JPH08195426A - 真空搬送用インターフェイス装置 - Google Patents
真空搬送用インターフェイス装置Info
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- JPH08195426A JPH08195426A JP542795A JP542795A JPH08195426A JP H08195426 A JPH08195426 A JP H08195426A JP 542795 A JP542795 A JP 542795A JP 542795 A JP542795 A JP 542795A JP H08195426 A JPH08195426 A JP H08195426A
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- lock chamber
- load lock
- wafer
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体基板を高真空に保持し、ウエハ上の微粒
子及び原子層オーダの汚染や酸化を抑制して、処理装置
容器間を搬送する。 【構成】搬送するウエハ９の入った搬送容器１はロード
ロック室３に取り付けられ、ロードロック室３を真空排
気する。搬送容器のドア６は開閉補助機構７によって開
かれ、ロードロック室３の内壁に密着され、空間８を真
空排気する。その後、ウエハは搬送機構１０によって処
理装置２内に搬送される。処理後のウエハはロードロッ
ク室に移された後、搬送容器のドアは開閉補助機構７に
よって閉められる。ロードロック室を大気圧まで、リー
クすると、搬送容器１はロードロック室３から分離さ
れ、搬送容器１は別の処理装置へ運ばれる。 【効果】高真空を維持したまま、搬送容器と処理装置の
間を受渡しすることができ、ウエハ搬送中に付着する微
粒子や原子層オーダでの汚染を防ぐことができる。
子及び原子層オーダの汚染や酸化を抑制して、処理装置
容器間を搬送する。 【構成】搬送するウエハ９の入った搬送容器１はロード
ロック室３に取り付けられ、ロードロック室３を真空排
気する。搬送容器のドア６は開閉補助機構７によって開
かれ、ロードロック室３の内壁に密着され、空間８を真
空排気する。その後、ウエハは搬送機構１０によって処
理装置２内に搬送される。処理後のウエハはロードロッ
ク室に移された後、搬送容器のドアは開閉補助機構７に
よって閉められる。ロードロック室を大気圧まで、リー
クすると、搬送容器１はロードロック室３から分離さ
れ、搬送容器１は別の処理装置へ運ばれる。 【効果】高真空を維持したまま、搬送容器と処理装置の
間を受渡しすることができ、ウエハ搬送中に付着する微
粒子や原子層オーダでの汚染を防ぐことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空搬送用インタフェー
ス装置、更に詳しくいえば、ある容器から他の容器に物
体を外部環境に暴露させることなく搬送するための装
置、例えば、半導体の製造プロセスにおいて、半導体ウ
エハを外部環境に暴露させることなく、半導体ウエハ搬
送容器と保管容器又は処理容器相互間で搬送する場合に
好ましいインターフェイス装置に関する。
ス装置、更に詳しくいえば、ある容器から他の容器に物
体を外部環境に暴露させることなく搬送するための装
置、例えば、半導体の製造プロセスにおいて、半導体ウ
エハを外部環境に暴露させることなく、半導体ウエハ搬
送容器と保管容器又は処理容器相互間で搬送する場合に
好ましいインターフェイス装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、半導体の製造プロセスでは、クリ
ーンルーム内に設置された製造装置間で、半導体ウエハ
を搬送してデバイスを作製している。このような半導体
装置の製造プロセスでは、半導体ウエハは搬送中にクリ
ーンルーム雰囲気に振れることになるので、ウエハ上の
微粒子及び汚染や酸化を十分に防ぐことはできない。一
般に、０.０１ミクロン以上の微粒子の、１０~3パスカ
ル以下の雰囲気中での落下速度は１メートル毎秒以上で
