JP3335983B2 - Ｌｃｄ用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置 - Google Patents
Ｌｃｄ用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置Info
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- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
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- B65G2249/02—Controlled or contamination-free environments or clean space conditions
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，ＬＣＤ用ガラス基
板の位置合わせ機構，及び真空処理装置に関するもので
ある。
板の位置合わせ機構，及び真空処理装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣＤ（Liquid Crystal Display；液晶
表示装置）用ガラス基板を例にとって説明すると，従来
から，ＬＣＤ基板の製造工程においては，減圧雰囲気下
でＬＣＤ基板等にエッチングやアッシングなどの処理を
施すため各種の真空処理装置が使用されているが，この
ような真空処理室においては，ＬＣＤ用ガラス基板を真
空処理室内にロード，アンロードする毎に真空処理室内
を常圧に戻す必要がないように，開閉自在なゲートバル
ブを介してロードロック室と呼ばれる予備真空室が設け
られている場合が多い。
表示装置）用ガラス基板を例にとって説明すると，従来
から，ＬＣＤ基板の製造工程においては，減圧雰囲気下
でＬＣＤ基板等にエッチングやアッシングなどの処理を
施すため各種の真空処理装置が使用されているが，この
ような真空処理室においては，ＬＣＤ用ガラス基板を真
空処理室内にロード，アンロードする毎に真空処理室内
を常圧に戻す必要がないように，開閉自在なゲートバル
ブを介してロードロック室と呼ばれる予備真空室が設け
られている場合が多い。
【０００３】そして被処理体であるＬＣＤ用ガラス基板
は，適宜の搬送手段で一旦このロードロック室に搬入さ
れ，その後このロードロック室を真空処理室と同一の減
圧雰囲気にしてから，上記真空処理室内にロードされる
ように構成されている。
は，適宜の搬送手段で一旦このロードロック室に搬入さ
れ，その後このロードロック室を真空処理室と同一の減
圧雰囲気にしてから，上記真空処理室内にロードされる
ように構成されている。
【０００４】かかる場合，ロードロック室に搬入された
時点で予めＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせが正しく行
わなければならず，そのため適宜位置合わせ機構を採用
しているものがあるが，従来は，１回に１枚のＬＣＤ用
ガラス基板しか位置合わせができなかった。
時点で予めＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせが正しく行
わなければならず，そのため適宜位置合わせ機構を採用
しているものがあるが，従来は，１回に１枚のＬＣＤ用
ガラス基板しか位置合わせができなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら１回の位
置合わせ動作で１枚のＬＣＤ用ガラス基板しか位置合わ
せしかできないのでは，スループットを向上させるにも
限界がある。また従来は，機構的に複雑で大型化する傾
向にあった。
置合わせ動作で１枚のＬＣＤ用ガラス基板しか位置合わ
せしかできないのでは，スループットを向上させるにも
限界がある。また従来は，機構的に複雑で大型化する傾
向にあった。
【０００６】本発明は叙上の問題点に鑑みてなされたも
のであって，構造的に簡易でかつ確実に位置あわせが可
能であり，さらに１回の位置合わせ動作で同時に２枚の
ＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせが可能な位置合わせ機
構，及び真空処理装置を提供することをその目的として
いる。
のであって，構造的に簡易でかつ確実に位置あわせが可
能であり，さらに１回の位置合わせ動作で同時に２枚の
ＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせが可能な位置合わせ機
構，及び真空処理装置を提供することをその目的として
いる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め，請求項１によれば，ＬＣＤ用ガラス基板の位置合わ
せを行う機構であって，ＬＣＤ用ガラス基板を上下２段
に載置するバッファ機構と，前記バッファ機構に載置さ
れたＬＣＤ用ガラス基板の対角線の延長線上に相互に対
向するようにして設けられた第１及び第２のポジショナ
ーとを有し，前記第１及び第２のポジショナーは前記対
角線方向に移動自在でかつ前記ＬＣＤ用ガラス基板の角
部近傍に接触自在であり，さらに前記第１及び第２のポ
ジショナーの全高は，前記バッファ機構に上下２段に載
置された際のＬＣＤ用ガラス基板の上下間隔よりも大き
く，さらに前記第１及び第２のポジショナーは上下動自
在であることを特徴とする，ＬＣＤ用ガラス基板の位置
合わせ機構が提供される。
め，請求項１によれば，ＬＣＤ用ガラス基板の位置合わ
せを行う機構であって，ＬＣＤ用ガラス基板を上下２段
に載置するバッファ機構と，前記バッファ機構に載置さ
れたＬＣＤ用ガラス基板の対角線の延長線上に相互に対
向するようにして設けられた第１及び第２のポジショナ
ーとを有し，前記第１及び第２のポジショナーは前記対
角線方向に移動自在でかつ前記ＬＣＤ用ガラス基板の角
部近傍に接触自在であり，さらに前記第１及び第２のポ
ジショナーの全高は，前記バッファ機構に上下２段に載
置された際のＬＣＤ用ガラス基板の上下間隔よりも大き
く，さらに前記第１及び第２のポジショナーは上下動自
在であることを特徴とする，ＬＣＤ用ガラス基板の位置
合わせ機構が提供される。
【０００８】かかる構成の位置合わせ機構によれば，バ
ッファ機構に上下２段に載置されたた２枚のＬＣＤ用ガ
ラス基板を，第１及び第２のポジショナーによって，同
