JP2837332B2 - 搬送アーム - Google Patents
搬送アームInfo
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- JP2837332B2 JP2837332B2 JP6140093A JP6140093A JP2837332B2 JP 2837332 B2 JP2837332 B2 JP 2837332B2 JP 6140093 A JP6140093 A JP 6140093A JP 6140093 A JP6140093 A JP 6140093A JP 2837332 B2 JP2837332 B2 JP 2837332B2
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- transfer arm
- suction
- glass substrate
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、大気雰囲気中にて、Ｌ
ＣＤ基板をはじめとする被処理基板やその他各種の板状
体の搬送に使用される搬送アームに関するものである。
ＣＤ基板をはじめとする被処理基板やその他各種の板状
体の搬送に使用される搬送アームに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来この種の搬送アームとしては、例え
ばＬＣＤ（Liquid Crystal Display；液晶表示装置）基
板の製造工程において使用される搬送アームが知られて
いる。そしてこの種の大気雰囲気内で使用される搬送ア
ームについては、従来技術の下では、例えば図５に示し
たような搬送アーム５１がある。
ばＬＣＤ（Liquid Crystal Display；液晶表示装置）基
板の製造工程において使用される搬送アームが知られて
いる。そしてこの種の大気雰囲気内で使用される搬送ア
ームについては、従来技術の下では、例えば図５に示し
たような搬送アーム５１がある。
【０００３】即ち従来の搬送アーム５１は全体として、
回転駆動自在な基台（図示せず）に設置された第１アー
ム５２、この第１アーム５２に連動して回転駆動される
第２アーム５３、この第２アーム５３に対して回転駆動
される載置台５４によって構成されている。また上記載
置台５４の載置面側には、載置されるＬＣＤ用ガラス基
板５５を真空吸着するための吸引口５６が通常４カ所に
設けられ、これら各吸引口５６周縁部にはＯリング５７
が夫々設けられていた。
回転駆動自在な基台（図示せず）に設置された第１アー
ム５２、この第１アーム５２に連動して回転駆動される
第２アーム５３、この第２アーム５３に対して回転駆動
される載置台５４によって構成されている。また上記載
置台５４の載置面側には、載置されるＬＣＤ用ガラス基
板５５を真空吸着するための吸引口５６が通常４カ所に
設けられ、これら各吸引口５６周縁部にはＯリング５７
が夫々設けられていた。
【０００４】そして搬送対象となる上記ＬＣＤ用ガラス
基板５５は、上記載置台５４のＯリング５７上に載置さ
れ、載置台５４内に設けられた真空引き流路（図示せ
ず）から真空引きされることによって上記ＬＣＤ用ガラ
ス基板５５は上記各Ｏリング５７に対して密着保持さ
れ、摩擦力と真空吸着によって載置台５４に保持されて
搬送時のズレ等が防止されるようになっていた。
基板５５は、上記載置台５４のＯリング５７上に載置さ
れ、載置台５４内に設けられた真空引き流路（図示せ
ず）から真空引きされることによって上記ＬＣＤ用ガラ
ス基板５５は上記各Ｏリング５７に対して密着保持さ
れ、摩擦力と真空吸着によって載置台５４に保持されて
搬送時のズレ等が防止されるようになっていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな従来の搬送アームによれば、以下のような問題が生
ずる。まず搬送対象であるＬＣＤ用ガラス基板５５と接
触しているのは、Ｏリング５７であるが、従来この種の
Ｏリングはその材質がシリコンやバイトンからなってお
り、そのため搬送を繰り返していると摩擦によってこれ
らシリコンやバイトンのパーティクルが発生して、ＬＣ
Ｄ用ガラス基板５５を汚染させる原因となっていた。
うな従来の搬送アームによれば、以下のような問題が生
ずる。まず搬送対象であるＬＣＤ用ガラス基板５５と接
触しているのは、Ｏリング５７であるが、従来この種の
Ｏリングはその材質がシリコンやバイトンからなってお
り、そのため搬送を繰り返していると摩擦によってこれ
らシリコンやバイトンのパーティクルが発生して、ＬＣ
Ｄ用ガラス基板５５を汚染させる原因となっていた。
【０００６】また最近はＬＣＤ用ガラス基板が大型化し
ているが、例えばその大きさが４５０mm×５００mmにも
なると、一般にこの種のＬＣＤ用ガラス基板は厚さ１mm
程度であるから、基板自体の中央が自重によって撓み、
