JP3032701B2 - 真空搬送容器 - Google Patents

真空搬送容器

Info

Publication number
JP3032701B2
JP3032701B2 JP15357595A JP15357595A JP3032701B2 JP 3032701 B2 JP3032701 B2 JP 3032701B2 JP 15357595 A JP15357595 A JP 15357595A JP 15357595 A JP15357595 A JP 15357595A JP 3032701 B2 JP3032701 B2 JP 3032701B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
container
substrate
transfer container
lock chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP15357595A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH098115A (ja
Inventor
省吾 立山
浩 辻川
修一 瓜生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Steel Works Ltd
Original Assignee
Japan Steel Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Steel Works Ltd filed Critical Japan Steel Works Ltd
Priority to JP15357595A priority Critical patent/JP3032701B2/ja
Publication of JPH098115A publication Critical patent/JPH098115A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3032701B2 publication Critical patent/JP3032701B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Packages (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空搬送容器に関し、
半導体、液晶、太陽電池などの基板の製造工程におい
て、基板を真空雰囲気に保持して搬送するための構成に
関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、電子デバイス構造の微細化およ
び精密化に伴い、半導体、液晶、太陽電池などの製造工
程およびサンプリング(検査工程)では、清浄な環境が
要求されている。また、半導体などの基板は、大気に晒
されることにより表面に自然酸化膜が生成したり、大気
中の微粒子が付着して不良発生の原因となるため、製造
工程およびサンプリングは真空状態の処理装置内で行わ
れ、処理装置間の搬送に際しては、真空状態に保持した
容器が使用されている。従来の真空搬送容器としては、
例えば特開昭62−169347号公報に示されるもの
がある。この従来例においては、複数枚の基板を間隔を
設けて重ねた状態で収納可能な略直方体の容器であり、
その一面が回転戸型の扉となっている。この真空搬送容
器に基板を搬入出するために、製造装置およびサンプリ
ングの各処理装置には、基板の搬入出口に真空ゲートバ
ルブを介してロードロック室が設けられている。このロ
ードロック室は、昇降機能を有する搬送ロボットが具備
され、その内容積は真空搬送容器および搬送ロボットの
搬送アーム部を収納するに充分な大きさを備えている。
また、ロードロック室には真空搬送容器の搬入出のため
の扉および真空バルブで開閉可能な排気口が設けられて
いる。
【0003】このように構成された真空搬送容器および
ロードロック室において、処理装置内の基板を真空搬送
容器に収納する場合には、先ず、処理装置とロードロッ
ク室との間の真空ゲートバルブを閉とした状態で、ロー
ドロック室の排気口の真空バルブを開とし、ロードロッ
ク室内を大気圧とする。次に、ロードロック室の扉を開
き(ロードロック室が大気圧と均圧しているので容易に
開く)、真空搬送容器を収納してその扉を開く。次に、
