JP3165947B2 - 真空室のドア装置 - Google Patents

真空室のドア装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空室のドア装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体を製造するための真空処理装置の
中には、エッチング、成膜処理、アッシング及びスパッ
タリングなどの装置があるが、高スループット化に対応
するため種々の工夫、改良がなされ、例えば枚葉式の真
空処理装置については、複数の真空処理室及びカセット
室を共通の搬送室に接続して構成されている。
【0003】この種の真空処理装置の従来例を図7に示
すと、1は搬送室、11〜13は真空処理室、14、1
5はカセット室であり、この装置においては、ウエハW
を所定枚数収納したカセットCを例えばカセット室14
内に搬入して、カセット室の上面に設けられたドア(カ
セット室内を大気側に対して開閉するバルブを「ドア」
と呼ぶものとする)14aを閉じた後カセット室14内
を真空排気し、その後カセット室14と搬送室1との間
の図では見えないバルブを開き、搬送室1内の図では見
えない搬送アームによりカセットC内のウエハWが真空
処理室11(または12、13)に搬送されて所定の真
空処理例えばプラズマエッチングが行われる。真空処理
後のウエハWは例えばカセット室15内のカセットC内
に戻され、カセット室15内を大気圧に戻した後ドア1
5aを開いてカセットCが大気側に取り出される。
【0004】前記カセット室14(15)のドア14a
(15a)は、カセット室14(15)の上部にヒンジ
機構により前後に回動するように設けられており、カセ
ットCは、オペレータにより上面の搬入出口からカセッ
ト室14(15)内に搬入される。ところで常にカセッ
トCの全段にウエハWが収納されているわけではないの
で、カセットCの各段のウエハWの有無を搬送室1内の
搬送アームの制御系に教える必要があり、このためカセ
ット室14(15)内にカセットCを挟んで光路を形成
するようにマッピングセンサーと呼ばれている一対の光
学センサーP1、P2を設け、図示しないエレベータに
よりカセットCを昇降させてウエハWのマッピング(カ
セットCにおける各段のウエハWの有無を調べること)
を行っている。
【0005】
【発明が解決しようとしている課題】一方半導体製造工
場では、より一層の自動化を図るために各真空処理装置
やストッカとの間を自動搬送ロボットを走らせてカセッ
トの搬送を行うシステムが開発されつつある。この自動
搬送ロボットは例えば把持アームによりカセットの側部
を把持して移載を行うものであるため、上述の真空処理
装置に対して自動搬送ロボットを用いるとすると、カセ
ット室14、15の前面部にカセットCの搬入出口(間
口)を形成する必要がある。
【0006】しかしながらこの場合マッピングセンサー
を(詳しくは一対の光センサの一方)をドア側に設けれ
ばならないが、このように構成すると次のような問題が
ある。即ち真空処理装置の運転は、プロセス時には真空
雰囲気で行われるが、メンテナンス時などにおいて大気
雰囲気で行われる場合がある。ここにカセット室の搬入
出口とドアとはOリングを介して密着しこれによりカセ
ット室内を大気側から気密にシールするようにしている
が、このOリングは大気モードのときには潰れないが、
真空モードのときには潰れた状態になる。このためドア
の向きが大気モードと真空モードとの間で僅かではある
が変わってしまい、この結果ドアに取り付けたマッピン
グセンサの光軸の方向が両モードの間で異なってしま
う。一方高精度なマッピングを行うためには受光部の受
光範囲をかなり狭く例えば1.5mmφ程度にしなけれ
ばならないため、光軸が僅かでも傾くと受光部の受光範
囲から外れてしまい、上述の装置の場合大気モードと真
空モードとにおいて正確なマッピングを行うことができ
なくなる。
【0007】本発明はこのような事情の下になされたも
のであり、その目的は、真空室内の被処理基板を検出す
るにあたって、真空室内の雰囲気にかかわらず被処理基
板の検出を正確に行うことのできる真空室のドア装置を
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、複数
の被処理基板を収納したカセットが搬入される真空室を
開閉するためのドア装置において、ドアを厚さ方向に移
動自在に保持すると共に、前記ドアが前記真空室におけ
る搬入出口に対向する位置と前記搬入出口から退避した