そのため基板周辺部で基板と接触しているＯリングと当
該基板との間に隙間が生じ、真空吸着ができないおそれ
もあった。このことは特に硬性の材質でＯリングを構成
した場合に顕著となる。
ているが、例えばその大きさが４５０mm×５００mmにも
なると、一般にこの種のＬＣＤ用ガラス基板は厚さ１mm
程度であるから、基板自体の中央が自重によって撓み、
そのため基板周辺部で基板と接触しているＯリングと当
該基板との間に隙間が生じ、真空吸着ができないおそれ
もあった。このことは特に硬性の材質でＯリングを構成
した場合に顕著となる。
【０００７】さらに図５からも明らかなように、上記従
来の搬送アーム５１では１度に１枚の基板しか搬送でき
ず、高スループット化するにも限界があった。
来の搬送アーム５１では１度に１枚の基板しか搬送でき
ず、高スループット化するにも限界があった。
【０００８】本発明は叙上の問題点に鑑みてなされたも
のであって、搬送対象への汚染を防止するとともに、搬
送対象の大型化、さらには高スループットにも対応でき
る搬送アームを提供することを目的とするものである。
のであって、搬送対象への汚染を防止するとともに、搬
送対象の大型化、さらには高スループットにも対応でき
る搬送アームを提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明では、載置手段を有し、この載置手
段に板状体を載置してこれを搬送する搬送アームにおい
て、前記載置手段の載置面側にＰＥＥＫ（ポリ・エーテ
ル・エーテル・ケトン）材からなる吸着パッドを設け、
当該吸着パッドを介して刃層対象である板状体を吸着す
る如く構成したことを特徴とする、搬送アームを提供す
る。
め、請求項１の発明では、載置手段を有し、この載置手
段に板状体を載置してこれを搬送する搬送アームにおい
て、前記載置手段の載置面側にＰＥＥＫ（ポリ・エーテ
ル・エーテル・ケトン）材からなる吸着パッドを設け、
当該吸着パッドを介して刃層対象である板状体を吸着す
る如く構成したことを特徴とする、搬送アームを提供す
る。
【００１０】この場合、請求項２に記載したように、Ｐ
ＥＥＫ材からなる支持体を載置手段の載置面側に設け、
この支持体の高さを吸着パッド材と略同一に設定しても
よい。
ＥＥＫ材からなる支持体を載置手段の載置面側に設け、
この支持体の高さを吸着パッド材と略同一に設定しても
よい。
【００１１】さらにまた上記各搬送アームにおいて、請
求項３に記載したように、適宜間隔の下で載置手段を上
下複数段に構成してもよい。
求項３に記載したように、適宜間隔の下で載置手段を上
下複数段に構成してもよい。
【００１２】
【作用】ＰＥＥＫ材は、極めて安定した材質であり、対
薬品、対摩耗性、機械特性に優れている。従って搬送を
繰り返しても、従来のシリコンやバイトンからなるＯリ
ングと較べて、パーティクル発生の可能性は格段に低下
するため、搬送対象に対する汚染を防止できる。
薬品、対摩耗性、機械特性に優れている。従って搬送を
繰り返しても、従来のシリコンやバイトンからなるＯリ
ングと較べて、パーティクル発生の可能性は格段に低下
するため、搬送対象に対する汚染を防止できる。
【００１３】ＰＥＥＫ材からなる支持体を載置手段の載
置面側に設け、この支持体の高さを吸着パッド材と略同
一に設定した場合には、吸着パッドのみならずこれら各
支持体によっても板状体が支持されるので、大型の搬送
対象が自重によって撓むのを防止できる。
置面側に設け、この支持体の高さを吸着パッド材と略同
一に設定した場合には、吸着パッドのみならずこれら各
支持体によっても板状体が支持されるので、大型の搬送
対象が自重によって撓むのを防止できる。
【００１４】適宜間隔の下で載置手段を上下複数段に構
成した場合には、一度に複数の板状体を搬送することが
可能である。
成した場合には、一度に複数の板状体を搬送することが
可能である。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
ると、本実施例はプラズマ処理装置に使用される搬送ア
ームとして構成されており、図１は本実施例にかかる搬
送アーム１を概略的に示しており、同図から明らかなよ
うに、本実施例における搬送アーム１は、搬送対象を直
接載置させる載置台４、当該載置台４を図１中の往復矢
印に示されるようにスライド自在に駆動させる例えば伸
縮軸などのスライド機構（図示せず）、並びにこれら載
置台４と上記スライド機構を支持し、かつこれらを回転
自在に駆動するための基台６によって構成されている。
ると、本実施例はプラズマ処理装置に使用される搬送ア
ームとして構成されており、図１は本実施例にかかる搬
送アーム１を概略的に示しており、同図から明らかなよ
うに、本実施例における搬送アーム１は、搬送対象を直
接載置させる載置台４、当該載置台４を図１中の往復矢
印に示されるようにスライド自在に駆動させる例えば伸
縮軸などのスライド機構（図示せず）、並びにこれら載
