JPH0159354B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は真空処理装置に係り、特に被処理物の
真空処理を迅速に行うことを可能とした真空処理
装置に関する。

（従来の技術〕 第４図は従来のバツチ式の真空処理装置を示し
たもので、上面が半球状に形成された真空処理室
１の内部下方には、蒸発源２が配置されており、
この真空処理室１の上部には、複数の被処理物
３，３を保持する保持具４がこの真空処理室１の
内面に沿つて配設されている。

上記装置においては、上記保持具４に複数の被
処理物３，３を装着した後、真空処理室１内を図
示しない真空排気装置により所定圧力に排気し、
蒸発源２から被着金属を蒸発させて被処理物３の
表面に堆積させるものである。そして、堆積終了
後、真空処理室１内を大気圧に戻して被処理物３
を保持具４から取りはずして作業が終了する。

また、第５図は従来の枚葉式の真空処理装置を
示したもので、スパツタリングにより薄膜形成を
行なう真空処理室１の前段側および後段側には、
それぞれロード室５およびアンロード室６が配設
されており、上記真空処理室１とロード室５およ
びアンロード室６との間には、それぞれゲートバ
ルブ７ａ，７ｂが開閉自在に設けられている。

上記装置においては、まず、被処理物３をロー
ド室５に搬入し、このロード室５を所定の圧力に
真空排気した後、ロード室５側のゲートバルブ７
ａを開き図示しない搬送装置により被処理物３を
真空処理室１内に搬送する。そして、真空処理室
１内で被処理物３のスパツタリング等の真空処理
を行なつた後、アンロード室のゲートバルブ７ｂ
を開いてアンロード室６に被処理物３を搬送し、
このゲートバルブ７ｂを閉じた後、アンロード室
６を大気に戻して被処理物３を取出すものであ
る。

（発明が解決しようとする問題点） しかし、上記第４図に示すバツチ式の真空処理
装置においては、保持具４への被処理物３の着脱
作業を自動的に行なうことが困難であり、薄膜形
成工程の自動化ができないという問題を有してお
り、さらに、真空処理室１が被処理物３の着脱作
業の際に大気にさらされるため、真空処理室１あ
るいは保持具４に堆積した被着金属が剥がれやす
く、発塵の原因となつていた。

また、上記第５図示す枚葉式の真空処理装置に
おいては、ロード室５およびアンロード室６を設
けており、真空処理室１が大気にさらされること
がないので、上記バツチ式真空処理装置における
問題を解決することができるが、ロード室５およ
びアンロード室６を大気から真空に排気するのに
時間がかかつてしまい、この排気時間により被処
理物３の生産性が著しく低下してしまうという問
題を有している。例えば、被処理物３としてのコ
ンパクトデイスクにその反射源として500〜2000
Åの膜を堆積させる場合、スパツタリングによる
堆積速度は、200〜250Å／秒が可能であるから、
堆積時間はわずか２〜10秒で終了するが、ロード
室５およびアンロード室６を大気から10^-5〜
10^-6Torrの高真空に排気するには、100〜200秒
必要であるため、排気時間により大幅に処理時間
がかかつてしまつていた。

本発明は上記した点に鑑みてなされたもので、
排気時間を短縮して迅速な処理を行なうことので
きる真空処理装置を提供することを目的とするも
のである。

〔発明の構成〕

（問題点を解決するための手段） 上記目的を達成するため本発明に係る真空処理
装置は、真空処理室の前段側および後段側に、大
気圧から真空まで排気されるロード室およびアン
ロード室を開閉自在なゲートバルブを介してそれ
ぞれ配設するとともに、上記真空処理室と上記ロ
ード室およびアンロード室との間で被処理物の受
渡しを行うようにした真空処理装置において、上
記ロード室およびアンロード室を上記真空処理室
の側壁に隣接して複数室並列に設けるとともに、
この各ロード室およびアンロード室をゲートバル
ブを介して各々１つの搬送路および搬出路にそれ
ぞれ連続させ、これら各ロード室およびアンロー
ド室の内部に、被処理物の上記真空処理室と搬入
路または搬出路との間の搬送を行う搬送装置をそ
れぞれ配置したものである。