あるので、１０~3パスカル以下の雰囲気中で半導体ウエ
ハ上の微粒子数が時間によって増加することはない。ま
た、１０~6パスカルの真空度において、１秒間に１原子
層の厚さの汚染が生じると言われている。従って、１０
~7パスカルでは１０分経過後で１原子層程度の汚染に抑
制することが可能である。大気中で生じる酸化や汚染は
高々数原子層であるが、配線工程等では、この程度の微
量であっても、半導体デバイスの性能を左右する重大な
外乱となることが分かってきた。
ーンルーム内に設置された製造装置間で、半導体ウエハ
を搬送してデバイスを作製している。このような半導体
装置の製造プロセスでは、半導体ウエハは搬送中にクリ
ーンルーム雰囲気に振れることになるので、ウエハ上の
微粒子及び汚染や酸化を十分に防ぐことはできない。一
般に、０.０１ミクロン以上の微粒子の、１０~3パスカ
ル以下の雰囲気中での落下速度は１メートル毎秒以上で
あるので、１０~3パスカル以下の雰囲気中で半導体ウエ
ハ上の微粒子数が時間によって増加することはない。ま
た、１０~6パスカルの真空度において、１秒間に１原子
層の厚さの汚染が生じると言われている。従って、１０
~7パスカルでは１０分経過後で１原子層程度の汚染に抑
制することが可能である。大気中で生じる酸化や汚染は
高々数原子層であるが、配線工程等では、この程度の微
量であっても、半導体デバイスの性能を左右する重大な
外乱となることが分かってきた。
【０００３】従来、クリーンルームを使用することな
く、ウエハに降りかかる微粒子数を減少させる装置とし
て、米国特許第４.５３２.９７０号及び４.５３４.３８
９号で開示されているように、標準メカニカルインター
フェイス（ＳＭＩＦ）が使用されている。この装置は、
図３に示すように、第１容器１５のドア１６と第２容器
１７のドア１８を一体化し、第１容器１５内部にあるウ
エハカセット１９を第１容器１５と第２容器間１７で移
動させることによって、ウエハカセット１９の搬送を行
なっていた。この装置では、ウエハ上の０．１ミクロン
以上の微粒子数を減少させて短時間でウエハを搬送す
る。しかし、第１容器１５と第２容器１７との間に大気
の空間ができ、これを移動させるため、１０~3パスカル
以下の真空度にすることは困難であり、０．０１ミクロ
ン以下の微粒子による汚染及び原子層オーダの汚染や酸
化を抑制することは困難であった。
く、ウエハに降りかかる微粒子数を減少させる装置とし
て、米国特許第４.５３２.９７０号及び４.５３４.３８
９号で開示されているように、標準メカニカルインター
フェイス（ＳＭＩＦ）が使用されている。この装置は、
図３に示すように、第１容器１５のドア１６と第２容器
１７のドア１８を一体化し、第１容器１５内部にあるウ
エハカセット１９を第１容器１５と第２容器間１７で移
動させることによって、ウエハカセット１９の搬送を行
なっていた。この装置では、ウエハ上の０．１ミクロン
以上の微粒子数を減少させて短時間でウエハを搬送す
る。しかし、第１容器１５と第２容器１７との間に大気
の空間ができ、これを移動させるため、１０~3パスカル
以下の真空度にすることは困難であり、０．０１ミクロ
ン以下の微粒子による汚染及び原子層オーダの汚染や酸
化を抑制することは困難であった。
【０００４】また、高真空に保持したまま半導体ウエハ
を搬送する真空搬送装置として、図４に示す高真空搬送
容器が知られている（松井等によって電子材料１９９３
年、１２月号、頁６３から頁６７に開示されている）。
この真空搬送装置は、半導体処理装置間、あるいは半導
体処理装置と保管容器間で半導体ウエハを真空状態で運
ぶ装置である。真空搬送容器１を真空排気するためのバ
ッテリバックアップ型のイオンポンプ２１と液体窒素冷
却２２手段をもち、結合部２４を介してロードロック室
（図示せず）を高真空に排気後、ゲートバルブ２０を開
いてウエハ９を他の容器に搬送する構成になっている。
この真空搬送装置では、５×１０~8パスカルを約４０分
間保持することができ、約４０分間に１原子層の汚染な
くウエハを保持できる。
を搬送する真空搬送装置として、図４に示す高真空搬送
容器が知られている（松井等によって電子材料１９９３
