JP2000260739A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
基板処理装置および基板処理方法Info
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
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- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
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- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板処理液を効率的に回収でき、且つ基板処
理後に該処理液が基板に付着して、例えば、洗浄斑やウ
ォータマークが発生するという処理欠陥が発生すること
がない基板処理装置を得る。 【解決手段】 固定上板部１と固定下板部２との間隙Ｓ
内に基板処理液を導入し、間隙Ｓ内に支持された基板６
を回転させて、基板６の処理を行うようにした基板処理
装置において、基板６を支持して回転する支持部の外壁
面である外輪外周側面３６ａと、この側面３６ａを覆う
ように設けられたハウジング５の内面５ａとの間で基板
処理液の排出路８を形成し、外輪外周側壁面３６ａに、
排出路８による基板処理液の排出作用を高めるための回
転羽根１５を設け、ハウジング内面５ａに、回転羽根１
５と協働して、基板処理液の排出作用を高めるための静
翼１６を設けた。
理後に該処理液が基板に付着して、例えば、洗浄斑やウ
ォータマークが発生するという処理欠陥が発生すること
がない基板処理装置を得る。 【解決手段】 固定上板部１と固定下板部２との間隙Ｓ
内に基板処理液を導入し、間隙Ｓ内に支持された基板６
を回転させて、基板６の処理を行うようにした基板処理
装置において、基板６を支持して回転する支持部の外壁
面である外輪外周側面３６ａと、この側面３６ａを覆う
ように設けられたハウジング５の内面５ａとの間で基板
処理液の排出路８を形成し、外輪外周側壁面３６ａに、
排出路８による基板処理液の排出作用を高めるための回
転羽根１５を設け、ハウジング内面５ａに、回転羽根１
５と協働して、基板処理液の排出作用を高めるための静
翼１６を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板洗浄液等の基
板処理液の回収機構を有する基板処理装置（例えば、ウ
ェハの洗浄を行う枚葉式基板洗浄装置）に関し、特に、
その基板処理液の回収機構の改善に関するものである。
板処理液の回収機構を有する基板処理装置（例えば、ウ
ェハの洗浄を行う枚葉式基板洗浄装置）に関し、特に、
その基板処理液の回収機構の改善に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコンウェハ等の基板を洗浄
し、その洗浄液を回収する機構を有する基板処理装置と
しては、例えば、特開平８−１３０２０２号公報に記載
された装置が知られる。
し、その洗浄液を回収する機構を有する基板処理装置と
しては、例えば、特開平８−１３０２０２号公報に記載
された装置が知られる。
【０００３】この基板処理装置は、ウェハ洗浄機構（ベ
ルヌーイ洗浄機構）として、ウェハの上面に対向する上
洗浄板と、ウェハの下面に対向する下洗浄板と、ウェハ
の外径に一致した内径の円筒状のウェハ保持具とを備え
ている。ウェハは、ウェハの外周がウェハ保持具の内周
面に接触した状態で水平状態に保持される。上洗浄板及
び下洗浄板は、それぞれウェハの上面及び下面に平行に
配され、洗浄液をウェハ上面及び下面に噴出する。この
際、ウェハ保持具が回転して、これに保持されているウ
ェハも回転する。
ルヌーイ洗浄機構）として、ウェハの上面に対向する上
洗浄板と、ウェハの下面に対向する下洗浄板と、ウェハ
の外径に一致した内径の円筒状のウェハ保持具とを備え
ている。ウェハは、ウェハの外周がウェハ保持具の内周
面に接触した状態で水平状態に保持される。上洗浄板及
び下洗浄板は、それぞれウェハの上面及び下面に平行に
配され、洗浄液をウェハ上面及び下面に噴出する。この
際、ウェハ保持具が回転して、これに保持されているウ
ェハも回転する。
【０００４】上洗浄板の中心から噴出した洗浄液は、上
洗浄板とウェハ上面との間を通って、上洗浄板の外周縁
とウェハ上面の外周縁との間から流出する。また、下洗
浄板の中心から噴出した洗浄液は、下洗浄板とウェハ下
面との間を通って、下洗浄板の外周縁とウェハ下面の外
周縁との間から流出する。
洗浄板とウェハ上面との間を通って、上洗浄板の外周縁
とウェハ上面の外周縁との間から流出する。また、下洗
浄板の中心から噴出した洗浄液は、下洗浄板とウェハ下
面との間を通って、下洗浄板の外周縁とウェハ下面の外
周縁との間から流出する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような、基板処理
装置においては、上述のように、ウェハ上下面の外周縁
