KR101327251B1 - 회전형 챔버도어 - Google Patents
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- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 30
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 10
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 33
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- VRAIHTAYLFXSJJ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical compound [AlH3].[AlH3] VRAIHTAYLFXSJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000000396 iron Nutrition 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 30
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
본 발명은 유기물질 증착 챔버의 분배기의 일 측면에 연결되는 크리스탈 센서(Crystal Sensor)가이드 튜브를 기준으로 챔버도어 양 단에 설치된 고정 쇠, 유기물질 증착 챔버의 양측 면의 내부에서 왕복운동을 통해 챔버도어를 계폐 할 수 있도록 하는 고정 쇠가 설치된 다수 개의 샤프트, 챔버도어에 설치된 고정 쇠와 샤프트에 설치된 고정 쇠를 연결하는 경첩, 챔버도어 양 측면에 설치된 고정 쇠와 샤프트에 설치된 고정 쇠 연결 및 챔버도어가 회전 후 고정되도록 하는 적어도 하나의 스토퍼 핀(Stopper Pin)으로 구성되며 유기물질 증착 챔버의 챔버도어를 회전하여 챔버내의 분배기와 체결되는 크리스탈 센서(Crystal Sensor) 및 쉴드(Shield)를 관리하는데 있어서 효과를 가진 회전형 챔버도어이다.
Description
본 발명은 챔버도어 개폐장치에 관한 것으로, 도어를 챔버 일 면에 회전가능하도록 설치하여 경첩의 회전축을 중심으로 도어를 회전시켜 사용자가 크리스탈 센서(Crystal Sensor)부 관리 및 쉴드(Shield) 교체를 간편히 할 수 있도록 하는 회전형 챔버도어에 관한 것이다.
유기물질 증착 챔버에 연결되는 챔버도어가 챔버내부에 설치되어 있는 샤프트의 왕복운동을 통해 열린 후 크리스탈 센서 부가 챔버내부 쪽으로 설치되어 있어 챔버도어의 청소 및 챔버내부의 분배기와 연결되어 있는 쉴드(Shield) 교체를 간편히 할 수 없다는 문제점이 제기되었다.
이러한 문제는 한국공개특허 10-2012-0044068에서 챔버내부를 사용자가 명확하게 확인하기 위해 챔버 상단부에 110도 내지 120도 회전가능한 도어를 설치하여 챔버도어의 일 면의 청소 및 챔버내부의 쉴드를 교체를 간편히 할 수 있도록 챔버도어 개폐장치를 통하여 문제점을 일부 해결하였다.
그런데 챔버도어 개폐장치에서는 챔버도어를 개폐시키기 위해서는 큰 힘이 필요로 하다는 문제가 있다.
챔버도어를 개폐시키기 위해서 큰 힘이 요구되는 문제에 대해 한국등록실용 신안공보 20-0411339에서는 이송 돌기가 구비된 상태의 챔버와 이송돌기와 개폐구조를 할 수 있는 도어 개폐구조가 설치되어 있는 챔버도어가 슬라이드 형식으로 상,하로 개폐되게 하여 도어 개폐시 큰 힘이 필요로 하는 문제의 해결책을 제안한바 있다.
그러나 도어가 슬라이드 형식인 상,하로 움직이기 때문에 도어를 개폐하기 위해 기존의 챔버도어의 개폐방식보다 넓은 공간이 필요로 하다는 문제점이 제기되었다.
또한, 종래에는 회전하지 않는 챔버도어였다. 이는 도 1을 참조하여 설명하도록 한다.
도 1을 참조하면, 도시된 회전하지 않는 챔버도어는 크리스탈 센서의 가이드 튜브(100)를 포함하여 회전하지 않는 도어를 포함하여 구성될 수 있다.
크리스탈 센서의 가이드 튜브(100)는 원통형 모양으로 길이는 50mm 내지 300mm 이고 직경은 15mm 내지 60mm으로 챔버도어의 일 영역에 설치되어 있으며 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel) 중 하나로 형성되어 증착 물질이 석영 크리스탈(미도시)에 부착이 되도록 하는 이동 경로의 역할을 한다.
크리스탈 센서 부(미도시) 내부에 구비된 석영 크리스탈(미도시)의 접촉 면에 금의 박막을 입혀 전극을 만들어 교류전압을 걸면 석영 크리스탈(미도시)의 5MHZ 내지 6MHZ의 고유 진동수가 출력된다.
따라서, 크리스탈 센서 부(미도시)의 고유 진동수가 설정된 값 예컨대, RGB 유기물인 경우
R 유기물의 두께는 5 ㎛ 이하 일대 까지 감소 되면, 기판의 표면에도 설정된 두께의 증착 막이 형성된 것으로 간주하며, 증착 막이 설정된 두께로 형성될 때까지의 시간을 산정할 수 있어 증착 속도를 조절할 수 있는 기본적인 데이터를 제공한다.
앞서 챔버도어 개폐장치, 도어개폐구조가 설치되어 있는 챔버도어 및 회전하지 않은 챔버도어 종래기술에서 챔버도어를 개폐할 시 제기되었던 문제점을 해결하기 위해서는 좁은 공간에서 큰 힘이 필요로 하지 않고 챔버도어, 챔버도어에 체결되는 있는 크리스탈 센서 부 및 챔버내의 쉴드 교체를 용이하게 할 수 있는 방안이 요구되고 있다.
본 발명의 목적은 유기물질 증착 챔버의 챔버도어를 회전하지 못하여 챔버 내의 분배기와 체결되는 크리스탈 센서(Crystal Sensor)부 및 쉴드(Shield)를 관리하는데 있어서 어려움이 있어 이를 해결하고자 회전가능한 챔버도어를 제공함에 있다.
상기한 목적은 본 발명에 따라, 유기물질 증착 챔버의 분배기의 일 측면에 연결되는 크리스탈 센서(Crystal Sensor)가이드 튜브를 기준으로 챔버도어 양 측면에 설치된 고정 쇠, 유기물질 증착 챔버의 내부에서 왕복운동을 통해 챔버도어를 개폐할 수 있도록 하는 고정 쇠가 설치된 복수 개의 샤프트, 챔버도어에 설치된 고정 쇠와 샤프트에 설치된 고정 쇠를 연결하는 경첩, 챔버도어 양 측면에 설치된 고정 쇠와 샤프트에 설치된 고정 쇠 연결 및 챔버도어가 상, 하로 회전 된 후 챔버도어를 고정하도록 하는 적어도 하나의 스토퍼 핀(Stopper Pin)에 의해 달성된다.
본 발명에 따르면, 진공 챔버의 챔버도어를 회전하여 챔버내부의 분배기와 체결되는 크리스탈 센서(Crystal Sensor)부 및 쉴드(Shield) 교체를 간편히 처리할 수 있다.
도 1은 종래기술에 따른 회전하지 않는 챔버도어에 대한 개념도를 도시한다.
도 2는 도 1에 도시된 종래의 회전하지 않는 챔버도어와 비교 설명하기 위해 회전하는 챔버도어에 대한 개념도를 도시한다.
도 3은 90도 회전한 챔버도어에 대한 개념도를 도시한다.
도 4는 챔버도어의 고정 쇠와 샤프트의 고정 쇠 연결에 대한 확대도를 도시한다.
도 5는 챔버도어의 고정 쇠와 샤프트의 고정 쇠에 대한 분리 사시도를 도시한다.
도 2는 도 1에 도시된 종래의 회전하지 않는 챔버도어와 비교 설명하기 위해 회전하는 챔버도어에 대한 개념도를 도시한다.
도 3은 90도 회전한 챔버도어에 대한 개념도를 도시한다.
도 4는 챔버도어의 고정 쇠와 샤프트의 고정 쇠 연결에 대한 확대도를 도시한다.
도 5는 챔버도어의 고정 쇠와 샤프트의 고정 쇠에 대한 분리 사시도를 도시한다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하도록 한다.
도 2는 도 1에 도시된 종래의 회전하지 않는 챔버도어와 비교 설명하기 위해 회전하는 챔버도어에 대한 개념도를 도시한다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 실시 예로써 회전형 챔버도어에 대한 개념도로서 크리스탈 센서의 가이드 튜브(100), 회전형 챔버도어(110), 챔버도어에 체결된 고정 쇠(111), 크리스탈 센서 부(120), 유기물질 증착 챔버(130), 샤프트(200), 스토퍼 핀(201), 경첩(210), 샤프트에 체결된 고정 쇠(211)를 포함하여 구성될 수 있다.
크리스탈 센서의 가이드 튜브(100)는 원통형 모양으로 길이는 50mm 내지 300mm 이고 직경은 15mm 내지 60mm으로 회전가능한 챔버도어(110)의 일 영역에 설치되어 있으며 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel) 중 하나로 형성되어 증착 물질이 석영 크리스탈(미도시)에 부착이 되도록 하는 이동 경로의 역할을 한다.
크리스탈 센서 부(120)내부에 구비된 석영 크리스탈(미도시)의 접촉 면에 금의 박막을 입혀 전극을 만들어 교류전압을 걸면 석영 크리스탈(미도시)의 5MHZ 내지 6MHZ의 고유 진동수가 출력된다.
따라서, 크리스탈 센서 부(120)의 고유 진동수가 설정된 값 예컨대, RGB 유기물인 경우 R 유기물의 두께는 5 ㎛ 이하 일대 까지 감소 되면, 기판의 표면에도 설정된 두께의 증착 막이 형성된 것으로 간주하며, 증착 막이 설정된 두께로 형성될 때까지의 시간을 산정할 수 있어 증착 속도를 조절할 수 있는 기본적인 데이터를 제공한다.
회전형 챔버도어(110)는 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 있으며, 챔버도어의 양 측면에 고정 쇠가 설치되어 있고 스토퍼 핀(201)이 고정될 수 있는 천공 홀(미도시)이 형성되어 있다.
또한 유기물질 증착 챔버(130)의 일 영역에 회전형 챔버도어가 체결되면 유기물질이 외부로 노출되지 않도록 한다.
챔버도어(110)에 체결된 고정 쇠(111)는 알루미늄(Alumminum) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 챔버도어(110)의 양 측면에 체결되어 샤프트(200)에 체결된 고정 쇠(111)와 경첩(210)으로 연결된다.
샤프트(200)는 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 원통형 모양으로 길이 500mm 내지 550mm, 직경 30mm 내지 40mm로 유기물질 증착 챔버의 양측 면의 내부에서 왕복운동을 통해 챔버도어를 개폐할 수 있도록 하며 샤프트(200)일 단면에 고정 쇠(211)가 체결된다.
샤프트(200)에 체결된 고정 쇠(211)는 알루미늄(Alumminum) 및 스테인레스강(Stainless steel) 중 어느 하나로 형성되어 '┏' 모양으로 형성되어 일 면에는 샤프트(200)가 체결되고 이 면에는 챔버도어(110)에 체결된 고정 쇠(211)와 연결하여 회전 및 고정이 되도록 경첩(210) 과 스토퍼 핀(201)이 연결된다.
경첩(210)은 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel) 중 어느 하나로 형성된다. 경첩(210)은 원통형 모양으로 직경은 10mm 내지 20mm, 길이는 50mm 내지 80mm로 양쪽 끝에 직경 보다 10mm 내지 15mm 큰 덮개가 설치되어 챔버도어(110)에 체결된 고정 쇠(111)와 샤프트(200)에 체결된 고정 쇠(211)를 연결하여 챔버도어(110)가 회전할 수 있도록 한다.
스토퍼 핀(201)은 알루미늄(Aluminum) 및 스테인레스강(Stainless steel) 중 어느 하나로 형성된다. 스토퍼 핀(201)은 원통형 모양으로 직경은 20mm 내지 30mm, 길이는 50mm 내지 80mm로 종단(A)의 직경(D1) 보다 10mm 내지 15mm 큰 덮개(D2)가 설치되어 챔버도어(110)가 회전되어 소정의 위치에서 챔버도어(110)를 고정시킨다.
도 3은 90도 회전한 챔버도어에 대한 개념도를 도시한다.
도 3을 참조하면, 도시된 회전형 챔버도어를 90도 회전한 실시 예로서 도 2와 동일하게 크리스탈 센서의 가이드 튜브(100), 회전형 챔버도어(110), 챔버도어에 체결된 고정 쇠(111), 크리스탈 센서 부(120), 유기물질 증착 챔버(130), 샤프트(200), 스토퍼 핀(201), 경첩(210), 샤프트에 체결된 고정 쇠(211)를 포함하여 구성될 수 있다.
크리스탈 센서의 가이드 튜브(100)는 원통형 모양으로 길이는 50mm 내지 300mm 이고 직경은 15mm 내지 60mm으로 회전가능한 챔버도어(110)의 일 영역에 설치되어 있으며 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel) 중 하나로 형성되어 증착 물질이 석영 크리스탈(미도시)에 부착이 되도록 하는 이동 경로의 역할을 한다.
크리스탈 센서 부(120)내부에 구비된 석영 크리스탈(미도시)의 접촉 면에 금의 박막을 입혀 전극을 만들어 교류전압을 걸면 석영 크리스탈(미도시)의 5MHZ 내지 6MHZ의 고유 진동수가 출력된다.
따라서, 크리스탈 센서 부(120)의 고유 진동수가 설정된 값 예컨대, RGB 유기물인 경우 R 유기물의 두께는 5 ㎛ 이하 일대 까지 감소 되면, 기판의 표면에도 설정된 두께의 증착 막이 형성된 것으로 간주하며, 증착 막이 설정된 두께로 형성될 때까지의 시간을 산정할 수 있어 증착 속도를 조절할 수 있는 기본적인 데이터를 제공한다.
회전형 챔버도어(110)는 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 유기물질 증착 챔버(130)의 일 영역에 체결되어 유기물질이 외부로 노출되지 않도록 한다.
챔버도어에 체결된 고정 쇠(111)는 알루미늄(Alumminum) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 챔버도어의 양 단면에 체결되어 샤프트에 체결된 고정 쇠(111)와 경첩(210)으로 연결된다.
샤프트(200)는 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 원통형 모양으로 길이 500mm 내지 550mm, 직경 30mm 내지 40mm로 유기물질 증착 챔버의 양측 면의 내부에서 왕복운동을 통해 챔버도어를 개폐할 수 있도록 하며 샤프트의 일 단면에 고정 쇠(211)가 체결된다.
샤프트에 체결된 고정 쇠(211)는 알루미늄(Alumminum) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 '┏' 모양으로 형성되어 일 면에는 상기 샤프트가 체결되고 이 면에는 챔버도어에 체결된 고정 쇠와 연결하여 회전 및 고정이 되도록 경첩(210)과 스토퍼 핀(201)이 연결된다.
경첩(210)은 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 원통형 모양으로 직경은 10mm 내지 20mm, 길이는 50mm 내지 80mm로 양쪽 끝에 직경 보다 10mm 내지 15mm 큰 덮개가 설치되어 챔버도어에 체결된 고정 쇠(111)와 샤프트에 체결된 고정 쇠(211)를 연결하여 챔버도어(110)가 회전할 수 있도록 한다.
스토퍼 핀(201)은 알루미늄(Aluminum) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 원통형 모양으로 직경은 20mm 내지 30mm, 길이는 50mm 내지 80mm로 일단 끝에 직경 보다 10mm 내지 15mm 큰 덮개가 설치되어 챔버도어(110)가 회전되어 소정의 위치에서 챔버도어(110)를 고정시킨다.
도 4는 챔버도어의 고정 쇠와 샤프트의 고정 쇠 연결에 대한 확대도를 도시한다.
도 4를 참조하면, 도시된 회전이 가능한 챔버도어를 90도 회전한 실시 예로서 도 2에서 설명하였던 챔버도어에 체결된 고정 쇠(111), 샤프트(200), 스토퍼 핀(201), 경첩(210), 샤프트에 체결된 고정 쇠(211)를 포함하여 구성될 수 있다.
샤프트(200)는 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 원통형 모양으로 길이 500mm 내지 550mm, 직경 30mm 내지 40mm로 유기물질 증착 챔버의 양측 면의 내부에서 왕복운동을 통해 챔버도어를 개폐할 수 있도록 하며 샤프트의 일 단면에 고정 쇠(211)가 체결된다.
샤프트에 체결된 고정 쇠(211)는 알루미늄(Alumminum) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 '┏' 모양으로 형성되어 일 면에는 상기 샤프트가 체결되고 이 면에는 챔버도어에 체결된 고정 쇠와 연결하여 회전 및 고정이 되도록 경첩(210) 과 스토퍼 핀(201)이 연결된다.
경첩(210)은 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 원통형 모양으로 직경은 10mm 내지 20mm, 길이는 50mm 내지 80mm로 양쪽 끝에 직경 보다 10mm 내지 15mm 큰 덮개가 설치되어 챔버도어에 체결된 고정 쇠(111)와 샤프트에 체결된 고정 쇠(211)를 연결하여 챔버도어(110)가 회전할 수 있도록 한다.
스토퍼 핀(201)은 알루미늄(Aluminum) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 원통형 모양으로 직경은 20mm 내지 30mm, 길이는 50mm 내지 80mm로 일단 끝에 직경 보다 10mm 내지 15mm 큰 덮개가 설치되어 챔버도어(110)가 회전되어 소정의 위치에서 챔버도어(110)를 고정시킨다.
도 5는 챔버도어의 고정 쇠와 샤프트의 고정 쇠에 대한 분리 사시도를 도시한다.
도 5를 참조하면, 고정 쇠와 샤프트의 고정 쇠에 대한 분리 사시도의 예로서 도 2에서 설명하였던 챔버도어에 체결된 고정 쇠(111), 샤프트(200), 스토퍼 핀(201), 경첩(210), 샤프트에 체결된 고정 쇠(211), 챔버도어에 체결된 고정 쇠의 천공 홀(500~520)을 포함하여 구성될 수 있다.
챔버도어에 체결된 고정 쇠(111)는 알루미늄(Alumminum) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 다수 개의 천공 홀(500~520)이 형성되어 스토퍼 핀(211)으로 챔버도어가 회전되었을 시 회전된 상태를 고정할 수 있다.
샤프트(200)는 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 유기물질 증착 챔버의 양측 면의 내부에서 왕복운동을 통해 챔버도어를 계폐 할 수 있도록 하며 샤프트의 일 단면에 고정 쇠(211)가 체결된다.
샤프트(200)는 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 원통형 모양으로 길이 500mm 내지 550mm, 직경 30mm 내지 40mm로 유기물질 증착 챔버의 양측 면의 내부에서 왕복운동을 통해 챔버도어를 개폐할 수 있도록 하며 샤프트의 일 단면에 고정 쇠(211)가 체결된다.
경첩(210)은 세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 원통형 모양으로 직경은 10mm 내지 20mm, 길이는 50mm 내지 80mm로 양쪽 끝에 직경 보다 10mm 내지 15mm 큰 덮개가 설치되어 챔버도어에 체결된 고정 쇠(111)와 샤프트에 체결된 고정 쇠(211)를 연결하여 챔버도어(110)가 회전할 수 있도록 한다.
스토퍼 핀(201)은 알루미늄(Aluminum) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되어 원통형 모양으로 직경은 20mm 내지 30mm, 길이는 50mm 내지 80mm로 일단 끝에 직경 보다 10mm 내지 15mm 큰 덮개가 설치되어 챔버도어(110)가 회전되어 소정의 위치에서 챔버도어(110)를 고정시킨다.
111: 챔버도어에 체결된 고정 쇠 200: 원통형 가이드 튜브
120: 체결 튜브 130: 냉각수 진출입관
140: 비율 탐지 센서 부 150: 석영 크리스탈
120: 체결 튜브 130: 냉각수 진출입관
140: 비율 탐지 센서 부 150: 석영 크리스탈
Claims (6)
- 유기물질 증착 챔버의 분배기의 일 측면에 연결되는 크리스탈 센서(Crystal Sensor)가이드 튜브를 기준으로 챔버도어 양 측면에 설치된 고정 쇠;
상기 유기물질 증착 챔버의 양측 면의 내부에서 왕복운동을 통해 챔버도어를 개폐할 수 있도록 하는 고정 쇠가 설치된 복수 개의 샤프트;
상기 챔버도어에 설치된 고정 쇠와 상기 샤프트에 설치된 고정 쇠를 연결하는 경첩;
상기 챔버도어 양 측면에 설치된 고정 쇠와 상기 샤프트에 설치된 고정 쇠 연결 및 상기 챔버도어가 상, 하로 회전 후 고정되도록 하는 적어도 하나의 스토퍼 핀(Stopper Pin);으로 구성되는 것을 특징으로 하는 회전형 챔버도어. - 제1항에 있어서,
상기 샤프트에 설치된 상기 고정 쇠는,
'┏' 으로 형성되어 있는 고정 쇠에 일 면에는 상기 샤프트가 체결되고 이 면에는 챔버도어에 체결된 고정 쇠와 연결하여 회전 및 고정이 되도록 상기 경첩 및 스토퍼 핀이 연결되는 것을 특징으로 하는 회전형 챔버도어. - 제1항에 있어서,
상기 경첩은,
원통형 모양으로 직경은 10mm 내지 20mm, 길이는 50mm 내지 80mm로 양 단에 직경 보다 10mm 내지 15mm 큰 덮개가 설치되어 상기 챔버도어의 고정 쇠 및 상기 샤프트의 고정 쇠를 동시에 연결하는 것을 특징으로 하는 회전형 챔버도어. - 제1항에 있어서,
상기 스토퍼 핀(Stopper Pin)은,
원통형 모양으로 직경은 20mm 내지 30mm, 길이는 50mm 내지 80mm로 일 단에 직경보다 10mm 내지 15mm 큰 덮개가 설치되어 상기 챔버도어의 고정 쇠 및 상기 샤프트의 고정 쇠를 동시에 고정시키는 것을 특징으로 하는 회전형 챔버도어. - 제1항에 있어서,
상기 경첩, 상기 챔버도어 및 상기 샤프트는,
세라믹(Ceramic) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 회전형 챔버도어. - 제1항에 있어서,
상기 고정 쇠 및 상기 스토퍼 핀는,
알루미늄(Aluminum) 및 스테인레스강(Stainless steel)중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 회전형 챔버도어.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120129351A KR101327251B1 (ko) | 2012-11-15 | 2012-11-15 | 회전형 챔버도어 |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR101327251B1 true KR101327251B1 (ko) | 2013-11-13 |
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ID=49857202
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020120129351A KR101327251B1 (ko) | 2012-11-15 | 2012-11-15 | 회전형 챔버도어 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR101327251B1 (ko) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08195426A (ja) * | 1995-01-18 | 1996-07-30 | Hitachi Ltd | 真空搬送用インターフェイス装置 |
KR20060049583A (ko) * | 2004-06-14 | 2006-05-19 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 곡선의 슬릿 밸브 도어 |
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JP2009135205A (ja) | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Tdk Corp | 収容容器の蓋開閉システム及び当該システムを用いた基板処理方法 |
-
2012
- 2012-11-15 KR KR1020120129351A patent/KR101327251B1/ko active IP Right Grant
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