JPH09176857A - ワークピースを表面処理するための真空装置 - Google Patents

ワークピースを表面処理するための真空装置

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JPH09176857A
JPH09176857A JP8273741A JP27374196A JPH09176857A JP H09176857 A JPH09176857 A JP H09176857A JP 8273741 A JP8273741 A JP 8273741A JP 27374196 A JP27374196 A JP 27374196A JP H09176857 A JPH09176857 A JP H09176857A
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chamber
vacuum
transfer
loading
substrate carrier
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JP8273741A
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Aitor Galdos
ガルドス アイトル
Rudolf Wagner
ヴァーグナー ルードルフ
Markus Bruderer
ブルーデラー マルクス
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OC Oerlikon Balzers AG
Original Assignee
Balzers AG
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 取扱いが簡単で、所要床面積が小さく、高め
られたサイクル時間で、大面積の基板を処理可能な、経
済性に優れた真空装置を提供する。 【解決手段】 搬送室６ａが、真空室６ｂの外周面に接
線方向で配置されていて、真空室６ｂと搬送開口１５を
介して接続されており、これにより第１の搬送装置９，
１７を用いてワークピース２１を、搬送開口１５を通し
て回転式の基板担体８にローディングすることができる
ようになっており、ローディング室７ａ，７ｂが真空室
６ｂに対して接線方向で搬送室６ａと接続されており、
搬送室６ａが第１の搬送装置９，１７に対して直角な方
向で第３の搬送装置１０，１８，１９ａ，２０を有して
おり、しかも第２の搬送装置と第３の搬送装置とが、同
じ接線方向に方向付けられて位置している。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワークピースを表
面処理するための真空装置であって、真空室が設けられ
ており、該真空室が、中心軸線を中心にして回転可能な
基板担体を取り囲んでいて、該基板担体の周囲に少なく
とも１つの処理ステーションが配置されており、基板を
搬送するための搬送室が設けられており、該搬送室が搬
送開口を介して真空室と接続されていて、かつ中心軸線
に対して半径方向に、第１の基板取扱い兼搬送装置を有
しており、ワークピースをローディング又はアンローデ
ィングするために、大気側におけるローディング室ドア
と真空側におけるローディング室弁とを備えた少なくと
も１つのローディング室が設けられており、該ローディ
ング室が第２の基板取扱い兼搬送装置を有している形式
のものに関する。
【０００２】
【従来の技術】ワークピースをコーティングするための
公知の真空処理装置は、鉛直に配置された円筒形の又は
多角形の真空室を有しており、この真空室の外面には、
例えばスパッタリング源、エッチング装置又は加熱装置
のような処理ステーションが配置されており、真空室の
中心軸線の回りには、円筒形のワークピース保持体が回
転可能に配置されており、この結果ワークピースは歩進
的に又は連続的に種々異なった処理ステーションのとこ
ろを通過することができる。このような装置はしばし
ば、いわゆる「バッチ-モード（Batch-Betrieb）」にお
いて使用され、すなわちこの場合複数のワークピース
が、同時に基板保持体に設置され、かつ同時に真空ロッ
クを通して装置内にローディングされ、そしてそこで処