年、１２月号、頁６３から頁６７に開示されている）。
この真空搬送装置は、半導体処理装置間、あるいは半導
体処理装置と保管容器間で半導体ウエハを真空状態で運
ぶ装置である。真空搬送容器１を真空排気するためのバ
ッテリバックアップ型のイオンポンプ２１と液体窒素冷
却２２手段をもち、結合部２４を介してロードロック室
（図示せず）を高真空に排気後、ゲートバルブ２０を開
いてウエハ９を他の容器に搬送する構成になっている。
この真空搬送装置では、５×１０~8パスカルを約４０分
間保持することができ、約４０分間に１原子層の汚染な
くウエハを保持できる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記真空搬送
装置は、真空搬送容器１にイオンポンプ等の排気装置２
１、ゲートバルブ２０が一体的に構成され、真空搬送装
置全体が大型化され、重量が大きくなり扱いが困難で、
使用上運搬用キャリー２５等を必要とする。また、ロー
ドロック室と真空搬送容器０の取り付けをねじ機構を使
用して行うため、装着等の時間がかかるという問題があ
った。
装置は、真空搬送容器１にイオンポンプ等の排気装置２
１、ゲートバルブ２０が一体的に構成され、真空搬送装
置全体が大型化され、重量が大きくなり扱いが困難で、
使用上運搬用キャリー２５等を必要とする。また、ロー
ドロック室と真空搬送容器０の取り付けをねじ機構を使
用して行うため、装着等の時間がかかるという問題があ
った。
【０００６】従って、本発明の目的は、複数の容器の間
で高真空を保持したまま物体を迅速に移動するインタフ
ェース装置を実現することである。本発明の他の目的
は、ウエハの汚染を防ぎ、且つ効率良く搬送を行ない、
高真空を保持したまま、搬送容器と処理装置間を短時間
で搬送するための半導体基板搬送用インターフェース装
置を実現することである。本発明のさらに他の目的は、
上記本発明の他の目的はを達成すると同時に、使用頻度
の高い上記搬送容器が小型化され、かつ簡易な構成でよ
いようにする半導体ウエハの搬送用インターフェース装
置を実現することである。
で高真空を保持したまま物体を迅速に移動するインタフ
ェース装置を実現することである。本発明の他の目的
は、ウエハの汚染を防ぎ、且つ効率良く搬送を行ない、
高真空を保持したまま、搬送容器と処理装置間を短時間
で搬送するための半導体基板搬送用インターフェース装
置を実現することである。本発明のさらに他の目的は、
上記本発明の他の目的はを達成すると同時に、使用頻度
の高い上記搬送容器が小型化され、かつ簡易な構成でよ
いようにする半導体ウエハの搬送用インターフェース装
置を実現することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のインタフェース装置は、複数の容器相互間
で物体を搬送するために使用するロードロック室をもつ
インターフェイス装置であって、上記ロードロック室を
第１容器の開口部と結合する第１開口部と、上記第２の
容器の開口部と結合する第２開口部と、上記ロードロッ
ク室を真空排気する排気手段と、上記第１容器と上記第
１開口部を結合するときに上記第１容器の開口部に設け
られた蓋を上記ロードロック室内に収納する収納手段を
設けて構成した。
め、本発明のインタフェース装置は、複数の容器相互間
で物体を搬送するために使用するロードロック室をもつ
インターフェイス装置であって、上記ロードロック室を
第１容器の開口部と結合する第１開口部と、上記第２の
容器の開口部と結合する第２開口部と、上記ロードロッ
ク室を真空排気する排気手段と、上記第１容器と上記第
１開口部を結合するときに上記第１容器の開口部に設け
られた蓋を上記ロードロック室内に収納する収納手段を
設けて構成した。
【０００８】上記収納手段としては、上記蓋をロードロ
ック室内の気圧と第１容器内の気圧の差を利用して開閉
することが望ましい。さらに上記ロードロック室内に収
納しする上記蓋の外面が上記外面周囲に沿ったシールを
介して上記ロードロック室の内壁に対向し、上記蓋の外
面と上記シール及び上記ロードロック室の内壁で形成さ
れる小空間を真空排気する手段を設ける。本発明のイン