置台４と上記スライド機構を支持し、かつこれらを回転
自在に駆動するための基台６によって構成されている。
【００１６】さらにまた上記基台６そのものも、適宜の
昇降機構によって上下動、例えば基板のピックアップや
ダウン程度の上下動も自在になるように構成され、この
基台６は、駆動手段等が収納されている支持台５上に設
けられている。上記構成により、搬送アーム１は載置台
４の旋回範囲内において、両サイドを始めとする上記支
持台５の周囲空間に位置する搬送対象（板状体の基板）
の搬送入が可能になっている。
昇降機構によって上下動、例えば基板のピックアップや
ダウン程度の上下動も自在になるように構成され、この
基台６は、駆動手段等が収納されている支持台５上に設
けられている。上記構成により、搬送アーム１は載置台
４の旋回範囲内において、両サイドを始めとする上記支
持台５の周囲空間に位置する搬送対象（板状体の基板）
の搬送入が可能になっている。
【００１７】上記載置台４は、夫々アルミ材からなる上
側載置台１１と下側載置台２１とが、やはりアルミ材か
らなるスペーサ３１を挟んで上下２段に配置している構
成を有し、これらは適宜の接地線（図示せず）によって
電気的に接地されている。
側載置台１１と下側載置台２１とが、やはりアルミ材か
らなるスペーサ３１を挟んで上下２段に配置している構
成を有し、これらは適宜の接地線（図示せず）によって
電気的に接地されている。
【００１８】上記上側載置台１１と下側載置台２１とは
同形同一構成であり、いま上側載置台１１の平面形態を
図２に基づいて説明すると、この上側載置台１１におけ
る先端部となる他端部側（図２における左側）略半分は
台形をなし、一端部側（図２における左側）略半分は方
形をなしている。このように挿入側の平面を台形に形成
することにより、載置台４の回転や搬送対象であるＬＣ
Ｄ基板の収納カセットからの取り出し、処理室への搬送
入の際のゲートバルブへの挿入等にあたり、載置台４の
回転に支障が生じないようになっている。またさらにか
かる構成により載置台４の他端部（先端部）の重量を軽
減することができ、搬送の際、特に始動時や停止時の際
に載置台４が振動することが防止される。なおさらに載
置台４の先端部の重量を軽減するためには、適宜窓等の
打ち抜き部分を先端部側に設けてもよい。
同形同一構成であり、いま上側載置台１１の平面形態を
図２に基づいて説明すると、この上側載置台１１におけ
る先端部となる他端部側（図２における左側）略半分は
台形をなし、一端部側（図２における左側）略半分は方
形をなしている。このように挿入側の平面を台形に形成
することにより、載置台４の回転や搬送対象であるＬＣ
Ｄ基板の収納カセットからの取り出し、処理室への搬送
入の際のゲートバルブへの挿入等にあたり、載置台４の
回転に支障が生じないようになっている。またさらにか
かる構成により載置台４の他端部（先端部）の重量を軽
減することができ、搬送の際、特に始動時や停止時の際
に載置台４が振動することが防止される。なおさらに載
置台４の先端部の重量を軽減するためには、適宜窓等の
打ち抜き部分を先端部側に設けてもよい。
【００１９】そして上側載置台１１における上面、即ち
載置面側には、図２に示したように上記台形部分の周縁
四隅にＰＥＥＫ材からなる吸着パッド１２、１３、１
４、１５が設けられている。これら各吸着パッド１２、
１３、１４、１５は同形同大であり、例えば吸着パッド
１５についていえば、図３に示したように、上側載置台
１１の載置面側に穿たれた孔に吸着パッド１５を嵌入さ
せて接着することによって上記載置台１１に固定され、
当該吸着パッド１５の頂部は載置台１１の表面から例え
ば約０．５mm程度突出するように設定されている。
載置面側には、図２に示したように上記台形部分の周縁
四隅にＰＥＥＫ材からなる吸着パッド１２、１３、１
４、１５が設けられている。これら各吸着パッド１２、
１３、１４、１５は同形同大であり、例えば吸着パッド
１５についていえば、図３に示したように、上側載置台
１１の載置面側に穿たれた孔に吸着パッド１５を嵌入さ
せて接着することによって上記載置台１１に固定され、
当該吸着パッド１５の頂部は載置台１１の表面から例え
ば約０．５mm程度突出するように設定されている。
【００２０】この吸着パッド１５は中心部に吸引孔１５
ａを有しており、この吸引孔１５ａはこの吸着パッド１
５が嵌入されている孔の底部に設けられた吸引口１５ｂ
と通じており、さらに当該吸引口１５ｂは上記載置台１
１の内部に配設されている吸引流路１６と通じている。
この吸引流路１６は上記他の吸着パッド１２、１３、１
４の吸引孔と連通しており、この搬送アーム１とは別設
の真空ポンプ等の吸引手段（図示せず）によって、各吸
着パッド１２、１３、１４、１５において均等に吸引さ
れるように構成されている。
ａを有しており、この吸引孔１５ａはこの吸着パッド１
５が嵌入されている孔の底部に設けられた吸引口１５ｂ