理されるようになっている。
【０００３】しかしながらまた、例えば米国特許第４６
７５０９６号明細書に記載されている、円筒状に配置さ
れている装置では、ワークピースは個々に真空ロック室
を介してローディング・アンローディングされ、次々と
タイミング制御されて処理されるようになっている。こ
の米国特許明細書に記載された装置は、特に、小さな面
積を有するワークピースを処理するために適したもので
ある。大きな面積を有するワークピースであって、しば
しば極めて薄く、ゆえに通常極めて敏感な取扱いを要す
るワークピースは、このような装置では条件付きでしか
処理することができない。必要な高い経済性を得るため
に不可欠な高い行程サイクル数では、大面積の基板の場
合に、損傷を確実に防止した取扱いを可能にする輪郭を
見出すことは、特に困難である。
【０００４】したがって、大きな面積をコーティングさ
れるワークピースのために公知の装置は、通常、いわゆ
る直線的な通過装置（Durchlaufanlagen）又はサイクル
装置（Taktanlagen）として運転される。このような形
式の装置では、処理ステーションが一列に相前後して配
置されており、かつワークピースは通常、一方の端面側
において真空ロックを通してローディングされ、かつ他
方の端面側において取り出される、つまりアンローディ
ングされる。このような装置は、例えば米国特許第４６
６３００９号明細書に記載されている。作業サイクル数
を高めるために、この場合直線的な装置の入口側に、２
つのローディングロックが設けられている。
【０００５】このような「バッチ-システム」もしくは
「バッチ-装置」は、連続運転が不可能であるという欠
点を有している。直線的な装置は、その構造ゆえに、極
めて大きな所要スペースを必要とする。さらにこれらの
装置は、ローディング箇所とアンローディング箇所とが
互いに著しく離れていることに基づいて、製造運転にお
いて簡単に組み込むことができない。このような装置は
また、通常、装置全体を通過走行するいわゆる基板担体
（Substrattraeger）を必要とする。すなわちこのよう
な装置では、長い搬送路と機械的に複雑なシステムとに
基づいて、細分化形成（Partikelbildung）の高まるお
それがある。また、大面積のワークピース担体のために
は、さらに付加的に大きなスペースを要する長い戻り系
が必要である。さらに別の欠点としては、ローディング
・アンローディングサイクルが直接的に装置作業サイク
ルに関連している、ということが挙げられる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ゆえに本発明の課題
は、上に述べた従来技術における欠点を回避することで
あり、特に、取扱いが簡単で、所要床面積が小さく、し
かも高められたサイクル時間で、有利には大面積の基板
を処理することができる真空装置、ひいては経済性に優
れた真空装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の構成では、冒頭に述べた形式の真空装置にお
いて、搬送室が、真空室の外周面に接線方向で配置され
ていて、真空室と搬送開口を介して接続されており、こ
れにより第１の搬送装置を用いてワークピースを、搬送
開口を通して回転式の基板担体にローディングすること
ができるようになっており、ローディング室が真空室に
対して接線方向で搬送室と接続されており、搬送室が第
１の搬送装置に対して直角な方向で第３の搬送装置を有
しており、しかも第２の搬送装置と第３の搬送装置と
が、同じ接線方向に方向付けられて位置している。
【０００８】
【発明の効果】本発明のように構成されていると、例え
ばフラットパネルディスプレイのための高度な処理要求
を満たすと共に、そのために必要な取扱いの難しい基板
パネルを確実かつ損傷なしに処理することができ、かつ
高い製造処理能力をもたらすことができる、安価な製造
装置としての真空装置が得られる。しかも本発明による
真空装置の所要床面積は従来のものに比べて小さい。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に図面につき本発明の実施の形
態を説明する。
【００１０】図１には本発明による真空装置が水平方向
に断面されて示されている。この真空装置は、大きな面