より流出した洗浄液が回りに飛散するのを防止する機構
が必要である。このため、例えば、上下洗浄板、及びウ
ェハ保持具全体を覆うようにカバーを設けることが考え
られる。しかしながら、現実問題として、かかるカバー
には、単に洗浄液の飛散を防止できるという機能のみで
なく、洗浄液を効率的に回収でき、また、洗浄後に保持
具やカバー等に洗浄液が付着して残り（薬液ミスト或い
は滴となり残る）、それが洗浄を終えた基板に付着する
のを防止できる機能も要求される。洗浄を終えたウェハ
に洗浄液が再付着すると、洗浄斑、ウォータマーク発生
の原因となるという問題が生じる。
装置においては、上述のように、ウェハ上下面の外周縁
より流出した洗浄液が回りに飛散するのを防止する機構
が必要である。このため、例えば、上下洗浄板、及びウ
ェハ保持具全体を覆うようにカバーを設けることが考え
られる。しかしながら、現実問題として、かかるカバー
には、単に洗浄液の飛散を防止できるという機能のみで
なく、洗浄液を効率的に回収でき、また、洗浄後に保持
具やカバー等に洗浄液が付着して残り（薬液ミスト或い
は滴となり残る）、それが洗浄を終えた基板に付着する
のを防止できる機能も要求される。洗浄を終えたウェハ
に洗浄液が再付着すると、洗浄斑、ウォータマーク発生
の原因となるという問題が生じる。
【０００６】そこで、この発明は、かかる従来の課題を
解決するために成されたものであり、洗浄液等の基板処
理液を効率的に回収でき、且つ基板処理後に該処理液が
基板に付着して、例えば、洗浄斑やウォータマークが発
生するという処理欠陥が発生することがない基板処理装
置を提供することにある。
解決するために成されたものであり、洗浄液等の基板処
理液を効率的に回収でき、且つ基板処理後に該処理液が
基板に付着して、例えば、洗浄斑やウォータマークが発
生するという処理欠陥が発生することがない基板処理装
置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、この発明は、固定上板部（１）と固定下板部
（２）との間隙Ｓ内に基板処理液（例えば洗浄液）を導
入し、該間隙内に支持された基板（６）を回転させて、
前記基板の処理を行うようにした基板処理装置におい
て、前記基板処理液の排出路（８）に基板の回転に伴っ
て回転し、前記基板処理液の排出作用を高めるための回
転羽根（例えば１５）を設けたものである。
ため、この発明は、固定上板部（１）と固定下板部
（２）との間隙Ｓ内に基板処理液（例えば洗浄液）を導
入し、該間隙内に支持された基板（６）を回転させて、
前記基板の処理を行うようにした基板処理装置におい
て、前記基板処理液の排出路（８）に基板の回転に伴っ
て回転し、前記基板処理液の排出作用を高めるための回
転羽根（例えば１５）を設けたものである。
【０００８】このような構成によれば、排出路に設けら
れた回転翼により、基板処理液の排出方向への吸引が行
われ、基板処理液の排出作用が高められる。
れた回転翼により、基板処理液の排出方向への吸引が行
われ、基板処理液の排出作用が高められる。
【０００９】また、この発明は、固定上板部と固定下板
部との間隙内に基板処理液を導入し、該間隙内に支持さ
れた基板を回転させて、前記基板の処理を行うようにし
た基板処理装置において、前記基板を支持して回転する
支持部の外壁面（例えば外輪外周側面３６ａ）と、該支
持部の外壁面を覆うように設けられたハウジング（５）
の内面（５ａ）との間で前記基板処理液の排出路（８）
を形成し、前記支持部の外壁面側に、前記排出路による
前記基板処理液の排出作用を高めるための第１翼（回転
羽根１５）を設け、前記ハウジング内面（５ａ）側に、
前記第１翼と協働して、前記基板処理液の排出作用を高
めるための第２翼（例えば静翼１６）を設けたものであ
る。
部との間隙内に基板処理液を導入し、該間隙内に支持さ
れた基板を回転させて、前記基板の処理を行うようにし
た基板処理装置において、前記基板を支持して回転する
支持部の外壁面（例えば外輪外周側面３６ａ）と、該支
持部の外壁面を覆うように設けられたハウジング（５）
の内面（５ａ）との間で前記基板処理液の排出路（８）
を形成し、前記支持部の外壁面側に、前記排出路による
前記基板処理液の排出作用を高めるための第１翼（回転
羽根１５）を設け、前記ハウジング内面（５ａ）側に、
前記第１翼と協働して、前記基板処理液の排出作用を高
めるための第２翼（例えば静翼１６）を設けたものであ
る。
【００１０】更に、この発明は、請求項２に記載の基板
処理装置において、前記第２翼（静翼１６）は、前記第
１翼（回転羽根１５）よりも基板処理液の排出方向下流
側に設けられるようにしたものである。
処理装置において、前記第２翼（静翼１６）は、前記第
１翼（回転羽根１５）よりも基板処理液の排出方向下流
側に設けられるようにしたものである。
【００１１】また、この発明は、請求項２又は請求項３
に記載の基板処理装置において、前記第１翼（回転羽根
１５）又は前記第２翼（静翼１６）は、基板処理液を排
出方向に導くよう傾斜しているよう構成されたものであ
る。
に記載の基板処理装置において、前記第１翼（回転羽根