位置との間で移動するように構成したドア保持部と、前
記ドアが搬入出口に対向する位置にあるときに、ドア保
持部の位置を規制する規制手段と、前記ドアを真空室側
に押圧して前記搬入出口を密閉すると共に、ドアを開く
ときには、ドアへの押圧を解除する押圧手段と、前記ド
ア保持部に設けられ、真空室内のカセットに収納されて
いる被処理基板を検出するための光センサと、を備え、
前記ドアにおいて少なくとも前記光センサの光路に相当
する部分は、透明であることを特徴とする。
【0009】請求項2の発明は、請求項1記載の発明に
おいて、真空室内には、カセットを昇降させるための昇
降機構が設けられ、カセットを昇降させたときに光セン
サによりカセット内の各段における被処理基板の有無を
検出することを特徴とする。
【0010】請求項3の発明は、請求項1または2記載
の発明において、ドア保持部には弾性体が設けられ、ド
アは、押圧手段により前記弾性体の弾性力に抗して押圧
され、押圧が解除されたときには、前記弾性体の復元力
により前記搬入出口から離れるように構成されているこ
とを特徴とする。
【0011】請求項4の発明は、請求項1、2または3
記載の発明において、押圧手段は、真空室との間にドア
が介入できる空間を介して真空室側に固定されているこ
とを特徴とする。
【0012】請求項5の発明は、請求項1、2、3また
は4記載の発明において、真空室は、弾性力のあるシー
ル部材を介してドアにより密閉されることを特徴とす
る。
【0013】請求項6の発明は、請求項1、2、3、4
または5記載の発明において、ドア保持部は、案内機構
に案内されながら、真空室の搬入搬出口に対向する位置
と真空室の上方または下方との間を移動するものである
ことを特徴とする。
【0014】
【作用】ドアが真空室の搬入出口から退壁した位置に置
かれている状態で、複数の被処理基板を収納したカセッ
トが搬入出口を通じて真空室内に搬入される。次いでド
ア保持部を移動させてドアを前記搬入出口に対向する位
置に置き、押圧手段によりドアを真空室に押圧して搬入
出口を密閉する。真空室内が真空雰囲気のときには、真
空室とドアとの間に介在する、例えば搬入出口の周縁に
設けられたシール部材が潰れ、例えば真空度がかなり低
いときあるいは大気雰囲気のときには潰れ方が少ないか
あるいは潰れない。このためドアの面の傾きが真空室内
の雰囲気によって異なるが、光センサはドア保持部に設
けられており、このドア保持部はドアの傾きにかかわら
ず一定の姿勢であるため、光軸に変化はなく、従って常
に真空室内の被処理基板を正確に検出できる。
【0015】
【実施例】図1は、本発明のドア装置が適用されるカセ
ット室を含むプラズマエッチング装置の全体の概略を示
す一部破断斜視図である。図中2は気密構造の搬送室で
あり、この搬送室2には、ウエハに対して例えばプラズ
マエッチングを行うための3個の真空処理室21〜23
がゲートバルブG(便宜上各ゲートバルブには同符号
「G」を付す)を介して気密に接続されると共に、例え
ば25枚のウエハを収納したカセットが置かれる2個の
カセット室3A、3Bがゲートバルブ(図1では見えな
い)を介して気密に接続されている。
【0016】搬送室2内には、カセット室3A、3B及
び真空処理室21〜23間でウエハの搬送を行うための
搬送アーム24や、ウエハのオリフラ(オリエンテーシ
ョンフラット)を合わせる位置合わせ部(図示せず)が
設けられている。21aは真空処理室21内に磁場を形
成するためのマグネットを収納している筐体であり、図
示していないがこの筐体21aは他の真空処理室22、
23の上にも配設されている。
【0017】カセット室3A、3Bには、本発明の実施
例に係るドア装置が設けられており、このドア装置に関
して先ず簡単に概要を述べると、図2に示すようにドア
4を、昇降自在なドア保持部5に、ドア4の厚さ方向に
少しだけ移動可能に取り付け、ドア保持部5を、ドア4
がカセット室3A(3B)の搬入出口31に対向する位
置まで上昇させた後押圧手段例えばエアシリンダでドア
4をカセット室3A(3B)側に押圧してカセット室3
A(3B)を密閉する。そしてドア保持部5にマッピン
グ用の光センサを取り付けておくことにより、光センサ
の光軸の方向がドア4の姿勢に影響されないようにす
る。
【0018】次にドア装置の詳細構造に関して図2〜図
5を参照しながら説明する。ドア保持部5は、例えば縦
フレーム51、52及び横フレーム53、54、55よ
りなるステンレス製のフレーム構造体として構成されて
おり、昇降基台6上に固定して設けられている。前記縦