積をもつプレート状のワークピースのために特に適して
いる。この真空装置は特に、取扱いに際して特に敏感な
ワークピース、例えば大きな面積のディスプレイパネル
もしくはモニタスクリーンのためのガラス板のようなワ
ークピースのために適している。処理すべきワークピー
スは有利には、直径が２０ｃｍよりも大きく、かつ特に
４０ｃｍよりも大きい。真空装置は特に、酸化インジウ
ムスズ（ＩＴＯ）のコーティングのために適している。
【００１１】真空装置は、鉛直に起立する中心軸線もし
くは回転軸線１４の回りに配置された円筒形又は多角形
の真空室から成っており、この真空室は、第２の搬送室
６ｂとして構成されていて、その外周面に、回転軸線を
中心にして配置されて、複数の処理ステーション１〜５
を有している。上に述べた使用のためには処理ステーシ
ョンは、有利には、マグネトロンスパッタ源２〜４を備
えており、しかしながらまた公知のように、例えばプラ
ズマエッチングステーション又は加熱ステーションのよ
うなその他のステーション１，５が設けられていてもよ
い。これらのステーションは選択的に次のように、すな
わちマグネトロンスパッタ源を例えば室周壁に位置する
フランジ開口に取り付けることができるようにか又はし
かしながらまた室壁の範囲に取り付けることができるよ
うに、構成することが可能である。さらに室内には、回
転軸線１４の回りに基板担体ドラム８が配置されてお
り、該基板担体ドラム８は、回転軸線１４を中心にして
有利には歩進的に回転することができる。基板担体ドラ
ム８は、フラットなワークピースが実質的に鉛直にドラ
ム周囲に受容され得るように、構成されており、このよ
うになっていると、これらの面を対応する加工ステーシ
ョンの直前において所望の間隔をおいて位置決めするこ
とができる。上に述べた使用のために、搬送室６ｂは有
利には６角形の多角形体として構成されている。
【００１２】真空室である第２の搬送室６ｂの側面には
搬送開口１５が設けられており、この搬送開口１５は全
横断面を開放しており、これによりワークピースをフラ
ットに通すこと及び基板担体ドラム８に設置することが
できる。多角形体のこの側面において、搬送開口１５に
は第１の搬送室６ａが取り付けられている。回転軸線１
４に対して半径方向にかつ搬送開口１５に対して垂直な
方向において、第１の搬送室６ａの外側には、駆動装置
１７を備えた突き棒が取り付けられており、この場合突
き棒は搬送室６ａ内に前記半径方向において運動するこ
とができ、この突き棒にはグリッパ９が設けられてお
り、このグリッパ９はフラットなワークピースをほぼ鉛
直方向において受容することができ、かつこの半径方向
において基板担体キャリッジ１０ａ又は１０ｂから離れ
る方向で、第２の搬送室６ｂ内の基板担体ドラム８の上
に搬送することができる。
【００１３】第２の搬送室もしくは真空室６ｂに対して
接線方向に、２つのローディング室７ａ，７ｂが配置さ
れており、両ローディング室７ａ，７ｂはそれぞれ、ロ
ーディング室弁１１ａ，１１ｂを介して第１の搬送室６
ａと接続されている。第２の搬送室６ｂに対して接線方
向に、互いに並んで２つの直線的な搬送軌道１９が設け
られており、この両搬送軌道は、各１つの基板担体キャ
リッジ１０ａ，１０ｂを受容することができる。この場
合各１つの搬送軌道は、第１の搬送室６ａから各１つの
ローディング室７ａ，７ｂに開口している。これらの両
搬送軌道１９はレール状に構成されていて、この搬送軌
道１９上を基板担体キャリッジ１０ａ又は１０ｂが直線
的にローディング室７ａ又は７ｂから搬送室６ａ内に運
動することができ、かつまた逆に搬送室６ａからローデ
ィング室７ａ，７ｂに運動することができる。互いに平
行に延びている両搬送軌道１９は、ローディング室７
ａ，７ｂと第１の搬送室６ａとの間において短い区分だ
け中断されており、これによってローディング室弁１１
ａ，１１ｂは閉鎖可能である。基板担体キャリッジ１０
ａ，１０ｂはこの中断部を、ローディング室から第１の
搬送室への搬送動作時に橋渡しすることができる。中断
部によって、各２つの平行なレール対１９ａ，１９ｂが
生ぜしめられる。一方のレール対１９ｂはローディング
室７ａ，７ｂに位置しており、他方のレール対１９ａは
搬送室６ａに位置している。
【００１４】両方のローディング室７ａ，７ｂは、真空