１５）又は前記第２翼（静翼１６）は、基板処理液を排
出方向に導くよう傾斜しているよう構成されたものであ
る。
【００１２】更に、この発明は、請求項４に記載の基板
処理装置において、前記第１翼（回転羽根１５）と前記
第２翼（静翼１６）とは互いに逆方向に傾斜しているよ
う構成されたものである。
処理装置において、前記第１翼（回転羽根１５）と前記
第２翼（静翼１６）とは互いに逆方向に傾斜しているよ
う構成されたものである。
【００１３】また、この発明は、請求項５に記載の基板
処理装置において、前記第１翼（回転羽根１５）と前記
第２翼（静翼１６）とは互いに逆方向に、且つ基板処理
液の排出方向に対して４５度に傾斜しているものであ
る。
処理装置において、前記第１翼（回転羽根１５）と前記
第２翼（静翼１６）とは互いに逆方向に、且つ基板処理
液の排出方向に対して４５度に傾斜しているものであ
る。
【００１４】更に、この発明は、請求項２乃至請求項６
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持部
（例えば、基板支持部３２の基板チャックピン３７）は
その上端で前記基板（６）を支持し、前記第１翼（回転
羽根１５）の上端（１５ａ）は、前記基板の上面より上
方に位置するものである。
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持部
（例えば、基板支持部３２の基板チャックピン３７）は
その上端で前記基板（６）を支持し、前記第１翼（回転
羽根１５）の上端（１５ａ）は、前記基板の上面より上
方に位置するものである。
【００１５】更に、この発明は、請求項２乃至請求項７
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持部
の外壁面側に設けられる前記第１翼は、前記支持部と一
体的に回転するよう構成されているものである。
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持部
の外壁面側に設けられる前記第１翼は、前記支持部と一
体的に回転するよう構成されているものである。
【００１６】また、この発明は、請求項２乃至請求項７
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第２翼
は前記ハウジングの内面に固定されるものである。
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第２翼
は前記ハウジングの内面に固定されるものである。
【００１７】また、この発明は、請求項２乃至請求項７
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記ハウジ
ングの内面側に設けられる前記第２翼は、前記第１翼の
回転方向と逆方向に回転するものである。
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記ハウジ
ングの内面側に設けられる前記第２翼は、前記第１翼の
回転方向と逆方向に回転するものである。
【００１８】また、この発明は、請求項２乃至請求項１
０のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持
部の外壁面側に設けられる前記第１翼は、前記支持部の
回転より高速で回転するものである。
０のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持
部の外壁面側に設けられる前記第１翼は、前記支持部の
回転より高速で回転するものである。
【００１９】更に、この発明は、請求項２乃至請求項１
１のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１
翼が設けられる前記支持部の外壁面側に第３翼（ネジス
クリュー１７）を設けたものである。
１のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１
翼が設けられる前記支持部の外壁面側に第３翼（ネジス
クリュー１７）を設けたものである。
【００２０】また、この発明は、請求項２乃至請求項１
２のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第３
翼（ネジスクリュー１７）は、前記第１翼（回転羽根１
５）、及び前記第２翼（静翼１６）よりも前記基板処理
液の排出方向下流側に設けられるものである。
２のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第３
翼（ネジスクリュー１７）は、前記第１翼（回転羽根１
５）、及び前記第２翼（静翼１６）よりも前記基板処理
液の排出方向下流側に設けられるものである。
【００２１】更に、この発明は、請求項１１又は請求項
１３に記載の基板処理装置において、前記第１翼と前記
第２翼と前記第３翼との組み合わせを、前記基板処理液
の排出方向に複数段設けたものである。
１３に記載の基板処理装置において、前記第１翼と前記
