JP3236724B2 - 真空処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体を製造するための真空処理装置の
中には、エッチング、成膜処理、アッシング、及びスパ
ッタリングなど種々の装置があり、また装置のタイプと
しても枚葉式及びバッチ式のものがある。この種の半導
体製造装置は、半導体の高集積化、高スル−プット化に
対応するため種々の工夫、改良がなされ、例えば枚葉式
の真空処理装置については、複数の真空処理室を共通の
搬送室に接続し、共通の入出力ポ−トから各真空処理室
に搬送する処置も知られている。

【０００３】図７はこのような装置を示す図であり、進
退自在及び回転自在な搬送ア−ム１０１を備えた搬送室
１０２に複数の真空処理室１０３及びカセット室１０４
を、搬送ア−ム１０１の回転中心に対して放射状に接続
して真空処理装置が構成され、被処理体、例えば半導体
ウエハ（以下ウエハという）を例えば２５枚収納したウ
エハカセット１００をカセット室１０４内に搬入し、こ
の中を減圧した後搬送ア−ム１０１によりウエハカセッ
ト１００内のウエハを順次真空処理室１０３内に搬送
し、例えば各真空処理室１０３内で並行してウエハの処
理を行うようにしている。

【０００４】このような装置では、真空処理室１０３と
ロ−ドロック室１０２とを１対１で接続する場合に比べ
て、複数の真空処理室１０３に対して搬送ア−ムを共通
化しているので構成上有利であり、また各真空処理室１
０３で異なる処理を行うように構成し、１枚のウエハに
ついて連続処理を行って、スル−プットの向上を図って
いた。また、図８に示すように、各真空処理室１０３等
を制御する制御装置１０５は例えば真空処理室１０３や
ロ−ドロック室１０２を載置する基台１０６内に配置さ
れており、制御装置１０５内には、装置全体を制御する
演算処理部、例えばＣＰＵ１０７と、このＣＰＵ１０７
を駆動するためのプログラムを記録した記録媒体、例え
ばＲＯＭ１０８によって基本部が構成されている。そし
て、ＲＯＭ１０８とＣＰＵ１０７は、デ−タバス及びア
ドレスバス等の信号線１０９にて接続されている。

【０００５】また、その装置は、カセット室１０４内に
カセット１０３を搬入又は搬出する搬入出口をクリ−ン
ル−ム内に配置されたパネル１１０に嵌合して設けられ
ており、クリ−ンル−ムの環境は、そのパネル１１０を
挟んで装置側１１１のクリ−ン度よりカセット室１０４
の搬入出口側１１２の方がクリ−ン度が高くなってお
り、一般に狭義で総称すると装置側１１１をメンテナン
スル−ム、搬入出口側１１２を作業側クリ−ンル−ムと
言われている。そして、パネル１１０には、その装置を
駆動するための制御盤として操作パネル１１３が設けら
れ、この操作パネル１１３は、信号線１１４を介してＣ
ＰＵ１０７と接続されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
装置では搬送ア−ムが直線に沿って進退する構成である
ため、各真空処理室及びカセット室を搬送ア−ムの回転
中心に対して放射状に配列しなければならないが、周方
向に配列される各室間にはスペ−スがあるといっても、
このスペ−スは現実にはデッドスペ−スであって、他の
装置を配置することはできず、従って装置全体の実際上
の占有空間は非常に広いものであり、高価なクリ−ンル
−ム内で使用することからすれば、搬送ア−ムの共通化
を図っている割にはスペ−ス的にはあまり大きなメリッ
トがなかった。

【０００７】また、ＣＰＵを駆動するプログラムを記録
する記録媒体が装置側に配置されているので、装置を駆
動するプログラムのバ−ジョンアップ，変更，機能追加
等に伴って、その記録媒体を交換する際、通常作業員は
作業側クリ−ンル−ム内にて作業しているので、メンテ
ナンスル−ム側に、一旦移動し、ＲＯＭを交換すること
になる。そのような、記録媒体の交換のため何度かクリ
−ンル−ムとメンテナンスル−ムを行き来すると、メン
テナンスル−ムのパ−ティクルがクリ−ンル−ム内に侵
入し、このパ−ティクルの侵入に伴って、クリ−ンル−
ム内に置かれている被処理体、例えば半導体ウエハの表
面に付着してしまい、被処理体の歩留りを低下させてし
まうという問題が生じていた。また、記録媒体の交換の
ため何度かクリ−ンル−ムとメンテナンスル−ムを行き
来しなくてはならないので、媒体交換作業の作業時間の
スル−プットの効率が悪かった。