装置に対するワークピース２１のローディング又はアン
ローディングを可能にするために、大気側に各１つのロ
ーディング室ドア１２ａ，１２ｂを有している。ワーク
ピース２１の取扱いは、図示の配置形式によって著しく
簡単化される。それというのはこの場合ローディング室
７ａ，７ｂが、直接的に平行に第２の搬送室６ｂに対し
て接線方向で直接的に並んで配置されているからであ
る。したがってローディング室ドア１２ａ，１２ｂの前
において、小さな間隔で付加的な取扱いロボットを用い
てシーケンスつまり連続作業を簡単に自動化することが
できる。さらにこのようなコンセプトは、極めて面積を
節約するコンパクトな構造を可能にし、このコンパクト
な構造は、引渡し箇所のあまり存在しない短い搬送路の
実現を可能にし、また単純な取扱い装置によって作業サ
イクルが高まるのみならず、不都合な細分化形成が最小
になる。
【００１５】このような配置形式において、ワークピー
ス２１が基板担体キャリッジ１０ａに載せられ、次いで
弁が閉鎖され、ポンプダウンが行われ、排気の後で内側
のローディング室弁１１ａが開放され、搬送装置１８
ａ，２０ａによって搬送室６ａ内に搬送され、この場合
他方の搬送軌道においては同時に、逆の順序でワークピ
ースがローディング室７ｂを介して外部に搬送される。
有利には、ちょうど開放されてアンローディングされた
ローディング室が、アンローディングの直後に再び、処
理すべきワークピース２１をローディングされる。この
ようにして全体的に極めて短い作業サイクル時間を得る
ことができ、そしてこの極めて短い作業サイクル時間
は、主として、個々の処理ステーションの処理時間によ
って規定される。
【００１６】基板担体キャリッジ１０ａもしくは１０ｂ
は、有利には、ニー状の搬送ジョイント１８ａ，１８ｂ
を介して直線的に往復運動させられ、この場合モータ式
の駆動装置２０ａ，２０ｂは、側部において、かつ全搬
送路のほぼ半分の長さにわたって搬送室６ａの外側の室
壁に配置されている。ダブルレバーアーム１８はしたが
って、ローディング室弁１１ａ，１１ｂの開放時に該ロ
ーディング室弁を貫通して、基板担体キャリッジ１０を
搬送軌道１９に沿って移動させることができる。
【００１７】図２には、第１の搬送室６ａ及び第２の搬
送室６ｂが横断面図で示されている。ワークピース２１
はこの場合有利には、鉛直に基板担体キャリッジ１０ａ
もしくは１０ｂに配置される。基板担体キャリッジ１０
ａ，１０ｂにおける保持は、有利には次のように、すな
わちワークピース２１が単に置かれて、その自重によっ
て保持されるように、構成されている。したがって有利
にはこれらのワークピース２１は幾分傾けられて配置さ
れる。この場合、鉛直線に対するプレート状のワークピ
ース２１の傾斜角が、１０°よりも小さいと、特に４°
〜８°の範囲にあると、特に有利である。ワークピース
２１は装置全体においてほぼ所定の傾斜位置にとどま
る。このような配置形式によって、極めて敏感なワーク
ピースプレートの取扱い全体が極めて強く簡単化され
る。例えば単純なグリッパ９を用いて、突き棒駆動装置
１７の水平な突き棒運動を介して、ワークピース２１は
次々と基板担体ドラム８もしくは基板担体キャリッジ１
０ａ又は１０ｂの間に、簡単な持上げ動作と水平方向に
おけるシフト動作とによって、搬送されることができ
る。したがって、敏感な基板を保持するための高価な基
板保持装置は、このコンセプトにおいては不要である。
【００１８】システムの作用形式を分かりやすくするた
めに、次に１例として典型的な処理経過を記載する：ワ
ークピース２１は、外部の取扱いシステム例えばロボッ
トシステムによって、カセットから取り出されて、水平
線に対して約８４°の所望の傾けられた位置に旋回させ
られる。この位置においてワークピース２１は、相応な
ローディング室７ａ又は７ｂにおけるその時点において
空いている基板担体キャリッジ１０ａ又は１０ｂのうち
の１つに置かれる。次いで相応なローディング室ドア、
ここでは例えば１２ａが、閉鎖される。ローディング室
７ａは、その後で排気されて、ローディング室弁１１ａ
が開放される。基板担体キャリッジ１０ａにおけるワー
クピース２１は、いまや第１の搬送室６ａ内に搬送さ
れ、搬送開口１５の前まで送られる。グリッパ９がワー