第２翼と前記第３翼との組み合わせを、前記基板処理液
の排出方向に複数段設けたものである。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態にお
ける基板処理装置について、基板洗浄機構を有する枚葉
装置を例にとって説明する。 実施の形態１．図１は基板処理装置の基板洗浄機構の要
部を示す一部断面側面図、図２は外輪とハウジングとの
関係を示す斜視図である。図１において、基板洗浄機構
は、水平に支持される固定上板部１と、固定上板部１の
下側において、該固定上板部１に対向して水平に支持さ
れる固定下板部２と、固定上板部１と固定下板部２との
間において基板６を水平に支持して回転する回転側部３
と、回転側部３の中心において、回転側部３を回転可能
に支持すると共に、その上端部に固定下板部２を固定支
持する支持シャフト４と、固定上板部１の周縁部より下
方に垂下するように設けられるハウジング５とを備えて
構成されている。
ける基板処理装置について、基板洗浄機構を有する枚葉
装置を例にとって説明する。 実施の形態１．図１は基板処理装置の基板洗浄機構の要
部を示す一部断面側面図、図２は外輪とハウジングとの
関係を示す斜視図である。図１において、基板洗浄機構
は、水平に支持される固定上板部１と、固定上板部１の
下側において、該固定上板部１に対向して水平に支持さ
れる固定下板部２と、固定上板部１と固定下板部２との
間において基板６を水平に支持して回転する回転側部３
と、回転側部３の中心において、回転側部３を回転可能
に支持すると共に、その上端部に固定下板部２を固定支
持する支持シャフト４と、固定上板部１の周縁部より下
方に垂下するように設けられるハウジング５とを備えて
構成されている。
【００２３】固定上板部１は円板状の上ベルヌーイ板１
１と、その中央に上方より設けられる洗浄液導入管１２
とを備え、図示しない昇降機構により上下動されて基板
出し入れのための開閉動作を行う。上ベルヌーイ板１１
は、その下面が基板６の径と略同じ径を有する円形平面
をなし、垂直下方に向くよう水平に支持される。洗浄液
導入管１２は基板洗浄のための洗浄液を図示しないバル
ブを介して供給する。
１と、その中央に上方より設けられる洗浄液導入管１２
とを備え、図示しない昇降機構により上下動されて基板
出し入れのための開閉動作を行う。上ベルヌーイ板１１
は、その下面が基板６の径と略同じ径を有する円形平面
をなし、垂直下方に向くよう水平に支持される。洗浄液
導入管１２は基板洗浄のための洗浄液を図示しないバル
ブを介して供給する。
【００２４】固定下板部２は、円板状の下ベルヌーイ板
２１と、その中央に下方より設けられる洗浄液導入管２
２とを備える。下ベルヌーイ板２１は、その上面が基板
の径と略同じ径を有する円形平面をなし、上ベルヌーイ
板１１の下面と間隙を有して対向するよう水平に、支持
シャフト４上端に固定支持される。
２１と、その中央に下方より設けられる洗浄液導入管２
２とを備える。下ベルヌーイ板２１は、その上面が基板
の径と略同じ径を有する円形平面をなし、上ベルヌーイ
板１１の下面と間隙を有して対向するよう水平に、支持
シャフト４上端に固定支持される。
【００２５】回転側部３は支持シャフト４に対して回転
可能に支持される円筒状支持部３１と、この支持部上端
に形成され、その上端周縁部で基板を支持するための基
板支持部３２とを備えて構成されている。円筒状支持部
３１は内筒３３と外筒３４を有する２重円筒状をなし、
それら上端部が径外方にフランジ状に延出され、それら
の最外周部に基板支持部３２が立設されている。
可能に支持される円筒状支持部３１と、この支持部上端
に形成され、その上端周縁部で基板を支持するための基
板支持部３２とを備えて構成されている。円筒状支持部
３１は内筒３３と外筒３４を有する２重円筒状をなし、
それら上端部が径外方にフランジ状に延出され、それら
の最外周部に基板支持部３２が立設されている。
【００２６】基板支持部３２は、円筒状支持部３１の内
筒３３上端部よりフランジ状に延出された延出部周縁に
設けられた内輪３５と、円筒状支持部３１の外筒３４上
端部よりフランジ状に延出された延出部周縁に立設され
た外輪３６との間に基板チャックピン３７を複数、円周
上に支持してなる。基板チャックピン３７はその上端に
おいて、基板６円周部の複数箇所を把持する。なお、内
輪３５と外輪３６とは図示しない回転駆動系により、相
対回転させられ、外輪３６を固定状態にし（図示しない
駆動系）、基板チャックピン３７を所定角度回転せしめ
て、基板６の周辺部の把持、開放を行う。また、内輪３
５（及び基板チャックピン３７）は図示しない昇降機構
により、基板の装置への着脱時に昇降される。
筒３３上端部よりフランジ状に延出された延出部周縁に
設けられた内輪３５と、円筒状支持部３１の外筒３４上
端部よりフランジ状に延出された延出部周縁に立設され
た外輪３６との間に基板チャックピン３７を複数、円周
上に支持してなる。基板チャックピン３７はその上端に
おいて、基板６円周部の複数箇所を把持する。なお、内
輪３５と外輪３６とは図示しない回転駆動系により、相