（作 用） 本発明においては、ロード室およびアンロード
室を複数設けたことにより、ロード室およびアン
ロード室における真空排気時間が実質的に短縮さ
れることになるため、装置の処理効率が著しく向
上し、被処理物を迅速に処理することができる。
しかも、真空処理室を搬入路または搬送路との間
の被処理物の搬送は、ロード室およびアンロード
室の各々に夫々配置した搬送装置によつて個々に
行われ、これによつて装置全体としての簡素化お
よびコンパクト化を図ることができる。

（実施例） 以下、本発明の実施例を第１図乃至第３図を参
照して説明する。

第１図は本発明に係る真空処理装置の一実施例
を示したもので、真空処理室１をほぼ正六角形に
形成し、この真空処理室１の図において下側３辺
の外側には、それぞれ第１、第２、第３のロード
室５ａ，５ｂ，５ｃが配設され、上記真空処理室
１の図において上側３辺の外側には、それぞれ第
１、第２、第３のアンロード室６ａ，６ｂ，，６
ｃが配設されている。また、上記各ロード室５
ａ，５ｂ，５ｃの外側には、上記各ロード室５
ａ，５ｂ，５ｃの外面に沿つてロード側搬送室８
が配設され、上記各アンロード室６ａ，６ｂ，６
ｃの外側には、上記各アンロード室６ａ，６ｂ，
６ｃの外面に沿つてアンロード側搬送室９が配設
されている。上記真空処理室１と各ロード室５
ａ，５ｂ，５ｃおよびアンロード室６ａ，６ｂ，
６ｃとの間、各ロード室５ａ，５ｂ，５ｃおよび
アンロード室６ａ，６ｂ，６ｃとロード側搬送室
８およびアンロード側搬送室９との間には、各室
を気密に仕切るゲートバルブ７，７……がそれぞ
れ開閉自在に配設されており、上記ロード側搬送
室８には、被処理物３を多数収納した図示しない
カセツト等から３を搬入する搬入部１０が形成さ
れるとともに、上記アンロード側搬送室９には、
処理後の被処理物３をカセツト等に搬出する搬出
部１１が形成されている。

このロード側搬送室８と搬入部１０によつて搬
送路が、アンロード側搬送室９と搬出部１１によ
つて搬出路が夫々構成されている。

また、上記各ロード室５ａ，５ｂ，５ｃの内部
には、パワタグラフ状に連結されたアーム１２の
先端に被処理物３の載置板１３を取付け、上記ア
ーム１２の伸縮により被処理物３をロード側搬送
室９から真空処理室１に搬送する搬入側の搬送装
置１４，１４……がそれぞれ配置されており、上
記アンロード室６ａ，６ｂ，６ｃの内部にも、同
様に、被処理物３を真空処理室１からアンロード
側搬送室９に搬送する搬出側の搬送装置１４，１
４……がそれぞれ配置されている。さらに、上記
ロード側搬送室８の内部には、各ロード室５ａ，
５ｂ，５ｃの外面と平行に配置された３つの搬送
ベルト１５，１５……が配置されており、これら
各搬送ベルト１５，１５……の下方であつて、上
記搬入側の搬送装置１４の移動位置には、上記搬
送ベルト１５で送られる被処理物３を搬送ベルト
１５から持上げる支持ピン１６，１６……が昇降
自在に設けられている。この支持ピン１６による
昇降位置には、該位置で被処理物３を停止させる
位置決めストツパ１７，１７……が昇降自在に配
置されている。同様に、上記アンロード側搬送室
９の内部にも、搬送ベルト１５および支持ピン１
６がそれぞれ配設されている。