フレーム51、52の上端部には、後述の真空室3側の
受け部の穴に挿入されるロッド部材50a、50bが垂
設されている。またこの昇降基台6は、カセット室3
(符号3A、3Bを「3」で代表して示す)の側部に設
けられたエアシリンダ61により、真空室3及びその下
方側に固定された案内機構例えば案内ロッド62に案内
されながら、次に詳述するドア4が搬入出口31に対向
する上限位置と図2に示すようにカセット室3の下方側
に位置する下限位置との間で昇降するように構成されて
いる。
【0019】前記ドア保持部5には、ドア4が若干量厚
さ方向に移動自在に保持されている。即ちドア保持部5
の縦フレーム51、52の各上部、下部には孔部41
(41a〜41d)が透設されると共に、ドア保持部5
の前面側からピン42が各孔部41を貫通してドア4の
穴40の中に挿入されて固定されている。ピン42の頭
部43はドア保持部5の孔部41の孔径よりも大きく形
成されていると共に、前記頭部43とドア保持部5(詳
しくは縦フレーム51または52の外面)との間には、
コイルバネ44が介装されており、従ってドア4は、ド
ア保持部5に当接する位置と、ピン42の頭部43によ
り押圧されて前記コイルバネ44が最も縮んだ状態にな
る位置との間でドア4の厚さ方向に移動できることにな
る。そしてドア4の外面には、縦に並行状に伸びる2本
の板バネ45、45の上端部が固定されると共に、ドア
保持部5の下段の横フレーム55の内面(ドア4側の
面)には前記板バネ45、45の下端部が固定され、こ
うしてドア4は、板バネ45、45と前記ピン42とに
よりドア保持部5に保持されることになる。
【0020】前記カセット室3の搬入出口3の両側縁部
には、夫々例えば3個づつドア4を押圧する押圧手段例
えばエアシリンダ7が前記ドア4の進入空間を介してカ
セット室3の前面に対向して設けられている。これらエ
アシリンダ7は、図3に示すように固定板71を介して
真空室3に固定されており、エアシリンダ7と真空室3
の搬入出口31の周縁部との間の空間にドア4が進入し
た後、図5に示すように押圧ピン72によりドア4を真
空室3側に押圧する役割を有するものである。
【0021】一方前記カセット室3には、搬入出口31
の周縁部におけるドア4と密接する部位に、シール部材
例えば弾性樹脂よりなるOリング32が装着されると共
に、前記ドア保持部5のロッド部材50a、50bが嵌
入される穴を有する受け部33a、33bが真空室3の
上部に横に並んで固定されている。前記ロッド部材50
a、50b及び受け部33a、33bは、ドア保持部5
が上限位置にあるときに相互に嵌合し、これらと、エア
シリンダ61と、案内ロッド62とによって、エアシリ
ンダ7によるドア4の押圧時にドア保持部5の動きを阻
止してドア保持部5の位置を規制する規制手段をなすも
のである。
【0022】前記ドア保持部5の中段の横枠フレーム5
4には、光軸P(図4参照)をカセット室3側に向けた
2個の発光部8a、8bが取り付け部材81を介して横
に並べて取り付けられており、ドア4において前記光軸
Pを含む部分は、例えば透明ガラス46により構成され
ている。そして前記カセット室3内の背面部には、前記
発光部8a、8bの光軸P上に図4及び図6に示すよう
に夫々受光部34a、34bが設けられている。前記発
光部8a、(8b)と受光部34a(34b)とは一対
でマッピングを行うための光センサをなすものであり、
この例ではこの光センサを2組(8a、34a)、(8
b、34b)設け、両方の信号が一致している場合にそ
の信号を有効にすることでウエハの検出を確実なものと
している。
【0023】前記カセット室3内には、図4及び図6に
示すようにカセットCの載置台35が設けられており、
この載置台35は、昇降機構36により作動する昇降軸
37上に固定されている。カセットCは、例えば25枚
のウエハWを棚状に収納する樹脂製の容器であり、一面
の開口部からウエハWの収納、取り出しを行うことがで
きるように構成されている。図4、図6中38はウエハ
Wの搬送口である。またこの実施例に係るドア装置は、
図1に示すようにカセット室3A、3Bの搬入出口31
を臨む領域を挟んで左右にインターロック用センサ部2
5、26を備えている。このインターロック用センサ部
25、26は、縦長の支持板25a、26aに例えば夫
々発光部25b、受光部を上下に配列し、発光部25
b、受光部の光軸に例えば作業者の身体の一部が位置す
ると、ドア装置が作動しないように制御系に知らせるた
めのものである。
【0024】次に上述実施例の作用について述べる。真