対回転させられ、外輪３６を固定状態にし（図示しない
駆動系）、基板チャックピン３７を所定角度回転せしめ
て、基板６の周辺部の把持、開放を行う。また、内輪３
５（及び基板チャックピン３７）は図示しない昇降機構
により、基板の装置への着脱時に昇降される。
【００２７】ハウジング５は固定上板部１の外周部より
軒状に垂下され、回転側部３の外輪３６の外周側面３６
ａを覆うように形成される。このハウジング５の内面５
ａと外輪外周側面３６ａとは、その間に形成される空間
部で基板洗浄液の排出路８を形成している。この排出路
８は図１よりも明らかなように、回転側部３の外輪上端
側が、排出路の上流側となり、外輪下端側が排出路の下
流側となる。
軒状に垂下され、回転側部３の外輪３６の外周側面３６
ａを覆うように形成される。このハウジング５の内面５
ａと外輪外周側面３６ａとは、その間に形成される空間
部で基板洗浄液の排出路８を形成している。この排出路
８は図１よりも明らかなように、回転側部３の外輪上端
側が、排出路の上流側となり、外輪下端側が排出路の下
流側となる。
【００２８】以上の構成において、回転側部３における
外輪３６の外周側面３６ａ上には、図１、図２に示され
るように、その上部に動翼としての回転羽根１５（第１
翼）が複数固設され、また、その下部にネジスクリュー
１７（第３翼）が固設されている。一方、ハウジング５
の内面５ａ側である、回転側部３の外輪外周側面３６ａ
と対向する面上には、回転羽根１５とネジスクリュー１
７との間に臨むように複数の静翼１６（第２翼）が固設
されている。
外輪３６の外周側面３６ａ上には、図１、図２に示され
るように、その上部に動翼としての回転羽根１５（第１
翼）が複数固設され、また、その下部にネジスクリュー
１７（第３翼）が固設されている。一方、ハウジング５
の内面５ａ側である、回転側部３の外輪外周側面３６ａ
と対向する面上には、回転羽根１５とネジスクリュー１
７との間に臨むように複数の静翼１６（第２翼）が固設
されている。
【００２９】すなわち、静翼１６は、回転羽根１５より
も基板洗浄液の排出方向下流側に位置するよう設けら
れ、また、ネジスクリュー１７は、回転羽根１５及び静
翼１６よりも基板洗浄液排出方向下流側に位置するよう
に設けられる。また、図３に示されるように、回転羽根
１５と静翼１６とは、互いに基板洗浄液を排出方向に導
くよう傾斜しており、これらは互いに逆方向に、且つ基
板洗浄液の排出方向に対して４５度に傾斜している。更
に、回転羽根１５の上端１５ａは外輪３６の上端面と略
面一となり、基板支持部３２に支持されている基板６平
面より高い位置に設けられる。
も基板洗浄液の排出方向下流側に位置するよう設けら
れ、また、ネジスクリュー１７は、回転羽根１５及び静
翼１６よりも基板洗浄液排出方向下流側に位置するよう
に設けられる。また、図３に示されるように、回転羽根
１５と静翼１６とは、互いに基板洗浄液を排出方向に導
くよう傾斜しており、これらは互いに逆方向に、且つ基
板洗浄液の排出方向に対して４５度に傾斜している。更
に、回転羽根１５の上端１５ａは外輪３６の上端面と略
面一となり、基板支持部３２に支持されている基板６平
面より高い位置に設けられる。
【００３０】以下、実施の形態の動作について説明す
る。まず、基板の搬入にあっては、上ベルヌーイ板１１
は昇降機構により、上動位置にあり、図示しないロボッ
トアームが所定位置に基板６を搬送して停止する。この
とき基板チャックピン３７が上昇して基板６をピンで把
持すると、ロボットアームは後退し、基板チャックピン
３７は基板６を把持して下降する。次に上ベルヌーイ板
１１が定位置まで下降し、下ベルヌーイ板２１との間に
間隙Ｓを形成し、図１の状態となる。
る。まず、基板の搬入にあっては、上ベルヌーイ板１１
は昇降機構により、上動位置にあり、図示しないロボッ
トアームが所定位置に基板６を搬送して停止する。この
とき基板チャックピン３７が上昇して基板６をピンで把
持すると、ロボットアームは後退し、基板チャックピン
３７は基板６を把持して下降する。次に上ベルヌーイ板
１１が定位置まで下降し、下ベルヌーイ板２１との間に
間隙Ｓを形成し、図１の状態となる。
【００３１】次に、基板支持部３２が回転して、基板６
が回転を始めると同時に、圧送された洗浄液が導入管１
２，２２より基板６の上下面に噴射されて洗浄が始ま
る。基板中心部に噴射された洗浄液はノズル作用と回転
する遠心力で基板外周より排出路方向に飛び出す。この
とき、飛散された洗浄液は、基板支持部３２の外側に設
けられているハウジング５により一カ所に無駄なく回収
できる。更に、基板の回転に伴って、回転羽根１５、ネ
ジスクリュー１７が回転をしており、飛散した洗浄液を
排出路８の下方に方向転換させて、排出路下流側に誘導
する。また、ハウジング５に設けられている静翼１６が
回転羽根１５及びネジスクリュー１７と協働して排出作
用を高める。すなわち、排出路８は真空ポンプに繋がっ
ており、そのポンプによる吸引力と、回転羽根１５、静
翼１６、ネジスクリュー１７がターボポンプ原理の作用
による減圧効果の相乗作用により洗浄液の排出作用を高
める。
が回転を始めると同時に、圧送された洗浄液が導入管１
