KR970021362A - 가공물의 표면 처리용 진공 장치 - Google Patents

가공물의 표면 처리용 진공 장치 Download PDF

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Abstract

가공물의 표면 처리용 진공 가공 시스템은 진공 챔버와, 기재 이송 챔버 및 적어도 하나의 로딩 챔버를 구비한다. 진공 챔버는 중심 축선 주위로 회전하는 기재 홀더 및 기재 홀더의 원주변 주위에 배열된 적어도 하나의 가공 스테이션을 포함한다.
진공 챔버와 연통하는 기재 이송 챔버는 진공 챔버의 원주변에 접선방향으로 배열되며 진공 챔버의 중심 축선에 반경방향으로 배열된 제1수송 기구를 포함한다. 이 수송 기구에 의하여 가공물은 회전가능한 기재 홀더에 로딩되도록 이송 개구를 통하여 공급된다.
대기압 측면상에 도어를 그리고 진공압 측면상에 밸브를 구비한 로딩 챔버는 가공물을 로딩 및 언로딩하기 위한 제2조정 및 수송 기구를 포함한다.
이송 챔버는 제1조정 및 수송 기구 오른쪽 방향으로 배열된 제3조정 및 수송 기구를 포함하며 로딩 챔버와 연통한다. 제2 및 제3수송 기구는 진공 챔버 기재 홀더의 중심 축선에 대해 동일한 접선방향으로 배열된다.

Description

가공물의 표면 처리용 진공 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 진공 장치를 통과하는 수평 섹션의 개략도,
제2도는 이송 챔버(b)까지 연통 개구에 의하여 이송챔버(a)를 통과하는 섹션의 개략도.

Claims (9)

  1. 중심 축선(14) 주위로 회전하는 기재 홀더의 원주면 둘레에 배열된 적어도 하나의 가공 스테이션(1-5)을 가진 상기 기재 홀더(8)를 봉하고 있는 진공 챔버(6b)와; 상기 진공 챔버와 이송 개구(15)를 통하여 연통하며 중심 축선(14)에 반경방향으로 배열된 제1기재 조정 및 수송 기구(9, 17)를 특징으로 하는 기재 이송 챔버(6a)와; 제2기재 조정 및 수송 기구(10,18,19b,20)와, 가공물을 로딩 또는 언로딩하기 위한 대기압 측면상의 로딩 챔버 도어(12a, 12b) 및 진공압 측면상의 로딩 챔버 밸브(11a, 11b)를 가진 적어도 하나의 로딩 챔버(7a,7b)를 포함하는 가공물(21)의 표면 처리용 진공 가공 시스템에 있어서, 상기 이송 챔버(6a)는 상기 진공 챔버(6b)의 외부 원주변에 접선방향으로 배열되며 상기 제1수송 기구(9, 17)에 의하여 상기 가공물(21)이 상기 회전가능한 기재 홀더(8)에 로딩하기 위하여 상기 이송 개구를 통하여 상기 진공 챔버와 연통하는 것을 특징으로 하며 상기 로딩 챔버(7a,7b)가 상기 이송 챔버(6a)에 의하여 상기 진공 챔버(6b)에 접선방향으로 연통하며 상기 이송 챔버(6a)는 상기 제1수송 기구(9, 17) 오른쪽 방향으로 상기 제3수송 기구(10,18,19,20)을 구비하며 제2 및 제3수송 기구는 동일한 접선 방향으로 배열되는 것을 또한 특징으로 하는 진공 가공 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 적어도 두개의 인접한 로딩 챔버(7a, 7b)가 로딩 고정 챔버 또는 언로딩 고정 챔버로서의 각각의 고정 챔버를 선택적으로 작동시키기 위한 제어 설비에 의하여, 상기 이송 챔버(6a)에 배열되는 진공 가공 시스템.
  3. 제2항에 있어서, 상기 챔버(7a,7b)의 로딩 또는 언로딩 고정 밸브는 서로에 직접적으로 접하여 배열되는 진공 가공 시스템.
  4. 제1항 내지 제3항에 있어서, 상기 제2 및 제3수송 기구가 각각의 하중 챔버를 진공 챔버(6b)에 접선방향으로 배열하며, 상기 수송 기구는 이동가능한 기재 홀더 캐리지(10a, 10b)용 트랙(19a, 19b)과 진공 측면상의 로딩 챔버 밸브(11a, 11b) 사이에 트랙의 브레이크를 갖는 진공 가공 시스템.
  5. 제1항 내지 제4항에 있어서, 상기 수송 기구에 의하여 상기 이송 및 로딩 고정 챔버의 접선방향 정렬에 수직으로 그리고 시스템의 중심 축선(14)에 반경방향으로 배열된 상기 이송 챔버(6a)는 반경방향으로 이동될 수 있으며 상기 기재 홀더 드럼(8)과 상기 기재 홀더(10a, lOb) 사이에서 반경방향으로 가공물(21)을 수송하기 위한 기재 그리핑 장치(9)를 갖는 상기 제1기재 홀더(9,17)를 장착하고 있는 진공 가공 시스템.
  6. 제1항 내지 제5항에 있어서, 상기 캐리지 형태의 이동가능한 기재 홀더(10a, 1Ob)가 상기 이송 챔버(6a)와 상기 고정 챔버(7a, 7b) 사이에서 이동될 수 있으며, 상기 개방 로딩 챔버 밸브(11a, 11b)를 통하여 상기 로딩 챔버(7a,7b)에 도달할 수 있도록 모터 구동된 이중 레버 아암(18)이 이송 챔버(6a)상에 배열되는 진공 가공 시스템.
  7. 제1항 내지 제6항에 있어서, 가공하기 위한 가공물(21)은 표면적이 큰 판형으로 직경이 20cm보다 크며 특히 40cm 보다 큰 것이 바람직한 진공 가공 시스템.
  8. 제1항 내지 제7항에 있어서, 전형적으로 시스템에서 상기 가공물(21)은 수직으로 배열되며 수직에 대해 10°미만의, 특히 4°내지 8°범위내 경사를 갖는 상기 홀더(8,10)상에 유지되는 것이 바람직한 진공 가공 시스템.
  9. 제1항 내지 제8항에 있어서, 편평한 판넬 전시 생산에 유리판의 표면 처리가 사용되는 진공 가공 시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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