ロードロック室の扉を閉じ、排気口に真空吸引装置を接
続してロードロック室内の空気を排気する。ロードロッ
ク室内が所定の真空度すなわち、処理装置内の真空度と
同程度の真空度に到達したところで真空バルブを閉じて
真空吸引装置を切り離し、ロードロック室内および真空
搬送容器内を所定の真空度に保持する。次に、処理装置
の基板の搬入出口に設けられた真空ゲートバルブを開
く。次に、搬送ロボットを操作し、搬送アームを作動さ
せて処理装置内の基板を1枚ずつ搬出し、真空搬送容器
内へ搬入する。処理装置から真空搬送容器への基板の搬
送が終了すると、真空搬送容器の扉を閉じ、基板の搬入
出口に設けられた真空ゲートバルブを閉じ、排気口の真
空バルブを開く。ロードロック室内が大気圧と均圧する
とロードロック室の扉を開き、基板を真空状態で収納し
た真空搬送容器を搬出する。真空搬送容器に真空状態で
収納された基板を処理装置に搬入する場合には、先ず、
ロードロック室が前述の真空搬送容器を搬出した状態、
すなわち、真空ゲートバルブが閉、真空バルブが開、扉
が開の状態で、真空搬送容器をロードロック室内へ搬入
する。次に、ロードロック室の扉を閉じ、排気口に真空
吸引装置を接続してロードロック室内の空気を排気す
る。ロードロック室内が所定の真空度すなわち処理装置
内の真空度と同程度の真空度に到達したところで真空バ
ルブを閉じて真空吸引装置を切り離す。次に、真空搬送
容器の扉を開き、処理装置とロードロック室との間の真
空ゲートバルブを開く。次に、搬送ロボットを操作し、
搬送アームを作動させて真空搬送容器内の基板を1枚ず
つ搬出し、処理装置内へ搬入する。真空搬送容器から処
理装置への基板の搬送が終了すると、真空ゲートバルブ
を閉じて処理装置の基板の搬入出口を閉鎖する。ロード
ロック室および真空搬送容器はそのままの状態で保持
し、次回の基板の搬出に備えて待機する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の真空搬送容器は
以上のように構成されていたため、次のような課題が存
在していた。すなわち、処理装置に基板の昇降機能が備
わっていて、ロードロック室に具備されている搬送ロボ
ットに昇降機能が備わっていない場合には、真空搬送容
器への基板の搬入搬出が不可能となる場合があった。こ
れの解決には、搬入搬出を可能にするために余分に昇降
機能を備えた搬送ロボットを具備する必要があった。ま
た、真空搬送容器に基板の搬入搬出を行うためには、真
空搬送容器をロードロック室内に収納して行う必要があ
り、内容積の大きなロードロック室が必要となる。さら
に、真空搬送容器をロードロック室に搬入し搬出する度
に、内容積の大きなロードロック室内の大気開放と真空
吸引とを繰返す必要があり、真空吸引のための消費動力
が大きく、迅速な作業ができないあるいは迅速な作業を
行うためには大形の真空吸引装置が必要であった。
【0005】本発明は以上のような課題を解決するため
になされたものであり、搬送ロボットの昇降機能の有無
にかかわらず基板の搬入搬出が可能であり、ロードロッ
ク室の内容積を小さくして真空吸引の消費動力を小さく
する真空搬送容器を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による真空搬送容
器は、薄肉板状の被搬送物を真空状態で搬送するための
容器であり、前記被搬送物が挿入・抽出されるフランジ
形状の開口部および前記被搬送物が収納される内容積を
有する真空容器と、該真空容器に内蔵されて前記被搬送
物を保持するホルダと、前記真空容器の開口部に設けら
れた回転戸式真空ゲートバルブと、前記真空容器の外面
に設けられた昇降装置と、で構成され、該昇降装置が前
記真空容器の壁を気密状態で貫通して前記ホルダに連結
されている構成である。
【0007】さらに詳細には、前記回転戸式真空ゲート
バルブの弁板の前記真空容器内側面に弾性体からなる押
え具が設けられている構成である。
【0008】さらに詳細には、前記真空容器内に非駆動
式真空ポンプが設けられている構成である。
【0009】
【作用】本発明による真空搬送容器においては、真空容
器の開口部が回転戸式真空ゲートバルブの弁板を設けら
れているとともにフランジ形状に構成されていることに
より、開口部をロードロック室の開口部に気密状態で接
続することが可能となる。従って、ロードロック室は真
空搬送容器を収納する必要はなく、搬送ロボットの搬送
アーム部のみを収納する大きさで良い。また、真空容器