クピース２１を引き受け、この際に基板担体キャリッジ
１０ａは戻り走行する。回転軸線１４に向かってのグリ
ッパ９の半径方向運動によって、ワークピース２１は搬
送開口１５を通して搬送されて、基板担体ドラム８に置
かれ、ワークピース２１は常に最初に調節された傾斜位
置にある。基板担体ドラムは、室分割の１つ分だけ割り
出し回転し、ワークピース２１を加工のための第１の処
理ポジションにもたらす。この処理ポジションは選択的
に、弁を備えた真空分割された処理室として構成されて
いてもよいが、しかしながら有利には完全な真空分割な
しに、公知の形式でシャッタ又は隔壁を備えていてもよ
い。このステップの後で、いまや処理の終わった基板
は、第２の搬送室６ｂにおいて搬送開口１５の前に位置
しており、既に、取り出される準備ができている。グリ
ッパ９はワークピース２１を基板担体ドラム８から取り
出し、この際に基板担体キャリッジ１０ａは搬送室６ａ
内に走行する。そしてグリッパ９はワークピース２１を
再び基板担体キャリッジ１０ａの上に載せる。基板担体
キャリッジ１０ａはワークピース２１をローディング室
７ａ内に搬送する。ローディング室弁１１ａは閉鎖さ
れ、ローディング室７ａは通気される。ローディング室
ドア１２ａが開放され、これによって、ワークピース２
１を外部の取扱いシステムによって取り出すことができ
る。その後でローディングステーションは準備状態にな
り、再び新たなワークピース２１を受け入れることがで
きる。そして動作が再び新たに開始される。
【００１９】作業サイクル時間を高めるため、及び最適
にコンセプトに合わせるために、本発明によれば独立し
た２つのローディング室７ａ，７ｂが設けられている。
この両方のローディング室７ａ，７ｂは互いに平行にも
しくは並列的に運転され、つまり一方のローディング室
が外部における取扱い、通気又はポンプダウンされてい
る間に、他方のローディング室は、内部におけるワーク
ピース交換を行うことができる。全体の作業順序は、電
子的なプロセス制御によって時間最適化されて導かれ
る。したがって本発明による真空装置によって、フラッ
トパネルディスプレイのための高度な処理要求を満たす
と共に、そのために必要な取扱いの難しい基板パネルを
確実かつ損傷なしに処理することができ、しかも高い製
造処理能力をもたらすことができる、安価な製造装置が
得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による真空装置を水平方向で断面して示
す図である。
【図２】別の搬送室ｂに通じる搬送開口を備えた搬送室
を断面して示す図である。
【符号の説明】
１〜５ 処理ステーション、 ６ａ 第１の搬送室、
６ｂ 第２の搬送室（真空室）、 ７ａ，７ｂ ローデ
ィング室、 ８ 基板担体ドラム、 ９ グリッパ、
１０ａ，１０ｂ 基板担体キャリッジ、 １１ａ，１１
ｂ ローディング室弁、 １２ａ，１２ｂ ローディン
グ室ドア、 １４ 回転軸線（中心軸線）、 １５ 搬
送開口、 １７ 駆動装置、 １８ａ，１８ｂ 搬送ジ
ョイント（ダブルレバーアーム）、 １９ 搬送軌道、
１９ａ，１９ｂ レール対、２０ａ、２０ｂ 駆動装
置、 ２１ ワークピース

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ワークピース（２１）を表面処理するた
    めの真空装置であって、 真空室（６ｂ）が設けられており、該真空室（６ｂ）
    が、中心軸線（１４）を中心にして回転可能な基板担体
    （８）を取り囲んでいて、該基板担体（８）の周囲に少
    なくとも１つの処理ステーション（１〜５）が配置され
    ており、 基板を搬送するための搬送室（６ａ）が設けられてお
    り、該搬送室（６ａ）が搬送開口（１５）を介して真空
    室（６ｂ）と接続されていて、かつ中心軸線（１４）に
    対して半径方向に、第１の基板取扱い兼搬送装置（９，
    １７）を有しており、 ワークピース（２１）をローディング又はアンローディ
    ングするために、大気側におけるローディング室ドア
    （１２ａ，１２ｂ）と真空側におけるローディング室弁
    （１１ａ，１１ｂ）とを備えた少なくとも１つのローデ
    ィング室（７ａ，７ｂ）が設けられており、該ローディ