【０００８】また、装置が大型化、複合化に伴って、装
置内のどの箇所で、現在被処理体がどういう処理を行な
われているのか、又は如何なる箇所に半導体ウエハが移
動しているのか等の表示がされておらず、例えば装置内
でトラブル、例えば搬送装置が暴走し、半導体ウエハを
破損した際、どこで破損したか分からないために、それ
ぞれの部屋を大気開放して、対処していた。このような
対処をすると、半導体ウエハが破損していない部屋まで
開けるので大気開放に係るメンテナンス時間のスル−プ
ットが低下してしまい、さらに処理室等に不要なクリ−
ンル−ム中のパ−ティクルが付着し、処理室内等の洗浄
する時期を伸ばすことができないという問題があった。

【０００９】本発明の目的は、真空処理室や容器載置室
の配置のレイアウトの自由度を向上させるとともに、装
置のメンテナンス効率を向上させる真空処理装置を提供
することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、気密
構造の搬送室と、この搬送室に搬出入口を介して気密に
接続された予備室と、前記搬送室に搬出入口を介して気
密に接続された複数の真空処理室と、前記搬送室内に設
けられると共に各々独立して水平方向に回動される少な
くとも３本のアームよりなる多関節型搬送アームを備
え、前記予備室及び真空処理室間で被処理体を搬送する
ための搬送手段と、前記搬送室と予備室との間の搬出入
口及び前記搬送室と真空処理室との間の搬出入口を夫々
開閉するゲートバルブと、前記搬送室、予備室、真空処
理室、搬送アーム及びゲートバルブを含む平面的なレイ
アウトが表示され、搬送アームが被処理体を保持してい
るかまたはいかなる位置に移動中であるかの情報をリア
ルタイムで表示するために搬送アームが実際に移動して
いれば搬送アームの表示もその移動に伴って変化し、ゲ
ートバルブの開閉状態に応じてゲートバルブの表示が変
化するように構成された表示装置と、を備えたことを特
徴とする。

【００１１】表示装置は、各真空処理室にてどのレシピ
のいかなるステップで処理中であるかを表示することが
好ましい。例えば前記複数の真空処理室には、少なくと
もプラズマを生起させ、磁場を作用して前記被処理体を
エッチング処理する処理室を含む。

【００１２】

【作用】本発明によれば、搬送ア−ムによる被処理体の
搬送経路をア−ムのストロ−ク範囲であれば自由に選択
できる。従って真空処理室の搬出入口や予備真空室例え
ば容器載置室の搬出入口の向きと搬送ア−ムとの位置関
係の自由度が大きいので、例えば搬送室の一辺に沿って
真空処理室の搬出入口を横に並べることもでき、スペ−
ス効率を高めることができる。そして表示装置の画面に
被処理体の移動の様子がリアルタイムで表示されるの
で、例えば装置内でトラブル、例えば搬送装置が暴走
し、半導体ウエハを破損した際、明確に作業員が確認す
ることができ、処理の確認の明確化の向上及びトラブル
等に対するメンテナンス時間のスル−プットを向上する
ことができる。

【００１３】

【実施例】図１及び図２は、夫々本発明の実施例の全体
構成を示す一部破断斜視図及び平面図である。図中２は
搬送室であり、この搬送室２は、直方体形状に形成され
た気密構造のチャンバよりなる。この搬送室２には、一
方の長辺に沿って設けられた、被処理体、例えばウエハ
Ｗを搬入出する２個の搬出入口３１、３１が側壁に形成
されており、ウエハカセットＣが載置される気密構造の
２個のカセット室３Ａ、３Ｂが夫々前記搬出入口３１、
３１を介して搬送室２に気密に接続されている。