に内蔵されたホルダに真空容器の外面に設けられた昇降
装置が連結されていることにより、ホルダが真空容器内
で昇降することが可能となる。従って、ロードロック室
に具備される搬送ロボットには昇降機能を必要としな
い。さらに、回転戸型弁板の内面に弾性体からなる押え
具が設けられていることにより、ホルダに保持された被
搬送物は弾性的に押えつけられて移動不能となる。さら
に、真空容器内に非駆動式真空ポンプが設けられている
ことにより、密閉真空状態の真空容器内は常時真空度が
維持される。
【0010】
【実施例】以下、図面とともに本発明による真空搬送容
器の好適な実施例について詳細に説明する。図1は、本
発明による真空搬送容器の全体構成を示す一部を破断し
た斜視図である。図1において、符号1で示されるもの
は真空搬送容器であり、該真空搬送容器1は、フランジ
形状の開口部2aを有する真空容器2と、該真空容器2
に内蔵されたホルダ3と、前記真空容器2の開口部2a
に設けられた一辺を回転支点とする回転戸式弁板4と、
前記真空容器2の外面に設けられて前記ホルダ3に連結
された昇降装置5と、で構成されている。前記真空容器
2は、半導体、液晶、太陽電池などの基板を収納するた
めに必要な内容積を有する略直方体形状の気密性を有す
る容器であり、略直方体の一面に基板を挿入抽出させる
開口部2aが形成されている。図1に示される実施例で
は、基板1枚を収納する真空容器2であり、基板を水平
状態で収納した場合に上下方向の短い略直方体であり、
一方の側面に開口部2aが形成されている。該開口部2
aに対向する側面はフランジ形状とされ、盲フランジ2
bにより閉鎖されている。該盲フランジ2bの内面には
非駆動式ポンプであるゲッター6が装着されている。非
駆動式ポンプとしては、ゲッターを用いるゲッターポン
プのほか、ソープションポンプ、イオンポンプを用いて
もよい。
【0011】前記開口部2aの外面には、開口部2aを
覆うに充分な平面積を有し90度の往復回動をする回転
戸式弁板4が、開口部2aの両横に下辺を回転支点とし
て往復回転可能に支持されて設けられている。また、前
記真空容器2の開口部2aに隣接する両側面には、前記
弁板4を回転させるためのリンク機構7および矢印A方
向に操作される開閉レバー8が設けられ、該リンク機構
7の先端が前記弁板4の両横端部に連結され、この弁板
4、リンク機構7及び開閉レバー8により回転戸式真空
ゲートバルブ10を構成している。さらに、前記真空容
器2の開口部2aの外周には、前記弁板4を内包するよ
うにポート連結フランジ2cが形成されている。従っ
て、前記リンク機構7の先端部は、ベローズ9を装備し
て気密状態を確保した状態で前記ポート連結フランジ2
cを貫通し、前記弁板4に連結されている。また、前記
弁板4の前記真空容器2内面となる面には、弁板4が閉
じたときに前記ホルダ3の中間の支持部3bと対面する
位置に弾性体よりなる押え具14が設けられている。な
お、図1においては、押え具14の弾性体は板バネが使
用されているが、ゴム、プラスチックなどの弾性変形可
能な部材でもよい。
【0012】前記ホルダ3は、図2および図3に示され
るように、略半円形状の平板部3aと、略半円形状の円
弧の両端部および中間部の3箇所において、縦断面形状
が略半円形状の中心方向へ拡大する横V字溝を形成され
た構成よりなる支持部3bとで構成されている。前記真
空容器2の上面の略中央部には前記昇降装置5が設けら
れている。該昇降装置5は、図4および図5に示される
ように、昇降棒11と昇降駆動部12とで構成されてい
る。すなわち、図4においては、前記昇降棒11は一端
にネジ部11aが形成されて軸方向に移動可能であるが
回転不可能に保持され、前記ネジ部11aには定位置で
回転のみ可能な昇降部材12aが螺合され、該昇降部材
12aに回転ハンドル12bが設けられて前記昇降駆動
部12が構成されている。前記昇降装置5は、前記昇降
棒11が前記真空容器2の壁を貫通し、その他端が前記
ホルダ3の平板部3aに連結固定されている。また、前
記昇降棒11を内包して、前記ホルダ3の平板部3aと
前記真空容器2の壁との間にはベローズ13が設けられ
ており、真空容器2内の気密性が確保されている。
【0013】また、図5に示す昇降装置の他の実施例に
おいては、前記真空容器2の上面に直立して真空容器に
連通する密閉筒2dが形成され、該密閉筒2d内には、
一端部に磁性体11bを設けた昇降棒11が内挿され、
