JP2009094242A - 基板保持機構、基板受渡機構、及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板の確実な保持及び受け渡しを行うことのできる基板保持機構を提供する。
【解決手段】矩形基板Wを保持するための基板保持部を備えた基板保持機構であって、基板Wの対向する2辺に対応した基板保持部上の位置に配設され、該基板保持部に回動可能に軸支された複数の基板保持ローラ120と、該基板保持ローラ120を回転駆動するローラ駆動手段とを備え、前記基板保持ローラ120が、円筒部121とその両端面の外周の一部に設けられた保持フランジ123a,bとを有し、前記ローラ駆動手段によって各基板保持ローラ120を回動させることにより、その回動角度に応じて前記保持フランジ123a,bによる基板Wの端縁の保持及び保持解除を切り換え可能な構成とする。
【選択図】図3
【解決手段】矩形基板Wを保持するための基板保持部を備えた基板保持機構であって、基板Wの対向する2辺に対応した基板保持部上の位置に配設され、該基板保持部に回動可能に軸支された複数の基板保持ローラ120と、該基板保持ローラ120を回転駆動するローラ駆動手段とを備え、前記基板保持ローラ120が、円筒部121とその両端面の外周の一部に設けられた保持フランジ123a,bとを有し、前記ローラ駆動手段によって各基板保持ローラ120を回動させることにより、その回動角度に応じて前記保持フランジ123a,bによる基板Wの端縁の保持及び保持解除を切り換え可能な構成とする。
【選択図】図3
Description
本発明は、ガラス基板等の矩形基板を保持するための基板保持機構並びにそれを備えた基板受渡機構及び基板処理装置に関する。
半導体や液晶、薄膜太陽電池等の製造工程において基板に対し、CVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)、スパッタリング、ドライエッチング等の処理を施すための基板処理装置には、該装置内の各処理室に基板を搬入出するための基板搬送機構が設けられている。こうした基板搬送機構においては、従来、トレイ状のキャリアに基板をセットして該キャリアごと基板を搬送するいわゆるキャリア方式が広く用いられてきたが、近年では、処理効率の向上や微粒子の付着防止の観点から、搬送機構に設けられたアームによって基板の端縁部を直接保持し、該基板のみを処理室に搬入するキャリアレス方式の基板搬送機構が主流になりつつある。
また、上記従来の基板処理装置においては、基板は水平に寝かせた状態で搬送するのが一般的であるが、近年のフラットパネルディスプレイの大画面化や太陽電池の大面積化に伴って、それらの主要部品であるガラス基板の大型化が進んでおり、これに起因して、基板が自重で撓むことによる損傷の発生や基板処理装置の設置面積の増大等の問題が発生している。
こうした問題を解消するため、近年では、基板を起立させた状態で搬送及び処理を行う方式の基板処理装置が考案されており、例えば、特許文献1には基板を斜めに起立させた姿勢で搬送するキャリアレス方式の基板台車と、水平姿勢の基板を起立させて該基板台車に受け渡す可倒式基板受渡機構を備えた基板搬送装置が記載されている。前記可倒式基板受渡機構は、基板を真空処理室外の基板受け渡しステージまで搬送する基板搬送ローラに組み込まれており、前記基板受け渡しステージ位置のローラフレームが他の基板搬送ローラ部と分離して傾斜安定角度まで起立し、基板台車上の基板保持機構に接近して基板の受け渡しを行う構成となっている。なお、前記可倒式基板受渡機構には、ローラフレームが傾斜安定角度まで起立したとき、該ローラフレームが積載している基板の下端を支持するための基板支持爪が設けられており、更に、基板台車には、台車上の基板保持機構と前記起立状態のローラフレームが接近した際に、ローラフレーム上の基板にタッチして把持する把持爪を備えることが記載されている。
しかしながら、上記特許文献1に記載のものでは、起立させたローラフレームに基板を斜めに立て掛けて、その下端を該ローラーフレームの下部に設けられた基板支持爪に載置した状態で基板の受け渡しを行うため、ローラフレームを起立させた際に基板姿勢が不安定となり基板台車との基板の受け渡しが不確実となるおそれがあった。
そこで、本発明が解決しようとする課題は、基板の確実な保持及び受け渡しを行うことのできる基板保持機構並びにそれを備えた基板受渡機構及び基板処理装置を提供することである。