タフェース装置は上記物体を半導体ウエハとし、第１容
器を半導体ウエハの搬送容器、第２の容器を半導体ウエ
ハの保管容器又は処理装置とする場合が代表的である
が、それに限定されない。本発明の他の好ましい形態は
実施例によって更に詳しく説明する。
ック室内の気圧と第１容器内の気圧の差を利用して開閉
することが望ましい。さらに上記ロードロック室内に収
納しする上記蓋の外面が上記外面周囲に沿ったシールを
介して上記ロードロック室の内壁に対向し、上記蓋の外
面と上記シール及び上記ロードロック室の内壁で形成さ
れる小空間を真空排気する手段を設ける。本発明のイン
タフェース装置は上記物体を半導体ウエハとし、第１容
器を半導体ウエハの搬送容器、第２の容器を半導体ウエ
ハの保管容器又は処理装置とする場合が代表的である
が、それに限定されない。本発明の他の好ましい形態は
実施例によって更に詳しく説明する。
【０００９】
【作用】ロードロック室に真空排気手段を設け、第１容
器の開口時に、第１容器の蓋の開放並びロードロック室
と第１容器の結合をロードロック室と第１容器の内圧を
利用するため、第１容器は単に容器と容器内外の圧力差
を利用した蓋で構成される。そのため、第１容器を半導
体ウエハの搬送用容器とする場合など、搬送容器にゲー
トバルブ等の開閉機構を取付ける必要がないので、軽
量、小型に構成でき、運搬が簡単に行える。また、ロー
ドロック室の開口部と真空搬送容器の開口部の外側を密
着させる構造をとり、ロードロック室と大気との差圧に
よって、ロードロック室の開閉作業や取付け時間を削減
することができる。
器の開口時に、第１容器の蓋の開放並びロードロック室
と第１容器の結合をロードロック室と第１容器の内圧を
利用するため、第１容器は単に容器と容器内外の圧力差
を利用した蓋で構成される。そのため、第１容器を半導
体ウエハの搬送用容器とする場合など、搬送容器にゲー
トバルブ等の開閉機構を取付ける必要がないので、軽
量、小型に構成でき、運搬が簡単に行える。また、ロー
ドロック室の開口部と真空搬送容器の開口部の外側を密
着させる構造をとり、ロードロック室と大気との差圧に
よって、ロードロック室の開閉作業や取付け時間を削減
することができる。
【００１０】さらに、処理装置間を搬送するときに搬送
容器の外側が外気に触れて汚染された場合でも収納手段
で構成される小空間を更に真空排気するので、外気の影
響は軽減され、高真空を保ったまま半導体ウエハ等の物
体を搬送することが可能となる。
容器の外側が外気に触れて汚染された場合でも収納手段
で構成される小空間を更に真空排気するので、外気の影
響は軽減され、高真空を保ったまま半導体ウエハ等の物
体を搬送することが可能となる。
【００１１】
【実施例】図１は本発明による真空搬送用インターフェ
イス装置の１実施例の構成を示す側面図である。本実施
例は真空搬送用インターフェイス装置を半導体製造プロ
セスで使用する半導体処理装置に装着したものである。
真空搬送用インターフェイス装置のロードロック室３が
半導体処理装置（第２容器）２にゲートバルブ１４−１
によって装着されている。半導体ウエハ９は静電チャッ
ク等のウエハ保持機構２３によって搬送容器（第１容
器）１内に固定されている。搬送容器１はロードロック
室３の開口部の外側から搬送容器固定用ガイド４に沿っ
て取り付けられ、固定される。搬送容器１とロードロッ
ク室３とは、ロードロック室内を排気するに従って、ロ
ードロック室３と大気との差圧によって密着される。こ
の時、ロードロック室３のポンプ１３ー１の排気量は、
搬送容器１とロードロック室３の間の結合用シール１１
のリーク量とロードロック室３の内壁からのリーク量を
合わせた量より大きい必要がある。さらに、結合用シー
ル１１を二重とすると、真空保持性能はさらに高くな
る。搬送容器１の開口部の蓋はヒンジをもつドア６で構
成され、開いたときロードロック室３の内部に開く構造
となっている。
イス装置の１実施例の構成を示す側面図である。本実施
例は真空搬送用インターフェイス装置を半導体製造プロ
セスで使用する半導体処理装置に装着したものである。
真空搬送用インターフェイス装置のロードロック室３が