と通じており、さらに当該吸引口１５ｂは上記載置台１
１の内部に配設されている吸引流路１６と通じている。
この吸引流路１６は上記他の吸着パッド１２、１３、１
４の吸引孔と連通しており、この搬送アーム１とは別設
の真空ポンプ等の吸引手段（図示せず）によって、各吸
着パッド１２、１３、１４、１５において均等に吸引さ
れるように構成されている。
【００２１】さらに図２、図３に示したように、ちょう
ど上記吸着パッド１２と１３とを結ぶ線上における吸着
パッド１４と１５との間の中間地点には、ＰＥＥＫ材か
らなる支持体１７、１８が設けられている。これら支持
体１７、１８は、上記各吸着パッド１２、１３、１４、
１５よりも小さい外径、例えば直径５mmの大きさを有
し、図３に示したように、上側載置台１１の載置面側に
穿たれた孔に挿入されて、接着剤によって固定されてい
る。そしてこれら各支持体１７、１８も上記各吸着パッ
ド１２、１３、１４、１５と同様、上側載置台１１の表
面から例えば約０．５mm程度突出するように設定されて
いる。
ど上記吸着パッド１２と１３とを結ぶ線上における吸着
パッド１４と１５との間の中間地点には、ＰＥＥＫ材か
らなる支持体１７、１８が設けられている。これら支持
体１７、１８は、上記各吸着パッド１２、１３、１４、
１５よりも小さい外径、例えば直径５mmの大きさを有
し、図３に示したように、上側載置台１１の載置面側に
穿たれた孔に挿入されて、接着剤によって固定されてい
る。そしてこれら各支持体１７、１８も上記各吸着パッ
ド１２、１３、１４、１５と同様、上側載置台１１の表
面から例えば約０．５mm程度突出するように設定されて
いる。
【００２２】以上のように構成された上側載置台１１の
載置面側に、搬送対象であるＬＣＤガラス基板３２が載
置される際は、図２に示したように、例えば当該ＬＣＤ
ガラス基板３２が４５０mm×５００mmの大きさの場合、
当該ＬＣＤガラス基板３２の裏面における周縁部から内
側に１０mm〜２０mmの間に、上記各吸着パッド１２、１
３、１４、１５が接して載置されるように設定されてい
る。そのようにＬＣＤガラス基板３２の周縁部にて吸着
させることにより、搬送に伴う当該ＬＣＤガラス基板３
２に対する影響を極力抑えることが可能であり、例えば
前処理段階で搬送するにあたっても、後の処理を支障な
く実施することが可能である。
載置面側に、搬送対象であるＬＣＤガラス基板３２が載
置される際は、図２に示したように、例えば当該ＬＣＤ
ガラス基板３２が４５０mm×５００mmの大きさの場合、
当該ＬＣＤガラス基板３２の裏面における周縁部から内
側に１０mm〜２０mmの間に、上記各吸着パッド１２、１
３、１４、１５が接して載置されるように設定されてい
る。そのようにＬＣＤガラス基板３２の周縁部にて吸着
させることにより、搬送に伴う当該ＬＣＤガラス基板３
２に対する影響を極力抑えることが可能であり、例えば
前処理段階で搬送するにあたっても、後の処理を支障な
く実施することが可能である。
【００２３】一方上記載置台１１の下方にスペーサ３１
の高さ分間隔をおいて位置する下側載置台２１も上記上
側載置台１１と全く同一構成を有しており、上記上側載
置台１１における上記各吸着パッド１２、１３、１４、
１５と同じ位置にＰＥＥＫ材からなる吸着パッド２２、
２２、２２、２２が、また一方上記上側載置台１１にお
ける上記支持体１７、１８と同一位置にＰＥＥＫ材から
なる支持体２３、２３が設けられており、さらに図３に
示したように、吸着パッド２２の吸引孔２２ａも、下側
載置台２１内部に配設されている吸引流路２６と吸引口
２２ｂを介して連通している。なお以上のような上側載
置台１１と下側載置台２１との間隔は、ＬＣＤガラス基
板を収納する後述のカセットの上下ピッチと同一に設定
されている。
の高さ分間隔をおいて位置する下側載置台２１も上記上
側載置台１１と全く同一構成を有しており、上記上側載
置台１１における上記各吸着パッド１２、１３、１４、
１５と同じ位置にＰＥＥＫ材からなる吸着パッド２２、
２２、２２、２２が、また一方上記上側載置台１１にお
ける上記支持体１７、１８と同一位置にＰＥＥＫ材から
なる支持体２３、２３が設けられており、さらに図３に
示したように、吸着パッド２２の吸引孔２２ａも、下側
載置台２１内部に配設されている吸引流路２６と吸引口
２２ｂを介して連通している。なお以上のような上側載
置台１１と下側載置台２１との間隔は、ＬＣＤガラス基
板を収納する後述のカセットの上下ピッチと同一に設定
されている。
【００２４】上記構成からなる下側載置台２１に載置さ
れる、例えば４５０mm×５００mmの大きさのＬＣＤガラ
ス基板３３も上記ＬＣＤガラス基板３２の場合と同様、
当該ＬＣＤガラス基板３３の裏面における周縁部から内
側に１０mm〜２０mmの間に、上記各吸着パッド２２、２
２、２２、２２が接するように設定されている。そして
以上の構成にかかる搬送アーム１は、既述の如くプラズ
マ処理装置４１における大気搬送系に使用される。