上記課題を解決するためになされた本発明の第1の態様に係る基板保持機構は、矩形基板を保持するための基板保持部を備えた基板保持機構であって、a) 基板保持部上の、基板の対向する2辺に対応した位置に配設され、該基板保持部に回動可能に軸支された複数の基板保持ローラと、b) 該基板保持ローラを回転駆動するローラ駆動手段とを備え、前記基板保持ローラが、円筒部とその両端面の外周の一部に設けられた保持フランジとを有し、前記ローラ駆動手段によって各基板保持ローラを回動させることにより、その回動角度に応じて前記保持フランジによる基板端縁の保持及び保持解除を切り換え可能であることを特徴としている。
また、本発明の第2の態様に係る基板受渡機構は、上記本発明の第1の態様に係る基板保持機構をそれぞれ備えた第1基板保持手段と第2基板保持手段を有する基板受渡機構であって、第1基板保持手段及び第2基板保持手段上の基板保持ローラが両者の基板保持部を対面させた際に互いに干渉しない位置に配置されており、基板を保持した第1基板保持手段と基板を保持していない第2基板保持手段を、互いの基板保持部を対向させた状態で接近させ、第2基板保持手段上の基板保持ローラを回動させて各保持フランジにより前記基板の端縁を保持すると共に、第1基板保持手段の基板保持ローラを回動させて各保持フランジによる基板端縁の保持を解除することによって、第1基板保持手段から第2基板保持手段への基板の受け渡しを行うことを特徴としている。
上記構成を有する本発明の第1の態様に係る基板保持機構によれば、上記ローラ駆動手段によって上記基板保持ローラを所定の角度で回動することにより確実に基板の保持及び保持解除を行うことができる。
また、上記構成を有する本発明の第2の態様に係る基板受渡機構によれば、第1基板保持手段と第2基板保持手段の基板保持部を接近させ、上記基板保持ローラによって基板の保持及び保持解除を行うことにより、第1基板保持手段と第2基板保持手段との間で確実に基板の受け渡しを行うことができる。
なお、上記本発明の第2の態様に係る基板受渡機構は、上記第1基板保持手段が、水平状態で搬送された基板を保持して垂直状態に起立させる基板起立機構であり、上記第2基板保持手段が、上記基板保持部を表裏二面にそれぞれ備えた両面型の基板保持手段であって、第2基板保持手段を挟んで配置された2つの第1基板保持手段により、水平状態の2枚の基板を垂直状態とした上で、第2基板保持手段の各基板保持部に受け渡すものとすることが望ましい。
このような構成によれば、2枚の基板の受け渡しを同時に行うことによって作業効率を向上させることができる。また、上記第1基板保持手段によって基板を地面に対して垂直に起立させた上で第2基板保持手段に受け渡すため、基板を傾斜姿勢で取り扱う場合に比べて、基板上への微粒子等の落下による汚染を低減できると共に、装置の設置面積を縮小することができる。
以下、本発明に係る基板保持機構及び基板受渡機構を備えた基板処理装置の一実施例について図面を参照しながら説明する。図1は、本実施例に係る基板処理装置の概略構成図である。
本実施例に係る基板処理装置は、プラズマ気相成長(PE−CVD:Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)によって基板上に薄膜を形成するPE−CVD装置であり、大別して駆動/制御ユニット400、ロード部100、アンロード部300、及び、処理ユニット200で構成されている。
処理ユニット200は、それぞれ異なる薄膜の形成を行うための複数の処理室240、処理前の基板Wを予熱するための予熱室230、処理後の基板Wを冷却するための冷却室250、基板Wを処理ユニット200内へ出し入れするためのロードロック室210,260、及びこれら各室へガラス基板Wを搬送するための真空側基板搬送機構270を備えた共通搬送室220で構成されている。共通搬送室220と各処理室240又はロードロック室210,260との境界部、及びロードロック室210,260と処理ユニット200の外部との境界部には、それぞれ開閉可能なゲートバルブ211,212,241,261,262が設けられており、各処理室240及び共通搬送室220は駆動/制御ユニット400内に設けられた真空ポンプによって真空状態に保たれている。また、ロードロック室210,260は、ロード部100から搬入された基板W、又はアンロード部300へ搬出する基板Wを一時的に保持するための予備真空室であり、真空ポンプによって適宜真空状態とすることができる。