【００１４】前記ウエハカセット（以下単にカセットと
いう。）Ｃは、２５枚のウエハＷを収納する容器であ
り、カセット室３Ａ、３Ｂは、この実施例では容器載置
部に相当する。カセット室３Ａ、３Ｂの上部には、カセ
ットＣを取り入れ、取り出しできるように前後に開閉自
在な蓋部３２が形成されると共に、内部には図３に示す
ように、カセットＣを間欠的に昇降させるための昇降機
構３３が設けられ、また底部には排気管３４が接続され
ている。この排気管３４はバルブＶ１を介して真空ポン
プ３４ａ例えばドライポンプに接続されている。

【００１５】更に前記搬送室２には、他方の長辺に沿っ
て２個のウエハの搬出入口４１、４１が側壁に形成され
ており、これら搬出入口４１、４１を介して２個の真空
処理室、例えばマグネットを用いたプラズマエッチング
を行うための真空処理室４Ａ、４Ｂが搬送室２に気密に
接続されている。またこの例では、搬送室２の短辺側に
も真空処理室４Ｃが搬出入口４１を介して気密に接続さ
れている。なおカセット室３Ａ、３Ｂの各搬出入口３
１、及び真空処理室４Ａ〜４Ｃの各搬出入口には、ゲ−
トバルブＧ（符号共通）が設けられている。

【００１６】前記真空処理室４Ａ（４Ｂ、４Ｃ）には、
図３に示すようにサセプタを兼用する下部電極４２、上
部電極４３が設けられると共に処理ガス供給管４４及び
排気管４５が接続されている。上部電極４３の上方に
は、マグネット収納用の磁場漏洩防止用の筐体４６が真
空処理室とは分割されて設けられており、この中には真
空処理室４Ａ（４Ｂ、４Ｃ）内に磁場を形成するマグネ
ット４７及びこのマグネット４７の上方に磁場極性が互
いに反するように設けられた、前記マグネット４７から
の磁場、特に上方及び側方に磁場の漏洩を防止するため
の磁場漏洩防止用のマグネット４８とがモ−タ４９で同
期して回転されるように配設されている。前記搬送室２
内には、前記カセット室３Ａ、３Ｂ及び真空処理室４Ａ
〜４Ｃ間でウエハＷを搬送するための搬送手段５が設け
られている。前記搬送手段５は、各々独立して水平方向
に回動される３本のアーム５１、５２、５３を備えた多
関節型アームよりなり、下段のアーム５１は、図３に示
すように搬送室の下部に設けられた駆動部６によって回
転可能にされており、この駆動部６は、気密構造の円筒
状のケ−ス部６５が取り付けられ、ケ−ス部６５内の空
間は大気側と気密に区画されている。

【００１７】そして、前記ケ−ス部６５には、排気管３
６が接続され、この排気管３６は、バルブＶ２を介して
前記真空ポンプ３５例えばタ−ボ分子ポンプに接続され
ている。従ってバルブＶ２を開くと、ケ−ス部６５の内
部空間が真空排気され、前記搬送室２内も駆動部６の軸
受け部（図示せず）を介して排気されるように構成さ
れ、前記３本のア−ム５１〜５３の軸受け部等で発生し
たパ−ティクルがケ−ス部６５の内部空間を介して排気
管３６内に排出されるように構成されている。また、前
記駆動部６は、前記３本のア−ム５１〜５３に対応して
３個の駆動モ−タ（図示せず）を備えており、駆動部６
の駆動により上段及び中段のア−ム５２、５３が独立し
て駆動されるように構成されている。

【００１８】また、前記上段のア−ム５３のウエハ保持
部には、例えばウエハを安定して保持できる３個所の位
置に、摩擦によりパ−ティクルの発生しにくい材質例え
ばフッ素樹脂よりなる突起部５５が設けられており、こ
のように構成すればウエハをア−ム５３に保持したとき
にウエハの位置ずれを防止でき、ウエハ自身のダメ−ジ
もない。