該昇降棒11の前記真空容器2内の他端が前記ホルダ3
の平板部3aに連結固定されている。前記密閉筒2dに
は、その外周に沿って筒軸方向に移動および任意の位置
で停止固定可能な磁性体製の昇降駆動部12が装備さ
れ、この磁性体はその内周面の磁性が前記昇降棒11の
磁性体11b外周の磁性と逆であり、相互に引き合うよ
うに構成されている。
【0014】次に、以上のように構成された真空搬送容
器1が基板21を搬送するために、処理装置22との間
で基板21の授受を行う場合について図6と共に説明す
る。すなわち、図6において処理装置22の開口部22
aには第1真空ゲートバルブ23を介してロードロック
室24の一端が接続され、該ロードロック室24の他端
に、第2真空ゲートバルブ25および連結ポート26を
介して前記真空搬送容器1が接続されている。なお、図
6における真空搬送容器1は図1に示される真空搬送容
器1と異なり、弁板4が上方に90度回動して開くよう
に構成されている。前記ロードロック室24には搬送ロ
ボット27が設けられ、搬送アーム27aがロードロッ
ク室を中心として前記処理装置22と前記真空搬送容器
1との間を往復動する。前記連結ポート26と前記真空
搬送容器1とは、連結ポート26のフランジ部に真空搬
送容器1のポート連結フランジ2cがクランプ28によ
り気密状態で連結されている。また、前記連結ポート2
6には、真空バルブ29を介して真空吸引装置30およ
びガス導入バルブ31を介してガス源32が接続されて
いる。以上の構成において、真空搬送容器1は常時回転
戸式真空ゲートバルブ10を閉じられて内部を所定の真
空状態に維持されており、ロードロック室24もまた常
時第1真空ゲートバルブ23および第2真空ゲートバル
ブ25を閉じられて内部を所定の真空状態に維持されて
いる。空の真空搬送容器1に処理装置22から基板21
を搬入するには、先ず、真空搬送容器1を連結ポート2
6にクランプ28により気密状態に接続する。次に、ガ
ス導入バルブ31を閉じた状態で真空バルブ29を開い
て真空吸引装置30を作動させ、ポート連結フランジ2
cおよび連結ポート26で形成される空間を所定の真空
状態すなわち真空搬送容器1およびロードロック室24
の真空度と同程度の真空度に吸引排気する。次に、回転
戸式真空ゲートバルブ10、第2真空ゲートバルブ25
および第1真空ゲートバルブ23を開き、ロードロック
室24を介して処理装置22と真空搬送容器1とを真空
状態で連通する。
【0015】次に、搬送ロボット27が操作され、搬送
アーム27aが処理装置22内の基板21を搬送アーム
27aの上面の載せて真空搬送容器1内へ搬送する。そ
の際、ホルダ3は、支持部3bの横V字溝が搬送される
基板21の高さに一致するように昇降装置5により位置
調節されている。搬送アーム27aにより基板21が3
箇所の支持部3bの横V字溝に挿入されると、昇降装置
5を操作してホルダ3を上昇させ、基板21を搬送アー
ム27aの上から持上げる。次に、搬送ロボット27を
操作して搬送アーム27aを折りたたみロードロック室
24内へ収納する。次に、第1真空ゲートバルブ23、
第2真空ゲートバルブ25および回転戸式真空ゲートバ
ルブ10を閉じる。回転戸式真空ゲートバルブ10の弁
板4が閉じられると、弁板4の内面に設けられた弾性体
の板バネからなる押え具14により基板21がホルダ3
の支持部3bに弾性的に押付けられて固定保持される。
次に、真空バルブ29を閉じ、ガス導入バルブ31を開
いてガス源32からガスを供給し、連結ポートフランジ
2c及び連結ポート26で形成される空間を大気圧に均
圧する。以上の操作により、基板21を収納した真空搬
送容器1は、クランプ28を解放することにより連結ポ
ート26から切離され、基板21を任意の場所に搬送す
ることができる。真空搬送容器1の移動中、真空搬送容
器1内では、基板21は押え具14により押圧されて固
定保持されていることにより移動することが無く、移動
の際の部材間の摩擦による微粒子の発生が無い。また、
真空搬送容器1内の真空度の低下は非駆動式真空ポンプ
であるゲッター6により吸収され、清浄度および真空度
が維持される。
【0016】基板21を収納した真空搬送容器1から処
理装置22へ基板21を搬出するには、先ず、前述の搬
入の場合と同様に真空搬送容器1を連結ポート26へ接
続する。前述の搬入の場合と同様に、ロードロック室2
4を介して真空搬送容器1と処理装置22とが真空状態