半導体処理装置（第２容器）２にゲートバルブ１４−１
によって装着されている。半導体ウエハ９は静電チャッ
ク等のウエハ保持機構２３によって搬送容器（第１容
器）１内に固定されている。搬送容器１はロードロック
室３の開口部の外側から搬送容器固定用ガイド４に沿っ
て取り付けられ、固定される。搬送容器１とロードロッ
ク室３とは、ロードロック室内を排気するに従って、ロ
ードロック室３と大気との差圧によって密着される。こ
の時、ロードロック室３のポンプ１３ー１の排気量は、
搬送容器１とロードロック室３の間の結合用シール１１
のリーク量とロードロック室３の内壁からのリーク量を
合わせた量より大きい必要がある。さらに、結合用シー
ル１１を二重とすると、真空保持性能はさらに高くな
る。搬送容器１の開口部の蓋はヒンジをもつドア６で構
成され、開いたときロードロック室３の内部に開く構造
となっている。
【００１２】ロードロック室３内が排気されるに従っ
て、ロードロック室３内と搬送容器１内の差圧が小さく
なり、搬送容器のドア６を締め付ける力が弱くなり、搬
送容器１のドア６は最終的に開放される。ドア６はロー
ドロック室３内に取り付けられた開閉補助機構７によっ
て開かれる。ドア６は、開放された状態では、ロードロ
ック室３の内壁に取り付けられたシール５によって密着
される。シール５はドア６の外周の形をしている。従っ
て、搬送容器１がインターフェイス装置に装着前に大気
に触れたドア６の外側部分がロードロック室の収納され
たとき、ロードロック室３内面にさらされる面積が少な
くなる。さらに、ロードロック室３の下側内壁面、シー
ル５及びドア６で構成される小空間８を真空排気するこ
とにより、ロードロック室３内を高真空に保ったままウ
エハ搬送を行なうことができる。その後、搬送容器１内
のウエハ９は、半導体処理装置２の側壁に設けられたウ
エハ搬送機構１０によって処理装置２内に搬送される。
て、ロードロック室３内と搬送容器１内の差圧が小さく
なり、搬送容器のドア６を締め付ける力が弱くなり、搬
送容器１のドア６は最終的に開放される。ドア６はロー
ドロック室３内に取り付けられた開閉補助機構７によっ
て開かれる。ドア６は、開放された状態では、ロードロ
ック室３の内壁に取り付けられたシール５によって密着
される。シール５はドア６の外周の形をしている。従っ
て、搬送容器１がインターフェイス装置に装着前に大気
に触れたドア６の外側部分がロードロック室の収納され
たとき、ロードロック室３内面にさらされる面積が少な
くなる。さらに、ロードロック室３の下側内壁面、シー
ル５及びドア６で構成される小空間８を真空排気するこ
とにより、ロードロック室３内を高真空に保ったままウ
エハ搬送を行なうことができる。その後、搬送容器１内
のウエハ９は、半導体処理装置２の側壁に設けられたウ
エハ搬送機構１０によって処理装置２内に搬送される。
【００１３】半導体処理装置２内で所定の処理が終了
後、ウエハ９は、ウエハ搬送機構１０によって処理装置
２からインタフェース装置を介して搬送容器１内に収納
される。その後、搬送容器１のドア６は開閉補助機構７
によって搬送容器１の開口部を塞ぐように閉められる。
搬送容器１は、ロードロック室３をリークするに従っ
て、ロードロック室３内と搬送容器１内の差圧によって
搬送容器１のドア６は閉められ、高真空を維持すること
ができる。また、同時にロードロック室３と大気との差
圧が小さくなるに従って、搬送容器１はロードロック室
３から切り離される。これによって搬送容器１にゲート
バルブを設置すること無く高真空を維持したまま、搬送
容器１と半導体処理装置２間でウエハ搬送することがで
きる。搬送容器１のドア６のシール１２を二重にする
と、真空保持性能はさらに高くなる。
後、ウエハ９は、ウエハ搬送機構１０によって処理装置
２からインタフェース装置を介して搬送容器１内に収納
される。その後、搬送容器１のドア６は開閉補助機構７
によって搬送容器１の開口部を塞ぐように閉められる。
搬送容器１は、ロードロック室３をリークするに従っ
て、ロードロック室３内と搬送容器１内の差圧によって
搬送容器１のドア６は閉められ、高真空を維持すること
ができる。また、同時にロードロック室３と大気との差