２，２２より基板６の上下面に噴射されて洗浄が始ま
る。基板中心部に噴射された洗浄液はノズル作用と回転
する遠心力で基板外周より排出路方向に飛び出す。この
とき、飛散された洗浄液は、基板支持部３２の外側に設
けられているハウジング５により一カ所に無駄なく回収
できる。更に、基板の回転に伴って、回転羽根１５、ネ
ジスクリュー１７が回転をしており、飛散した洗浄液を
排出路８の下方に方向転換させて、排出路下流側に誘導
する。また、ハウジング５に設けられている静翼１６が
回転羽根１５及びネジスクリュー１７と協働して排出作
用を高める。すなわち、排出路８は真空ポンプに繋がっ
ており、そのポンプによる吸引力と、回転羽根１５、静
翼１６、ネジスクリュー１７がターボポンプ原理の作用
による減圧効果の相乗作用により洗浄液の排出作用を高
める。
【００３２】従来の基板洗浄機構によれば、基板のエッ
ジ部はチャック（基板支持部）により支持されているた
め、基板を上下ベルヌーイ板で完全に覆うことができ
ず、このため、基板周囲において、洗浄液が渦を巻き、
その排出が滑らかに行われ難いが、この発明の実施の形
態によれば、回転羽根等の作用により、基板周辺に強制
的な下降気流（排出方向への流れ）が得られるので、基
板周辺部の洗浄液を強制的に排出でき、洗浄液滴やミス
トが残留して、洗浄後の基板に付着するのを防止するこ
とができ、基板汚染が防止される。また、上下ベルヌー
イ板１１，２１の間の間隙Ｓに対して酸素を遮断できる
構造とでき、自然酸化膜抑制効果も得ることができる。
ジ部はチャック（基板支持部）により支持されているた
め、基板を上下ベルヌーイ板で完全に覆うことができ
ず、このため、基板周囲において、洗浄液が渦を巻き、
その排出が滑らかに行われ難いが、この発明の実施の形
態によれば、回転羽根等の作用により、基板周辺に強制
的な下降気流（排出方向への流れ）が得られるので、基
板周辺部の洗浄液を強制的に排出でき、洗浄液滴やミス
トが残留して、洗浄後の基板に付着するのを防止するこ
とができ、基板汚染が防止される。また、上下ベルヌー
イ板１１，２１の間の間隙Ｓに対して酸素を遮断できる
構造とでき、自然酸化膜抑制効果も得ることができる。
【００３３】また、基板を大気に触れることなく、搬
送、洗浄、処理（例えばＣＶＤ処理）等の一連の処理を
施す場合、各装置を非大気雰囲気（減圧雰囲気）にて接
続する構成が必要となると共に、洗浄液が搬送装置など
に付着して搬送アームの腐食原因をもたらすのを防止す
るため、洗浄液の完全に除去し得る洗浄装置が必要とな
るが、実施の形態に示した装置によれば、かかる構成を
容易に提供し得ることとなる。
送、洗浄、処理（例えばＣＶＤ処理）等の一連の処理を
施す場合、各装置を非大気雰囲気（減圧雰囲気）にて接
続する構成が必要となると共に、洗浄液が搬送装置など
に付着して搬送アームの腐食原因をもたらすのを防止す
るため、洗浄液の完全に除去し得る洗浄装置が必要とな
るが、実施の形態に示した装置によれば、かかる構成を
容易に提供し得ることとなる。
【００３４】以上、本発明の一つの実施の形態について
説明したが、本発明はかかる実施の形態の構成に限定さ
れることはなく、種々の応用、変更適用が可能である。
例えば、ハウジング５の内面に設けられる第２翼である
静翼１６を第１翼である回転羽根１５の回転方向と逆方
向に回転するようにすれば、上述したターボポンプの原
理による減圧効果をより高めることができて、洗浄液の
排出作用をより高めることができる。静翼の回転は、例
えばそれが取り付けられたハウジングを回転させるよう
にしても良いし、或いはハウジング内に回転機構を設け
るようにしても良い。
説明したが、本発明はかかる実施の形態の構成に限定さ
れることはなく、種々の応用、変更適用が可能である。
例えば、ハウジング５の内面に設けられる第２翼である
静翼１６を第１翼である回転羽根１５の回転方向と逆方
向に回転するようにすれば、上述したターボポンプの原
理による減圧効果をより高めることができて、洗浄液の
排出作用をより高めることができる。静翼の回転は、例
えばそれが取り付けられたハウジングを回転させるよう
にしても良いし、或いはハウジング内に回転機構を設け
るようにしても良い。
【００３５】また、上記実施の形態では、回転羽根１５
は基板支持部３２と一体的に回転するようにしたが、基
板支持部３２より高速で回転するようにしても良い。基
板の回転速度は処理内容により制限されることもある
が、回転羽根は高速で回転するほど、吸引（排出）作用
を高めることができ、本発明の効果をより高めることが
できる。
は基板支持部３２と一体的に回転するようにしたが、基
板支持部３２より高速で回転するようにしても良い。基
板の回転速度は処理内容により制限されることもある
が、回転羽根は高速で回転するほど、吸引（排出）作用
を高めることができ、本発明の効果をより高めることが
できる。
【００３６】更に、上記実施の形態では、回転羽根１５
（第１翼）と静翼（第２翼）とネジスクリュー（第３
翼）とを組み立てた場合について説明したが、回転羽根
１５（第１翼）と静翼（第２翼）のみの組合せでも、十