【００１９】前記搬送室２には排気管２１が接続されて
おり、この排気管２１はバルブＶ３を介して前記真空ポ
ンプ３５に接続されている。また前記搬送室２内には、
ウエハＷを一時的に載置するための昇降自在なバッファ
ステ−ジ２２と、ウエハのオリエンテ−ションフラット
（以下「オリフラ」という。）の向き及び中心位置を合
わせるための位置合わせ機構７とが配置されている（図
１及び図２参照）。この位置合わせ機構７は、Ｘ、Ｙ、
Ｚ及びθ方向に移動可能な回転ステ−ジ７１、及びウエ
ハの周縁部を光学的に検出する発受光部７２などを備え
ている。

【００２０】また前記搬送室２内には、図１及び図２に
示すように不活性ガス例えば窒素ガスを供給するための
不活性ガス供給管２３が前記下段のア−ム５１の回動中
心付近の上方位置まで延び出して配管されており、この
不活性ガス供給管２３の先端部には、例えば焼結金属よ
りなる不活性ガス供給部２４が形成されており、前記不
活性ガス供給管２３の基端側は例えば窒素ガス供給源２
５に接続されている。そして、前記搬送室２，真空処理
室４Ａ〜４Ｃ及びカセット室３Ａ，３Ｂ等の室は、図４
に示す、筐体８０に覆われており、この筐体８０はクリ
−ンル−ム内に配置されている。そして、この筐体８０
の殆どは、装置の保守を行なうためのクリ−ン度の低い
メンテナンスル−ムに配置されており、このメンテナン
スル−ムとクリ−ンル−ムの最もクリ−ン度の高い側、
つまり、作業者が処理すべきウエハＷを配置する側とし
ての作業用クリ−ンル−ムとは、パネル８１で仕切られ
ている。そして、その作業用クリ−ンル−ム側の筐体８
０面側には、前記カセット室３Ａ，３Ｂにカセットを搬
入出するための蓋部３２が配置するようにされている、
そしてその蓋部３２を覆って、メンテナンスル−ムと作
業用クリ−ンル−ムとを遮断するための板体、例えばア
クリル板８２が筐体８０に脱着可能に設けられている。
また、このアクリル板８２の側方には、装置を駆動する
ための制御盤として操作パネル８３が設けられており、
この操作パネル８３には、装置状態を表示するための表
示装置、例えば液晶ディスプレイ８４，処理条件等を入
力するためのキ−ボ−ド８５，記録媒体、例えばＩＣカ
−ドを挿入するための読込媒体器としての記録媒体挿入
部８６とが設けられている。また、操作パネル８３の下
方には、緊急時に装置を停止するためのＥＭＧ（エマ−
ジェンシ−）スイッチ８７が設けられている。

【００２１】前記記録媒体挿入部８６は、図５に示すよ
うに、制御盤としての操作パネル８３には、ＩＣカ−ド
９０の記録素子、例えばＲＯＭ９１に記憶されている装
置の制御プログラムを読込む読込媒体器本体９２の記憶
媒体挿入部としてのＩＣカ−ド挿入部８６が設けてあ
り、その読込媒体器本体９２は、前記操作パネル８３に
読込媒体器本体９２の取り付け金具９３をネジ９４で締
めつけて取り付けられている。そして、ＩＣカ−ド９０
の制御プログラムは、一旦読込媒体器本体９２を経由
し、ＣＰＵ９７に制御されたＥＥＰＲＯＭ９８に接続ケ
−ブル９６を介して読み込まれる。

【００２２】更に、ＣＰＵ９７がこのＥＥＰＲＯＭに読
み込まれた制御プログラムに依り、装置全体の制御を行
なう。

【００２３】次に上述実施例の作用について述べる。先
ずゲ−トバルブＧを閉じて搬送室２及び真空処理室４Ａ
〜４Ｃ内を夫々真空排気する。搬送室２内の真空排気初
期時（粗引き時）には、バルブＶ２を開いて真空ポンプ
３５により排気管３６を介してケ−ス部６５内を真空排
気すると共に、不活性ガス供給管２３より不活性ガス供
給部２４を介して不活性ガス例えば窒素ガスを搬送室２
内に供給する。これにより搬送室２内の気体が排気管２
１からの経路に加えて、回転軸６１の軸受け部→ケ−ス
部６５→排気管３６の経路で排気される。そして搬送室
２内がある程度減圧された後バルブＶ２を閉じ、その後
は排気管２１を通じて例えば５０〜９００ｍＴｏｒｒの
真空度まで減圧する。