時に位置合わせすることが可能である。また前記第１及
び第２のポジショナーは上下動自在であるから，バッフ
ァ機構にＬＣＤ用ガラス基板を載置する際に邪魔になら
ない。
ッファ機構に上下２段に載置されたた２枚のＬＣＤ用ガ
ラス基板を，第１及び第２のポジショナーによって，同
時に位置合わせすることが可能である。また前記第１及
び第２のポジショナーは上下動自在であるから，バッフ
ァ機構にＬＣＤ用ガラス基板を載置する際に邪魔になら
ない。
【０００９】さらに，前記第１及び第２のポジショナー
は，ＬＣＤ用ガラス基板の角部近傍に直接接する２つの
ローラを各々有していれば，点接触で位置合わせでき，
ＬＣＤ用ガラス基板と接触する面積を最小に抑えること
ができる。さらにレーザ発光装置とレーザ受光装置とを
備え，前記第１又は第２のポジショナーには貫通孔が形
成され，ＬＣＤ用ガラス基板が前記第１及び第２のポジ
ショナーによって所定位置に位置合わせされた際に，前
記レーザ発光装置から発光されたレーザ光が前記貫通孔
を通過して前記レーザ受光装置によって受光されるよう
に構成すれば，レーザ受光装置での受光によって，ＬＣ
Ｄ用ガラス基板が所定位置に位置合わせされたことを確
認できる。
は，ＬＣＤ用ガラス基板の角部近傍に直接接する２つの
ローラを各々有していれば，点接触で位置合わせでき，
ＬＣＤ用ガラス基板と接触する面積を最小に抑えること
ができる。さらにレーザ発光装置とレーザ受光装置とを
備え，前記第１又は第２のポジショナーには貫通孔が形
成され，ＬＣＤ用ガラス基板が前記第１及び第２のポジ
ショナーによって所定位置に位置合わせされた際に，前
記レーザ発光装置から発光されたレーザ光が前記貫通孔
を通過して前記レーザ受光装置によって受光されるよう
に構成すれば，レーザ受光装置での受光によって，ＬＣ
Ｄ用ガラス基板が所定位置に位置合わせされたことを確
認できる。
【００１０】請求項４によれば，減圧雰囲気下でＬＣＤ
用ガラス基板に処理を施す真空処理装置であって，搬送
手段を有する搬送室と，ゲートバルブを介して前記搬送
室に隣接して設けられた処理室と，ゲートバルブを介し
て前記搬送室に隣接して設けられたロードロック室と，
前記ロードロック室内に設けられた位置合わせ機構とを
有し，前記位置合わせ機構は，ＬＣＤ用ガラス基板を上
下２段に載置するバッファ機構と，前記バッファ機構に
載置されたＬＣＤ用ガラス基板の対角線の延長線上に相
互に対向するようにして設けられた第１及び第２のポジ
ショナーとを有し，前記第１及び第２のポジショナーは
前記対角線方向に移動自在でかつ前記ＬＣＤ用ガラス基
板の角部近傍に接触自在であり，さらに前記第１及び第
２のポジショナーの全高は，前記バッファ機構に上下２
段に載置された際のＬＣＤ用ガラス基板の上下間隔より
も大きく，さらに前記第１及び第２のポジショナーは上
下動自在であるとを特徴とする，真空処理装置が提供さ
れる。
用ガラス基板に処理を施す真空処理装置であって，搬送
手段を有する搬送室と，ゲートバルブを介して前記搬送
室に隣接して設けられた処理室と，ゲートバルブを介し
て前記搬送室に隣接して設けられたロードロック室と，
前記ロードロック室内に設けられた位置合わせ機構とを
有し，前記位置合わせ機構は，ＬＣＤ用ガラス基板を上
下２段に載置するバッファ機構と，前記バッファ機構に
載置されたＬＣＤ用ガラス基板の対角線の延長線上に相
互に対向するようにして設けられた第１及び第２のポジ
ショナーとを有し，前記第１及び第２のポジショナーは
前記対角線方向に移動自在でかつ前記ＬＣＤ用ガラス基
板の角部近傍に接触自在であり，さらに前記第１及び第
２のポジショナーの全高は，前記バッファ機構に上下２
段に載置された際のＬＣＤ用ガラス基板の上下間隔より
も大きく，さらに前記第１及び第２のポジショナーは上
下動自在であるとを特徴とする，真空処理装置が提供さ
れる。
【００１１】かかる構成の真空処理装置によれば，ロー
ドロック室内にて，同時に２枚のＬＣＤ用ガラス基板が
位置合わせされるから，処理のスループットが向上す
る。また前記第１及び第２のポジショナーが，ＬＣＤ用
ガラス基板の角部近傍に直接接する２つのローラを各々
有していれば，ＬＣＤ用ガラス基板と接触する面積を最
小に抑えることができる。また前記第１及び第２のポジ
ショナーを上下動自在に構成すれば，バッファ機構にＬ
ＣＤ用ガラス基板を載置する際に邪魔にならない。また
前記した場合と同様，さらにレーザ発光装置とレーザ受
光装置とを備え，前記第１又は第２のポジショナーには
貫通孔が形成され，ＬＣＤ用ガラス基板が前記第１及び
第２のポジショナーによって所定位置に位置合わせされ
た際に，前記レーザ発光装置から発光されたレーザ光が
前記貫通孔を通過して前記レーザ受光装置によって受光
されるように構成すれば，レーザ受光装置での受光によ
って，ＬＣＤ用ガラス基板が所定位置に位置合わせされ
たことを確認できる。
ドロック室内にて，同時に２枚のＬＣＤ用ガラス基板が
位置合わせされるから，処理のスループットが向上す
る。また前記第１及び第２のポジショナーが，ＬＣＤ用
ガラス基板の角部近傍に直接接する２つのローラを各々
有していれば，ＬＣＤ用ガラス基板と接触する面積を最
小に抑えることができる。また前記第１及び第２のポジ
ショナーを上下動自在に構成すれば，バッファ機構にＬ
ＣＤ用ガラス基板を載置する際に邪魔にならない。また
前記した場合と同様，さらにレーザ発光装置とレーザ受
光装置とを備え，前記第１又は第２のポジショナーには
貫通孔が形成され，ＬＣＤ用ガラス基板が前記第１及び
第２のポジショナーによって所定位置に位置合わせされ
た際に，前記レーザ発光装置から発光されたレーザ光が
前記貫通孔を通過して前記レーザ受光装置によって受光
されるように構成すれば，レーザ受光装置での受光によ
って，ＬＣＤ用ガラス基板が所定位置に位置合わせされ
たことを確認できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下，本発明の１実施の形態を図
面に基づき説明すると，本実施の形態は図２，図３に示
されたプラズマ処理装置１に適用されている。
面に基づき説明すると，本実施の形態は図２，図３に示
されたプラズマ処理装置１に適用されている。
【００１３】まず上記プラズマ処理装置１全体の構成か
ら説明すると，このプラズマ処理装置１には，３つの処
理室としてのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃが，夫
々開閉自在なゲートバルブ３ａ，３ｂ，３ｃを介して，
搬送室としての搬送チャンバ４の３つの側面に隣接して
設けてられている。このように上記プラズマ処理装置１
は３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃを有してい
るから，例えばそのうち２つのプロセスチャンバをエッ
チング処理室として構成し，残りの１つのプロセスチャ
ンバをアッシング処理室として構成したり，３つのプロ
セスチャンバ全てをエッチング処理室やアッシグ処理室
として構成することができ，極めて高いスループットが
可能となるように設計されている。
ら説明すると，このプラズマ処理装置１には，３つの処
理室としてのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃが，夫
々開閉自在なゲートバルブ３ａ，３ｂ，３ｃを介して，
搬送室としての搬送チャンバ４の３つの側面に隣接して
設けてられている。このように上記プラズマ処理装置１
は３つのプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃを有してい
るから，例えばそのうち２つのプロセスチャンバをエッ
チング処理室として構成し，残りの１つのプロセスチャ
ンバをアッシング処理室として構成したり，３つのプロ
セスチャンバ全てをエッチング処理室やアッシグ処理室
として構成することができ，極めて高いスループットが
可能となるように設計されている。
【００１４】上記搬送チャンバ４の残りの側面には，開
閉自在なゲートバルブ５を介して上記ロードロック室２
が隣接して位置し，このロードロック室２における大気
側のゲートバルブ６前面側に，載置台を上下二段に有す
る大気系搬送アーム７を支持した支持台８が配置されて
いる。
閉自在なゲートバルブ５を介して上記ロードロック室２
が隣接して位置し，このロードロック室２における大気
側のゲートバルブ６前面側に，載置台を上下二段に有す
る大気系搬送アーム７を支持した支持台８が配置されて
いる。
【００１５】上記支持台８の両側には，処理対象である
ＬＣＤ用ガラス基板Ｐが多数（例えば２０枚）収納され
たカセット９，１０が対向して位置し，これら各カセッ
ト９，１０は適宜のエレベーション機構（図示せず）に
よって上下動自在となるように構成されている。このよ
うに２つのカセットを対向して配置させることにより，
１のカセットを未処理基板収納用とし，残りのカセット
を処理済み基板収納用として使用することができる。
ＬＣＤ用ガラス基板Ｐが多数（例えば２０枚）収納され
たカセット９，１０が対向して位置し，これら各カセッ
ト９，１０は適宜のエレベーション機構（図示せず）に
よって上下動自在となるように構成されている。このよ
うに２つのカセットを対向して配置させることにより，
１のカセットを未処理基板収納用とし，残りのカセット
を処理済み基板収納用として使用することができる。
【００１６】そしてこれら各カセット９又は１０に収納
されたＬＣＤ用ガラス基板Ｐは，上記大気系搬送アーム
７によって一度に２枚づつ取り出されて保持され，上記
ゲートバルブ６を通過して上記ロードロック室２内に搬
入されるように構成されている。
されたＬＣＤ用ガラス基板Ｐは，上記大気系搬送アーム
７によって一度に２枚づつ取り出されて保持され，上記
ゲートバルブ６を通過して上記ロードロック室２内に搬
入されるように構成されている。
【００１７】上記ロードロック室２は図１に示された構
成を有し，その内部にはＬＣＤ用ガラス基板Ｐを上下２
段に一時的に載置してこれを保持するためのバッファ機
構が形成されている。
成を有し，その内部にはＬＣＤ用ガラス基板Ｐを上下２
段に一時的に載置してこれを保持するためのバッファ機
構が形成されている。
【００１８】このバッファ機構は，対向して配置された
バッファ１１，１２によって構成され，これら各バッフ
ァ１１，１２は左右対称形であり，その構成を例えばバ
ッファ１２についていうと，このバッファ１２は夫々バ
ッファ１１側に突出した載置部１２ａ，１２ｂを上下に
有し，これら各載置部１２ａ，１２ｂ上に，ＬＣＤ用ガ
ラス基板Ｐの裏面側端縁が載置されるように構成されて
いる。バッファ１１もこれと同様，バッファ１２側に突
出した載置部１１ａ，１１ｂを上下２段に有しており，
図１の状態では，これら各バッファ１１，１２に２枚の
ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2が載置され，上側の載置部
１１ａ，１２ａにＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1のが，下側の
載置部１１ｂ，１２ｂにＬＣＤ用ガラス基板Ｐ2が夫々
載置されている。
バッファ１１，１２によって構成され，これら各バッフ
ァ１１，１２は左右対称形であり，その構成を例えばバ
ッファ１２についていうと，このバッファ１２は夫々バ
ッファ１１側に突出した載置部１２ａ，１２ｂを上下に
有し，これら各載置部１２ａ，１２ｂ上に，ＬＣＤ用ガ
ラス基板Ｐの裏面側端縁が載置されるように構成されて
いる。バッファ１１もこれと同様，バッファ１２側に突
出した載置部１１ａ，１１ｂを上下２段に有しており，
図１の状態では，これら各バッファ１１，１２に２枚の
ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2が載置され，上側の載置部
１１ａ，１２ａにＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1のが，下側の
載置部１１ｂ，１２ｂにＬＣＤ用ガラス基板Ｐ2が夫々
載置されている。
【００１９】そしてそのように各バッファ１１，１２に
載置されたＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2の位置合わせを
行うためのポジショナー２１，２２が，夫々上記ＬＣＤ
用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2の対角線の延長線上にて相互に対
向するようにして設けられている。
載置されたＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2の位置合わせを
行うためのポジショナー２１，２２が，夫々上記ＬＣＤ
用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2の対角線の延長線上にて相互に対
向するようにして設けられている。
【００２０】これら各ポジショナー２１，２２は基本的
な構成は同一であって，ロードロック室２の大気側搬送
口２ａに近い側のポジショナー２１は，ゲートバルブＬ
ＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2の角部近傍に直接接して位置
合わせを行うローラ２１ａ，２１ｂ及びこれらローラ２
１ａ，２１ｂを支持する支持体２１ｃによって構成さ
れ，ロードロック室２の下方に設けられた別設のエアシ
リンダ（図示せず）の駆動によって，図１における往復
矢印Ａ，Ｂで夫々示したように，上下並びに上記対角線
方向に移動自在である。
な構成は同一であって，ロードロック室２の大気側搬送
口２ａに近い側のポジショナー２１は，ゲートバルブＬ
ＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2の角部近傍に直接接して位置
合わせを行うローラ２１ａ，２１ｂ及びこれらローラ２
１ａ，２１ｂを支持する支持体２１ｃによって構成さ
れ，ロードロック室２の下方に設けられた別設のエアシ
リンダ（図示せず）の駆動によって，図１における往復
矢印Ａ，Ｂで夫々示したように，上下並びに上記対角線
方向に移動自在である。
【００２１】一方ロードロック室２の真空側搬送口２ｂ
に近い側のポジショナー２２も，直接ＬＣＤ用ガラス基
板Ｐ1，Ｐ2の角部近傍に接して位置合わせを行うローラ
２２ａ，２２ｂ，及びこれらローラ２２ａ，２２ｂを支
持する支持体２２ｃによって構成され，エアシリンダ
（図示せず）の駆動によって，図１における往復矢印
Ｃ，Ｄで夫々示したように，上下並びに上記対角線方向
に移動自在である。但し，対角線方向の移動について
は，上記ポジショナー２１の移動幅よりも小さく設定さ
れ，このポジショナー２１は固定側のポジショナーとし
て機能するように構成されている。
に近い側のポジショナー２２も，直接ＬＣＤ用ガラス基
板Ｐ1，Ｐ2の角部近傍に接して位置合わせを行うローラ
２２ａ，２２ｂ，及びこれらローラ２２ａ，２２ｂを支
持する支持体２２ｃによって構成され，エアシリンダ
（図示せず）の駆動によって，図１における往復矢印
Ｃ，Ｄで夫々示したように，上下並びに上記対角線方向
に移動自在である。但し，対角線方向の移動について
は，上記ポジショナー２１の移動幅よりも小さく設定さ
れ，このポジショナー２１は固定側のポジショナーとし
て機能するように構成されている。
【００２２】即ち，各バッファ１１，１２にＬＣＤ用ガ
ラス基板Ｐ1，Ｐ2が載置されると，各ポジショナー２
１，２２が夫々上昇する。したがって，各バッファ１
１，１２にＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2を載置する際，
邪魔にならない。上昇終了点に達すると次にこれら各ポ
ジショナー２１，２２は，上記対角線の延長線上を夫々
中心方向に向かって移動する。このときポジショナー２
２の方が先に停止するが，ポジショナー２１については
そのローラ２１ａ，２１ｂによって上記ＬＣＤ用ガラス
基板Ｐ1，Ｐ2の角部近傍を押圧しつつ，ＬＣＤ用ガラス
基板Ｐ1，Ｐ2全体を，停止したポジショナー２２側へと
押しやるのである。これによって，ＬＣＤ用ガラス基板
Ｐ1，Ｐ2は所定の位置に位置合わせされることになる。
ラス基板Ｐ1，Ｐ2が載置されると，各ポジショナー２
１，２２が夫々上昇する。したがって，各バッファ１
１，１２にＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2を載置する際，
邪魔にならない。上昇終了点に達すると次にこれら各ポ
ジショナー２１，２２は，上記対角線の延長線上を夫々
中心方向に向かって移動する。このときポジショナー２
２の方が先に停止するが，ポジショナー２１については
そのローラ２１ａ，２１ｂによって上記ＬＣＤ用ガラス
基板Ｐ1，Ｐ2の角部近傍を押圧しつつ，ＬＣＤ用ガラス
基板Ｐ1，Ｐ2全体を，停止したポジショナー２２側へと
押しやるのである。これによって，ＬＣＤ用ガラス基板
Ｐ1，Ｐ2は所定の位置に位置合わせされることになる。
【００２３】また本実施の形態では，上記各ローラ２１
ａ，２１ｂ，ローラ２２ａ，２２ｂの全高が，バッファ
１１，１２に上下２段に載置されるＬＣＤ用ガラス基板
Ｐ1，Ｐ2の上下間隔よりも大きくとってあり，一度に上
下２枚のＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせを行うことが
可能である。
ａ，２１ｂ，ローラ２２ａ，２２ｂの全高が，バッファ
１１，１２に上下２段に載置されるＬＣＤ用ガラス基板
Ｐ1，Ｐ2の上下間隔よりも大きくとってあり，一度に上
下２枚のＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせを行うことが
可能である。
【００２４】以上のようにポジショナー２２は位置合わ
せの際の固定側ポジショナーとして機能しているが，さ
らに叙上のように往復矢印Ｄで示される対角線方向の動
きも行うように構成されているので，ＬＣＤ用ガラス基
板がバッファ１１，１２に対して比較的ずれた位置に載
置されても，これをカバーして所定位置に位置合わせす
ることが可能である。
せの際の固定側ポジショナーとして機能しているが，さ
らに叙上のように往復矢印Ｄで示される対角線方向の動
きも行うように構成されているので，ＬＣＤ用ガラス基
板がバッファ１１，１２に対して比較的ずれた位置に載
置されても，これをカバーして所定位置に位置合わせす
ることが可能である。
【００２５】そして本実施の形態では，上記ポジショナ
ー２１におけるローラ２１ａの側面に，ロードロック室
２の両側壁２ｃ，２ｄ方向と平行な方向で貫通孔２３が
穿たれている。さらにまたそれに対応して側壁２ｃにガ
ラス窓２４，側壁２ｄにガラス窓２５が夫々気密に設け
られ，さらにこのガラス窓２４の外方にレーザ発光装置
２６が，ガラス窓２５の外方にレーザ受光装置２７が夫
々設けられている。もちろんこれらガラス窓２４，２５
のガラス部分に，アクリルやポリカーボネート樹脂など
からなる透明体用いてもよい。なお図１においては説明
の都合上，これらレーザ発光装置２６，レーザ受光装置
２７はロードロック室２の両側壁２ｃ，２ｄから離れて
図示されている。
ー２１におけるローラ２１ａの側面に，ロードロック室
２の両側壁２ｃ，２ｄ方向と平行な方向で貫通孔２３が
穿たれている。さらにまたそれに対応して側壁２ｃにガ
ラス窓２４，側壁２ｄにガラス窓２５が夫々気密に設け
られ，さらにこのガラス窓２４の外方にレーザ発光装置
２６が，ガラス窓２５の外方にレーザ受光装置２７が夫
々設けられている。もちろんこれらガラス窓２４，２５
のガラス部分に，アクリルやポリカーボネート樹脂など
からなる透明体用いてもよい。なお図１においては説明
の都合上，これらレーザ発光装置２６，レーザ受光装置
２７はロードロック室２の両側壁２ｃ，２ｄから離れて
図示されている。
【００２６】上記レーザ発光装置２６，レーザ受光装置
２７は，ＬＣＤ用ガラス基板が各ポジショナー２１，２
２によって所定位置に位置合わせされた際に，レーザ発
光装置２６のレーザ光が上記ローラ２１ａの貫通孔２３
を通過してレーザ受光装置２７によって受光されるよう
に配置されている。
２７は，ＬＣＤ用ガラス基板が各ポジショナー２１，２
２によって所定位置に位置合わせされた際に，レーザ発
光装置２６のレーザ光が上記ローラ２１ａの貫通孔２３
を通過してレーザ受光装置２７によって受光されるよう
に配置されている。
【００２７】また本実施の形態では，図１における往復
矢印Ｂで示される上記ローラ２１ａの対角線方向の移動
範囲は，ローラ２１ａ自体で，上記レーザ発光装置２６
からのレーザ光を遮蔽できる範囲となるように設定され
ている。もちろんかかる移動範囲を任意に拡大したい場
合には，ローラ２１ａの側面外周に適宜の遮蔽部材を設
ければよく，そのように構成することにより，ローラ２
１ａ，即ちポジショナー２１の対角線方向の移動範囲を
自由に設定することが可能である。
矢印Ｂで示される上記ローラ２１ａの対角線方向の移動
範囲は，ローラ２１ａ自体で，上記レーザ発光装置２６
からのレーザ光を遮蔽できる範囲となるように設定され
ている。もちろんかかる移動範囲を任意に拡大したい場
合には，ローラ２１ａの側面外周に適宜の遮蔽部材を設
ければよく，そのように構成することにより，ローラ２
１ａ，即ちポジショナー２１の対角線方向の移動範囲を
自由に設定することが可能である。
【００２８】以上のようにしてロードロック室２内で所
定位置にセットされたＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2は，
図３に示されるように搬送チャンバ４内に設けられた搬
送アーム３１によって取り出され，一旦そこで待機され
た後，夫々所定のプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ内
に振り分けられて搬送するように構成されている。
定位置にセットされたＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2は，
図３に示されるように搬送チャンバ４内に設けられた搬
送アーム３１によって取り出され，一旦そこで待機され
た後，夫々所定のプロセスチャンバ１ａ，１ｂ，１ｃ内
に振り分けられて搬送するように構成されている。
【００２９】本実施の形態にかかるプラズマ処理装置１
は以上のように構成されており，その動作について説明
すると，まず未処理のＬＣＤガラス基板Ｐを収納したカ
セット９がその出入口（オープン側）を既述の支持台８
に向けて所定位置にセットされると，既述のエレベーシ
ョン機構によって当該カセット９が上昇し，その最上
部，並びに最上部から２番目に収納されているＬＣＤ用
ガラス基板Ｐ1，Ｐ2がまず大気系搬送アーム７によって
取り出される。そしてゲートバルブ６の開放後，これら
ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2はロードロック室２内に搬
入されて，バッファ１１，１２に載置される。この後大
気系搬送アーム７が待避し，ゲートバルブ６が閉じられ
て。ロードロック室２は所定の減圧雰囲気，例えば１０
-1Ｔｏｒｒ程度まで真空引きされる。
は以上のように構成されており，その動作について説明
すると，まず未処理のＬＣＤガラス基板Ｐを収納したカ
セット９がその出入口（オープン側）を既述の支持台８
に向けて所定位置にセットされると，既述のエレベーシ
ョン機構によって当該カセット９が上昇し，その最上
部，並びに最上部から２番目に収納されているＬＣＤ用
ガラス基板Ｐ1，Ｐ2がまず大気系搬送アーム７によって
取り出される。そしてゲートバルブ６の開放後，これら
ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2はロードロック室２内に搬
入されて，バッファ１１，１２に載置される。この後大
気系搬送アーム７が待避し，ゲートバルブ６が閉じられ
て。ロードロック室２は所定の減圧雰囲気，例えば１０
-1Ｔｏｒｒ程度まで真空引きされる。
【００３０】上記のように真空引きされた後，ポジショ
ナー２１，２２が上昇し，その後の対角線方向の移動に
よって，各ローラ２１ａ，２１ｂ，２２ａ，２２ｂの押
圧によるＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2の位置合わせが実
施される。このように本実施の形態では，真空引きされ
た後に基板の位置合わせが行われるので，真空引きした
際に発生する大気の流れにより，ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ
1，Ｐ2があおられて位置ズレしても，これを修正するこ
とが可能となっている。従って近年大型化しつつあるＬ
ＣＤ用基板に対しても，効果的にその位置ズレ防止を図
ることができる。
ナー２１，２２が上昇し，その後の対角線方向の移動に
よって，各ローラ２１ａ，２１ｂ，２２ａ，２２ｂの押
圧によるＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2の位置合わせが実
施される。このように本実施の形態では，真空引きされ
た後に基板の位置合わせが行われるので，真空引きした
際に発生する大気の流れにより，ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ
1，Ｐ2があおられて位置ズレしても，これを修正するこ
とが可能となっている。従って近年大型化しつつあるＬ
ＣＤ用基板に対しても，効果的にその位置ズレ防止を図
ることができる。
【００３１】もちろんそのような位置合わせは，搬送チ
ャンバ４の搬送前に完了していればよいので，真空引き
する前に上記位置合わせを行い，そのまま各ローラ２１
ａ，２１ｂ，２２ａ，２２ｂによってＬＣＤ用ガラス基
板Ｐ1，Ｐ2を押圧保持しつつ，真空引きを行ってもよ
い。かかる場合でも，ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2はこ
れらローラ２１ａ，２１ｂ，２２ａ，２２ｂによって強
固に保持されているから，真空引きの際に発生する大気
の流れによって，上記ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2があ
おられて位置ズレしたり，バッファ１１，１２から落下
したりするおそれはないものである。
ャンバ４の搬送前に完了していればよいので，真空引き
する前に上記位置合わせを行い，そのまま各ローラ２１
ａ，２１ｂ，２２ａ，２２ｂによってＬＣＤ用ガラス基
板Ｐ1，Ｐ2を押圧保持しつつ，真空引きを行ってもよ
い。かかる場合でも，ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2はこ
れらローラ２１ａ，２１ｂ，２２ａ，２２ｂによって強
固に保持されているから，真空引きの際に発生する大気
の流れによって，上記ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2があ
おられて位置ズレしたり，バッファ１１，１２から落下
したりするおそれはないものである。
【００３２】そして叙上のようにポジショナー２１，２
２によってＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2の位置合わせが
行われた時点，即ち各ローラ２１ａ，２１ｂ，２２ａ，
２２ｂによってＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2が押圧保持
された時点で，レーザ発光装置２６からレーザ光が，対
向するレーザ受光装置２７に向けて発光される。このと
きＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2が所定の位置に正しく位
置合わせされていれば，図４に示したように，当該レー
ザ光はローラ２１ａの貫通孔２３を通過してレーザ受光
装置２７によって受光される。したがってそのことによ
ってＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2が所定位置に位置合わ
せされたことが確認できる。
２によってＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2の位置合わせが
行われた時点，即ち各ローラ２１ａ，２１ｂ，２２ａ，
２２ｂによってＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2が押圧保持
された時点で，レーザ発光装置２６からレーザ光が，対
向するレーザ受光装置２７に向けて発光される。このと
きＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2が所定の位置に正しく位
置合わせされていれば，図４に示したように，当該レー
ザ光はローラ２１ａの貫通孔２３を通過してレーザ受光
装置２７によって受光される。したがってそのことによ
ってＬＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2が所定位置に位置合わ
せされたことが確認できる。
【００３３】しかしながら何らかの事情でＬＣＤ用ガラ
ス基板Ｐ1，Ｐ2が所定位置からずれていた場合や存在し
ていなかった場合には，ローラ２１ａが所定位置で停止
しないためレーザ光がローラ２１ａによって遮蔽され
る。その結果，レーザ受光装置２７は当該レーザ光を受
光できず，そのことによって，ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ
1，Ｐ2が所定位置に存在しないことが確認できるのであ
る。
ス基板Ｐ1，Ｐ2が所定位置からずれていた場合や存在し
ていなかった場合には，ローラ２１ａが所定位置で停止
しないためレーザ光がローラ２１ａによって遮蔽され
る。その結果，レーザ受光装置２７は当該レーザ光を受
光できず，そのことによって，ＬＣＤ用ガラス基板Ｐ
1，Ｐ2が所定位置に存在しないことが確認できるのであ
る。
【００３４】例えばＬＣＤ用ガラス基板自体がバッファ
１１，１２上に載置されていなかった場合には，図５の
矢印に示したように，ポジショナー２１が対角線方向中
心側最大移動し，その結果レーザ発光装置２６からのレ
ーザ光がローラ２１ａによって遮蔽される（同図中，一
点鎖線で示される矩形は，ＬＣＤ用ガラス基板の所定位
置を示している）。
１１，１２上に載置されていなかった場合には，図５の
矢印に示したように，ポジショナー２１が対角線方向中
心側最大移動し，その結果レーザ発光装置２６からのレ
ーザ光がローラ２１ａによって遮蔽される（同図中，一
点鎖線で示される矩形は，ＬＣＤ用ガラス基板の所定位
置を示している）。
【００３５】また例えばＬＣＤ用ガラス基板自体が何ら
かの事情で斜めに載置され，その結果図６に示したよう
にポジショナー２１が対角線方向中心側に移動できなか
った場合にも，レーザ発光装置２６からのレーザ光がロ
ーラ２１ａによって遮蔽される（同図中，一点鎖線で示
される矩形は，ＬＣＤ用ガラス基板の所定位置を示して
いる）。
かの事情で斜めに載置され，その結果図６に示したよう
にポジショナー２１が対角線方向中心側に移動できなか
った場合にも，レーザ発光装置２６からのレーザ光がロ
ーラ２１ａによって遮蔽される（同図中，一点鎖線で示
される矩形は，ＬＣＤ用ガラス基板の所定位置を示して
いる）。
【００３６】従っていずれの場合でも，レーザ受光装置
２７によるレーザ光の受光ができず，そのことによって
ＬＣＤ用ガラス基板が所定位置に存在していないことが
確認できるのである。なお，上記のような存在，不存在
の確認結果の外部への表示は，通常この種のプラズマ処
理装置に用いられているＣＲＴ装置（図示せず）で行う
ようにすればよい。
２７によるレーザ光の受光ができず，そのことによって
ＬＣＤ用ガラス基板が所定位置に存在していないことが
確認できるのである。なお，上記のような存在，不存在
の確認結果の外部への表示は，通常この種のプラズマ処
理装置に用いられているＣＲＴ装置（図示せず）で行う
ようにすればよい。
【００３７】そしてそのようにして位置合わせされたＬ
ＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2は，搬送アーム３１によって
一旦搬送チャンバ４内に搬送されて待機し，予め定めら
れたプログラムに従って，各々所定のプロセスチャンバ
内に搬送され，夫々対応するエッチング処理やアッシン
グ処理などのプラズマ処理がなされるのである。
ＣＤ用ガラス基板Ｐ1，Ｐ2は，搬送アーム３１によって
一旦搬送チャンバ４内に搬送されて待機し，予め定めら
れたプログラムに従って，各々所定のプロセスチャンバ
内に搬送され，夫々対応するエッチング処理やアッシン
グ処理などのプラズマ処理がなされるのである。
【００３８】以上の動作から明らかなように，被処理体
であるＬＣＤ用ガラス基板の有無の検出は，レーザ光の
受光の有無によってなされるが，このレーザ光は直接Ｌ
ＣＤ用ガラス基板に対して発光されるものではなく，受
光するレーザ光も当該ＬＣＤ用ガラス基板からの透過光
や反射光ではないので，ＬＣＤ用ガラス基板の材質やそ
の表面状態等を問わず，上記の検出動作が得られるもの
である。
であるＬＣＤ用ガラス基板の有無の検出は，レーザ光の
受光の有無によってなされるが，このレーザ光は直接Ｌ
ＣＤ用ガラス基板に対して発光されるものではなく，受
光するレーザ光も当該ＬＣＤ用ガラス基板からの透過光
や反射光ではないので，ＬＣＤ用ガラス基板の材質やそ
の表面状態等を問わず，上記の検出動作が得られるもの
である。
【００３９】さらに図１からもわかるように，それを実
現するためのレーザ発光装置２６やレーザ受光装置２７
も，被処理体であるＬＣＤ用ガラス基板が存在するロー
ドロック室２の外部に設けられているので，これらレー
ザ発光装置２６やレーザ受光装置２７自体の存在による
ＬＣＤ用ガラス基板に対しての悪影響は全くないもので
ある。またこのようにレーザ発光装置２６やレーザ受光
装置２７は，夫々ロードロック室２の外部にロードロッ
ク室２内の各種部材に対しても邪魔になることもない。
現するためのレーザ発光装置２６やレーザ受光装置２７
も，被処理体であるＬＣＤ用ガラス基板が存在するロー
ドロック室２の外部に設けられているので，これらレー
ザ発光装置２６やレーザ受光装置２７自体の存在による
ＬＣＤ用ガラス基板に対しての悪影響は全くないもので
ある。またこのようにレーザ発光装置２６やレーザ受光
装置２７は，夫々ロードロック室２の外部にロードロッ
ク室２内の各種部材に対しても邪魔になることもない。
【００４０】そして本発明によれば，バッファ１１，１
２に各々載置された２枚のＬＣＤ用ガラス基板Ｐを同時
に位置合わせすることができるから，全体としてスルー
プットを向上させることが可能である。
２に各々載置された２枚のＬＣＤ用ガラス基板Ｐを同時
に位置合わせすることができるから，全体としてスルー
プットを向上させることが可能である。
【００４１】
【発明の効果】本発明の位置合わせ機構によれば，同時
に２枚のＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせを実施するこ
とができ，スループットが向上する。また本発明の真空
処理装置によれば，ロードロック室内にて同時に２枚の
ＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせを実施することができ
るので，装置全体の小型化を図りつつ，エッチングやア
ッシングの処理のスループットを向上させることが可能
である。
に２枚のＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせを実施するこ
とができ，スループットが向上する。また本発明の真空
処理装置によれば，ロードロック室内にて同時に２枚の
ＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせを実施することができ
るので，装置全体の小型化を図りつつ，エッチングやア
ッシングの処理のスループットを向上させることが可能
である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を適用したプラズマ処理装
置のロードロック室の内部の様子を示す斜視図である。
置のロードロック室の内部の様子を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態を適用したプラズマ処理装
置の斜視図である。
置の斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態を適用したプラズマ処理装
置の平面図である。
置の平面図である。
【図４】被処理体であるＬＣＤ用ガラス基板が所定位置
にある場合の本発明の実施の形態の動作を示す説明図で
ある。
にある場合の本発明の実施の形態の動作を示す説明図で
ある。
【図５】被処理体であるＬＣＤ用ガラス基板が所定位置
にない場合の本発明の実施の形態の動作を示す説明図で
ある。
にない場合の本発明の実施の形態の動作を示す説明図で
ある。
【図６】被処理体であるＬＣＤ用ガラス基板が所定位置
にない場合の本発明の実施の形態の動作を示す説明図で
ある。
にない場合の本発明の実施の形態の動作を示す説明図で
ある。
１ プラズマ処理装置 ２ ロードロック室 ６ ゲートバルブ １１ バッファ １２ バッファ ２１ ポジショナー ２１ａ ローラ ２１ｂ ローラ ２２ ポジショナー ２２ａ ローラ ２２ｂ ローラ ２３ 貫通孔 ２４ ガラス窓 ２５ ガラス窓 ２６ レーザ発光装置 ２７ レーザ受光装置 Ｐ ＬＣＤ用ガラス基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/68 B65G 49/06 H01L 21/3065
Claims (6)
- 【請求項１】 ＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせを行う
機構であって， ＬＣＤ用ガラス基板を上下２段に載置するバッファ機構
と，前記バッファ機構に載置された ＬＣＤ用ガラス基板の対
角線の延長線上に相互に対向するようにして設けられた
第１及び第２のポジショナーとを有し， 前記第１及び第２のポジショナーは前記対角線方向に移
動自在でかつ前記ＬＣＤ用ガラス基板の角部近傍に接触
自在であり， さらに前記第１及び第２のポジショナーの全高は，前記
バッファ機構に上下２段に載置された際のＬＣＤ用ガラ
ス基板の上下間隔よりも大きく， さらに前記第１及び第２のポジショナーは上下動自在で
ある ことを特徴とする， ＬＣＤ用ガラス基板の位置合わせ機構。 - 【請求項２】 前記第１及び第２のポジショナーは，Ｌ
ＣＤ用ガラス基板の角部近傍に直接接する２つのローラ
を各々有することを特徴とする，請求項１に記載のＬＣ
Ｄ用ガラス基板の位置合わせ機構。 - 【請求項３】 さらにレーザ発光装置とレーザ受光装置
とを備え， 前記第１又は第２のポジショナーには貫通孔が形成さ
れ， ＬＣＤ用ガラス基板が前記第１及び第２のポジショナー
によって所定位置に位置合わせされた際に，前記レーザ
発光装置から発光されたレーザ光が前記貫通孔を通過し
て前記レーザ受光装置によって受光されるように構成さ
れた ことを特徴とする，請求項１又は２に記載のＬＣＤ
用ガラス基板の位置合わせ機構。 - 【請求項４】 減圧雰囲気下でＬＣＤ用ガラス基板に処
理を施す真空処理装置であって， 搬送手段を有する搬送室と， ゲートバルブを介して前記搬送室に隣接して設けられた
処理室と， ゲートバルブを介して前記搬送室に隣接して設けられた
ロードロック室と， 前記ロードロック室内に設けられた位置合わせ機構とを
有し， 前記位置合わせ機構は，ＬＣＤ用ガラス基板を上下２段
に載置するバッファ機構と，前記バッファ機構に載置さ
れたＬＣＤ用ガラス基板の対角線の延長線上に相互に対
向するようにして設けられた第１及び第２のポジショナ
ーとを有し， 前記第１及び第２のポジショナーは前記対角線方向に移
動自在でかつ前記ＬＣＤ用ガラス基板の角部近傍に接触
自在であり， さらに前記第１及び第２のポジショナーの全高は，前記
バッファ機構に上下２段に載置された際のＬＣＤ用ガラ
ス基板の上下間隔よりも大きく， さらに前記第１及び第２のポジショナーは上下動自在で
あるこ とを特徴とする，真空処理装置。 - 【請求項５】 前記第１及び第２のポジショナーは，Ｌ
ＣＤ用ガラス基板の角部近傍に直接接する２つのローラ
を各々有することを特徴とする，請求項４に記載の真空
処理装置。 - 【請求項６】 さらにレーザ発光装置とレーザ受光装置
とを備え， 前記第１又は第２のポジショナーには貫通孔が形成さ
れ， ＬＣＤ用ガラス基板が前記第１及び第２のポジショナー
によって所定位置に位置合わせされた際に，前記レーザ
発光装置から発光されたレーザ光が前記貫通孔を通過し
て前記レーザ受光装置によって受光されるように構成さ
れた ことを特徴とする，請求項４又は５に記載の真空処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000081236A JP3335983B2 (ja) | 1993-02-26 | 2000-03-23 | Ｌｃｄ用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000081236A JP3335983B2 (ja) | 1993-02-26 | 2000-03-23 | Ｌｃｄ用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6129593A Division JP3065843B2 (ja) | 1992-07-29 | 1993-02-26 | 被処理体の検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000306980A JP2000306980A (ja) | 2000-11-02 |
| JP3335983B2 true JP3335983B2 (ja) | 2002-10-21 |
Family
ID=18598198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000081236A Expired - Fee Related JP3335983B2 (ja) | 1993-02-26 | 2000-03-23 | Ｌｃｄ用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3335983B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| KR100971369B1 (ko) * | 2003-10-31 | 2010-07-20 | 주성엔지니어링(주) | 기판트레이를 포함하는 엘씨디 제조장치 및 이를 이용한기판의 로딩 또는 언로딩 방법 |
| JP4849825B2 (ja) * | 2005-05-18 | 2012-01-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置、位置合わせ方法、制御プログラムおよびコンピュータ記憶媒体 |
| JP4642610B2 (ja) * | 2005-09-05 | 2011-03-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板位置合わせ装置および基板収容ユニット |
| KR100878477B1 (ko) * | 2007-05-02 | 2009-01-13 | 로체 시스템즈(주) | 기판 정렬장치 |
| JP5501688B2 (ja) | 2009-07-30 | 2014-05-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板位置合わせ機構、それを用いた真空予備室および基板処理システム |
| WO2019118397A1 (en) * | 2017-12-12 | 2019-06-20 | Applied Materials, Inc. | Substrate transfer apparatus and method for positioning and clamping a substrate on non contact gripper |
| CN109143630A (zh) * | 2018-09-29 | 2019-01-04 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 偏光板贴付装置 |
-
2000
- 2000-03-23 JP JP2000081236A patent/JP3335983B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2000306980A (ja) | 2000-11-02 |
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