で連通された状態で搬送ロボット27を操作し、搬送ア
ーム27aを真空搬送容器1内の基板21の下側へ伸ば
す。次に、昇降装置5を操作してホルダ3を降下させ、
基板21を搬送アーム27aに載せる。次に、搬送ロボ
ット27を操作して搬送アーム27aにより基板21を
真空搬送容器1から処理装置22へ搬送し、処理装置2
2へ渡す。次に、搬送ロボット27を操作して搬送アー
ム27aを折りたたみロードロック室24内へ収納す
る。以後前述の搬入の場合と同様に真空搬送容器1を連
結ポート26から切離す。以上の実施例では、基板1枚
を収納する真空容器2について説明したが、本発明は複
数枚の基板を収納する真空容器についても同様に適用で
きる。
【0017】
【発明の効果】本発明による真空搬送容器は以上のよう
に構成されているため、次のような効果を得ることがで
きる。 (1) 真空容器のフランジ形状の開口部に回転戸式真空
ゲートバルブが設けられていることにより、真空搬送容
器をロードロック室内へ収納する必要が無くなりロード
ロック室を搬送ロボットの搬送アーム部のみを収納可能
な大きさに小形化される。 (2) 真空搬送容器をロードロック室に接続する場合
は、ポート連結フランジおよび連結ポートで形成される
小さな空間を所定の真空状態に吸引排気するのみであ
り、真空吸引のための装置が小形化され、消費動力が小
さくなり、短時間で所定真空度に到達できる。 (3) 真空容器の外面に設けられた昇降装置が内蔵され
たホルダに連結されて昇降することにより、ロードロッ
ク室に具備される搬送ロボットの昇降機能の有無にかか
わらず基板の搬入搬出が可能となった。 (4) 回転戸式真空ゲートバルブの弁板の内面に設けら
れた押え具により、ホルダに保持された基板は押えつけ
られて固定され、真空搬送容器が衝撃を受けても基板が
動くことは無く、微粒子の発生および基板の損傷が起こ
らない。 (5) 真空容器内に非駆動式真空ポンプが設けられてい
ることにより、基板あるいは真空容器壁からガスが放出
される場合でも、これらのガスが速かに吸収されるため
真空度の低下が防止され、基板の表面の劣化を防止す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による真空搬送容器の全体構成を示す一
部断面の斜視図である。
【図2】ホルダの断面図である。
【図3】ホルダの下面図(図2の矢印III)である。
【図4】昇降装置の断面図である。
【図5】他の昇降装置の断面図である。
【図6】真空搬送容器へ基板を搬入し、搬出する状況を
示す断面図である。
【符号の説明】
1 真空搬送容器 2 真空容器 3 ホルダ 4 弁板 5 昇降装置 6 ゲッター(非駆動式真空ポンプ) 10 回転戸式真空ゲートバルブ 14 押え具(弾性体) 21 基板 22 処理装置 24 ロードロック室 27 搬送ロボット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−199379(JP,A) 特開 昭61−93073(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68 B65D 81/20

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 薄肉板状の被搬送物を真空状態で搬送す
    るための容器であり、前記被搬送物が挿入・抽出される
    フランジ形状の開口部(2a)および前記被搬送物が収納さ
    れる内容積を有する真空容器(2)と、該真空容器(2)に内
    蔵されて前記被搬送物を保持するホルダ(3)と、前記真
    空容器(2)の開口部(2a)に設けられた回転戸式真空ゲー
    トバルブ(10)と、前記真空容器(2)の外面に設けられた
    昇降装置(5)と、で構成され、該昇降装置(5)が前記真空
    容器(2)の壁を気密状態で貫通して前記ホルダ(3)に連結
    されていることを特徴とする真空搬送容器。
  2. 【請求項2】 前記回転戸式真空ゲートバルブ(10)の弁
    板(4)の前記真空容器(2)内側面に弾性体からなる押え具
    (14)が設けられていることを特徴とする請求項1記載の
    真空搬送容器。
  3. 【請求項3】 前記真空容器(2)内に非駆動式真空ポン
    プ(6)が設けられていることを特徴とする請求項1また
    は2記載の真空搬送容器。