圧が小さくなるに従って、搬送容器１はロードロック室
３から切り離される。これによって搬送容器１にゲート
バルブを設置すること無く高真空を維持したまま、搬送
容器１と半導体処理装置２間でウエハ搬送することがで
きる。搬送容器１のドア６のシール１２を二重にする
と、真空保持性能はさらに高くなる。
【００１４】図２は本発明による真空搬送用インターフ
ェイス装置の他の実施例の構成を示す側面図である。本
実施例はロードロック室３の搬送容器１との結合部の開
口部をロードロック室３の上側に配置し、ウエハ搬送機
構１０をロードロック室３の側面に設けたものである。
図１の実施例と同一機能部分には同じ番号を付してい
る。搬送容器１の蓋６はウエハ９の下面にあり、ロード
ロック室３の外側から結合される。ロードロック室３が
ポンプ１３によって真空排気されると、搬送容器１の蓋
６はロードロック室３内に取り付けられた開閉補助機構
７によって、ウエハ９が一体となって下にスライドし、
ウエハ９はロードロック室３内に運ばれる。この時、搬
送容器１の蓋６はロードロック室３の下側の内壁にシー
ル５によって密着され、蓋６、内壁及びシール５とで形
成される小空間は真空ポンプ１３によって真空排気され
る。真空ポンプ１３は上記小空間と同時にロードロック
室３のウエハ９が配置された空間も真空排気する。
ェイス装置の他の実施例の構成を示す側面図である。本
実施例はロードロック室３の搬送容器１との結合部の開
口部をロードロック室３の上側に配置し、ウエハ搬送機
構１０をロードロック室３の側面に設けたものである。
図１の実施例と同一機能部分には同じ番号を付してい
る。搬送容器１の蓋６はウエハ９の下面にあり、ロード
ロック室３の外側から結合される。ロードロック室３が
ポンプ１３によって真空排気されると、搬送容器１の蓋
６はロードロック室３内に取り付けられた開閉補助機構
７によって、ウエハ９が一体となって下にスライドし、
ウエハ９はロードロック室３内に運ばれる。この時、搬
送容器１の蓋６はロードロック室３の下側の内壁にシー
ル５によって密着され、蓋６、内壁及びシール５とで形
成される小空間は真空ポンプ１３によって真空排気され
る。真空ポンプ１３は上記小空間と同時にロードロック
室３のウエハ９が配置された空間も真空排気する。
【００１５】図２に示す実施例は図１に示す実施例に較
べ、搬送容器１をロードロック室３装着するとき、ロー
ドロック室３の上側に配置できるので、必要とする床面
積が小さくなるという利点がある。また、搬送容器１の
蓋６及びロードロック室３の開口部の面積が大きいほ
ど、差圧による締め付け効果が大きくなるので、図１に
示す実施例よりも真空の保持力は良くなっている。一
方、図１の実施例は図２の実施例よりもロードロック室
３が小さくできるため、ロードロック室３の高速排気が
可能となり、結合時間を短縮できる。さらに、ドアの開
閉補助機構７を単純にできる。
べ、搬送容器１をロードロック室３装着するとき、ロー
ドロック室３の上側に配置できるので、必要とする床面
積が小さくなるという利点がある。また、搬送容器１の
蓋６及びロードロック室３の開口部の面積が大きいほ
ど、差圧による締め付け効果が大きくなるので、図１に
示す実施例よりも真空の保持力は良くなっている。一
方、図１の実施例は図２の実施例よりもロードロック室
３が小さくできるため、ロードロック室３の高速排気が
可能となり、結合時間を短縮できる。さらに、ドアの開
閉補助機構７を単純にできる。
【００１６】以上本発明の実施例について説明したが、
本発明は上記実施例に限定されるものではない。上記実
施例は半導体基板の搬送の場合を述べたが、他の高度の
真空状態で処理を必要とする場合にも適用できる。さら
に、搬送用容器とロードロック室との結合開口の位置
も、ロードロック室を直方体としたとき、処理装置が装
着される面を除く５面のいずれでもよい。さらにロード
ロック室の形状も直方体に限定されず、例えば円筒形で
もよい。
本発明は上記実施例に限定されるものではない。上記実
施例は半導体基板の搬送の場合を述べたが、他の高度の
真空状態で処理を必要とする場合にも適用できる。さら
に、搬送用容器とロードロック室との結合開口の位置