れる、例えば４５０mm×５００mmの大きさのＬＣＤガラ
ス基板３３も上記ＬＣＤガラス基板３２の場合と同様、
当該ＬＣＤガラス基板３３の裏面における周縁部から内
側に１０mm〜２０mmの間に、上記各吸着パッド２２、２
２、２２、２２が接するように設定されている。そして
以上の構成にかかる搬送アーム１は、既述の如くプラズ
マ処理装置４１における大気搬送系に使用される。
【００２５】即ちこのプラズマ処理装置４１は３つのプ
ロセスチャンバ４１ａ、４１ｂ、４１ｃが、夫々ゲート
バルブ４２を介して搬送チャンバ４３の３つの側面に隣
接して設けてあり、当該搬送チャンバ４３の残りの側面
にはゲートバルブ４４を介してロードロック室４５が隣
接して位置し、このロードロック室４５における大気側
のゲートバルブ４６の搬送入口に、上記実施例にかかる
搬送アーム１を支持した既述の支持台５が配置されてい
る。
ロセスチャンバ４１ａ、４１ｂ、４１ｃが、夫々ゲート
バルブ４２を介して搬送チャンバ４３の３つの側面に隣
接して設けてあり、当該搬送チャンバ４３の残りの側面
にはゲートバルブ４４を介してロードロック室４５が隣
接して位置し、このロードロック室４５における大気側
のゲートバルブ４６の搬送入口に、上記実施例にかかる
搬送アーム１を支持した既述の支持台５が配置されてい
る。
【００２６】そしてこの支持台５の両側には、処理対象
であるＬＣＤガラス基板が多数（例えば２０枚）収納さ
れたカセット３４、３５が位置し、これら各カセット３
４、３５は適宜のエレベーション機構（図示せず）によ
って上下動自在となるように構成されている。
であるＬＣＤガラス基板が多数（例えば２０枚）収納さ
れたカセット３４、３５が位置し、これら各カセット３
４、３５は適宜のエレベーション機構（図示せず）によ
って上下動自在となるように構成されている。
【００２７】本実施例にかかる搬送アーム１を採用した
プラズマ処理装置４１は以上のように構成されており、
その動作について説明すると、まず未処理のＬＣＤガラ
ス基板Ｐを収納したカセット３４がその出入口（オープ
ン側）を上記支持台５に向けて所定位置にセットされる
と、上記エレベーション機構によって当該カセット３４
が上昇し、その最下部、並びに最下部から２番目に収納
されているＬＣＤ用ガラス基板３３、３２が夫々搬送ア
ーム１の下側載置台２１と上側載置台１１の位置に略対
応する位置（下側載置台２１と上側載置台１１よりも夫
々若干高い位置）まで上昇する。
プラズマ処理装置４１は以上のように構成されており、
その動作について説明すると、まず未処理のＬＣＤガラ
ス基板Ｐを収納したカセット３４がその出入口（オープ
ン側）を上記支持台５に向けて所定位置にセットされる
と、上記エレベーション機構によって当該カセット３４
が上昇し、その最下部、並びに最下部から２番目に収納
されているＬＣＤ用ガラス基板３３、３２が夫々搬送ア
ーム１の下側載置台２１と上側載置台１１の位置に略対
応する位置（下側載置台２１と上側載置台１１よりも夫
々若干高い位置）まで上昇する。
【００２８】次にスライド機構による伸張により載置台
４はカセット３４側へと伸張し、上側載置台１１は上部
のＬＣＤ用ガラス基板３２の下方に、下側載置台２１は
最下部のＬＣＤ用ガラス基板３３の下方に挿入され、基
台６の上昇によって上側載置台１１の吸着パッド１２等
が上記ＬＣＤ用ガラス基板３２の裏面に、下側載置台２
１の吸着パッド２２が上記ＬＣＤ用ガラス基板３３の裏
面に密着し（図３に示される状態）、直ちに別設の吸引
機構（図示せず）によって真空吸引されて、これら各Ｌ
ＣＤ用ガラス基板３２、３３は夫々上側載置台１１、下
側載置台２１に夫々これら吸着パッド１２、２２等を介
して吸着保持される。
４はカセット３４側へと伸張し、上側載置台１１は上部
のＬＣＤ用ガラス基板３２の下方に、下側載置台２１は
最下部のＬＣＤ用ガラス基板３３の下方に挿入され、基
台６の上昇によって上側載置台１１の吸着パッド１２等
が上記ＬＣＤ用ガラス基板３２の裏面に、下側載置台２
１の吸着パッド２２が上記ＬＣＤ用ガラス基板３３の裏
面に密着し（図３に示される状態）、直ちに別設の吸引
機構（図示せず）によって真空吸引されて、これら各Ｌ
ＣＤ用ガラス基板３２、３３は夫々上側載置台１１、下
側載置台２１に夫々これら吸着パッド１２、２２等を介
して吸着保持される。
【００２９】この状態で搬送アーム１はスライド機構に
よって収縮し、さらに基台６の回転によって今度は載置
台４がゲートバルブ４６の搬送入口に対向し、搬送アー
ム１の伸張によって上記ＬＣＤ用ガラス基板３２、３３
を吸着保持されている載置台４はロードロック室４５内
に挿入され、当該ロードロック室４５内に設置されてい
る位置決め機構を有する載置台（図示せず）に載置され
る。本実施例ではカセット３４、３５が支持台５の両サ
イドに位置しているため、上記基台６による載置台４の
回転角度は、９０゜となるように制御されているが、カ
セットの位置が例えば上記支持第５の斜め後方に位置さ
せた場合には、それに対応して基台６の回転角度を適宜
大きくするように制御すればよい。このような制御によ
り、ＬＣＤ用ガラス基板を収納するカセットの設置位置
の選択度が高まり、レイアウト等の自由度を高めること
が可能である。
よって収縮し、さらに基台６の回転によって今度は載置
台４がゲートバルブ４６の搬送入口に対向し、搬送アー
ム１の伸張によって上記ＬＣＤ用ガラス基板３２、３３
を吸着保持されている載置台４はロードロック室４５内
に挿入され、当該ロードロック室４５内に設置されてい
る位置決め機構を有する載置台（図示せず）に載置され
る。本実施例ではカセット３４、３５が支持台５の両サ
イドに位置しているため、上記基台６による載置台４の
回転角度は、９０゜となるように制御されているが、カ
セットの位置が例えば上記支持第５の斜め後方に位置さ
せた場合には、それに対応して基台６の回転角度を適宜
大きくするように制御すればよい。このような制御によ
り、ＬＣＤ用ガラス基板を収納するカセットの設置位置
の選択度が高まり、レイアウト等の自由度を高めること
が可能である。
【００３０】その後搬送アーム１が再び収縮してゲート
バルブ４６が閉じられると、上記ロードロック室４５内
は真空引きされ、その後搬送チャンバ４３内にある別設
の真空雰囲気用搬送アームによって、これら各ＬＣＤ用
ガラス基板３２、３３は夫々プロセスチャンバ４１ａ、
４１ｂ、４１ｃに予め設定されたプログラムに従って振
り分けられ、そこでエッチングやアッシング等のプラズ
マ処理がなされる。
バルブ４６が閉じられると、上記ロードロック室４５内
は真空引きされ、その後搬送チャンバ４３内にある別設
の真空雰囲気用搬送アームによって、これら各ＬＣＤ用
ガラス基板３２、３３は夫々プロセスチャンバ４１ａ、
４１ｂ、４１ｃに予め設定されたプログラムに従って振
り分けられ、そこでエッチングやアッシング等のプラズ
マ処理がなされる。
【００３１】このように上記プラズマ処理装置４１は３
つのプロセスチャンバ４１ａ、４１ｂ、４１ｃを有し、
例えばそのうち２つのプロセスチャンバをエッチング処
理室として、残りの１つのプロセスチャンバをアッシン
グ処理室として構成することができ、極めて高いスルー
プットが可能となるように設計されているが、上記実施
例にかかる搬送アーム１によれば、１度に２枚のＬＣＤ
用ガラス基板を搬送することが可能であるから、そのよ
うな高スループットに十分対応して基板の搬送を実施す
ることができる。例えば上記の如く、１度に２枚のＬＣ
Ｄ用ガラス基板をロードロック室４５内に搬入して、そ
こで待機させることが可能である。また当然のことなが
ら処理済みのＬＣＤ用ガラス基板も１度に２枚ずつ搬送
することもまた可能である。
つのプロセスチャンバ４１ａ、４１ｂ、４１ｃを有し、
例えばそのうち２つのプロセスチャンバをエッチング処
理室として、残りの１つのプロセスチャンバをアッシン
グ処理室として構成することができ、極めて高いスルー
プットが可能となるように設計されているが、上記実施
例にかかる搬送アーム１によれば、１度に２枚のＬＣＤ
用ガラス基板を搬送することが可能であるから、そのよ
うな高スループットに十分対応して基板の搬送を実施す
ることができる。例えば上記の如く、１度に２枚のＬＣ
Ｄ用ガラス基板をロードロック室４５内に搬入して、そ
こで待機させることが可能である。また当然のことなが
ら処理済みのＬＣＤ用ガラス基板も１度に２枚ずつ搬送
することもまた可能である。
【００３２】而して搬送中は、ＬＣＤ用ガラス基板に直
接接触するのが、極めて安定した材質で、対薬品、対摩
耗性、機械特性に優れているＰＥＥＫ材からなる吸着パ
ッド１２、１３、１４、１５並びに２２であるから、従
来のシリコンゴムやバイトンゴムからなるＯリングと較
べて、パーティクル発生の可能性は格段に低下し、搬送
対象に対する汚染を防止することが可能である。
接接触するのが、極めて安定した材質で、対薬品、対摩
耗性、機械特性に優れているＰＥＥＫ材からなる吸着パ
ッド１２、１３、１４、１５並びに２２であるから、従
来のシリコンゴムやバイトンゴムからなるＯリングと較
べて、パーティクル発生の可能性は格段に低下し、搬送
対象に対する汚染を防止することが可能である。
【００３３】さらにまた上記吸着パッド１２、１３、１
４、１５並びに２２以外に、同じくＰＥＥＫ材からなる
支持体１７、１８、２３が載置台４の載置面側に設けて
あるから、搬送対象であるＬＣＤ用ガラス基板が叙上の
ように、４５０mm×５００mmと大きなものであって自重
により中央部が撓もうとしても、当該ＬＣＤ用ガラス基
板は上記支持体１７、１８、２３によっても支持されて
いるので、その裏面が載置台４の表面に接することはな
く、また各吸着パッド１２、１３、１４、１５、２２と
上記ＬＣＤ用ガラス基板との間に空隙が生ずることはな
い。従って、真空吸引による吸着保持を安定して維持す
ることが可能であり、搬送対象が大型化してもこれを高
速にかつ安定して搬送することができ、高スループット
化に対応できる。
４、１５並びに２２以外に、同じくＰＥＥＫ材からなる
支持体１７、１８、２３が載置台４の載置面側に設けて
あるから、搬送対象であるＬＣＤ用ガラス基板が叙上の
ように、４５０mm×５００mmと大きなものであって自重
により中央部が撓もうとしても、当該ＬＣＤ用ガラス基
板は上記支持体１７、１８、２３によっても支持されて
いるので、その裏面が載置台４の表面に接することはな
く、また各吸着パッド１２、１３、１４、１５、２２と
上記ＬＣＤ用ガラス基板との間に空隙が生ずることはな
い。従って、真空吸引による吸着保持を安定して維持す
ることが可能であり、搬送対象が大型化してもこれを高
速にかつ安定して搬送することができ、高スループット
化に対応できる。
【００３４】またさらに載置台４は接地されているか
ら、載置台４自体が帯電して浮遊パーティクルを吸引す
ることはない。それゆえこの点からも、搬送対象の汚染
防止が図られている。
ら、載置台４自体が帯電して浮遊パーティクルを吸引す
ることはない。それゆえこの点からも、搬送対象の汚染
防止が図られている。
【００３５】上記実施例はＬＣＤ用ガラス基板の搬送用
アームとして構成されていたが、これに限らず本発明に
よれば、大気雰囲気中にて他の板状体を搬送する目的で
使用されるの搬送アームにも対しても適用できる。
アームとして構成されていたが、これに限らず本発明に
よれば、大気雰囲気中にて他の板状体を搬送する目的で
使用されるの搬送アームにも対しても適用できる。
【００３６】
【発明の効果】請求項１によれば、搬送対象に直接接触
するのが、極めて安定した材質で、対薬品、対摩耗性、
機械特性に優れているＰＥＥＫ材であるから、従来のシ
リコンやバイトンからなるＯリングと較べて、パーティ
クル発生の可能性は格段に低下し、搬送対象に対する汚
染を防止できる。
するのが、極めて安定した材質で、対薬品、対摩耗性、
機械特性に優れているＰＥＥＫ材であるから、従来のシ
リコンやバイトンからなるＯリングと較べて、パーティ
クル発生の可能性は格段に低下し、搬送対象に対する汚
染を防止できる。
【００３７】請求項２によれば、ＰＥＥＫ材からなる支
持体を載置手段の載置面側に設け、この支持体の高さを
吸着パッド材と略同一に設定してあるから、大型の搬送
対象が自重によって撓むのを防止でき、例えば真空吸引
によって搬送対象を吸着する場合、支持箇所に空隙が発
生するおそれはなく、安定、かつ確実に真空吸引による
搬送対象の吸着保持が可能である。
持体を載置手段の載置面側に設け、この支持体の高さを
吸着パッド材と略同一に設定してあるから、大型の搬送
対象が自重によって撓むのを防止でき、例えば真空吸引
によって搬送対象を吸着する場合、支持箇所に空隙が発
生するおそれはなく、安定、かつ確実に真空吸引による
搬送対象の吸着保持が可能である。
【００３８】請求項３によれば、上記各効果に加えてさ
らに一度に複数の搬送対象を搬送することが可能であ
り、高スループット化に対応した搬送系を実現すること
が可能である。
らに一度に複数の搬送対象を搬送することが可能であ
り、高スループット化に対応した搬送系を実現すること
が可能である。
【図１】本発明の実施例にかかる搬送アームの斜視図で
ある。
ある。
【図２】本発明の実施例にかかる搬送アームにおける載
置台の平面図である。
置台の平面図である。
【図３】本発明の実施例にかかる搬送アームにおける載
置台の側面の要部拡大断面図である。
置台の側面の要部拡大断面図である。
【図４】本発明の実施例にかかる搬送アームが使用され
ているプラズマエッチング／アッシング装置の斜視図で
ある。
ているプラズマエッチング／アッシング装置の斜視図で
ある。
【図５】従来技術にかかる搬送アームの斜視図である。
１ 搬送アーム ４ 載置台 ５ 支持台 ６ 基台 １１ 上側載置台 １２、１３、１４、１５、２２ 吸着パッド １５ａ 吸引孔 １７、１８ 支持体 ２１ 下側載置台 ２３ 支持体 ３１ スペーサ ３２、３３ ＬＣＤ用ガラス基板 ３５ カセット ４１ プラズマエッチング／アッシング装置 ４５ ロードロック室 ４６ ゲートバルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B65G 49/06 B65G 1/00 535 B25J 15/06
Claims (3)
- 【請求項１】 載置手段を有し、この載置手段に板状体
を載置してこれを搬送する搬送アームにおいて、前記載
置手段の載置面側にＰＥＥＫ材からなる吸着パッドを設
け、当該吸着パッドを介して上記板状体を吸着する如く
構成したことを特徴とする、搬送アーム。 - 【請求項２】 ＰＥＥＫ材からなる支持体を載置手段の
載置面側に設け、さらにこの支持体の高さを吸着パッド
材と略同一に設定したことを特徴とする、搬送アーム。 - 【請求項３】 載置手段は適宜間隔の下で上下複数段に
