JP2857097B2 - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空処理装置に係
わり、特に、大型かつ大重量の被処理物を適切に取り扱
うことができる真空処理装置に関する。
わり、特に、大型かつ大重量の被処理物を適切に取り扱
うことができる真空処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示用ガラス基板（ＬＣＤ基板）、
半導体製造用シリコンウエハ等の被処理物を真空下にお
いて処理する従来の真空処理装置は、パーティクル等に
よる被処理物の汚染を防止するために、処理室を大気か
ら常時隔離するようにしている。このように処理室を大
気から常時隔離するために、従来の真空処理装置は、処
理室とは別に、処理室に対して連通状態と隔離状態とを
切り替えることができるロードロック室を設けている。
また、このロードロック室は、真空状態と大気状態とを
切り替えることができる。なお、処理室においては、被
処理物の表面のエッチング処理や、スパッタリングによ
る成膜処理といった真空処理が行われる。
半導体製造用シリコンウエハ等の被処理物を真空下にお
いて処理する従来の真空処理装置は、パーティクル等に
よる被処理物の汚染を防止するために、処理室を大気か
ら常時隔離するようにしている。このように処理室を大
気から常時隔離するために、従来の真空処理装置は、処
理室とは別に、処理室に対して連通状態と隔離状態とを
切り替えることができるロードロック室を設けている。
また、このロードロック室は、真空状態と大気状態とを
切り替えることができる。なお、処理室においては、被
処理物の表面のエッチング処理や、スパッタリングによ
る成膜処理といった真空処理が行われる。
【０００３】さらに、従来の真空処理装置は、大気側と
ロードロック室、及びロードロック室と処理室の間にお
ける被処理物の搬送を、大気側ロボット及び真空側ロボ
ットによって行うようにしている。そして、大気側とロ
ードロック室との間の被処理物の搬送効率を高めるため
に、大気側ロボットは一度に二枚の被処理物を搬送する
ようになっている。
ロードロック室、及びロードロック室と処理室の間にお
ける被処理物の搬送を、大気側ロボット及び真空側ロボ
ットによって行うようにしている。そして、大気側とロ
ードロック室との間の被処理物の搬送効率を高めるため
に、大気側ロボットは一度に二枚の被処理物を搬送する
ようになっている。
【０００４】図８は従来の真空処理装置を示しており、
この真空処理装置は大気側カセット１を備えており、こ
の大気側カセット１は、複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗを載
置するための複数の大気側載置片２、２…２を有してい
る。これらの大気側載置片２、２…２は、上下方向に所
定のピッチＰで等間隔に配設されている。大気側カセッ
ト１の正面には、水平多関節型の大気側ロボット３が配
置されている。この大気側ロボット３は、回動可能かつ
上下動可能な大気側主軸４を備え、この大気側主軸４の
頂部には関節構造を有する大気側アーム５の基端が取り
付けられている。また、大気側アーム５の先端には、二
枚の被処理物Ｗを同時に載せて運ぶための上部大気側ハ
ンド６ａ及び下部大気側ハンド６ｂが取り付けられてい
る。ここで、上部大気側ハンド６ａと下部大気側ハンド
６ｂとの上下方向のピッチは、前記大気側載置片２、２
…２のピッチＰと同一に設定されている。
この真空処理装置は大気側カセット１を備えており、こ
の大気側カセット１は、複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗを載
置するための複数の大気側載置片２、２…２を有してい
る。これらの大気側載置片２、２…２は、上下方向に所
定のピッチＰで等間隔に配設されている。大気側カセッ
ト１の正面には、水平多関節型の大気側ロボット３が配
置されている。この大気側ロボット３は、回動可能かつ
上下動可能な大気側主軸４を備え、この大気側主軸４の
頂部には関節構造を有する大気側アーム５の基端が取り
付けられている。また、大気側アーム５の先端には、二
枚の被処理物Ｗを同時に載せて運ぶための上部大気側ハ
ンド６ａ及び下部大気側ハンド６ｂが取り付けられてい
る。ここで、上部大気側ハンド６ａと下部大気側ハンド
６ｂとの上下方向のピッチは、前記大気側載置片２、２
…２のピッチＰと同一に設定されている。
【０００５】さらに、従来の真空処理装置は、搬入用ゲ
ートバルブ７を有するロードロック室８を備えており、
上述した大気側ロボット３は前記搬入用ゲートバルブ７
の正面に配置されている。ロードロック室８の内部に
は、大気側ロボット３によって搬入された被処理物Ｗを
収納するための真空側カセット９が設けられている。こ
の真空側カセット９は、複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗを載
置するための複数の真空側載置片１０、１０…１０を備
えており、これらの真空側載置片１０、１０…１０は、
上下方向に所定のピッチで配設されている。ここで、真
空側載置片１０のピッチは、上述した大気側載置片２の
ピッチＰと同一に設定されている。
ートバルブ７を有するロードロック室８を備えており、
上述した大気側ロボット３は前記搬入用ゲートバルブ７
の正面に配置されている。ロードロック室８の内部に
は、大気側ロボット３によって搬入された被処理物Ｗを
収納するための真空側カセット９が設けられている。こ
の真空側カセット９は、複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗを載
置するための複数の真空側載置片１０、１０…１０を備
えており、これらの真空側載置片１０、１０…１０は、
上下方向に所定のピッチで配設されている。ここで、真
空側載置片１０のピッチは、上述した大気側載置片２の
ピッチＰと同一に設定されている。
【０００６】ロードロック室８の一側面には、第１隔離
用ゲートバルブ１１を介してトランスファー室１２が連
設されており、このトランスファー室１２の内部には、
水平多関節型の真空側ロボット１３が設けられている。
この真空側ロボット１３は、回動可能かつ上下動可能な
真空側主軸１４を備え、この真空側主軸１４の頂部には
関節構造を有する真空側アーム１５の基端が取り付けら
れている。また、真空側アーム１５の先端には、被処理
物Ｗを一枚ずつ載せて運ぶための真空側ハンド１６が取
り付けられている。
用ゲートバルブ１１を介してトランスファー室１２が連
設されており、このトランスファー室１２の内部には、
水平多関節型の真空側ロボット１３が設けられている。
この真空側ロボット１３は、回動可能かつ上下動可能な
真空側主軸１４を備え、この真空側主軸１４の頂部には
関節構造を有する真空側アーム１５の基端が取り付けら
れている。また、真空側アーム１５の先端には、被処理
物Ｗを一枚ずつ載せて運ぶための真空側ハンド１６が取
り付けられている。
【０００７】トランスファー室１２の一側面には、第２
隔離用ゲートバルブ１７を介して処理室１８が設けられ
ており、この処理室１８の内部には被処理物Ｗを載置す
るための載置台１９が設けられている。
隔離用ゲートバルブ１７を介して処理室１８が設けられ
ており、この処理室１８の内部には被処理物Ｗを載置す
るための載置台１９が設けられている。
【０００８】このような構成を備えた従来の真空処理装
置においては、まず、図９に示したように、大気側カセ
ット１内の二枚の被処理物Ｗ、Ｗを、上部及び下部大気
側ハンド６ａ、６ｂに同時に載せて一緒に取り出す。次
に、開放状態にある搬入用ゲートバルブ７を介して、二
枚の被処理物Ｗ、Ｗをロードロック室８の内部に搬入す
る。そして、図１０に示したように、上部及び下部大気
側ハンド６ａ、６ｂに載せられた二枚の被処理物Ｗ、Ｗ
を、真空側カセット９の一対の真空側載置片１０、１０
に同時に載せる。この動作を繰り返して大気側カセット
１内の複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗを真空側カセット９に
収納した後、搬入用ゲートバルブ７を閉鎖してロードロ
ック室８を真空排気する。ロードロック室８が真空状態
になったら、第１隔離用ゲートバルブ１１及び第２隔離
用ゲートバルブ１７を開放する。
置においては、まず、図９に示したように、大気側カセ
ット１内の二枚の被処理物Ｗ、Ｗを、上部及び下部大気
側ハンド６ａ、６ｂに同時に載せて一緒に取り出す。次
に、開放状態にある搬入用ゲートバルブ７を介して、二
枚の被処理物Ｗ、Ｗをロードロック室８の内部に搬入す
る。そして、図１０に示したように、上部及び下部大気
側ハンド６ａ、６ｂに載せられた二枚の被処理物Ｗ、Ｗ
を、真空側カセット９の一対の真空側載置片１０、１０
に同時に載せる。この動作を繰り返して大気側カセット
１内の複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗを真空側カセット９に
収納した後、搬入用ゲートバルブ７を閉鎖してロードロ
ック室８を真空排気する。ロードロック室８が真空状態
になったら、第１隔離用ゲートバルブ１１及び第２隔離
用ゲートバルブ１７を開放する。
【０００９】次に、開放状態の第１隔離用ゲートバルブ
１１を介して真空側ロボット１３の真空側アーム１５を
ロードロック室８内に差し入れ、真空側ハンド１６に一
枚の被処理物Ｗを載せて取り出す。次に、真空側ハンド
１６に載せられた被処理物Ｗを開放状態の第２隔離用ゲ
ートバルブ１７を介して処理室１８内に搬入し、載置台
１９の上に載せる。そして、第２隔離用ゲートバルブ１
７を閉鎖して処理室１８を隔離し、その後に被処理物Ｗ
の処理を開始する。
１１を介して真空側ロボット１３の真空側アーム１５を
ロードロック室８内に差し入れ、真空側ハンド１６に一
枚の被処理物Ｗを載せて取り出す。次に、真空側ハンド
１６に載せられた被処理物Ｗを開放状態の第２隔離用ゲ
ートバルブ１７を介して処理室１８内に搬入し、載置台
１９の上に載せる。そして、第２隔離用ゲートバルブ１
７を閉鎖して処理室１８を隔離し、その後に被処理物Ｗ
の処理を開始する。
【００１０】被処理物Ｗの処理が終了したら、第２隔離
用ゲートバルブ１７を開放し、真空側ロボット１３の真
空側ハンド１６に処理済みの被処理物Ｗを載せて処理室
１８から取り出す。そして、第１隔離用ゲートバルブ１
１を開放し、真空側ロボット１３の真空側主軸１４及び
真空側ハンド１５を操作して、処理済みの被処理物Ｗを
真空側カセット９に収納する。
用ゲートバルブ１７を開放し、真空側ロボット１３の真
空側ハンド１６に処理済みの被処理物Ｗを載せて処理室
１８から取り出す。そして、第１隔離用ゲートバルブ１
１を開放し、真空側ロボット１３の真空側主軸１４及び
真空側ハンド１５を操作して、処理済みの被処理物Ｗを
真空側カセット９に収納する。
【００１１】上記の動作を繰り返して真空側カセット９
内の複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗの処理をすべて終了した
ら、第１ゲートバルブ１１を閉鎖してロードロック室８
を隔離し、ロードロック室８内を大気圧とした後に搬入
用ゲートバルブ７を開放する。そして、大気側ロボット
３の上部及び下部大気側ハンド６ａ、６ｂによって、真
空側カセット９内の処理済みの被処理物Ｗを二枚ずつ同
時に取り出し、大気側カセット１に収納する。
内の複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗの処理をすべて終了した
ら、第１ゲートバルブ１１を閉鎖してロードロック室８
を隔離し、ロードロック室８内を大気圧とした後に搬入
用ゲートバルブ７を開放する。そして、大気側ロボット
３の上部及び下部大気側ハンド６ａ、６ｂによって、真
空側カセット９内の処理済みの被処理物Ｗを二枚ずつ同
時に取り出し、大気側カセット１に収納する。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の真空
処理装置においては、真空側アーム１５及び真空側ハン
ド１６を有する真空側ロボット１３が、上述したように
真空状態において使用されるものであるために、その製
造材料等の選択が極端に制限される。さらに、真空側ロ
ボット１３の製造材料等の選択においては、腐食性のエ
ッチングガスに耐え得る材料（耐腐食性材料）を選択す
る必要があり、しかも、被処理物Ｗに悪影響を与えるよ
うな不純物、例えば亜鉛（Ｚｎ）のような重金属を極力
含まない材料を選択する必要がある。このため、真空側
ロボット１３の製造材料として十分な剛性を備えた材料
を選択することができず、被処理物Ｗの重さや、真空側
アーム１５及び真空側ハンド１６の自重によって、真空
側アーム１５及び真空側ハンド１６が大きく撓んでしま
う。特に、近年、液晶表示用ガラス基板や半導体製造用
シリコンウエハ等の被処理物Ｗの大型化が進んおり、こ
の大型化によって被処理物Ｗが重量化している。このた
め、真空側アーム１５及び真空側ハンド１６の撓みがま
すます大きくなってしまう。
処理装置においては、真空側アーム１５及び真空側ハン
ド１６を有する真空側ロボット１３が、上述したように
真空状態において使用されるものであるために、その製
造材料等の選択が極端に制限される。さらに、真空側ロ
ボット１３の製造材料等の選択においては、腐食性のエ
ッチングガスに耐え得る材料（耐腐食性材料）を選択す
る必要があり、しかも、被処理物Ｗに悪影響を与えるよ
うな不純物、例えば亜鉛（Ｚｎ）のような重金属を極力
含まない材料を選択する必要がある。このため、真空側
ロボット１３の製造材料として十分な剛性を備えた材料
を選択することができず、被処理物Ｗの重さや、真空側
アーム１５及び真空側ハンド１６の自重によって、真空
側アーム１５及び真空側ハンド１６が大きく撓んでしま
う。特に、近年、液晶表示用ガラス基板や半導体製造用
シリコンウエハ等の被処理物Ｗの大型化が進んおり、こ
の大型化によって被処理物Ｗが重量化している。このた
め、真空側アーム１５及び真空側ハンド１６の撓みがま
すます大きくなってしまう。
【００１３】このように真空側アーム１５及び真空側ハ
ンド１６が大きく撓んでしまうと、真空側カセット９か
ら被処理物Ｗを取り出す際、或いは処理済みの被処理物
Ｗを真空側カセット９内に収納する際に、真空側ハンド
１６に載せた被処理物Ｗの位置制御、特に上下方向の位
置制御が極めて困難になる。このため、真空側カセット
９から被処理物Ｗを取り出したり、被処理物Ｗを真空側
カセット９の真空側載置片１０に載せるたりすることが
できなくなる。特に、大型の被処理物Ｗの場合、真空側
ハンド１６に載せた状態において、被処理物Ｗ自身がそ
の自重によって撓んでしまう。このように撓んだ被処理
物Ｗを真空側カセット９の真空側載置片１０に載せるた
めには、極めて精度の高い位置制御が必要となるが、従
来の真空処理装置の真空側ロボット１３では適切に対応
できなかった。さらに、大型の被処理物Ｗの場合、既に
真空側カセット９内に収納されている被処理物Ｗもその
自重によって撓んでいる。このため、収納済みの被処理
物Ｗの直上又は直下に他の被処理物Ｗを収納する際に
は、より一層正確な位置制御が必要となり、従来の真空
処理装置の真空側ロボット１３では対応できなかった。
ちなみに、大気側ロボット３は大気中で使用されるもの
であるので、その製造材料等の選択が自由であり、被処
理物Ｗの重さ等に十分に耐えうる材料によって製造する
ことができる。
ンド１６が大きく撓んでしまうと、真空側カセット９か
ら被処理物Ｗを取り出す際、或いは処理済みの被処理物
Ｗを真空側カセット９内に収納する際に、真空側ハンド
１６に載せた被処理物Ｗの位置制御、特に上下方向の位
置制御が極めて困難になる。このため、真空側カセット
９から被処理物Ｗを取り出したり、被処理物Ｗを真空側
カセット９の真空側載置片１０に載せるたりすることが
できなくなる。特に、大型の被処理物Ｗの場合、真空側
ハンド１６に載せた状態において、被処理物Ｗ自身がそ
の自重によって撓んでしまう。このように撓んだ被処理
物Ｗを真空側カセット９の真空側載置片１０に載せるた
めには、極めて精度の高い位置制御が必要となるが、従
来の真空処理装置の真空側ロボット１３では適切に対応
できなかった。さらに、大型の被処理物Ｗの場合、既に
真空側カセット９内に収納されている被処理物Ｗもその
自重によって撓んでいる。このため、収納済みの被処理
物Ｗの直上又は直下に他の被処理物Ｗを収納する際に
は、より一層正確な位置制御が必要となり、従来の真空
処理装置の真空側ロボット１３では対応できなかった。
ちなみに、大気側ロボット３は大気中で使用されるもの
であるので、その製造材料等の選択が自由であり、被処
理物Ｗの重さ等に十分に耐えうる材料によって製造する
ことができる。
【００１４】本発明は、上述した事情に鑑みてなされた
ものであり、大型かつ大重量の被処理物であっても適切
に取り扱うことができる真空処理装置を提供することを
目的とする。
ものであり、大型かつ大重量の被処理物であっても適切
に取り扱うことができる真空処理装置を提供することを
目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明による真空処理装
置は、被処理物を真空下において処理する処理室と、こ
の処理室に隔離可能に連設された真空排気可能なトラン
スファー室と、このトランスファー室に隔離可能に連設
された真空排気可能なロードロック室と、このロードロ
ック室に設けられた閉鎖可能な搬送口と、この搬送口の
傍らの大気側に設けられた大気側ロボットと、この大気
側ロボットに設けられた上部大気側ハンド及び下部大気
側ハンドと、前記大気側ロボットの傍らに設けられた大
気側カセットと、この大気側カセットに所定ピッチで配
設された複数の大気側載置片と、前記ロードロック室の
内部に設けられた真空側カセットと、この真空側カセッ
トに前記所定ピッチよりも大きなピッチで配設された複
数の真空側載置片と、前記トランスファー室の内部に設
けられた真空側ロボットと、を備え、前記大気側ロボッ
トは、前記大気側カセットから二枚同時に取り出した前
記被処理物を前記真空側カセットに収納する際に、前記
複数の真空側載置片のピッチよりも大きな距離だけ前記
上部大気側ハンド及び前記下部大気側ハンドを下降動作
させて、まず初めに前記上部大気側ハンドに載せられた
前記被処理物を前記真空側載置片に載置し、その後に前
記下部大気側ハンドに載せられた前記被処理物を他の前
記真空側載置片に載置するようにしたことを特徴とす
る。
置は、被処理物を真空下において処理する処理室と、こ
の処理室に隔離可能に連設された真空排気可能なトラン
スファー室と、このトランスファー室に隔離可能に連設
された真空排気可能なロードロック室と、このロードロ
ック室に設けられた閉鎖可能な搬送口と、この搬送口の
傍らの大気側に設けられた大気側ロボットと、この大気
側ロボットに設けられた上部大気側ハンド及び下部大気
側ハンドと、前記大気側ロボットの傍らに設けられた大
気側カセットと、この大気側カセットに所定ピッチで配
設された複数の大気側載置片と、前記ロードロック室の
内部に設けられた真空側カセットと、この真空側カセッ
トに前記所定ピッチよりも大きなピッチで配設された複
数の真空側載置片と、前記トランスファー室の内部に設
けられた真空側ロボットと、を備え、前記大気側ロボッ
トは、前記大気側カセットから二枚同時に取り出した前
記被処理物を前記真空側カセットに収納する際に、前記
複数の真空側載置片のピッチよりも大きな距離だけ前記
上部大気側ハンド及び前記下部大気側ハンドを下降動作
させて、まず初めに前記上部大気側ハンドに載せられた
前記被処理物を前記真空側載置片に載置し、その後に前
記下部大気側ハンドに載せられた前記被処理物を他の前
記真空側載置片に載置するようにしたことを特徴とす
る。
【００１６】
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明による真空処理装置
の実施形態について図１乃至図７を参照して説明する。
なお、図８乃至図１０に示した従来の真空処理装置と同
一部材には同一符号を付して説明する。
の実施形態について図１乃至図７を参照して説明する。
なお、図８乃至図１０に示した従来の真空処理装置と同
一部材には同一符号を付して説明する。
【００１８】図１は本実施形態による真空処理装置を示
しており、この真空処理装置は大気側カセット１を備え
ている。この大気側カセット１は、複数の被処理物Ｗ、
Ｗ…Ｗを載置するための複数の大気側載置片２、２…２
を有している。これらの大気側載置片２、２…２は、上
下方向に所定のピッチＰ1 で等間隔に配設されている。
しており、この真空処理装置は大気側カセット１を備え
ている。この大気側カセット１は、複数の被処理物Ｗ、
Ｗ…Ｗを載置するための複数の大気側載置片２、２…２
を有している。これらの大気側載置片２、２…２は、上
下方向に所定のピッチＰ1 で等間隔に配設されている。
【００１９】大気側カセット１の正面には、水平多関節
型の大気側ロボット３が配置されている。この大気側ロ
ボット３は、回動可能かつ上下動可能な大気側主軸４を
備え、この大気側主軸４の頂部には関節構造を有する大
気側アーム５の基端が取り付けられている。また、大気
側アーム５の先端には、二枚の被処理物Ｗを同時に載せ
て運ぶための上部大気側ハンド６ａ及び下部大気側ハン
ド６ｂが取り付けられている。ここで、上部大気側ハン
ド６ａと下部大気側ハンド６ｂとの上下方向のピッチ
は、前記大気側載置片２、２…２のピッチＰ1 と同一に
設定されている。
型の大気側ロボット３が配置されている。この大気側ロ
ボット３は、回動可能かつ上下動可能な大気側主軸４を
備え、この大気側主軸４の頂部には関節構造を有する大
気側アーム５の基端が取り付けられている。また、大気
側アーム５の先端には、二枚の被処理物Ｗを同時に載せ
て運ぶための上部大気側ハンド６ａ及び下部大気側ハン
ド６ｂが取り付けられている。ここで、上部大気側ハン
ド６ａと下部大気側ハンド６ｂとの上下方向のピッチ
は、前記大気側載置片２、２…２のピッチＰ1 と同一に
設定されている。
【００２０】さらに、本実施形態による真空処理装置
は、搬入用ゲートバルブ７を有するロードロック室８を
備えており、上述した大気側ロボット３は前記搬入用ゲ
ートバルブ７の正面に配置されている。ロードロック室
８の内部には、大気側ロボット３によって搬入された被
処理物Ｗを収納するための真空側カセット９が設けられ
ている。真空側カセット９は、複数の被処理物Ｗ、Ｗ…
Ｗを載置するための複数の真空側載置片１０、１０…１
０を備えており、これらの真空側載置片１０、１０…１
０は、上下方向に所定のピッチＰ2 で配設されている。
は、搬入用ゲートバルブ７を有するロードロック室８を
備えており、上述した大気側ロボット３は前記搬入用ゲ
ートバルブ７の正面に配置されている。ロードロック室
８の内部には、大気側ロボット３によって搬入された被
処理物Ｗを収納するための真空側カセット９が設けられ
ている。真空側カセット９は、複数の被処理物Ｗ、Ｗ…
Ｗを載置するための複数の真空側載置片１０、１０…１
０を備えており、これらの真空側載置片１０、１０…１
０は、上下方向に所定のピッチＰ2 で配設されている。
【００２１】そして、本実施形態においては、上述した
従来の真空処理装置とは異なり、真空側載置片１０のピ
ッチＰ2 を、大気側載置片２のピッチＰ1 よりも大きく
設定している（Ｐ1 ＜Ｐ2 ）。
従来の真空処理装置とは異なり、真空側載置片１０のピ
ッチＰ2 を、大気側載置片２のピッチＰ1 よりも大きく
設定している（Ｐ1 ＜Ｐ2 ）。
【００２２】ロードロック室８の一側面には、第１隔離
用ゲートバルブ１１を介してトランスファー室１２が連
設されており、このトランスファー室１２の内部には、
水平多関節型の真空側ロボット１３が設けられている。
この真空側ロボット１３は、回動可能かつ上下動可能な
真空側主軸１４を備え、この真空側主軸１４の頂部には
関節構造を有する真空側アーム１５の基端が取り付けら
れている。また、真空側アーム１５の先端には、被処理
物Ｗを一枚ずつ載せて運ぶための真空側ハンド１６が取
り付けられている。
用ゲートバルブ１１を介してトランスファー室１２が連
設されており、このトランスファー室１２の内部には、
水平多関節型の真空側ロボット１３が設けられている。
この真空側ロボット１３は、回動可能かつ上下動可能な
真空側主軸１４を備え、この真空側主軸１４の頂部には
関節構造を有する真空側アーム１５の基端が取り付けら
れている。また、真空側アーム１５の先端には、被処理
物Ｗを一枚ずつ載せて運ぶための真空側ハンド１６が取
り付けられている。
【００２３】トランスファー室１２の一側面には、第２
隔離用ゲートバルブ１７を介して処理室１８が設けられ
ており、この処理室１８の内部には被処理物Ｗを載置す
るための載置台１９が設けられている。なお、処理室１
８においては、被処理物Ｗの表面のエッチング処理や、
スパッタリングによる成膜処理といった真空処理が行わ
れる。
隔離用ゲートバルブ１７を介して処理室１８が設けられ
ており、この処理室１８の内部には被処理物Ｗを載置す
るための載置台１９が設けられている。なお、処理室１
８においては、被処理物Ｗの表面のエッチング処理や、
スパッタリングによる成膜処理といった真空処理が行わ
れる。
【００２４】次に、本実施形態による真空処理装置の作
用について説明する。まず、図２及び図３に示したよう
に、大気側カセット１内の二枚の被処理物Ｗ、Ｗを、上
部及び下部大気側ハンド６ａ、６ｂに同時に載せて一緒
に取り出す。次に、開放状態にある搬入用ゲートバルブ
７を介して、二枚の被処理物Ｗ、Ｗをロードロック室８
の内部に搬入する。次に、大気側主軸４の回動動作及び
大気側アーム５の伸張動作によって、上部及び下部大気
側ハンド６ａ、６ｂに載せられた二枚の被処理物Ｗ、Ｗ
をロードロック室８内に搬入する。そして、図４に示し
たように、二枚の被処理物Ｗ、Ｗの間隙に真空側カセッ
ト９の真空側載置片１０が位置するように位置制御す
る。
用について説明する。まず、図２及び図３に示したよう
に、大気側カセット１内の二枚の被処理物Ｗ、Ｗを、上
部及び下部大気側ハンド６ａ、６ｂに同時に載せて一緒
に取り出す。次に、開放状態にある搬入用ゲートバルブ
７を介して、二枚の被処理物Ｗ、Ｗをロードロック室８
の内部に搬入する。次に、大気側主軸４の回動動作及び
大気側アーム５の伸張動作によって、上部及び下部大気
側ハンド６ａ、６ｂに載せられた二枚の被処理物Ｗ、Ｗ
をロードロック室８内に搬入する。そして、図４に示し
たように、二枚の被処理物Ｗ、Ｗの間隙に真空側カセッ
ト９の真空側載置片１０が位置するように位置制御す
る。
【００２５】次に、大気側主軸４の下降動作によって、
上部及び下部大気側ハンド６ａ、６ｂを被処理物Ｗ、Ｗ
と共に降下させる。すると、図５に示したように、まず
最初に上部大気側ハンド６ａに載せられた被処理物Ｗが
真空側載置片１０の上に載置される。そして、大気側主
軸４の下降動作を継続させてさらに上部及び下部大気側
ハンド６ａ、６ｂを降下させる。すると、図６に示した
ように、下部大気側ハンド６ｂに載せられた被処理物Ｗ
が他の真空側載置片１０に載置される。そして、上部及
び下部大気側ハンド６ａ、６ｂをさらに降下させて図７
に示した状態とした後、大気側アーム５の収縮動作によ
って上部及び下部大気側ハンド６ａ、６ｂを退避させ
る。
上部及び下部大気側ハンド６ａ、６ｂを被処理物Ｗ、Ｗ
と共に降下させる。すると、図５に示したように、まず
最初に上部大気側ハンド６ａに載せられた被処理物Ｗが
真空側載置片１０の上に載置される。そして、大気側主
軸４の下降動作を継続させてさらに上部及び下部大気側
ハンド６ａ、６ｂを降下させる。すると、図６に示した
ように、下部大気側ハンド６ｂに載せられた被処理物Ｗ
が他の真空側載置片１０に載置される。そして、上部及
び下部大気側ハンド６ａ、６ｂをさらに降下させて図７
に示した状態とした後、大気側アーム５の収縮動作によ
って上部及び下部大気側ハンド６ａ、６ｂを退避させ
る。
【００２６】上述した動作を繰り返して大気側カセット
１内の複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗを真空側カセット９に
収納した後、搬入用ゲートバルブ７を閉鎖してロードロ
ック室８を真空排気する。ロードロック室８が真空状態
になったら、第１隔離用ゲートバルブ１１及び第２隔離
用ゲートバルブ１７を開放する。次に、開放状態の第１
隔離用ゲートバルブ１１を介して真空側ロボット１３の
真空側アーム１５をロードロック室８内に差し入れ、真
空側ハンド１６に一枚の被処理物Ｗを載せて取り出す。
１内の複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗを真空側カセット９に
収納した後、搬入用ゲートバルブ７を閉鎖してロードロ
ック室８を真空排気する。ロードロック室８が真空状態
になったら、第１隔離用ゲートバルブ１１及び第２隔離
用ゲートバルブ１７を開放する。次に、開放状態の第１
隔離用ゲートバルブ１１を介して真空側ロボット１３の
真空側アーム１５をロードロック室８内に差し入れ、真
空側ハンド１６に一枚の被処理物Ｗを載せて取り出す。
【００２７】ここで、真空側カセット９の複数の真空側
載置片１０、１０…１０のピッチＰ2 は、大気側カセッ
ト１の大気側載置片２、２…２のピッチＰ1 よりも大き
く設定されているので、被処理物Ｗを真空側カセット９
から取り出す際の位置制御については、さほど高い精度
は要求されない。したがって、被処理物Ｗが大型かつ大
重量であるために、真空側アーム１５及び真空側ハンド
１６が撓んでしまったり、或いは被処理物Ｗ自身がその
自重によって撓んでいたとしても、真空側カセット９か
ら被処理物Ｗを支障なく余裕を持って取り出すことが可
能であり、例えば取り出そうとする被処理物Ｗが、真空
側カセット９に収納されている他の被処理物Ｗに接触し
てしまうようなことがない。
載置片１０、１０…１０のピッチＰ2 は、大気側カセッ
ト１の大気側載置片２、２…２のピッチＰ1 よりも大き
く設定されているので、被処理物Ｗを真空側カセット９
から取り出す際の位置制御については、さほど高い精度
は要求されない。したがって、被処理物Ｗが大型かつ大
重量であるために、真空側アーム１５及び真空側ハンド
１６が撓んでしまったり、或いは被処理物Ｗ自身がその
自重によって撓んでいたとしても、真空側カセット９か
ら被処理物Ｗを支障なく余裕を持って取り出すことが可
能であり、例えば取り出そうとする被処理物Ｗが、真空
側カセット９に収納されている他の被処理物Ｗに接触し
てしまうようなことがない。
【００２８】次に、真空側ハンド１６に載せられた被処
理物Ｗを開放状態の第２隔離用ゲートバルブ１７を介し
て処理室１８内に搬入し、載置台１９の上に載せる。そ
して、第２隔離用ゲートバルブ１７を閉鎖して処理室１
８を隔離し、その後に被処理物Ｗの処理を開始する。
理物Ｗを開放状態の第２隔離用ゲートバルブ１７を介し
て処理室１８内に搬入し、載置台１９の上に載せる。そ
して、第２隔離用ゲートバルブ１７を閉鎖して処理室１
８を隔離し、その後に被処理物Ｗの処理を開始する。
【００２９】被処理物Ｗの処理が終了したら、第２隔離
用ゲートバルブ１７を開放し、真空側ロボット１３の真
空側ハンド１６に処理済みの被処理物Ｗを載せて処理室
１８から取り出す。そして、第１隔離用ゲートバルブ１
１を開放し、真空側ロボット１３の真空側主軸１４及び
真空側アーム１５を操作して、真空側ハンド１６に載せ
られた処理済みの被処理物Ｗを真空側カセット９の真空
側載置片１０の上に載置する。
用ゲートバルブ１７を開放し、真空側ロボット１３の真
空側ハンド１６に処理済みの被処理物Ｗを載せて処理室
１８から取り出す。そして、第１隔離用ゲートバルブ１
１を開放し、真空側ロボット１３の真空側主軸１４及び
真空側アーム１５を操作して、真空側ハンド１６に載せ
られた処理済みの被処理物Ｗを真空側カセット９の真空
側載置片１０の上に載置する。
【００３０】ここで、真空側カセット９の複数の真空側
載置片１０、１０…１０のピッチＰ2 は、大気側カセッ
ト１の大気側載置片２、２…２のピッチＰ1 よりも大き
く設定されているので、被処理物Ｗを真空側載置片１０
に載せる際の位置制御については、さほど高い精度は要
求されない。したがって、被処理物Ｗが大型かつ大重量
であるために、真空側アーム１５及び真空側ハンド１６
が撓んでいたり、或いは被処理物Ｗ自身がその自重によ
って撓んでいたとしても、真空側載置片１０の上に処理
済みの被処理物Ｗを余裕を持って支障なく載置すること
ができる。
載置片１０、１０…１０のピッチＰ2 は、大気側カセッ
ト１の大気側載置片２、２…２のピッチＰ1 よりも大き
く設定されているので、被処理物Ｗを真空側載置片１０
に載せる際の位置制御については、さほど高い精度は要
求されない。したがって、被処理物Ｗが大型かつ大重量
であるために、真空側アーム１５及び真空側ハンド１６
が撓んでいたり、或いは被処理物Ｗ自身がその自重によ
って撓んでいたとしても、真空側載置片１０の上に処理
済みの被処理物Ｗを余裕を持って支障なく載置すること
ができる。
【００３１】そして、上述した動作を繰り返して真空側
カセット９内の複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗの処理をすべ
て終了したら、第１ゲートバルブ１１を閉鎖してロード
ロック室８を隔離し、ロードロック室８内を大気圧とし
た後に搬入用ゲートバルブ７を開放する。そして、大気
側ロボット３の上部及び下部大気側ハンド６ａ、６ｂに
よって、真空側カセット９内の処理済みの被処理物Ｗを
二枚ずつ同時に取り出し、大気側カセット１に収納す
る。
カセット９内の複数の被処理物Ｗ、Ｗ…Ｗの処理をすべ
て終了したら、第１ゲートバルブ１１を閉鎖してロード
ロック室８を隔離し、ロードロック室８内を大気圧とし
た後に搬入用ゲートバルブ７を開放する。そして、大気
側ロボット３の上部及び下部大気側ハンド６ａ、６ｂに
よって、真空側カセット９内の処理済みの被処理物Ｗを
二枚ずつ同時に取り出し、大気側カセット１に収納す
る。
【００３２】以上述べたように本実施形態によれば、真
空側カセット９の複数の真空側載置片１０、１０…１０
のピッチＰ2 を、大気側カセット１の大気側載置片２、
２…２のピッチＰ1 よりも大きく設定したので、被処理
物Ｗが大型かつ大重量であっても、真空側ロボット１３
による真空側カセット９からの被処理物Ｗの取り出し、
或いは真空側ロボット１３による真空側カセット９への
被処理物Ｗの収納を、余裕を持って支障なく行うことが
できる。
空側カセット９の複数の真空側載置片１０、１０…１０
のピッチＰ2 を、大気側カセット１の大気側載置片２、
２…２のピッチＰ1 よりも大きく設定したので、被処理
物Ｗが大型かつ大重量であっても、真空側ロボット１３
による真空側カセット９からの被処理物Ｗの取り出し、
或いは真空側ロボット１３による真空側カセット９への
被処理物Ｗの収納を、余裕を持って支障なく行うことが
できる。
【００３３】また、大気側ロボット３によって真空側カ
セット９の内部に二枚の被処理物を収納する際には、上
部大気側ハンド６ａ及び下部大気側ハンド６ｂを、真空
側載置片１０のピッチＰ2 よりも大きな距離（ストロー
ク）だけ下降動作させることによって、二枚の被処理物
を真空側カセット９の内部に的確に収納することができ
る。
セット９の内部に二枚の被処理物を収納する際には、上
部大気側ハンド６ａ及び下部大気側ハンド６ｂを、真空
側載置片１０のピッチＰ2 よりも大きな距離（ストロー
ク）だけ下降動作させることによって、二枚の被処理物
を真空側カセット９の内部に的確に収納することができ
る。
【００３４】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、真空
側載置片のピッチを大気側載置片のピッチよりも大きく
したので、真空側ロボットによって、大型かつ大重量の
被処理物を適切に取り扱うことができる。
側載置片のピッチを大気側載置片のピッチよりも大きく
したので、真空側ロボットによって、大型かつ大重量の
被処理物を適切に取り扱うことができる。
【００３５】また、本発明によれば、大気側ロボットに
よって真空側カセットの内部に二枚の被処理物を収納す
る際には、上部大気側ハンド及び下部大気側ハンドを、
複数の真空側載置片のピッチよりも大きな距離だけ下降
動作させるようにしたので、二枚の被処理物を真空側カ
セットの内部に的確に収納することができる。
よって真空側カセットの内部に二枚の被処理物を収納す
る際には、上部大気側ハンド及び下部大気側ハンドを、
複数の真空側載置片のピッチよりも大きな距離だけ下降
動作させるようにしたので、二枚の被処理物を真空側カ
セットの内部に的確に収納することができる。
【図１】本発明の実施形態による真空処理装置の概略を
示した縦断面図。
示した縦断面図。
【図２】本発明の実施形態において、大気側カセットか
ら被処理物を取り出す状態を示した側面図。
ら被処理物を取り出す状態を示した側面図。
【図３】同平面図。
【図４】本発明の実施形態において、真空側カセットに
被処理物を収納する際の第１状態を示した側面図。
被処理物を収納する際の第１状態を示した側面図。
【図５】本発明の実施形態において、真空側カセットに
被処理物を収納する際の第２状態を示した側面図。
被処理物を収納する際の第２状態を示した側面図。
【図６】本発明の実施形態において、真空側カセットに
被処理物を収納する際の第３状態を示した側面図。
被処理物を収納する際の第３状態を示した側面図。
【図７】本発明の実施形態において、真空側カセットに
被処理物を収納する際の第４状態を示した側面図。
被処理物を収納する際の第４状態を示した側面図。
【図８】従来の真空処理装置の概略を示した縦断面図。
【図９】従来の真空処理装置において、大気側カセット
から被処理物を取り出す際の状態を示した側面図。
から被処理物を取り出す際の状態を示した側面図。
【図１０】従来の真空処理装置において、真空側カセッ
トに被処理物を収納する際の状態を示した側面図。
トに被処理物を収納する際の状態を示した側面図。
１ 大気側カセット ２ 大気側載置片 ３ 大気側ロボット ４ 大気側主軸 ５ 大気側アーム ６ａ 上部大気側ハンド ６ｂ 下部大気側ハンド ７ 搬入用ゲートバルブ ８ ロードロック室 ９ 真空側カセット １０ 真空側載置片 １１ 第１隔離用ゲートバルブ １２ トランスファー室 １３ 真空側ロボット １４ 真空側主軸 １５ 真空側アーム １６ 真空側ハンド １７ 第２隔離用ゲートバルブ １８ 処理室 １９ 載置台 Ｐ1 大気側載置片のピッチ Ｐ2 真空側載置片のピッチ Ｗ 被処理物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/68 B65G 49/07
Claims (1)
- 【請求項１】被処理物を真空下において処理する処理室
と、この処理室に隔離可能に連設された真空排気可能な
トランスファー室と、このトランスファー室に隔離可能
に連設された真空排気可能なロードロック室と、このロ
ードロック室に設けられた閉鎖可能な搬送口と、この搬
送口の傍らの大気側に設けられた大気側ロボットと、こ
の大気側ロボットに設けられた上部大気側ハンド及び下
部大気側ハンドと、前記大気側ロボットの傍らに設けら
れた大気側カセットと、この大気側カセットに所定ピッ
チで配設された複数の大気側載置片と、前記ロードロッ
ク室の内部に設けられた真空側カセットと、この真空側
カセットに前記所定ピッチよりも大きなピッチで配設さ
れた複数の真空側載置片と、前記トランスファー室の内
部に設けられた真空側ロボットと、を備え、 前記大気側ロボットは、前記大気側カセットから二枚同
時に取り出した前記被処理物を前記真空側カセットに収
納する際に、前記複数の真空側載置片のピッチよりも大
きな距離だけ前記上部大気側ハンド及び前記下部大気側
ハンドを下降動作させて、まず初めに前記上部大気側ハ
ンドに載せられた前記被処理物を前記真空側載置片に載
置し、その後に前記下部大気側ハンドに載せられた前記
被処理物を他の前記真空側載置片に載置するようにした
ことを特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7729796A JP2857097B2 (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7729796A JP2857097B2 (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | 真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09270450A JPH09270450A (ja) | 1997-10-14 |
| JP2857097B2 true JP2857097B2 (ja) | 1999-02-10 |
Family
ID=13629966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7729796A Expired - Fee Related JP2857097B2 (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2857097B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6481956B1 (en) * | 1995-10-27 | 2002-11-19 | Brooks Automation Inc. | Method of transferring substrates with two different substrate holding end effectors |
| US6257827B1 (en) * | 1997-12-01 | 2001-07-10 | Brooks Automation Inc. | Apparatus and method for transporting substrates |
| JP4727500B2 (ja) | 2006-05-25 | 2011-07-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置、基板処理システムおよび基板搬送方法 |
| JP2010126789A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Shibaura Mechatronics Corp | スパッタ成膜装置 |
| US9254566B2 (en) * | 2009-03-13 | 2016-02-09 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Robot having end effector and method of operating the same |
| JP2011077399A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の搬送方法及び被処理体処理装置 |
| JP5002050B2 (ja) * | 2010-11-29 | 2012-08-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システムおよび基板搬送方法 |
| JP6190645B2 (ja) * | 2013-07-09 | 2017-08-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送方法 |
-
1996
- 1996-03-29 JP JP7729796A patent/JP2857097B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09270450A (ja) | 1997-10-14 |
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Legal Events
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