次に、本発明の作用について説明する。

本実施例においては、カセツト等から被処理物
３を１枚ずつ取出して搬入部１０からロード側搬
送室８内に搬入し、搬送ベルト１５を駆動すると
ともに、ストツパ１７を上昇させ、被処理物３を
第１ロード室５ａの前ま送つて停止させる。次い
で、支持ピン１６を上昇させて被処理物３を搬送
ベルト１５の上方に保持すると同時に、第１ロー
ド室５ａのゲートバルブ７を開き、この第１ロー
ド室５ａの搬送装置１４を駆動してその載置板１
３を被処理物３の下方に移動させる。そして、上
記支持ピン１６を下降させて上記載置板１３上被
処理物３を載置し、搬送装置１４を駆動して被処
理物３を第１ロード室５ａ内に搬送して上記ゲー
トバルブ７を閉じる。この状態で、第１ロード室
５ａを約10^-6Trrの圧力に真空排気した後、真空
処理室１側のゲートバルブ７を開いて搬送装置１
４の駆動により被処理物３を真空処理室１内に搬
送し、被処理物３のスパツタリング等の真空処理
を行なうものである。この間に、カセツト内の被
処理物３は、順次ロード側搬送室８に送られ第２
ロード室５ｂ、第３ロード室５ｃ内に上記手順と
同様に搬送れる。そして、上記第１ロード室５ａ
から送られた被処理物３の真空処理が終了した
ら、所定圧力に真空排気されている第１アンロー
ド室６ａ側のゲートバルブ７を開いて、第１アン
ロード室６ａ内の搬送装置１４により処理後の被
処理物３を第１アンロード室６ａ内に搬入すると
同時に、第２ロード５ｂ室の被処理物３を真空処
理室１に搬送する。この第２ロード室５ｂからの
被処理物３を真空処理するとともに、第１アンロ
ード室６ａ内を大気圧に戻してアンロード側搬送
室９へのゲートバルブ７を開いて、搬出側の搬送
装置１４により被処理物３をアンロード側搬送室
９に送る。そして、支持ピン１６を上昇させるこ
とにより、載置板１３から被処理物３を浮上さ
せ、上記搬送装置１４を第１アンロード室６ａに
戻すとともに、支持ピン１６を下降させて、被処
理物３を搬送ベルト１５の上に載置する。次い
で、搬送ベルト１５の駆動により被処理物３を搬
出部１１に搬送し、この搬出部１１から被処理物
３を取出す。

上記作業の間に、順次第３ロード室５ｃ内の被
処理物３を真空処理室１に送り、処理後の被処理
物３を第２アンロード室６ｂ、第３アンロード室
６ｃからアンロード側搬送室９に送るもので、こ
れら作業を連続して行なうことにより、被処理物
３の連続処理を行なうことができる。

本実施例においては、ロード室５およびアンロ
ード室６を大気圧から10^-6Torrまで真空排気す
るのに要する時間は、約100秒であり、真空処理
室１において被処理物３表面にAl膜を1500Å堆
積させるのに要する時間は約６秒である。そのた
め、ロード室およびアンロード室６がそれぞれ３
室あることにより、ロード室５およびアンロード
室６における真空排気時間が実質的に１／３に短
縮されることになり、ロード室５およびアンロー
ド室６の真空排気終了までの待ち時間が短時間で
済み、装置の真空処理効率を著しく向上させるこ
とができる。

また、第２図は本発明の他の実施例を示したも
ので、ほぼ正方形の真空処理室１の隣接する２面
には、それぞれほぼ正方形を有する第１および第
２ロード室５ａ，５ｂが設けられ、他の隣接する
２面には、それぞれほぼ正方形を有する第１およ
び第２ロード室６ａ，６ｂが設けられている。上
記各ロード室５ａ，５ｂの隣接する２面に対向す
る位置には、被処理物３を搬入する搬入路として
搬入部１０が配設され、各アンロード室６ａ，６
ｂの隣接する２面に対向する位置には、搬出路と
しての搬出部１１が配設されている。また、上記
真空処理室１とロード室５ａ，５ｂおよびアンロ
ード室６ａ，６ｂとの間、ロード室５ａ，５ｂお
よびアンロード室６ａ，６ｂと搬入部１０および
搬出部１１との間には、それぞれゲートバルブ
７，７……が開閉自在に設けられている。上記各
ロード室５ａ，５ｂの内部には、回転駆動により
伸縮自在に連結されたアーム１２の先端に被処理
物３の載置板１３を取付け、上記アーム１２の伸
縮により被処理物３を搬入部１０から真空処理室
１に搬送する搬入側搬送装置１４，１４がそれぞ
れ配設されるとともに、上記アンロード室６ａ，
６ｂの内部には、真空処理室１から搬出部１１に
被処理物３を搬送する搬出側搬送装置１４，１４
がそれぞれ配設されており、これら各搬送装置１
４は、装置全体が少なくとも90゜回動自在とされ
ている。

本実施例においては、カセツト等から被処理物
３を搬入部１０に送り、第１ロード室５ａとの間
のゲートバルブ７を開いてその搬送装置１４によ
り被処理物３を第１ロード室５ａ内に搬送する。
そして、第１ロード室５ａ内を所定圧力に真空排
気した後、真空処理室１側のゲートバルブ７を開
いて、搬送装置１４を回動させるとともに、アー
ム１２を伸延させて被処理物３を真空処理室１に
搬送し、被処理物３のスパツタリング等の真空処
理を行なうものである。本実施例においても同様
に、第１ロード室５ａの被処理物３を真空処理室
１で処理している間に、第２ロード室５ｂ内に被
処理物３を搬入して、真空排気しておき、第１ロ
ード室５ａの被処理物３の処理後、第１アンロー
ド室６ａに被処理物３を搬送すると同時に、第２
ロード室５ｂの被処理物３を真空処理室１内に搬
送するものであり、この作業を繰返すことによ
り、被処理物３の連続処理を行なうことができ
る。

したがつて、本実施例においては、ロード室５
およびアンロード室６の排気速度が実質的に１／
２になり、装置の真空処理効率を著しく向上させ
ることができる。

また、第３図は本発明のさらに他の実施例を示
したもので、２つの真空処理室１ａ，１ｂを設
け、これら各真空処理室１ａ，１ｂの間には、パ
ンタグラフ状の搬送装置１４が収容され各真空処
理室１ａ，１ｂとほぼ同様の真空状態に保持され
た搬送室１８が設けられており、その他の構成部
分は、上記第２図に示す実施例と同様であるた
め、同一部分には同一符号を付してその説明を省
略する。

本実施例においても、上記各実施例と同様に、
ロード室５およびアンロード室６における真空排
気時間を著しく短縮し、被処理物３を効率よく処
理することが可能となる。また、本実施例におい
ては、真空処理室１を２室設けているため、被処
理物３表面に２層に薄膜を形成することができ
る。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明に係る真空処理装置
は、ロード室およびアンロード室を上記真空処理
室に対して複数室並列に設けるとともに、これら
各ロード室およびアンロード室と上記真空処理室
との間で被処理物を搬送する複数の搬送装置を設
けるようにしたので、ロード室およびアンロード
室における真空排気時間が実質的に短縮されるこ
とになり、したがつて、装置の処理効率が著しく
向上し、被処理物を迅速に処理することができ
る。

しかも、ロード室およびアンロード室の各々に
夫々搬送装置を配置し、この搬送装置によつて真
空処理室を搬入路または搬送路との間の被処理物
の搬送を行うことにより、該搬入路または搬送路
を１つで済ますとともに、搬送ラインも搬入側お
よび搬出側夫々１つとして、真空処理装置全体と
しての簡素化およびコンパクト化を図ることがで
きるといつた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図および第３図はそれぞれ本発明
の一実施例を示す平面図、第４図は従来の真空処
理装置を示す縦断面図、第５図は従来の真空処理
装置をす概略平面図である。 １……真空処理室、３……被処理物、５……ロ
ード室、６……アンロード室、７……ゲートバル
ブ、８，９，１８……搬送室、１４……搬送装
置、１５……搬送ベルト、１６……支持ピン、１
７……ストツパ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 真空処理室の前段側および後段側に、大気圧
   から真空まで排気されるロード室およびアンロー
   ド室を開閉自在なゲートバルブを介してそれぞれ
   配設するとともに、上記真空処理室と上記ロード
   室およびアンロード室との間で被処理物の受渡し
   を行うようにした真空処理装置において、上記ロ
   ード室およびアンロード室を上記真空処理室の側
   壁に隣接して複数室並列に設けるとともに、この
   各ロード室およびアンロード室をゲートバルブを
   介して各々１つの搬入路および搬出路に夫々連続
   させ、これら各ロード室およびアンロード室の内
   部に、被処理物の上記真空処理室と搬入路または
   搬出路との間の搬送を行う搬送装置をそれぞれ配
   置したことを特徴とする真空処理装置。