構成されていることを特徴とする、請求項１又は２に記
載の搬送アーム。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6140093A JP2837332B2 (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 搬送アーム |
| KR1019940003427A KR100256215B1 (ko) | 1993-02-26 | 1994-02-25 | 멀티챔버 시스템 |
| US08/202,100 US5558482A (en) | 1992-07-29 | 1994-02-25 | Multi-chamber system |
| US08/389,226 US5636960A (en) | 1992-07-29 | 1995-02-15 | Apparatus for detecting and aligning a substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6140093A JP2837332B2 (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 搬送アーム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06247507A JPH06247507A (ja) | 1994-09-06 |
| JP2837332B2 true JP2837332B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=13170066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6140093A Expired - Fee Related JP2837332B2 (ja) | 1992-07-29 | 1993-02-26 | 搬送アーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2837332B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000053246A (ja) * | 1998-08-11 | 2000-02-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | ガラス基板の支持構造およびガラス基板搬送用ハンド |
| KR100765144B1 (ko) * | 2001-09-22 | 2007-10-15 | 삼성전자주식회사 | 배향홈 형성용 러빙 설비 |
| CN1787954A (zh) * | 2003-06-19 | 2006-06-14 | 日商乐华股份有限公司 | 薄板支撑体 |
| US8276959B2 (en) | 2008-08-08 | 2012-10-02 | Applied Materials, Inc. | Magnetic pad for end-effectors |
| JP5170554B2 (ja) | 2008-09-29 | 2013-03-27 | 株式会社ダイフク | 物品収納設備における学習装置 |
| KR101689550B1 (ko) * | 2009-01-11 | 2016-12-26 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판들을 운반하기 위한 정전기 엔드 이펙터 장치, 시스템들 및 방법들 |
| CN107210253A (zh) * | 2015-01-22 | 2017-09-26 | 株式会社岛津制作所 | 基板移载系统 |
| CN110450185B (zh) * | 2019-08-01 | 2023-12-05 | 广东华工环源环保科技有限公司 | 一种纸浆模塑制品干湿坯转移机器人 |
| KR102298088B1 (ko) * | 2019-09-10 | 2021-09-02 | 세메스 주식회사 | 기판 반송 로봇 및 기판 처리 설비 |
| JP2022154603A (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及び基板搬送方法 |
-
1993
- 1993-02-26 JP JP6140093A patent/JP2837332B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06247507A (ja) | 1994-09-06 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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