JP15357595A 1995-06-20 1995-06-20 真空搬送容器 Expired - Fee Related JP3032701B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15357595A JP3032701B2 (ja) 1995-06-20 1995-06-20 真空搬送容器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15357595A JP3032701B2 (ja) 1995-06-20 1995-06-20 真空搬送容器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH098115A JPH098115A (ja) 1997-01-10
JP3032701B2 true JP3032701B2 (ja) 2000-04-17

Family

ID=15565495

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15357595A Expired - Fee Related JP3032701B2 (ja) 1995-06-20 1995-06-20 真空搬送容器

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3032701B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014075166A (ja) * 2012-10-04 2014-04-24 Showa Denko Kk 磁気記録媒体の製造方法及び装置
JP6118114B2 (ja) * 2013-01-15 2017-04-19 昭和電工株式会社 磁気記録媒体の製造方法及び装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH098115A (ja) 1997-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5044871A (en) Integrated circuit processing system
US4966519A (en) Integrated circuit processing system
JP2001203252A (ja) 半導体加工装置のためのローディング及びアンローディング用ステーション
TW200428565A (en) Clean device with opening/closing device of clean box
JP3632812B2 (ja) 基板搬送移載装置
US4943457A (en) Vacuum slice carrier
JP3032701B2 (ja) 真空搬送容器
JPH07122618A (ja) 真空処理装置
JPWO2003096410A1 (ja) 基板処理装置
KR20090023100A (ko) 기판 수납 장치 및 기판 수납 방법
JP2004140278A (ja) 移動式収納装置及び基板搬入装置
JP2004087781A (ja) 真空処理装置及び真空処理方法
TW200402822A (en) Port structure of semiconductor processing apparatus
JP3355697B2 (ja) 可搬式密閉コンテナおよびガスパージステーション
JP3252456B2 (ja) 密閉コンテナのガスパージ方法およびその装置
JP3983133B2 (ja) クリーンボックスおよび当該ボックスに対する基板のローディング方法
JP3240698B2 (ja) 可搬式密閉コンテナのパージステーション
JP3165947B2 (ja) 真空室のドア装置
WO2020122125A1 (ja) ロードロックチャンバ
JP2767142B2 (ja) 真空処理装置用ユニット
JPH08195426A (ja) 真空搬送用インターフェイス装置
JPH06349931A (ja) 処理システム
JP3787755B2 (ja) 処理システム
JP2001077172A (ja) 基板の処理装置、基板の搬送体、並びに電子部品の製造方法
JP2003174072A (ja) 基板移載装置及び基板移載方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees