JP3391584B2 - 処理装置 - Google Patents

処理装置

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JP3391584B2
JP3391584B2 JP30034794A JP30034794A JP3391584B2 JP 3391584 B2 JP3391584 B2 JP 3391584B2 JP 30034794 A JP30034794 A JP 30034794A JP 30034794 A JP30034794 A JP 30034794A JP 3391584 B2 JP3391584 B2 JP 3391584B2
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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、矩形の被処理基板を減
圧雰囲気下で処理する如く構成された処理装置に関する
ものである。 【0002】 【従来の技術】従来から、例えばLCD(Liquid Cryst
al Display;液晶表示装置)用基板の製造工程において
は、減圧雰囲気下でLCD基板等にエッチングやアッシ
ングなどの処理を施すため各種の処理装置が使用されて
いる。このような処理室においては、LCD用ガラス基
板を真空処理室内にロード、アンロードする毎に真空処
理室内を常圧に戻す必要がないように、開閉自在なゲー
トバルブを介してロードロック室と呼ばれる予備真空室
が設けられている場合が多い。そしてこのロードロック
室内には、LCD用ガラス基板を処理室内に搬送するた
めの搬送アームを備えた搬送装置が設けられている。 【0003】従来この種の搬送装置においては、LCD
用ガラス基板を載置する平坦なアルミ製の載置部が、通
常搬送アームにおける最上部の第1アームに設けられて
いるが、この載置部の表面には、LCD用ガラス基板の
裏面と接触してこれを支持するための、フッ素系の樹脂
からなる支持部材、例えばOリングが上方に凸に設けら
れている。そして従来この支持部材は、LCD用ガラス
基板の裏面の周辺部、例えば周縁から5mm程度内側に位
置したところの箇所を例えば4カ所や6カ所で支持する
ようになっていた。 【0004】 【0005】【発明が解決しようとする課題】 しかしながら, LCD
用ガラス基板の表面処理加工の際には、減圧自在な処理
室において各種の処理ガスを導入してプラズマ処理した
り、あるいは加熱処理を実施しているが、処理回数を重
ねると、支持部材の表面に前記処理ガス成分が付着して
その摩擦係数が低減して滑りやすくなり、搬送の際に位
置ズレするおそれがある。また加熱処理によって基板の
周辺部が上方に反り返り、その結果支持部材との接触が
不十分となって、搬送中にやはり位置ズレしたり、さら
に搬送スピードをあげると載置部から落下する危険もあ
った。 【0006】本発明は叙上の問題点に鑑みてなされたも
のであって、既述したように処理回数を重ねて支持部材
の摩擦係数が低減したり、さらには搬送スピードをあげ
ても搬送中に位置ズレを起こさせないようにして、歩留
まり、スループットを向上させることを目的とするもの
である。 【0007】 【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、請求項1によれば、減圧自在な真空処理室と、この
真空処理室内へ矩形の被処理基板を搬送自在な搬送装置
とを有し、前記真空処理室内に搬送された被処理基板に
対して所定の処理を施す如く構成された処理装置におい
て、前記搬送装置は、被処理基板が載置される載置部を
具備した搬送アームを有し、前記載置部の表面には複数
の支持部材が設けられ、被処理基板における対向する2
つの側端面を当該対向方向に押圧自在な押圧部材を載置
有し,前記押圧部材は、被処理基板における対向す
る2つの側端面の対向方向に摺動するラックの摺動によ
って接近離隔自在となるように構成されると共に、前記
載置部は搬送アームにおける最上部の第1のアーム上に
設けられ、適宜の回転駆動機構によって前記載置部は第
1のアームに対して回転自在となるように構成され、前
記第1のアームと一体となったピニオンが当該回転中心
と同軸上に設けられ、前記ラックはこのピニオンと歯合
していることを特徴とする、処理装置が提供される。 【0008】 【0009】 【0010】 【0011】 【0012】支持部材としては、Oリングを用いること
ができ、また前記スペーサは、PEEK(ポリ・エーテ
ル・エーテル・ケトン)を用いることができる。そして
真空処理室を複数設置して、いわゆるマルチプロセスチ
ャンバとし、これら各真空処理室との間で被処理基板の
搬送が可能な一の予備真空室内に、前記した各搬送装置
を設置するようにしてもよい。 【0013】 【作用】請求項1においては、被処理基板における対向
する2つの側端面を当該対向方向に押圧自在な押圧部材
を載置部に設けてあるので、被処理基板は支持部材上で
これら押圧部材によって保持される。従って支持部材と
被処理基板との接触が不十分となったり、あるいは支持
部材表面の摩擦係数が低減しても、搬送中に被処理基板
が位置ズレしたりすることはない。しかもピニオン自体
を直接回転させるのではなく、第1アームと一体になっ
ており、載置部を第1アームに対して回転させるに伴っ
て、相対的にラックに対して回転するようになってい
る。従って、ピニオン自体を独立に回転させる機構は不
要である。 【0014】 【0015】 【0016】 【0017】 【0018】 【0019】 【0020】 【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
ると、本実施例は、大型のLCD用ガラス基板(例えば
650mm×650mm)に対してプラズマ処理(エッチン
グ処理/アッシング処理)を行うための処理装置として
具体化された例であり、図1はかかる処理装置1の概
観、図2はその平面をそれぞれ示している。 【0021】これら各図からも明らかなように、この処
理装置1には、第1ロードロック室2の側面に、3つの
プロセスチャンバ1a、1b、1cが、夫々開閉自在な
ゲートバルブ3a、3b、3cを介して設けられてい
る。そしてプロセスチャンバ1a、1bは夫々所定の減
圧雰囲気下で同一のエッチング処理を行い、また残りの
プロセスチャンバ1cは前記エッチング処理終了後のL
CDガラス基板に対して所定の減圧雰囲気下でアッシン
グ処理を実施するように各々構成されている。 【0022】一方、前記第1ロードロック室2の残りの
側面には、開閉自在なゲートバルブ4を介して第2ロー
ドロック室5が隣接して連結され、この第2ロードロッ
ク室5における大気側のゲートバルブ6前面側には、L
CD用ガラス基板を載置するための載置台7a、7bを
上下二段に有する大気系搬送アーム7を支持した支持台
8が配置されている。 【0023】前記支持台8の両側には、処理対象である
LCD用ガラス基板Pが多数(例えば14枚のLCD用
ガラス基板P〜P14)収納されるカセット9、11
を支持するカセットインデクサ10、12とが前記支持
台8を挟んで夫々対向して配置されている。このように
2つのカセットインデクサ10、12を対向して配置さ
せることにより、1のカセット9を未処理基板収納用と
し、他のカセット11を処理済み基板収納用として使用
することができ、カセット交換の回数を低減することが
できる。 【0024】またカセットインデクサを1つだけ設置し
た場合であっても、前記大気系搬送アーム7は載置台7
a、7bを上下二段に有しているから、一度に2枚の処
理済み基板を、未処理基板を取り出したカセットに戻す
ことができ、そのような大気搬送系における搬送の作業
効率が高いものである。 【0025】これらカセットインデクサ10、12は基
本的に同一構成であり、いまカセットインデクサ10の
構成について説明すると、このカセットインデクサ10
は、前記カセット9をその上面に着脱自在に保持するテ
ーブル(図示せず)を有し、さらに当該テーブルは、適
宜のエレベーション機構10aによって上下動自在とな
るように構成されている。 【0026】かかる上下動は、例えば前記カセット9に
収納されている最上部のLCD用ガラス基板P1、及び
最上部から2番目に収納されているLCD用ガラス基板
2が、夫々前記大気系搬送アーム7の各載置台7a、
7bよりも若干高い位置に位置するまでは連続的に上昇
し、この大気系搬送アーム7によるLCD用ガラス基板
Pの搬送が開始された後は、当該カセット9の収納ピッ
チの2倍に対応したステップ状(即ちLCD用ガラス基
板2枚分)に上昇し、収納されたLCD用ガラス基板P
の処理が完了した後は、連続的に下降するように予め制
御されている。 【0027】一方前記大気系搬送アーム7は、前記カセ
ット9又は11と第2ロードロック室5との間でLCD
用ガラス基板Pを搬送するように構成されており、スペ
ーサ7cを挟んで前記各載置台7a、7bを上下に有
し、一度に2枚のLCD用ガラス基板Pを搬送すること
が可能となっている。 【0028】また前記各載置台7a、7bの上面(載置
面)側には、パーティクル発生の少ないPEEKからな
る吸着パッドが4カ所に設けられており、搬送対象であ
るLCD用ガラス基板Pはこれら4カ所の吸着パッドに
よって真空吸着され、強固に保持される。従ってLCD
用ガラス基板Pの高速搬送が可能であり、また大気系搬
送アーム7起動時、停止時において、慣性によってLC
D用ガラス基板Pが位置ズレすることもない。そしてこ
の大気系搬送アーム7は、前記支持台8上で回転自在か
つ載置台7a、7bの長手方向にスライド自在となるよ
うに構成され、またさらにLCD用ガラス基板Pのピッ
クアップやダウンを可能とする範囲で上下動自在となる
ように構成されている。 【0029】前記の如く構成されている大気系搬送アー
ム7によって、被処理体であるLCD用ガラス基板Pが
まず搬入される前記第2ロードロック室5内には、図3
に示したように、対向して配置されたバッファ21、2
2によって構成されるバッファ機構が設けられている。
これら各バッファ21、22は左右対称形であり、その
構成を例えばバッファ22についていうと、このバッフ
ァ22は夫々バッファ21側に突出した載置部22a、
22bを上下に有し、これら各載置部22a、22b上
に、LCD用ガラス基板Pの裏面側端縁が載置されるよ
うに構成されている。バッファ21もこれと同様、バッ
ファ22側に突出した載置部21a、21bを上下2段
に有しており、図3は、これら各バッファ21、22に
2枚のLCD用ガラス基板P1、P2が上下に載置され、
上側の載置部21a、22aにLCD用ガラス基板P1
が、下側の載置部21b、22bにLCD用ガラス基板
2が夫々載置された状態を示している。 【0030】そしてそのように各バッファ21、22に
載置されたLCD用ガラス基板P1、P2の位置合わせを
行うためのポジショナー31、32が、前記LCD用ガ
ラス基板P1、P2の対角線の延長線上にて相互に対向す
るようにして設けられている。 【0031】これら各ポジショナー31、32は基本的
な構成は同一であって、まず第2ロードロック室5の大
気側搬送口5aに近い側のポジショナー31についてい
うと、このポジショナー31は、LCD用ガラス基板P
1、P2の各角部近傍に直接接して位置合わせを行うロー
ラ31a、31b及びこれらローラ31a、31bを支
持する支持部材31cによって構成され、第2ロードロ
ック室5の下方に設けられた別設のエアシリンダ(図示
せず)の駆動によって、図3における往復矢印A、Bで
夫々示したように、上下並びに前記対角線方向に移動自
在である。 【0032】一方第2ロードロック室5の真空側搬送口
5bに近い側のポジショナー32も、直接LCD用ガラ
ス基板P1、P2の各角部近傍に接して位置合わせを行う
ローラ32a、32b、及びこれらローラ32a、32
bを支持する支持部材32cによって構成され、エアシ
リンダ(図示せず)の駆動によって、図3における往復
矢印C、Dで夫々示したように、上下並びに前記対角線
方向に移動自在である。但し、往復矢印Dで示される対
角線方向の移動については、前出ポジショナー31の移
動幅よりも小さく設定され、このポジショナー31は固
定側のポジショナーとして機能するように構成されてい
る。 【0033】即ち、各バッファ21、22にLCD用ガ
ラス基板P1、P2が載置されると、各ポジショナー3
1、32が夫々上昇し、上昇終了点に達すると次にこれ
ら各ポジショナー31、32は、前記対角線の延長線上
を夫々中心方向に向かって移動するが、このときポジシ
ョナー32の方が先に停止し、ポジショナー31につい
てはなおも移動して、そのローラ31a、31bによっ
て前記LCD用ガラス基板P1、P2の各角部近傍を押圧
しつつ、これらLCD用ガラス基板P1、P2全体を、先
に停止しているポジショナー32側へと押しやるのであ
る。これによって、LCD用ガラス基板P1、P2は所定
の位置に位置合わせされることになる。 【0034】なお前記各ローラ31a、31b、ローラ
32a、32bの全高は、バッファ21、22に上下2
段に載置されるLCD用ガラス基板P1、P2の上下間隔
よりも大きくとってあり、一度に上下2枚のLCD用ガ
ラス基板の位置合わせを行うことが可能となるように構
成されている。 【0035】既述のようにポジショナー32は位置合わ
せの際の固定側ポジショナーとして機能しているが、さ
らに叙上のように往復矢印Dで示される対角線方向の動
きも行うように構成されているので、LCD用ガラス基
板がバッファ21、22に対して比較的ずれた位置に載
置されても、これをカバーして所定位置に位置合わせす
ることが可能である。 【0036】そして前記ポジショナー31におけるロー
ラ31aの側面には、第2ロードロック室5の両側壁5
c、5d方向と平行な方向で貫通孔33が穿たれ、また
それに対応して前記側壁5cにガラス窓34、側壁5d
にガラス窓35が夫々気密に設けられ、さらにこのガラ
ス窓34の外方にレーザ発光装置36が、ガラス窓35
の外方にレーザ受光装置37が夫々設けられている。な
お図3においては説明の都合上、これらレーザ発光装置
36、レーザ受光装置37は、前記第2ロードロック室
5の両側壁5c、5dから離されて図示されている。 【0037】前記レーザ発光装置36、レーザ受光装置
37は、LCD用ガラス基板Pが前記各ポジショナー3
1、32によって所定位置に位置合わせされた際に、レ
ーザ発光装置36のレーザ光が前記ローラ31aの貫通
孔33を通過してレーザ受光装置37によって受光され
るように配置されている。 【0038】また図3における往復矢印Bで示される前
記ローラ31aの対角線方向の移動範囲は、このローラ
31a自体で、前記レーザ発光装置36からのレーザ光
を遮蔽できる範囲となるように設定されている。もちろ
んかかる移動範囲を任意に拡大したい場合には、前記ロ
ーラ31aの側面外周に適宜の遮蔽部材を設ければよ
く、そのように構成することにより、ローラ31a、即
ちポジショナー31の対角線方向の移動範囲を自由に設
定することが可能である。 【0039】以上のようにして第2ロードロック室5内
で所定位置にバッファされたLCD用ガラス基板P1
2は、図2、図4に示される第1ロードロック室2内
に設けられた真空系の搬送アーム41によって取り出さ
れ、当該搬送アーム41に併設されたバッファ機構42
によって一旦そこでバッファされた後、夫々所定のプロ
セスチャンバ1a、1b内に振り分けられて搬送するよ
うに構成されている。 【0040】図4は前記搬送アーム41とバッファ機構
42の概観を示しており、同図から明らかなように、本
実施例ではこれら搬送アーム41とバッファ機構42
は、共にアームドライブ43によって回転駆動される回
転台44上に設けられている。 【0041】前記搬送アーム41は、前記回転台44の
一側端近傍に設けられた昇降軸51に対して回転自在な
第2アーム52、この第2アーム52に対して回転自在
な第1アーム53、さらにこの第1アーム53に対して
回転駆動(正転、反転)され、LCD用ガラス基板Pを
載置するための載置部材54によって構成されている。 【0042】前記載置部材54は、図5にその詳細を示
したように、例えばステンレス鋼や表面が酸化処理され
たアルミ材、あるいはカーボンコンポジットで構成され
るプレート状の本体55によって主たる形状が構成され
ている。そしてこの本体55における一側、即ち前記第
1アーム53との回転中心側には、カバー56によって
覆われる収納凹部57が形成されている。 【0043】前記収納凹部57の中心には、ピニオン5
8が、前記第1アーム53に対して固定され、本体55
に対しては回転自在となるように設けられている。即
ち、第1アーム53の本体59は、中空形状を有してお
り、この本体59の底部にシャフト60が立設され、当
該シャフト60の上端部は、第1アーム53の本体59
の上面から突出して前記収納凹部57内に位置してい
る。また本体59内におけ前記シャフト60周りには、
適宜の駆動機構によって駆動されるベルト61によって
回転するプーリ62が回転自在に装着され、このプーリ
62の上端部が、前記載置部材54の本体55に固着さ
れている。 【0044】従って、ベルト61によってプーリ62が
回転すると、前記載置部材54が第1アーム53に対し
て回転するのである。そして前記ピニオン58は、前記
シャフト60の上端部に固着されており、その結果、前
記載置部材54が第1アーム53に対して回転しても、
前記ピニオン58は回転せず、第1アーム53に対する
位置関係はそのまま維持される。 【0045】前記収納凹部57の長手方向両側には、そ
の内側側に形成されたギヤ歯が前記ピニオン58外周の
ギヤ歯と歯合するラック71、72が長手方向側壁に沿
って摺動自在に設けられている。なお各ラック71、7
2共、その底部には、長手方向に溝が形成されており、
収納凹部57に設けられた突条と嵌め合わされて、円滑
な直線摺動が実現されるようになっている。 【0046】前記載置部材54の本体55における長手
方向両端部外側端には、それぞれ長手方向と直角な方向
に突出する突出部55a、55b、55c、55dが形
成されている。さらにこの本体55における長手方向両
端面には、ガイド凹部73、74、75、76が形成さ
れ、ガイド凹部73とガイド凹部75が、ガイド凹部7
4とガイド凹部76とが各々対向している。そしてこれ
らガイド凹部73、74内に、押圧部材となる平面略凹
形のグリップブロック81の突出部81a、81bが摺
動自在に挿入され、また対向するガイド凹部75、76
内にもグリップブロック82の突出部82a、82bが
摺動自在に挿入されている。 【0047】前記グリップブロック81、82はその基
本的構成は同一であり、例えば図5中手前側に位置する
グリップブロック81の構成についていうと、前記突出
部81a、81bの両側には、例えばガイド溝が形成さ
れ、ガイド凹部73、74内の両側壁に形成されたガイ
ド突条と嵌め合わされることによって、このグリップブ
ロック81は、載置部材54の長手方向と並行な方向に
摺動自在となっている。 【0048】また各グリップブロック81の突出部81
a、81b間の位置には、プッシュピン81c、81d
が、突出部81a、81bと同方向に設けられており、
このプッシュピン81c、81dは、本体55の一端面
を摺動自在に貫通して、その先端部は、前記収納凹部5
7内に位置し、前出ラック71、72と対向している。
さらにグリップブロック81におけるプッシュピン81
c、81dの間の中央部と前記収納凹部57内底部に設
けた係止部57aとの間には、コイルスプリング83が
掛け渡されている。従って、グリップブロック81は、
常時、収納凹部57方向、即ち載置部材54の本体55
の中央方向へと付勢されている。なお図7に示したよう
に、グリップブロック81における押圧面81e、即ち
押圧の際に、被処理基板であるLCD用ガラス基板Pの
側端面と接する面については、ビーズブラスト加工処理
されて、表面摩擦係数が高められて、確実な押圧を実現
するようになっている。 【0049】一方前記他のグリップブロック82につい
ても、突出部82a、82bがガイド凹部75、76内
に摺動自在に挿入され、さらに前記プッシュピン81
c、81dよりも長いプッシュピン82c、82dが、
本体55の他端面から摺動自在に貫通して、その先端部
は、前記収納凹部57内に位置し、前出ラック71、7
2と対向するようになっている。またこのグリップブロ
ック82も、コイルスプリング84によって、収納凹部
57方向、即ち載置部材54の本体55の中央方向へと
付勢されている。もちろんこのグリップブロック82に
おける内側面82eについても、確実な押圧を実現する
ため、ビーズブラスト加工処理が施されている。 【0050】そして前出ピニオン58、ラック71、7
2と、グリップブロック81、82の各プッシュピン8
1c、81d、82c、82dの関係は次のように設定
されている。即ち、まず71、72は、ピニオン58を
中心として常に点対称となるように設定され、載置部材
54の本体55が、第1アーム53に対して回転する
と、本体55の収納凹部57内を摺動自在なラック7
1、72からみれば、第1アーム53と一体になってい
るピニオン58は相対的に回転していることになる。そ
して載置部材54の本体55の、第1アーム53に対す
る正反転の際の最大回転角度の範囲において、ラック7
1、72は、図8〜図10の範囲でスライドするように
なっている。 【0051】より具体的に説明すると、載置部材54
が、前出プロセスチャンバ1a、1b、1c内の載置台
(図示せず)、又は前出第2ロードロック室5内のバッ
ファ21、22にあるときは、図8に示したように、ラ
ック71がコイルスプリング83の付勢に抗して、グリ
ップブロック81のプッシュピン81c、81dを最大
に外方へと押圧し、他方ラック72が、コイルスプリン
グ84の付勢に抗して、グリップブロック82のプッシ
ュピン82c、82dを最大に外方へと押圧し、両グリ
ップブロック81、82を離隔させている。このときは
被処理基板であるLCD用ガラス基板Pをリリースする
状態である。なおその時のグリップブロック81の押圧
面81eとLCD用ガラス基板Pの被押圧面との間の隙
間dは、本実施例においては、2mmに設定されている。 【0052】次いで載置部材54が、前出プロセスチャ
ンバ1a、1b、1c内の載置台(図示せず)、および
前出第2ロードロック室5内のバッファ21、22から
他の位置、例えば前出バッファ機構42に移動する場合
には、載置部材54は、第1アーム53に対して正転し
ながら移動するようになっており、当該回転によって例
えば図9に示したように、ラック71、72はそれぞれ
中央部へと移動して、前記グリップブロック81、82
の各プッシュピン81c、81d、82c、82dに対
する外方への押圧を解除する。これによって各グリップ
ブロック81、82は、対応するコイルスプリング8
3、84の付勢力によって相互に接近し、その結果LC
D用ガラス基板Pは、グリップブロック81、82によ
って押圧保持される。 【0053】そして載置部材54が、バッファ機構42
に達したときには、図10に示したように、前出図8の
状態とは、ラック71、72が点対称の位置にある。即
ち、ラック71がコイルスプリング84の付勢に抗し
て、グリップブロック82のプッシュピン82c、82
dを最大に外方へと押圧し、他方ラック72が、コイル
スプリング83の付勢に抗して、グリップブロック81
のプッシュピン81c、81dを最大に外方へと押圧
し、両グリップブロック81、82を離隔させてLCD
用ガラス基板Pをリリースする状態となっているのであ
る。 【0054】以上の構成にかかる載置部材54において
は、その本体55におけるグリップブロック82側に、
適宜数の開口85が形成され、重量の軽減が図られてい
る。そしてこの本体55には、被処理基板であるLCD
用ガラス基板Pを直接支持するための支持部材となるO
リングRが、R〜Rまで合計9カ所に装着されてい
る。具体的には、本体55の中心位置にOリングR
が、本体55の長手方向の距離の略1/4の長さ分、
端部から離れて位置であって、かつ短手方向両側端部周
縁にOリングR〜Rが、本体55の各角部に位置す
る突出部55a、55b、55c、55d上に、Oリン
グR〜Rが装着されている。 【0055】次に前出バッファ機構42の詳細について
説明すると、このバッファ機構42は前記回転台44の
他側端近傍に設けらており、図4に示されるように、L
CD用ガラス基板Pの3つの角部近傍が載置されて保持
される3つの載置部群91、92、93によって構成さ
れている。 【0056】各載置部群91、92、93はいずれも4
つの載置部による上下4段構成になっており、載置部群
91は適宜のスペーサ91sを介して上から順に等間隔
で同形同大の載置部91a、91b、91c、91dが
配置され、載置部群92も適宜のスペーサ92sを介し
て上から順に等間隔で同形同大の載置部92a、92
b、92c、92dが配置され、また載置部群93も適
宜のスペーサ93sを介して上から順に等間隔で載置部
93a、93b、93c、93dが配置され、これら各
載置部にLCD用ガラス基板Pを載置させることによ
り、最大で4枚のLCD用ガラス基板Pを独立して保持
させることが可能になっている。 【0057】以上のような構成により、例えば前記搬送
アーム41の載置部材54によって搬送されてきたLC
D用ガラス基板Pを前記バッファ機構42における任意
の載置部間に載置したり、あるいは逆に任意の載置部に
載置されているLCD用ガラス基板Pを、前記搬送アー
ム41の載置部材54によって取り出し、これを所定の
場所、即ち、各プロセスチャンバ1a、1b、1c内の
所定位置、並びに前記第2ロードロック室5のバッファ
21、22にまで搬送することが可能となっている。 【0058】本実施例にかかる処理装置1は以上のよう
に構成されており、その処理動作について説明すると、
まず未処理のLCD用ガラス基板Pを収納したカセット
9が、その出入口(オープン側)を既述の支持台8側に
向けてカセットインデクサ10のテーブル上の所定位置
にセットされると、既述のエレベーション機構10aに
よって当該カセット9が上昇し、次にその最上部、並び
に最上部から2番目に収納されているLCD用ガラス基
板P1、P2の2枚のLCD用ガラス基板がまず大気系搬
送アーム7によって取り出される。 【0059】その後大気系搬送アーム7は後退して90
゜回転してからスライドして前進し、開放されたゲート
バルブ6から、これらLCD用ガラス基板P1、P2を第
2ロードロック室5内のバッファ21、22に載置す
る。この後大気系搬送アーム7が後退して退避し、ゲー
トバルブ6が閉じられて、前記第2ロードロック室2内
は所定の減圧雰囲気、例えば10-1Torr程度まで真
空引きされる。 【0060】前記のように真空引きされた後、ポジショ
ナー31、32が上昇し、その後の対角線方向の移動に
よって、各ローラ31a、31b、32a、32bの押
圧によるLCD用ガラス基板P1、P2の位置合わせが実
施される。このように本実施例では、真空引きされた後
に基板の位置合わせが行われるので、真空引きした際に
発生する大気の流れにより、LCD用ガラス基板P1
2があおられて位置ズレしても、これを修正すること
が可能となっている。従って近年大型化しつつあるLC
D用ガラス基板に対しても、効果的にその位置ズレ防止
を図ることができる。 【0061】そして叙上のようにポジショナー31、3
2によってLCD用ガラス基板P1、P2の位置合わせ
が行われた時点、即ち各ローラ31a、31b、32
a、32bによってLCD用ガラス基板、Pが押
圧保持された時点で、レーザ発光装置36からレーザ光
が、対向するレーザ受光装置37に向けて発光される。
このときLCD用ガラス基板P、Pが所定の位置に
正しく位置合わせされていれば、図3に示したように、
当該レーザ光はローラ31aの貫通孔33を通過してレ
ーザ受光装置37によって受光される。したがってその
ことによってLCD用ガラス基板P、Pが所定位置
に位置合わせされたことが確認できる。 【0062】しかしながら何らかの事情で前記LCD用
ガラス基板P1、P2が所定位置からずれていた場合や存
在していなかった場合には、ローラ31aが所定位置で
停止しないためレーザ光はこのローラ31aによって遮
蔽される。その結果、レーザ受光装置37は当該レーザ
光を受光できず、そのことによって、LCD用ガラス基
板P1、P2が所定位置に存在しないことが確認できるの
である。 【0063】このようにしてLCD用ガラス基板P1
2に対して直接発光されないレーザ光によって、被処
理体であるLCD用ガラス基板の所定位置の有無が検出
されるので、例えばLCD用ガラス基板P1、P2の材質
が透明度の高いガラスであったりしても、その表面状態
等に左右されず、確実な検出が行われるものである。 【0064】前記したLCD用ガラス基板P1、P2が位
置合わせの確認がなされると、ゲートバルブ4が開放さ
れた後、これらLCD用ガラス基板P1、P2は搬送アー
ム41によって第1ロードロック室2内に搬入される。
この場合図3における下側に位置するLCD用ガラス基
板P2から取り出されて、当該LCD用ガラス基板P2
バッファ機構42における最上部の載置部91a、92
a、93a上に載置される。このように下側のLCD用
ガラス基板P2から取り出されることにより、上側のL
CD用ガラス基板P1の汚染が防止される。 【0065】前記搬送アーム41によって第2ロードロ
ック室5内にあるLCD用ガラス基板P1、P2を、搬送
アーム41上の載置部材54によってピックアップする
とき、第1アーム53、第2アーム52は図2に示した
ように直線状になっており、載置部材54におけるグリ
ップブロック81、82は、図8に示したように、リリ
ース状態になっている。そしてその状態でLCD用ガラ
ス基板P2をピックアップして、LCD用ガラス基板P2
が載置部材54の本体55上に載置される。 【0066】この場合、本体55上には、被処理基板で
あるLCD用ガラス基板P2を直接支持する支持部材と
して、LCD用ガラス基板P2の周辺部を支持するOリ
ングR6〜R9のみならず、その中央部を支持するOリン
グR1並びにOリングR2〜R5が配置されているから、
LCD用ガラス基板P2が大型のもの(例えば650mm
×650mm)であっても、従来と異なり、その自重によ
って中央部が撓んで本体55表面と直接接触することは
ない。 【0067】そしてそのようにしてLCD用ガラス基板
2をピックアップした後、第1アーム53、第2アー
ム52が回転しながら、載置部材54も第1アーム53
に対して正転しつつ、搬送アーム41は、第2ロードロ
ック室5から待避する。そのとき載置部材54が正転す
るので、それによって、ピニオン58と歯合しているラ
ック71、72はスライドして、各グリップブロック8
1、82の各プッシュピン81c、81d、82c、8
2dに対する外方への押圧を解除する。これによって各
グリップブロック81、82は、コイルスプリング8
3、84の付勢力によって相互に接近して、LCD用ガ
ラス基板P2は、グリップブロック81、82によって
押圧保持される。 【0068】従って、載置部材54上に載置されている
LCD用ガラス基板P2は、その対向する2つの側端面
が当該対向方向に押圧され、その結果LCD用ガラス基
板P2は保持される。なおその場合、基本的にはLCD
用ガラス基板P2は、前記したOリングR1〜R9との間
の摩擦力によって保持されているが、前記したように、
対向する2つの側端面がグリップブロック81、82に
よって押圧されるので、載置部材54によるLCD用ガ
ラス基板P2の保持安定性はさらに向上する。その結
果、搬送アーム41の起動時や停止時に、LCD用ガラ
ス基板P2に大きな力が加わっても、LCD用ガラス基
板P2が位置ズレしたり、もちろん落下することはな
い。従って、例えば従来よりも高速で搬送アーム41を
移動させることができ、その分スループットが向上す
る。 【0069】そして第1ロードロック室2内に移動した
載置部材54は、一旦バッファ機構42におけるおける
最上部の載置部91a、92a、93a上に、LCD用
ガラス基板P2を載置させるのであるが、その場合、載
置部材54におけるグリップブロック81、82は、載
置部材54がバッファ機構42の載置位置に達した時点
で図10の状態となっているので、そのまま載置部材5
4が下降することにより、LCD用ガラス基板P2は載
置部91a、92a、93a上に載置される。 【0070】一方、第2ロードロック室5内に残ってい
たLCD用ガラス基板P1も、前記と同様な手順で第1
ロードロック室2内に搬入され、その後ゲートバルブ4
が閉じられて第1ロードロック室2内は、例えば10-3
Torr程度まで減圧され、当該LCD用ガラス基板P
1はプロセスチャンバ1b内に搬送され、そこでエッチ
ング処理がなされる。またLCD用ガラス基板P2につ
いても、プロセスチャンバ1a内に搬送されて、そこで
エッチング処理がなされる。これらの搬送の際も、バッ
ファ機構42から、各プロセスチャンバ1a、1bに移
動する場合、図10〜図8に示したようにしてグリップ
ブロック81、82の押圧解除−押圧−押圧解除という
手順となり、搬送中は、グリップブロック81、82に
よってLCD用ガラス基板Pの保持のサポートがなされ
ているから、高速搬送が可能となっている。 【0071】第2ロードロック室5内にあったLCD用
ガラス基板P1、P2が叙上のようなプロセスに付されて
いる間、カセットインデクサ10のエレベーション機構
10aによってカセット9は次のステップ分上昇し、3
番目、4番目に収納されているLCD用ガラス基板
3、P4(これらLCD用ガラス基板P3、P4は具体的
に図示していない)の2枚の未処理のLCD用ガラス基
板が、大気系搬送アーム7によって取り出されて、第2
ロードロック室5内に搬入され、位置合わせ並びにその
検出が行われて第2ロードロック室5内のバッファ2
1、22にて待機している。 【0072】一方最初にプロセスチャンバ1a内に搬入
されてエッチング処理が完了したLCD用ガラス基板P
2は、一旦搬送アーム41によって取り出され、最下部
の載置部91d、92d、93dにて保持される。そし
てその代わりに次の未処理基板である前記LCD用ガラ
ス基板P4が前記プロセスチャンバ1a内に搬入されて
エッチング処理に付される。このようにエッチング処理
済みのLCD用ガラス基板P2をバッファ機構42にお
ける最下部に保持させることにより、未処理の前記LC
D用ガラス基板P4の汚染が防止される。 【0073】そして処理済みのLCD用ガラス基板P2
が、プロセスチャンバ1aからバッファ機構42へと搬
送される際は、図8〜図10に示したようにして、グリ
ップブロック81、82の押圧解除−押圧−押圧解除と
いう手順が踏まれる。この場合、処理直後で、LCD用
ガラス基板P2にたとえ熱による反り等があっても、グ
リップブロック81、82によってもLCD用ガラス基
板P2の保持がなされているので、確実な保持が得ら
れ、搬送中の安全が保証される。 【0074】その後前記エッチング処理済みのLCD用
ガラス基板P2は、次の処理工程であるアッシング処理
を施すため、プロセスチャンバ1c内に搬入される。次
いで残りの未処理基板であるLCD用ガラス基板P3
第1ロードロック室2内に搬入され、バッファ機構42
における最上部の載置部91a、92a、93a上に載
置され、空になった第2ロードロック室5内には次の処
理基板であるLCD用ガラス基板P5、P6が搬入されて
くる。 【0075】次にプロセスチャンバ1bにてエッチング
処理されたLCD用ガラス基板P1は、バッファ機構4
2における最下部の載置部91d、92d、93dにて
保持され、代わりに次の未処理基板である前記LCD用
ガラス基板P3が前記プロセスチャンバ1b内に搬入さ
れてエッチング処理に付される。 【0076】そしてプロセスチャンバ1cにおいてアッ
シング処理が完了したLCD用ガラス基板P2は、バッ
ファ機構51における2番目の載置部91b、92b、
93bにて保持され、その代わりに前記エッチング処理
されたLCD用ガラス基板P1がこのプロセスチャンバ
1c内に搬送されてアッシング処理に付される。その後
アッシング処理が完了したLCD用ガラス基板P1は、
バッファ機構51における3番目の載置部91c、92
c、93cにて保持される。 【0077】このようにバッファ機構42では、その最
上部の載置部91a、92a、93aがプロセスチャン
バ1a又は1bへと搬入する前の待機場所として機能
し、2番目の載置部91b、92b、93b、並びに3
番目の載置部91c、92c、93cが、プロセスチャ
ンバ1cにおいてアッシング処理が完了した基板の待機
場所として機能し、最下部の載置部91d、92d、9
3dが、プロセスチャンバ1a又は1bにてエッチング
処理された基板のアッシング処理前の待機場所として機
能している。 【0078】そして、その次に処理されるべき第2ロー
ドロック室5内のLCD用ガラス基板P5、P6について
は、まず下側のLCD用ガラス基板P6がバッファ機構
42の最上部の載置部91a、92a、93aに保持さ
れ、その代わりに最初にアッシング処理が完了してバッ
ファ機構42における2番目の載置部91b、92b、
93bにて保持されていたLCD用ガラス基板P2が、
第2ロードロック室5内に搬入され、前記LCD用ガラ
ス基板P6が最上部の載置部91a、92a、93aか
らプロセスチャンバ1a内に搬入された後、当該空いた
載置部91a、92a、93aに第2ロードロック室5
内のLCD用ガラス基板P5が載置され、またいままで
LCD用ガラス基板P5が保持されていた第2ロードロ
ック室5内上側のバッファに、残りのアッシング処理済
みのLCD用ガラス基板P1が搬送される。 【0079】このようにして第2ロードロック室5内の
バッファの上側にLCD用ガラス基板P1が位置し、下
側にLCD用ガラス基板P2が位置するので、最初の搬
入時と全く同一位置関係にて処理済みのLCD用ガラス
基板P1、P2が保持されることになる。これら処理済み
のLCD用ガラス基板P1、P2は、大気系搬送アーム7
によって第2ロードロック室5から搬出され、大気中に
あるカセット11内に収納される。この場合、前記の如
く第2ロードロック室5内のバッファの上側にLCD用
ガラス基板P1が位置し、下側にLCD用ガラス基板P2
が位置していたので、カセット11には、上から順にL
CD用ガラス基板P1、P2 のようにシリアルナンバ
ーの順に収納されていくことになる。そして前記のよう
にしてLCD用ガラス基板P1、P2が収納された後、カ
セット11はカセットインデクサ12によって次のステ
ップ分(LCD用ガラス基板2枚分)上昇して、次のL
CD用ガラス基板P3、P4の収納に備えて待機する。 【0080】以上のようにして例えば、カセット9に収
納されていた最後の2枚のLCD用ガラス基板P13、P
14の第2ロードロック室5内への搬入が完了した時点
で、このカセット9を次の未処理基板を収納したカセッ
トと交換し、次いでカセット11に処理済みのLCD用
ガラス基板P13、P14が収納された時点でこのカセット
11を次の処理済み収納カセットと交換すれば、極めて
効率よくLCD用ガラス基板の処理を行うことが可能で
ある。即ち従来のカセットチャンバ方式に較べると、迅
速にカセット交換ができ、その分スループットが向上す
る。 【0081】このように本実施例においては、被処理基
板であるLCD用ガラス基板の搬送にあたり、載置部材
54によってこれを確実に保持することができるので、
搬送スピードをあげても搬送中の安全が保証される。従
って、前記したバッファ機構42の作用とも相俟って、
極めて高いスループットを実現している。しかも前記実
施例においては、ピニオン58の方を第1アーム53に
対して固定し、ラック71、72を収納している載置部
材54の本体55の方の回転によって、ラック71、7
2を摺動させているので、構造上、前記本体55内が複
雑化せず、それに伴って重量も従来よりもさほど増加し
ない。 【0082】なお前記実施例におけるグリップブロック
81、82は、載置部材54の端部全部に渡る長さを有
していなかったが、載置部材54と同一サイズでさらに
大きい押圧力を得るには、例えば図11に示した載置部
材91が提案できる。なお図11中、図5で示した前記
載置部材54の部材と同一番号で引用される部材は、同
一の部材を示している。 【0083】この載置部材91における本体92は平面
略長方形の形態を有しており、その端部に設けられる、
グリップブロック93、94の方に本体92の長手方向
と直角に突出する突出部93a、93b、94a、94
bが設けられている。そして被処理基板であるLCD用
ガラス基板の周辺部を支持するOリングR6〜R9は、本
体92の端部に配置されている。 【0084】またこれらグリップブロック93、94を
本体92の中央方向へと付勢させるコイルスプリング9
5は、本体92の両側に設けた段部96、97、98、
99内に設置し、この各段部96、97、98、99の
中央部側端面と、各グリップブロック93、94の両側
との間に掛け渡されている。なお各グリップブロック9
3、94の押圧状態、押圧解除状態を実現するためのプ
ッシュピン93c、93dおよびプッシュピン94c、