も、ロードロック室を直方体としたとき、処理装置が装
着される面を除く５面のいずれでもよい。さらにロード
ロック室の形状も直方体に限定されず、例えば円筒形で
もよい。
【００１７】
【発明の効果】本発明を用いれば半導体ウエハを高真空
に保持し、半導体ウエハ上の微粒子及び原子層オーダの
汚染や酸化を抑制して処理装置間を搬送することができ
る。また、搬送容器のドア６の開閉及び搬送容器１とロ
ードロック３室との脱着を簡便化し、さらに、搬送容器
１を小型化し、取付け時間を短縮することができる。
に保持し、半導体ウエハ上の微粒子及び原子層オーダの
汚染や酸化を抑制して処理装置間を搬送することができ
る。また、搬送容器のドア６の開閉及び搬送容器１とロ
ードロック３室との脱着を簡便化し、さらに、搬送容器
１を小型化し、取付け時間を短縮することができる。
【図１】本発明による真空搬送インターフェイス装置の
１実施例の構成を示す側面図である。
１実施例の構成を示す側面図である。
【図２】本発明による真空搬送インターフェイス装置の
他の実施例の構成を示す側面図である。
他の実施例の構成を示す側面図である。
【図３】従来の標準メカニカルインターフェイスの側面
図である。
図である。
【図４】従来の真空搬送容器の説明図である。
１…搬送容器、２…半導体処理装置、３…ロードロック
室、４…搬送容器固定用ガイド、５…シール、６…ド
ア、７…開閉補助機構、８…空間、９…ウエハ、１０…
ウエハ搬送機構、１１…結合用シール、１２…ドアのシ
ール、１３…ポンプ、１４…ゲートバルブ、１５…第一
容器、１６…ドア、１７…第二容器、１８…ドア、１９
…ウエハカセット、２０…ゲートバルブ、２１…イオン
ポンプ、２２…液体窒素冷却、２３…ウエハ保持機構。
室、４…搬送容器固定用ガイド、５…シール、６…ド
ア、７…開閉補助機構、８…空間、９…ウエハ、１０…
ウエハ搬送機構、１１…結合用シール、１２…ドアのシ
ール、１３…ポンプ、１４…ゲートバルブ、１５…第一
容器、１６…ドア、１７…第二容器、１８…ドア、１９
…ウエハカセット、２０…ゲートバルブ、２１…イオン
ポンプ、２２…液体窒素冷却、２３…ウエハ保持機構。
Claims (8)
- 【請求項１】蓋をもち物体を真空状態で収納する第１容
器と物体を真空状態で収納する第２容器との相互間で上
記物体を搬送するロードロック室をもつインターフェイ
ス装置であって、上記ロードロック室が上記第１容器の
開口部と結合する第１開口部と、上記第２容器の開口部
と結合する第２開口部と、上記ロードロック室を真空排
気する真空排気手段と、上記第１開口部に上記ロードロ
ック室を排気するときに上記蓋を上記ロードロック室内
に収納する収納手段とをもつこを特徴とする真空搬送用
インターフェイス装置。 - 【請求項２】上記収納手段が上記ロードロック室の内壁
に形成され上記蓋の外周形状をもつシールと、上記蓋の
外面が上記シールを介して上記ロードロック室の内壁に
対向するように上記蓋を移動する手段と、上記ロードロ
ック室の内壁と上記シールと上記蓋で形成される小空間
の排気を行う排気手段とで構成されたことを特徴とする
請求項１記載の真空搬送用インターフェイス装置。 - 【請求項３】上記蓋がヒンジをもつドア機構で構成さ
れ、上記収納手段が上記ドアの開閉を補助する開閉補助
機構をもつことを特徴とする請求項２記載の真空搬送用
インターフェイス装置。 - 【請求項４】上記収納手段が、上記ロードロック室の真
空排気を行うときに上記第１容器内の圧力とロードロッ
ク室内の圧力の差を利用するように構成されたことを特
徴とする請求項１ないし４のいずれか一に記載の真空搬
送用インターフェイス装置。 - 【請求項５】上記物体を第１容器、第２容器及び上記ロ
ードロック室で移動するための物体搬送機構をロードロ
ック室の側面に設けたことを特徴とする請求項１ないし
４のいずれか一に記載の真空搬送用インターフェイス装
置。 - 【請求項６】請求項１ないし５記載のいずれか一の真空
搬送用インターフェイス装置を上記ロードロック室の第
２開口部と上記第２容器の開口部とゲートバルブで結合
したことを特徴とする装置。 - 【請求項７】上記物体が半導体ウエハで、上記第１容器
