見
下ろした図である。

【図５】第１の実施の形態におけるフォトマスク基板の
受け渡し態様を説明する為の図である。

【図６】フォーク部材の他の形状を示す図である。

【図７】第２の実施の形態による搬送台車を示す斜視概
略図である。

【図８】基板受けローラの側面図である。

【図９】第２の実施の形態による保持部材の動作を説明
する為の図である。

【図１０】第２の実施の形態におけるフォトマスク基板
の受け渡し態様を説明する為の図である。

【符号の説明】

１，２，３，４，５，６，７，８処理装置５０，９０受渡ユニット５２，２００；９１，４００保持部材１００，３００搬送台車２０２，５２２背凭れ板（阻止部材）４０２，９１２支持部４０３，９１３クランパ（阻止部材，把持部材）５２１，２０１フォーク部材（支持部）Ｗフォトマスク基板（基板）

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１３年１０月５日（２００１．１０．
５）

【手続補正１】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】全図

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図１０】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２ＰＦターム(参考） 2H095 BB06 2H097 DB03 DB07 DB11 LA10 LA11 5F031 CA05 CA07 FA02 FA07 FA12 FA13 FA18 GA07 GA15 GA38 GA57 KA02 KA11 KA17 LA12 MA23 MA24 MA26 MA27 PA16

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水平方向に突出して基板の下側縁を支持す
る支持部と、前記支持部によって支持された前記基板が
倒れるのを阻止する阻止部とを有し、当該各部によって
前記基板を立てた状態で保持する保持部材を一対備え、
これら保持部材同士で前記基板の受け渡しを行う基板受
渡機構であって、一方の前記支持部と、他方の前記支持部とが平面視にお
いて互いに嵌り合うよう当該各支持部を構成する事によ
って、両者が同一の前記基板を同時に支持し得るように
すると共に、一方の前記支持部が、他方の前記支持部によって支持さ
れている前記基板を、下方からすくい上げる如く前記各
保持部材同士が相対移動するようにした事を特徴とする
基板受渡機構。
【請求項２】請求項１記載の基板受渡機構において、前記阻止部は、前記基板の左右両側面を把持する左右一
対の把持部材より成り、前記一対の把持部材は、当該左右方向に開閉自在に構成
されてあり、一方の前記保持部材における前記一対の把持部材と、他
方の前記保持部材における前記一対の把持部材とが側面
視において互いに嵌り合うよう当該各把持部材を構成す
る事によって、両者が同一の前記基板を同時に把持し得
るように構成されて成る事を特徴とする基板受渡機構。
【請求項３】請求項１又は２記載の基板受渡機構におい
て、前記基板はフォトマスク基板であり、一方の前記保持部材は、前記フォトマスク基板を搬送す
る搬送台車に昇降自在に搭載されると共に、他方の前記保持部材は、前記フォトマスク基板に現像、
エッチング、洗浄その他の所定の処理を施す処理装置に
固定される事を特徴とする基板受渡機構。
【請求項４】請求項３記載の基板受渡機構を用いて前記
フォトマスク基板の受け渡しを行う工程を含む事を特徴
とするフォトマスクの製造方法。