94dの構成は、前出載置部材54におけるグリップブ
ロック81、82のプッシュピン81c、81d、82
c、82dと同一である。 【0085】以上の構成を有する載置部材91によって
も、前出載置部材54と同一の作用効果が得られ、LC
D用ガラス基板は、周辺部のみならず、中央部でもOリ
ングR1〜R5によって支持され、またグリップブロック
93、94の押圧によって素確実な保持が実現されてい
る。しかもこの載置部材91の場合、グリップブロック
93、94の押圧面93e、94eの長さが、前出載置
部材54におけるグリップブロック81、82のそれよ
りも長くなっており、その分LCD用ガラス基板の側端
面において長い範囲で押圧され、さらに安定した押圧保
持が得られている。 【0086】なお前記実施例では、プロセスチャンバ1
a、1bがエッチング処理、プロセスチャンバ1cがそ
の後のアッシグ処理を実施するように構成していたが、
これに限らず、例えば全てのプロセスチャンバ1a、1
b、1cがエッチング処理又はアッシグ処理を行うとい
うように、全て同一処理をように構成してもよく、ま
た、これら各プロセスチャンバ1a、1b、1cにおい
て連続する異なったシリアル処理を行うように構成して
もよい。これらのように構成した場合でも、極めて高い
スループットが実現できる。もちろんプロセスチャンバ
の数を2とした構成としてもよい。 【0087】 【発明の効果】本発明によれば、支持部材と被処理基板
との接触が不十分となったり、あるいは支持部材表面の
摩擦係数が低減しても、搬送中に被処理基板が位置ズレ
したりすることはなく、安全性がさらに向上する。しか
も搬送スピードを上げることができるので、スループッ
トの向上にも寄与する。さらにピニオンを回転させるた
めの独立した機構が不要であるから、載置部、第1アー
ムの構造を簡素、コンパクトにすることが可能であり、
また別途回転駆動系が不要であるから、その分汚染原因
の増加をもたらさない。 【0088】 【0089】
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の実施例にかかる処理装置の概略を示す
斜視図である。 【図2】本発明の実施例にかかる処理装置の概略を示す
平面図である。 【図3】図1の処理装置における第2ロードロック室内
の構成を示す斜視図である。 【図4】図1の処理装置における第1ロードロック室内
の搬送アーム及びバッファ機構の概観を示す斜視図であ
る。 【図5】図6の搬送アームにおける載置部材の概観を示
す斜視図である。 【図6】図6の搬送アームにおける載置部材と第1アー
ムとの回転関係を示す断面説明図である。 【図7】図5の載置部材におけるグリップブロックでL
CD用ガラス基板の端面を押圧している様子を示す断面
説明図である。 【図8】図5の載置部材が第2ロードロック室又はプロ
セスチャンバ内にあるときのグリップブロックのLCD
用ガラス基板のリリース状態を示す平面説明図である。 【図9】図5の載置部材が搬送中においてグリップブロ
ックでLCD用ガラス基板を押圧している状態を示す平
面説明図である。 【図10】図5の載置部材が第1ロードロック室内のバ
ッファ機構に位置しているときのグリップブロックのL
CD用ガラス基板のリリース状態を示す平面説明図であ
る。 【図11】載置部材の他の提案例を示す斜視図である。 【符号の説明】 1 処理装置 1a、1b、1c プロセスチャンバ 2 第1ロードロック室 5 第2ロードロック室 9、11 カセット 41 搬送アーム 53 第1アーム 54 載置部材 55 本体 58 ピニオン 71、72 ラック 81、82 グリップブロック 83、84 コイルスプリング R1〜R9 Oリング P LCD用ガラス基板
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−278862(JP,A) 特開 平6−247507(JP,A) 特開 平5−100199(JP,A) 特開 平5−100198(JP,A) 特開 平8−43807(JP,A) 特開 平7−29867(JP,A) 実開 平2−38740(JP,U) 実開 昭60−79742(JP,U) 実開 平7−12886(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B65G 49/06 - 49/07 H01L 21/68 G02F 1/13 - 1/13 102 G02F 1/13 505 G02F 1/137 - 1/137 500 B25J 15/00 - 15/12 H05K 13/00 - 13/04

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 減圧自在な真空処理室と、この真空処理
    室内へ矩形の被処理基板を搬送自在な搬送装置とを有
    し、前記真空処理室内に搬送された被処理基板に対して
    所定の処理を施す如く構成された処理装置において、 前記搬送装置は、被処理基板が載置される載置部を具備
    した搬送アームを有し、前記載置部の表面には複数の支
    持部材が設けられ、 被処理基板における対向する2つの側端面を当該対向方
    向に押圧自在な押圧部材を載置部有し, 前記押圧部材は、被処理基板における対向する2つの側
    端面の対向方向に摺動するラックの摺動によって接近離
    隔自在となるように構成されると共に、前記載置部は搬
    送アームにおける最上部の第1のアーム上に設けられ、
    適宜の回転駆動機構によって前記載置部は第1のアーム
    に対して回転自在となるように構成され、前記第1のア
    ームと一体となったピニオンが当該回転中心と同軸上に
    設けられ、前記ラックはこのピニオンと歯合しているこ
    とを特徴とする、処理装置。
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