分な排出効果を得ることができる。また、実施の形態で
は、回転羽根１５（第１翼）と静翼１６（第２翼）とネ
ジスクリュー１７（第３翼）との組み合わせ一つ（一
段）としたが、これらを多段に組み合わせて用いるよう
にしても、排出作用を高められることは明白である。
（第１翼）と静翼（第２翼）とネジスクリュー（第３
翼）とを組み立てた場合について説明したが、回転羽根
１５（第１翼）と静翼（第２翼）のみの組合せでも、十
分な排出効果を得ることができる。また、実施の形態で
は、回転羽根１５（第１翼）と静翼１６（第２翼）とネ
ジスクリュー１７（第３翼）との組み合わせ一つ（一
段）としたが、これらを多段に組み合わせて用いるよう
にしても、排出作用を高められることは明白である。
【００３７】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、この発
明によれば、基板処理液の排出路に基板処理液の排出作
用を高めるための回転羽根を設けるようにしたので、洗
浄液等の基板処理液を効率的に回収でき、且つ基板処理
後に該処理液が基板に付着して、例えば、洗浄斑やウォ
ータマークが発生するという処理欠陥が発生することが
ない基板処理装置を得ることができるという効果を奏す
る。
明によれば、基板処理液の排出路に基板処理液の排出作
用を高めるための回転羽根を設けるようにしたので、洗
浄液等の基板処理液を効率的に回収でき、且つ基板処理
後に該処理液が基板に付着して、例えば、洗浄斑やウォ
ータマークが発生するという処理欠陥が発生することが
ない基板処理装置を得ることができるという効果を奏す
る。
【図１】この発明の実施の形態を示す断面側面図であ
る。
る。
【図２】回転羽根、静翼、及びネジスクリューの位置関
係を示す斜視図である。
係を示す斜視図である。
【図３】回転羽根と静翼の協働作用を説明する図であ
る。
る。
１ 固定上板部 ２ 固定下板部 ３ 回転側部 ４ 支持シャフト ５ ハウジング ６ 基板（ウェハ） ８ 排出路 １１ 上ベルヌーイ板 １５ 回転羽根（動翼） １６ 静翼 １７ ネジスクリュー ２１ 下ベルヌーイ板 ３５ 内輪 ３６ 外輪 ３７ 基板チャックピン
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年１２月１３日（１９９９．１２．
１３）
１３）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 基板処理装置および基板処理方法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板洗浄液等の基
板処理液の回収機構を有する基板処理装置（例えば、ウ
ェハの洗浄を行う枚葉式基板洗浄装置）及び基板処理方
法に関し、特に、その基板処理液の回収効率の改善に関
するものである。
板処理液の回収機構を有する基板処理装置（例えば、ウ
ェハの洗浄を行う枚葉式基板洗浄装置）及び基板処理方
法に関し、特に、その基板処理液の回収効率の改善に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコンウェハ等の基板を洗浄
し、その洗浄液を回収する機構を有する基板処理装置と
しては、例えば、特開平８−１３０２０２号公報に記載
された装置が知られる。
し、その洗浄液を回収する機構を有する基板処理装置と
しては、例えば、特開平８−１３０２０２号公報に記載
された装置が知られる。
【０００３】この基板処理装置は、ウェハ洗浄機構（ベ
ルヌーイ洗浄機構）として、ウェハの上面に対向する上
洗浄板と、ウェハの下面に対向する下洗浄板と、ウェハ
の外径に一致した内径の円筒状のウェハ保持具とを備え
ている。ウェハは、ウェハの外周がウェハ保持具の内周
面に接触した状態で水平状態に保持される。上洗浄板及
び下洗浄板は、それぞれウェハの上面及び下面に平行に
配され、洗浄液をウェハ上面及び下面に噴出する。この
際、ウェハ保持具が回転して、これに保持されているウ
ェハも回転する。
ルヌーイ洗浄機構）として、ウェハの上面に対向する上
洗浄板と、ウェハの下面に対向する下洗浄板と、ウェハ
の外径に一致した内径の円筒状のウェハ保持具とを備え
ている。ウェハは、ウェハの外周がウェハ保持具の内周
面に接触した状態で水平状態に保持される。上洗浄板及
び下洗浄板は、それぞれウェハの上面及び下面に平行に
配され、洗浄液をウェハ上面及び下面に噴出する。この
際、ウェハ保持具が回転して、これに保持されているウ
ェハも回転する。
【０００４】上洗浄板の中心から噴出した洗浄液は、上
洗浄板とウェハ上面との間を通って、上洗浄板の外周縁
とウェハ上面の外周縁との間から流出する。また、下洗
浄板の中心から噴出した洗浄液は、下洗浄板とウェハ下
面との間を通って、下洗浄板の外周縁とウェハ下面の外
周縁との間から流出する。
洗浄板とウェハ上面との間を通って、上洗浄板の外周縁
とウェハ上面の外周縁との間から流出する。また、下洗
浄板の中心から噴出した洗浄液は、下洗浄板とウェハ下
面との間を通って、下洗浄板の外周縁とウェハ下面の外