ロード部100には、水平姿勢の基板Wを搬送するローラコンベアと垂直姿勢の基板Wを2枚同時にロードロック室210へ搬入するための大気側基板搬送機構130が設けられており、水平姿勢でロード部100に搬送されてきた被処理基板Wは、基板振り分け機構(図示略)によって左右方向(図1中のX軸方向)へ交互に振り分けられ、ローラコンベアによって前記大気側基板搬送機構130を挟んだ左右両側の基板受け渡し位置まで搬送される。また、アンロード部300には、垂直姿勢の処理済み基板Wをロードロック室260から2枚同時に取り出すための大気側基板搬送機構が設けられており、ロードロック室260から取り出された基板Wは、該大気側基板搬送機構を挟んで左右両側の基板受け渡し位置でローラコンベアに引き渡されて後段の装置に搬送される。
駆動/制御ユニット400には、処理ユニット200の各室を真空排気するための真空ポンプと、上記各部の動作を制御するための制御部が設けられている。
以下、ロード部100における基板Wの受け渡しについて説明する。
ロード部100に設けられたローラコンベアは、水平姿勢のガラス基板Wを基板受け渡し位置まで搬送するものである。特に、基板受け渡し位置のローラコンベア110は、他の部分のローラコンベアとは別体に構成されており、所定の駆動機構(図示略)によって回転軸114を中心に回動させることによって地面と垂直な状態に起立させることのできる構成となっている。図2にローラコンベア110の構成を示す。ローラコンベア110は枠体111と、枠体111により両端が軸支された複数のシャフト112を備えている。各シャフト112には複数のスリーブ113が取り付けられ、所定の駆動手段(図示略)によって各シャフト112を回転駆動することにより、スリーブ113上に載置された基板Wを一定方向に搬送することができる。
更に、枠体111には、基板Wの左右二辺(すなわち起立時の上下二辺)に対応する位置に、図3、4に示すような基板保持ローラ120が取り付けられている。基板保持ローラ120は、回転軸121と一体に形成された円柱形の筒状部122と、筒状部122の両端面の外周の一部に設けられた保持フランジ123a,bを備えている。各ローラ120の回転軸121は、それぞれ枠体111を介して枠体111に設けられたローラ駆動部124に接続されており、これらのローラ駆動部124によって各基板保持ローラ120を回転駆動することにより、その回転角度に応じて、基板Wを保持したり(図3)、基板Wを解放したり(図4)することができる。以下、図3の状態を「基板保持状態」、図4の状態を「保持解除状態」と呼ぶ。基板保持状態では、図3(b)に示すように基板Wの端縁が両保持フランジ123a,bの間に位置した状態となるため、基板Wの厚さ方向の動きを規制することができる。
また、ロード部100に設けられた大気側基板搬送機構130は、2枚のガラス基板Wを互いに平行且つ地面に対して垂直に保持することのできるものであり、ロードロック室210の大気側ゲートバルブ211の前に設置された摺動基台133と、摺動基台133上に設けられた上下一対の搬送アーム131a,bを備えている(図5)。搬送アーム131a,bは、支柱132によって摺動基台133に固定されており、図示しない駆動手段によって摺動基台133を駆動することにより、搬送アーム131a,bをその延伸方向(すなわち図5の矢印方向)に移動させ、開状態のゲートバルブ211を介してロードロック室210内へ進入させることができる。
各搬送アーム131a,bにはその表裏両面に基板Wの上下2辺を保持するための複数個の基板保持ローラ140が回動可能に軸支されている。各基板保持ローラ140の構成は、図3,4に示したものと同様であり、各搬送アーム131a,bに設けられたローラ駆動部(図示略)によって各基板保持ローラ140を回動させることにより、その回動角度に応じて各ローラ140を基板保持状態又は保持解除状態のいずれかの状態とすることができる。
以下、上記ローラコンベア110から大気側基板搬送機構130への基板Wの受け渡し手順について説明する。まず、ローラコンベアによって、処理対象となる2枚のガラス基板Wを基板受渡機構の両側に搬送する。各ガラス基板Wが基板受け渡し位置に到達すると、該基板受け渡し位置のローラコンベア110に設けられた基板保持ローラ120が回動して基板保持状態となる。なお、このとき大気側基板搬送機構130の搬送アーム131a,bに設けられた各基板保持ローラ140は保持解除状態となっている。図6は、このときのローラコンベア110及び大気側基板搬送機構130を示す上面図であり、図7は、図6を図中の矢印Aの方向から見た図である。