が半導体ウエハの搬送用容器で、上記第２容器が上記半
導体ウエハの処理又は保管用の容器であることを特徴と
する請求項１ないし６のいずれか一に記載の真空搬送用
インターフェイス装置。 - 【請求項８】上記物体が半導体ウエハで、上記第１容器
が半導体ウエハの搬送用容器で、上記第２容器が上記半
導体ウエハの処理又は保管用の容器であることを特徴と
する請求項７に記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP542795A JPH08195426A (ja) | 1995-01-18 | 1995-01-18 | 真空搬送用インターフェイス装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP542795A JPH08195426A (ja) | 1995-01-18 | 1995-01-18 | 真空搬送用インターフェイス装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08195426A true JPH08195426A (ja) | 1996-07-30 |
Family
ID=11610885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP542795A Pending JPH08195426A (ja) | 1995-01-18 | 1995-01-18 | 真空搬送用インターフェイス装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08195426A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007149948A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置 |
| JP2009289800A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Tdk Corp | 密閉容器の蓋開閉システム、当該蓋開閉システムを含む収容物挿脱システム、及び当該蓋開閉システムを用いた基板処理方法 |
| KR101327251B1 (ko) * | 2012-11-15 | 2013-11-13 | 주식회사 선익시스템 | 회전형 챔버도어 |
| CN109564887A (zh) * | 2016-08-08 | 2019-04-02 | 信越半导体株式会社 | 装载埠以及晶圆搬送方法 |
| JP2021101472A (ja) * | 2016-11-10 | 2021-07-08 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 電子デバイス製造用のロードポートの機器、システム、及び方法 |
| CN114412752A (zh) * | 2022-03-28 | 2022-04-29 | 常州铭赛机器人科技股份有限公司 | 分段式真空作业设备及其使用方法 |
-
1995
- 1995-01-18 JP JP542795A patent/JPH08195426A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007149948A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置 |
| JP4634918B2 (ja) * | 2005-11-28 | 2011-02-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
| JP2009289800A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Tdk Corp | 密閉容器の蓋開閉システム、当該蓋開閉システムを含む収容物挿脱システム、及び当該蓋開閉システムを用いた基板処理方法 |
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