    ング室（７ａ，７ｂ）が第２の基板取扱い兼搬送装置
    （１０，１８，１９ｂ，２０）を有している形式のもの
    において、 搬送室（６ａ）が、真空室（６ｂ）の外周面に接線方向
    で配置されていて、真空室（６ｂ）と搬送開口（１５）
    を介して接続されており、これにより第１の搬送装置
    （９，１７）を用いてワークピース（２１）を、搬送開
    口（１５）を通して回転式の基板担体（８）にローディ
    ングすることができるようになっており、ローディング
    室（７ａ，７ｂ）が真空室（６ｂ）に対して接線方向で
    搬送室（６ａ）と接続されており、搬送室（６ａ）が第
    １の搬送装置（９，１７）に対して直角な方向で第３の
    搬送装置（１０，１８，１９ａ，２０）を有しており、
    しかも第２の搬送装置と第３の搬送装置とが、同じ接線
    方向に方向付けられて位置していることを特徴とする、
    ワークピースを表面処理するための真空装置。
  2. 【請求項２】 少なくとも２つのローディング室（７
    ａ，７ｂ）が互いに並んで搬送室（６ａ）に配置されて
    おり、各ロック室を選択的にロードロック室又はアンロ
    ードロック室として運転するために、制御手段が設けら
    れている、請求項１記載の真空装置。
  3. 【請求項３】 ローディング室（７ａ，７ｂ）の、大気
    側のロード又はアンロードロック弁が、近接して並んで
    配置されている、請求項２記載の真空装置。
  4. 【請求項４】 各ローディング室（７ａ，７ｂ）のため
    に、真空室（６ｂ）に対する接線に位置している第２及
    び第３の搬送装置が設けられており、該搬送装置が有利
    には、走行可能な基板担体（１０ａ，１０ｂ）を受容す
    るためにレール（１９ａ，１９ｂ）を有しており、該レ
    ールが、真空室とローディング室との間におけるローデ
    ィング室弁（１１ａ，１１ｂ）において中断されてい
    る、請求項１から３までのいずれか１項記載の真空装
    置。
  5. 【請求項５】 搬送室（６ａ）が、装置中心軸線（１
    ４）に対して半径方向にかつ、搬送装置を備えた搬送兼
    ロードロック室装置の接線方向の方向付けに対して垂直
    に、半径方向に延びる第１の基板取扱い装置（９，１
    ７）を有しており、該基板取扱い装置が、基板担体ドラ
    ム（８）と基板担体（１０ａ，１０ｂ）との間において
    ワークピース（２１）を半径方向において搬送できるよ
    うにするために、基板グリッパ（９）を有している、請
    求項１から４までのいずれか１項記載の真空装置。
  6. 【請求項６】 走行可能な基板担体（１０ａ，１０ｂ）
    がキャリッジとして構成されており、該キャリッジが搬
    送室（６ａ）とロック室（７ａ，７ｂ）との間におい
    て、搬送室（６ａ）に配置されていて駆動されるダブル
    レバーアーム（１８）を用いて運動可能であり、該ダブ
    ルレバーアームがローディング室弁（１１ａ，１１ｂ）
    の開放時に該ローディング室弁を通ってローディング室
    （７ａ，７ｂ）に進入するようになっている、請求項１
    から５までのいずれか１項記載の真空装置。
  7. 【請求項７】 ワークピース（２１）がプレート状でか
    つ大きな面積を有しており、有利には２０ｃｍよりも大
    きな直径、特に４０ｃｍよりも大きな直径を有してい
    る、請求項１から６までのいずれか１項記載の真空装
    置。
  8. 【請求項８】 ワークピース（２１）がほぼ鉛直に立て
    られて配置されており、すなわちこの場合ワークピース
    （２１）は有利には、鉛直線に対して１０°未満の傾
    斜、特に４°〜８°の範囲の傾斜をもって、担体（８，
    １０）の上に起立配置されている、請求項１から７まで
    のいずれか１項記載の真空装置。
  9. 【請求項９】 フラットパネルディスプレイを製造する
    ためのガラスプレートを表面処理するために使用され
    る、請求項１から８までのいずれか１項記載の真空装
    置。
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