続いて、図8に示すように、各ローラコンベア110が回転軸114を中心に回動して地面に対して垂直な角度に起立し、各コンベアに搭載された基板Wが搬送アーム131a,bの表側及び裏側とそれぞれ対向した状態となる。なお、このとき、基板Wはその上下2辺がローラコンベア110上の各基板保持ローラ120によって保持された状態であるため、ローラコンベア110を垂直状態まで起立させても該基板Wがローラコンベア110から脱落することはない。また、このとき、搬送アーム131a,b上の基板保持ローラ140は保持解除状態となっており、更に、ローラコンベア110上の基板保持ローラ120と搬送アーム131a,b上の基板保持ローラ140は、図9(図8のA−A’矢視断面図)に示すように互いに干渉しない位置に設けられているため、ローラコンベア110上の基板保持ローラ120と搬送アーム131a,b上の基板保持ローラ140、及び搬送アーム131a,b上の基板保持ローラ120と基板Wとを接触させることなく各基板Wを搬送アーム131a,bに接近させることができる。
その後、搬送アーム131a,b上の基板保持ローラ140が回動して基板保持状態となり、続いて、ローラコンベア110上の基板保持ローラ120が回動して保持解除状態となる。これにより、各基板Wがローラコンベア110上の基板保持ローラ120から搬送アーム131a,b上の基板保持ローラ140へと掴み変えられる。
以上により、基板Wの受け渡しが完了したら、各ローラコンベア110を水平状態に戻し(図10)、大気側基板搬送機構130によって搬送アーム131a,b上に搭載された基板Wをロードロック室210に搬入する。
なお、アンロード部300にも上記と同様の大気側基板搬送機構及びローラコンベアが設けられており、大気側基板搬送機構によってロードロック室260から垂直姿勢で取り出された2枚の基板Wは、上記と逆の手順により搬送アームからローラコンベアへと受け渡され、水平姿勢に変換された後に後段の工程へ搬出される。
続いて、各処理室240における基板Wの受け渡しについて説明する。
図11は、図1のA−A’矢視断面図であり、本実施例の基板処理装置に係る処理室240、共通搬送室220、及び共通搬送室220に設けられた真空側基板搬送機構270を示している。
真空側基板搬送機構270は、上述の大気側基板搬送機構130と同様に、2枚のガラス基板Wを互いに平行且つ地面に対して垂直に保持した状態で搬送するものであり、上下一対の搬送アーム271a,b、摺動台273、走行基台275、及び旋回軸274を備えている。各搬送アーム271a,bの表裏両面には、基板Wの上辺又は下辺を保持するための複数の基板保持ローラ280が所定の間隔で設けられている。これらの基板保持ローラ280は図3,4に示したものと同様の構成を有しており、搬送アーム271a,bに設けられたローラ駆動部(図示略)によって各ローラ280を回転駆動することで基板Wの保持及び保持解除を行うことができる。搬送アーム271a,bは、支柱272によって摺動台273に固定されており、図示しない駆動手段によって摺動台273を駆動することにより、搬送アーム271a,bをその延伸方向(すなわち図11中の矢印方向)に移動させることができる。更に、摺動台273は旋回軸274を介して走行基台275に回動自在に固定されており、走行基台275は共通搬送室220に敷設されたレール上に載置されている。これらの走行基台275及び旋回軸274を図示しない駆動手段によって駆動することにより、搬送アーム271a,bを前記摺動台273の移動方向と直交する方向に移動させることができると共に、旋回軸274を中心として回動させることができる。
一方、処理室240の内部には、2枚のヒータ板242と電極(図示略)が設けられており、各ヒータ板242には、基板Wの上下2辺に対応する位置に沿って上記同様の基板保持ローラ290が所定の間隔で取り付けられている。
真空側基板搬送機構270に搭載された基板Wを共通搬送室220から各処理室240へ搬入する際には、まず、共通搬送室220と搬入先の処理室240の間に設けられたゲートバルブ241を開放し、摺動台273を駆動して搬送アーム271a,bを処理室240内に進入させる(図12)。図13はこのときの処理室240内部の様子を示す図(図12のA−A'矢視断面図)であり、搬送アーム271a,bは2枚のヒータ板242の間の空間に挿入される。各ヒータ板242は図示しない駆動機構により処理室240の中央方向(図中の矢印方向)に向かって移動可能であり、搬送アーム271a,b上の基板Wがヒータ板242の正面に到達した時点で各ヒータ板242を基板Wに接近させ、ヒータ板242上の基板保持ローラ290を基板保持状態とすると共に、搬送アーム271a,b上の基板保持ローラ280を保持解除状態とすることにより、搬送アーム271a,bからヒータ板242へ各基板Wが受け渡される。
以上により基板Wの受け渡しが完了したら、摺動台273の駆動によって搬送アーム271a,bが処理室240から共通搬送室220へ退出し、ゲートバルブ241が閉鎖され、処理室240内において各基板W上に所定の薄膜が形成される。