【００２４】一方作業クリ−ンル−ム側からカセット室
３Ａ、３Ｂの蓋３２を開き、被処理体であるウエハＷを
２５枚収納した容器としてのカセットＣをウエハＷが水
平になる姿勢で例えば一方のカセット室３Ａ（搬入用カ
セット室３Ａ）内の昇降機構３３上に例えばオペレ−タ
（作業員又はＡＧＶ等のロボット）により載置すると共
に、他方のカセット室３Ｂ（搬出用カセット室３Ｂ）内
に空のカセットＣを載置し、蓋３２を閉じてカセット室
３Ａ、３Ｂ内を搬送室２内と同じ程度の真空度まで真空
排気した後、カセット室３Ａ、３Ｂのゲ−トバルブＧを
開く。次いで搬送手段５のア−ム５１が搬出入口３１を
介してカセット室３ＡのカセットＣ内に進入し、ウエハ
Ｗを受け取る。この場合、昇降機構３３を間欠的に降下
させてカセットＣから１枚づつウエハＷから搬出され、
ウエハＷは、ア−ム５３の先端部の保持部の３つの突起
部５４により保持される。

【００２５】次に、ア−ム５３はカセットＣから受け取
ったウエハＷを位置合わせ機構７の回転ステ−ジ７１上
に載置して、例えば発受光部７２によりウエハＷの周縁
を検出し、その結果にもとづき回転ステ−ジ７１を動か
してウエハＷのオリフラの向き及び中心の位置合わせを
行う。続いてこのウエハＷを搬送手段５により搬出入口
４１を介して例えば真空処理室４Ａ内に搬入する。真空
処理室４Ａ内では、サセプタ４２に組み合わされた図示
しない昇降ピンの昇降動作を介してウエハＷがサセプタ
４２上に載置され、サセプタ４２及び上部電極４３間の
高周波電力とマグネット４７の磁場とのエネルギ−によ
り得られたプラズマによってエッチングされる。

【００２６】カセットＣ内のウエハＷは、上述のような
搬送工程により例えば各真空処理室３Ａ〜３Ｃに分配さ
れ、並行して真空処理、例えばプラズマエッチングが行
われる。処理済みのウエハＷは搬送手段５により例えば
他方のカセット室３ＢのカセットＣ内に受け渡される
が、次に処理されるべきウエハＷは、真空処理室３Ａ〜
３Ｃで処理が行われている間に位置合わせを行ってバッ
ファステ−ジ２２上で待機している。

【００２７】そして搬送手段５が駆動されている間はバ
ルブＶ２を開いてケ−ス部６５内を真空排気して既述の
ように軸受け部より吸引すると共に不活性ガス供給部２
４より例えば窒素ガスを搬送室２内に供給する。この不
活性ガス供給部２４は搬送手段５の回転軸６１の上方付
近にあるため、前記窒素ガスは主として軸受け部より既
述の経路でケ−ス部６５内に流れ込む。

【００２８】また、前述の装置のステ−タス情報は、図
６に示すように、表示装置８４に表示されており、搬送
装置５のア−ム５１，５２，５３の情報は、図中の２０
０で示すように表示されている。さらに、そのア−ム５
１，５２，５３でウエハＷを保持しているか、或いはウ
エハＷをいかなる位置に移動中であるか等の情報をリア
ルタイムで表示している。つまり、ア−ム５１，５２，
５３が実際に移動していれば、ア−ムの表示２００もそ
の移動に伴って、表示も変化する。

【００２９】また、それぞれの室間に配置したゲ−トバ
ルブＧの開閉状態も図中の２０１（開放状態）及び２０
２（閉じた状態）等も表示される。さらに、処理室４Ａ
〜４Ｃのマグネット４７（図中の２０３）の回転も図中
２０４のマ−カ−で回転中或いは停止しているのかを明
確に判断できるよう表示されている。さらに、それぞれ
の処理室４Ａ〜４ＣでウエハＷをどのレシピ−のいかな
るステップで処理中であるかも表示（図中２０５）され
ている。これによって、作業側クリ−ンル−ムにいるオ
ペレ−タは、メンテナンスル−ムに行かなくても、一目
で装置の処理状態を明確に確認できることになる。

【００３０】また、前述の装置を駆動するプログラムの
バ−ジョンアップ，変更，機能追加等に伴って、そのプ
ログラムの交換は、作業員が作業側クリ−ンル−ム内か
ら図５に示すように、ＩＣカ−ド９０を読込媒体本体９
２の記録媒体挿入部８６に差し込んで、その後、装置を
リセット、例えばＣＰＵ９７をリセットしたり、電源リ
セットし、差し込んだＩＣカ−ド９０のプログラムによ
って、ＣＰＵ９７を駆動することによって、プログラム
の変更を行なう。

【００３１】上述の実施例によれば、搬送室２内に、各
々独立して水平に移動自在な３本のアーム５１〜５３よ
りなる多関節型搬送アームよりなる搬送手段５を設けて
いるため、搬送手段５の水平姿勢のとり得る自由度が大
きく、ア−ム５１〜５３によるウエハの搬送経路をア−
ムのストロ−ク範囲内であれば自由に選択できる。従っ
て真空処理室４Ａ〜４Ｃの夫々の搬出入口４１及びカセ
ット室３Ａ、３Ｂの夫々の搬出入口３１の向きと搬送手
段５との位置関係の自由度が大きいので、搬送室２を直
方体形状に形成し、その一辺に沿って真空処理室４Ａ、
４Ｂの搬出入口４１、４１を並べると共に、カセット室
３Ａ、３Ｂの搬出入口３１、３１を並べることができ
る。このことは換言すれば、搬送室２の形状、真空処理
室４Ａ〜４Ｃ及びカセット室３Ａ、３Ｂの配置のレイア
ウトの自由度が大きいことであり、四角形の搬送室２の
周りに上述のように真空処理室４Ａ〜４Ｃ及びカセット
室３Ａ、３Ｂを配置することにより、搬送手段の回転中
心に対して放射状に真空処理室やカセット室を放射状に
並べていた場合に比べて、装置の配置スペ−スが狭くて
済み、複数の真空処理室を組み合わせた装置を高価なク
リ−ンル−ム内に設置するにあたって非常に有効であ
る。更に各室の配置のレイアウトの自由度が大きいこと
から搬送距離を短くすることもできるため、スル−プッ
トの向上が図れるまた、前述の装置を駆動するプログラ
ムのバ−ジョンアップ，変更，機能追加等に伴うプログ
ラムの交換は、作業員が作業側クリ−ンル−ム内からＩ
Ｃカ−ドを読込媒体本体９２の記録媒体挿入部８６に差
し込んで、その後、装置をリセット、例えばＣＰＵ９７
をリセットしたり、電源リセットし、差し込んだＩＣカ
−ド９０のプログラムによって、ＣＰＵ９７を駆動する
ことによって、プログラムの変更を行なうことができる
ので、作業員はメンテナンスル−ム側に、いちいち移動
しなくてもよいので、クリ−ンル−ムとメンテナンスル
−ムを行き来する際の、メンテナンスル−ムからのパ−
ティクルがクリ−ンル−ム内に侵入するのを抑制でき
る。そして、このパ−ティクルの侵入を抑制することが
できるので、パ−ティクルがクリ−ンル−ム内に置かれ
ている被処理体、例えば半導体ウエハの表面に付着する
のを抑制することができる。また、媒体交換作業の作業
時間のスル−プットの効率も向上することができる。

【００３２】また、装置が大型化、複合化しても、装置
内のどの箇所で、現在被処理体がどういう処理を行なわ
れているのか、又は如何なる箇所に半導体ウエハＷが移
動しているのか等の表示が、図６に示す、表示装置８４
の画面にリアルタイムで表示されるので、例えば装置内
でトラブル、例えば搬送装置が暴走し、半導体ウエハを
破損した際、明確に作業員が確認することができるの
で、処理の確認の明確化の向上及びトラブル等に対する
メンテナンス時間のスル−プットを向上することができ
る。