空処理装置によりウエハWに対して実際のプロセスを行
う場合、ドア保持部5を下限位置に置いてカセット室3
A、3Bの搬入出口31を開いておき、外部から図示し
ない自動搬送ロボットにより、カセットCを搬入出口3
1を通じてカセット室3A、3Bに搬入して載置台35
上に載置する。このとき例えばカセット室3A内には2
5枚の処理前のウエハWを収納した(ただしウエハWの
枚数は常に25枚とは限らない)カセットCを、カセッ
ト室3B内には処理後のウエハWを収納するための空の
カセットCが夫々搬入される。
【0025】続いてドア保持部5がエアシリンダ61に
より案内ロッド62案内されながら上限位置まで上昇す
る。このときドア4は、搬入出口31の周縁部とこの例
では押圧手段をなすエアシリンダ7との間の空間を上昇
し、搬入出口31に対向する位置に置かれる。その後エ
アシリンダ7により押圧ピン72がドア4の周縁部をカ
セット室3側に押圧する。ドア保持部5は上限位置に達
すると、ドア保持部5の上部のロッド部材50a、50
bがカセット室3側の受け部33aの穴の中に嵌入され
るため、昇降台6が位置規制されていることと相俟って
前後の位置が規制され、このためドア4がコイルバネ4
4及び板バネ45の復元力に抗してドア保持部4に対し
て相対的に押し出される。この結果ドア4は搬入出口3
1の周縁部に密接されて搬入出口31を閉じ、Oリング
32によりカセット室3A、3B内が気密にシールされ
る。
【0026】次いでカセット室3A、3B内が所定の真
空度まで真空排気され、マッピングが行われる。このマ
ッピングにおいては、載置台35を昇降させることによ
りカセットC内のウエハWが発光部8a(8b)と受光
部33a(33b)との間の光路を遮るため、受光部3
3a(33b)における受光のオン、オフを見ることに
よりカセットC内の各段のウエハWの有無が把握でき
る。そして既に真空雰囲気とされている搬送室2との間
のゲートバルブGが開かれ、搬送室2内の搬送アーム2
4により、真空処理室21〜23のいずれかに搬送さ
れ、例えばプラズマエッチング処理が行われる。
【0027】このような実施例によれば、次のような効
果がある。即ちカセット室3A、3Bのドア4を閉じて
カセット室3A、3B内を真空排気したとき、ドア4が
吸引されて搬入出口31の周縁部のOリング32が潰れ
るが、メンテナンス時などに大気モードで装置を運転す
るときにはOリング32は潰れない。従って真空モード
時と大気モード時とではドア4の姿勢が異なるが、ドア
保持部5の姿勢は変わらない。従ってこのドア保持部5
に発光部8a、8bを固定して設けることにより発光部
8a,8bの光軸はドア4の姿勢にかかわらず一定であ
るから、発光部8a,8b及び受光部33a、33bよ
りなる光センサにより確実にウエハWの有無を検出で
き、いずれのモードにおいても正確にマッピングを行う
ことができる。
【0028】またドア4をエアシリンダ7の押圧から解
放したときに弾性体例えばコイルバネ44及び板バネ4
5の復元力によりドア保持部5側に戻るように構成して
いるため、ドア4をカセット室3から引き離すための構
造が簡単になる。
【0029】以上において光センサをなす発光部8a
(8b)受光部33a(33b)を、上述実施例とは逆
につまり夫々カセット室3内及びドア保持部5に取り付
けてもよい。またドア4を押圧する押圧手段としてはエ
アシリンダに限らず電磁石を利用したものなどであって
もよい。なお被処理基板としてはウエハに限らず例えば
液晶基板であってもよい。
【0030】
【発明の効果】本発明装置によれば、真空室内の雰囲気
にかかわらず、例えば真空室が大気雰囲気、真空雰囲気
のいずれの場合にも光センサにより被処理基板を正確に
検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例のドア装置が適用されるカセッ
ト室を含む真空処理装置の全体の概略を示す斜視図であ
る。
【図2】本発明の実施例に係るドア装置を示す斜視図で
ある。
【図3】本発明の実施例に係るドア装置を示す分解斜視
図である。
【図4】ドア保持部へのドアの取り付け状態及びカセッ
ト室の内部を示す断面図である。
【図5】ドア及び押圧手段であるエアシリンダの位置関
係を示す断面図である。
【図6】カセット室の内部を示す斜視図である。
【図7】従来のカセット室のドア装置を真空処理装置の
全体と共に示す斜視図である。
【符号の説明】
2 搬送室 3、3A、3B カセット室 31 搬入出口 32 Oリング 33a、33b 受け部 34a、34b 受光部 4 ドア 42 ピン 44 コイルバネ 45 板バネ 46 透明ガラス 5 ドア保持部 7 エアシリンダ 8A、8B 発光部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石原 保正 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の1 東京エレクトロン山梨株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−127723(JP,A) 特開 平4−361553(JP,A) 特開 平5−196150(JP,A) 実開 平6−34253(JP,U) 実開 昭62−199129(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68 B01J 3/03

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の被処理基板を収納したカセットが
    搬入される真空室を開閉するためのドア装置において、 ドアを厚さ方向に移動自在に保持すると共に、前記ドア
    が前記真空室における搬入出口に対向する位置と前記搬
    入出口から退避した位置との間で移動するように構成し
    たドア保持部と、 前記ドアが搬入出口に対向する位置にあるときに、ドア
    保持部の位置を規制する規制手段と、 前記ドアを真空室側に押圧して前記搬入出口を密閉する
    と共に、ドアを開くときには、ドアへの押圧を解除する
    押圧手段と、 前記ドア保持部に設けられ、真空室内のカセットに収納
    されている被処理基板を検出するための光センサと、を
    備え、 前記ドアにおいて少なくとも前記光センサの光路に相当
    する部分は、透明であることを特徴とする真空室のドア
    装置。
  2. 【請求項2】 真空室内には、カセットを昇降させるた
    めの昇降機構が設けられ、カセットを昇降させたときに
    光センサによりカセット内の各段における被処理基板の
    有無を検出することを特徴とする請求項1記載の真空室
    のドア装置。
  3. 【請求項3】 ドア保持部には弾性体が設けられ、ドア
    は、押圧手段により前記弾性体の弾性力に抗して押圧さ
    れ、押圧が解除されたときには、前記弾性体の復元力に
    より前記搬入出口から離れるように構成されていること
    を特徴とする請求項1または2記載の真空室のドア装
    置。
  4. 【請求項4】 押圧手段は、真空室との間にドアが介入
    できる空間を介して真空室側に固定されていることを特
    徴とする請求項1、2または3記載の真空室のドア装
    置。
  5. 【請求項5】 真空室は、弾性力のあるシール部材を介
    してドアにより密閉されることを特徴とする請求項1、
    2、3または4記載の真空室のドア装置。
  6. 【請求項6】 ドア保持部は、案内機構に案内されなが
    ら、真空室の搬入搬出口に対向する位置と真空室の上方
    または下方との間を移動するものであることを特徴とす
    る請求項1、2、3、4または5記載の真空室のドア装
    置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4503762B2 (ja) * 2000-02-09 2010-07-14 富士通セミコンダクター株式会社 真空処理装置
KR101020154B1 (ko) * 2008-06-30 2011-03-08 엘아이지에이디피 주식회사 측면개방형 진공챔버
JP5579550B2 (ja) * 2010-09-10 2014-08-27 株式会社スギノマシン 減圧乾燥機
JP5966029B1 (ja) * 2015-02-16 2016-08-10 株式会社Unico 開閉装置およびグローブボックス
CN107785295A (zh) * 2017-11-29 2018-03-09 上海大族富创得科技有限公司 一种喷淋保湿晶圆门装置
CN110541805B (zh) * 2019-09-29 2023-12-01 核工业理化工程研究院 用于密闭箱室内的真空装置

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JPH08130239A (ja) 1996-05-21

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