その後、処理室240内での基板Wの処理が完了すると、上記搬入時とは逆の手順によって各ガラス基板Wが各ヒータ板242から搬送アーム271a,bへ受け渡され、共通搬送室220へ搬出される。なお、該基板Wを、更に他の処理室240で処理する場合には、共通搬送室220に敷設されたレールに沿って走行基台275を走行させることで後段の処理室240の前に搬送アーム271a,bを移動させ、上記と同様にして基板Wの搬入出を行う。
なお、上記処理室240の他、各ロードロック室210,260や予熱室230、冷却室250にも上記と同様の基板保持ローラを備えた所定の基板保持機構が設けられており、大気側基板搬送機構と各ロードロック室210,260内の基板保持機構との間、及び真空側基板搬送機構270とロードロック室210,260、予熱室230、又は冷却室250内の基板保持機構との間においても、上記同様の手順により基板Wの受け渡しが行われる。
以上のように、本実施例に係る基板処理装置では、上記のような基板保持ローラによって基板の保持及び保持解除を行うことにより、基板を安定に保持すると共に確実な受け渡しを行うことができる。また、ロード部において同時に2枚の基板の受け渡しを行って、その後の搬送及び処理を行うことによりスループットの向上を図ることができる。また更に、基板を地面に対して垂直な姿勢で搬送することにより、斜め姿勢で搬送する場合に比べて基板処理装置全体の設置面積を縮小することができると共に、基板上への微粒子の落下等による汚染を防止することができるという効果を奏する。
100…ロード部
110…ローラコンベア
111…枠体
120,140,280,290…基板保持ローラ
121…回転軸
122…筒状部
123a,b…保持フランジ
124…ローラ駆動部
130…大気側基板搬送機構
131a,b,271a,b…搬送アーム
200…処理ユニット
210,260…ロードロック室
220…共通搬送室
230…予熱室
240…処理室
242…ヒータ板
250…冷却室
270…真空側基板搬送機構
300…アンロード部
400…駆動/制御ユニット
W…基板
110…ローラコンベア
111…枠体
120,140,280,290…基板保持ローラ
121…回転軸
122…筒状部
123a,b…保持フランジ
124…ローラ駆動部
130…大気側基板搬送機構
131a,b,271a,b…搬送アーム
200…処理ユニット
210,260…ロードロック室
220…共通搬送室
230…予熱室
240…処理室
242…ヒータ板
250…冷却室
270…真空側基板搬送機構
300…アンロード部
400…駆動/制御ユニット
W…基板
Claims (4)
- 矩形基板を保持するための基板保持部を備えた基板保持機構であって、
a) 基板保持部上の、基板の対向する2辺に対応した位置に配設され、該基板保持部に回動可能に軸支された複数の基板保持ローラと、
b) 該基板保持ローラを回転駆動するローラ駆動手段と、
を備え、前記基板保持ローラが、円筒部とその両端面の外周の一部に設けられた保持フランジとを有し、
前記ローラ駆動手段によって各基板保持ローラを回動させることにより、その回動角度に応じて前記保持フランジによる基板端縁の保持及び保持解除を切り換え可能であることを特徴とする基板保持機構。 - 請求項1に記載の基板保持機構をそれぞれ備えた第1基板保持手段と第2基板保持手段を有する基板受渡機構であって、
第1基板保持手段及び第2基板保持手段上の基板保持ローラが両者の基板保持部を対面させた際に互いに干渉しない位置に配置されており、
基板を保持した第1基板保持手段と基板を保持していない第2基板保持手段を、互いの基板保持部を対向させた状態で接近させ、第2基板保持手段上の基板保持ローラを回動させて各保持フランジにより前記基板の端縁を保持すると共に、第1基板保持手段の基板保持ローラを回動させて各保持フランジによる基板端縁の保持を解除することによって、第1基板保持手段から第2基板保持手段への基板の受け渡しを行うことを特徴とする基板受渡機構。 - 上記第1基板保持手段が、水平状態で搬送された基板を保持して垂直状態に起立させる基板起立機構であり、
上記第2基板保持手段が、上記基板保持部を表裏二面にそれぞれ備えた両面型の基板保持手段であって、
第2基板保持手段を挟んで配置された2つの第1基板保持手段により、水平状態の2枚の基板を垂直状態とした上で、第2基板保持手段の各基板保持部に受け渡すことを特徴とする請求項2に記載の基板受渡機構。 - 請求項1に記載の基板保持機構を備えた基板処理装置。
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