【００３３】以上において上述の実施例ではカセット室
３Ａ、３Ｂが請求項１の発明の予備真空室に相当するも
のであるが、この予備真空室としてはカセット室に限ら
ず、１枚だけのウエハを載置するためのロ−ドロック室
や、搬送手段を備えた別の搬送室であってもよい。そし
て真空処理室としてはマグネットを用いたエッチングを
行う処理室に限らず、プラズマＣＶＤ、熱ＣＶＤ、アッ
シング、スパッタリングなどを行う真空処理室であって
もよいし、各真空処理室にて別々の真空処理を行うよう
にしてもよい。なお被処理体としてはウエハに限らずＬ
ＣＤ基板などであってもよい。また、ＩＣカ−ドの制御
プログラムを、ＥＥＰＲＯＭに一旦読み込んだが、直
接、演算処理部としてのＣＰＵに接続してもよいことは
言うまでもない。

【００３４】

【発明の効果】本発明によれば、真空処理室の搬出入口
や予備真空室例えば容器載置室の搬出入口の向きと搬送
ア−ムとの位置関係の自由度が大きいので、例えば搬送
室の一辺に沿って真空処理室の搬出入口を横に並べるこ
ともでき、クリ−ンル−ム内でのスペ−ス効率を高める
ことができ、被処理体の生産効率を向上することができ
る。そして表示装置の画面に被処理体の移動の様子がリ
アルタイムで表示されるので、例えば装置内でトラブ
ル、例えば搬送装置が暴走し、半導体ウエハを破損した
際、明確に作業員が確認することができ、処理の確認の
明確化の向上及びトラブル等に対するメンテナンス時間
のスル−プットを向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の全体構成を示す一部破断斜視
図である。

【図２】図１の全体構成を示す平面図である。

【図３】図１の全体構成を示す断面図である。

【図４】図１の作業用クリ−ンル−ムからみた装置の正
面図である。

【図５】図１の制御盤の部分破断斜視図である。

【図６】図１の表示装置の表示画面を説明する図であ
る。

【図７】従来の真空処理装置を示す平面図である。

【図８】従来の真空処理装置を示す断面図である。

【符号の説明】

Ｗ 半導体ウエハ（被処理体） ２ 搬送室 ２４ 不活性ガス供給部 ３Ａ、３Ｂ カセット室 ３１、４１ 搬出入口 ３５ 真空ポンプ ４Ａ〜４Ｃ 真空処理室 ５ 搬送手段 ５１〜５３ ア−ム ６ 駆動部 ６５ ケ−ス部 ８０ 筐体 ８３ 操作パネル（制御盤） ８４ 表示装置 ９０ ＩＣカ−ド ９２ 読込媒体器 ９７ ＣＰＵ（演算処理部） ９８ ＥＥＰＲＯＭ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−304112（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−239611（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−5021（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−35848（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−139722（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−111430（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/02 H01L 21/302 H01L 21/68

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 気密構造の搬送室と、 この搬送室に搬出入口を介して気密に接続された予備室
   と、 前記搬送室に搬出入口を介して気密に接続された複数の
   真空処理室と、 前記搬送室内に設けられると共に各々独立して水平方向
   に回動される少なくとも３本のアームよりなる多関節型
   搬送アームを備え、前記予備室及び真空処理室間で被処
   理体を搬送するための搬送手段と、前記搬送室と予備室との間の搬出入口及び前記搬送室と
   真空処理室との間の搬出入口を夫々開閉するゲートバル
   ブと、 前記搬送室、予備室、真空処理室、搬送アーム及びゲー
   トバルブを含む平面的なレイアウトが表示され、搬送ア
   ームが被処理体を保持しているかまたはいかなる位置に
   移動中であるかの情報をリアルタイムで表示するために
   搬送アームが実際に移動していれば搬送アームの表示も
   その移動に伴って変化し、ゲートバルブの開閉状態に応
   じてゲートバルブの表示が変化するように構成された表
   示装置と、を備えた ことを特徴とする真空処理装置。
2. 【請求項２】 表示装置は、各真空処理室にてどのレシ
   ピのいかなるステップで処理中であるかを表示すること
   を特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
3. 【請求項３】 前記複数の真空処理室には、少なくとも
   プラズマを生起させ、磁場を作用して前記被処理体をエ
   ッチング処理する処理室を含むことを特徴とする請求項
   １または２記載の真空処理装置。