周縁との間から流出する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような、基板処理
装置においては、上述のように、ウェハ上下面の外周縁
より流出した洗浄液が回りに飛散するのを防止する機構
が必要である。このため、例えば、上下洗浄板、及びウ
ェハ保持具全体を覆うようにカバーを設けることが考え
られる。しかしながら、現実問題として、かかるカバー
には、単に洗浄液の飛散を防止できるという機能のみで
なく、洗浄液を効率的に回収でき、また、洗浄後に保持
具やカバー等に洗浄液が付着して残り（薬液ミスト或い
は滴となり残る）、それが洗浄を終えた基板に付着する
のを防止できる機能も要求される。洗浄を終えたウェハ
に洗浄液が再付着すると、洗浄斑、ウォータマーク発生
の原因となるという問題が生じる。
装置においては、上述のように、ウェハ上下面の外周縁
より流出した洗浄液が回りに飛散するのを防止する機構
が必要である。このため、例えば、上下洗浄板、及びウ
ェハ保持具全体を覆うようにカバーを設けることが考え
られる。しかしながら、現実問題として、かかるカバー
には、単に洗浄液の飛散を防止できるという機能のみで
なく、洗浄液を効率的に回収でき、また、洗浄後に保持
具やカバー等に洗浄液が付着して残り（薬液ミスト或い
は滴となり残る）、それが洗浄を終えた基板に付着する
のを防止できる機能も要求される。洗浄を終えたウェハ
に洗浄液が再付着すると、洗浄斑、ウォータマーク発生
の原因となるという問題が生じる。
【０００６】そこで、この発明は、かかる従来の課題を
解決するために成されたものであり、洗浄液等の基板処
理液を効率的に回収でき、且つ基板処理後に該処理液が
基板に付着して、例えば、洗浄斑やウォータマークが発
生するという処理欠陥が発生することがない基板処理装
置及び基板処理方法を提供することにある。
解決するために成されたものであり、洗浄液等の基板処
理液を効率的に回収でき、且つ基板処理後に該処理液が
基板に付着して、例えば、洗浄斑やウォータマークが発
生するという処理欠陥が発生することがない基板処理装
置及び基板処理方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、この発明に係る基板処理装置は、固定上板部
（１）と固定下板部（２）との間隙Ｓ内に基板処理液
（例えば洗浄液）を導入し、該間隙内に支持された基板
（６）を回転させて、前記基板の処理を行うようにした
基板処理装置において、前記基板処理液の排出路（８）
に基板の回転に伴って回転し、前記基板処理液の排出作
用を高めるための回転羽根（例えば１５）を設けたもの
である。
ため、この発明に係る基板処理装置は、固定上板部
（１）と固定下板部（２）との間隙Ｓ内に基板処理液
（例えば洗浄液）を導入し、該間隙内に支持された基板
（６）を回転させて、前記基板の処理を行うようにした
基板処理装置において、前記基板処理液の排出路（８）
に基板の回転に伴って回転し、前記基板処理液の排出作
用を高めるための回転羽根（例えば１５）を設けたもの
である。
【０００８】このような構成によれば、排出路に設けら
れた回転翼により、基板処理液の排出方向への吸引が行
われ、基板処理液の排出作用が高められる。
れた回転翼により、基板処理液の排出方向への吸引が行
われ、基板処理液の排出作用が高められる。
【０００９】また、この発明に係る基板処理装置は、固
定上板部と固定下板部との間隙内に基板処理液を導入
し、該間隙内に支持された基板を回転させて、前記基板
の処理を行うようにした基板処理装置において、前記基
板を支持して回転する支持部の外壁面（例えば外輪外周
側面３６ａ）と、該支持部の外壁面を覆うように設けら
れたハウジング（５）の内面（５ａ）との間で前記基板
処理液の排出路（８）を形成し、前記支持部の外壁面側
に、前記排出路による前記基板処理液の排出作用を高め
るための第１翼（回転羽根１５）を設け、前記ハウジン
グ内面（５ａ）側に、前記第１翼と協働して、前記基板
処理液の排出作用を高めるための第２翼（例えば静翼１
６）を設けたものである。
定上板部と固定下板部との間隙内に基板処理液を導入
し、該間隙内に支持された基板を回転させて、前記基板
の処理を行うようにした基板処理装置において、前記基
板を支持して回転する支持部の外壁面（例えば外輪外周
側面３６ａ）と、該支持部の外壁面を覆うように設けら
れたハウジング（５）の内面（５ａ）との間で前記基板
処理液の排出路（８）を形成し、前記支持部の外壁面側
に、前記排出路による前記基板処理液の排出作用を高め
るための第１翼（回転羽根１５）を設け、前記ハウジン
グ内面（５ａ）側に、前記第１翼と協働して、前記基板
処理液の排出作用を高めるための第２翼（例えば静翼１
６）を設けたものである。
【００１０】更に、この発明は、請求項２に記載の基板
処理装置において、前記第２翼（静翼１６）は、前記第
１翼（回転羽根１５）よりも基板処理液の排出方向下流
側に設けられるようにしたものである。
処理装置において、前記第２翼（静翼１６）は、前記第
１翼（回転羽根１５）よりも基板処理液の排出方向下流
側に設けられるようにしたものである。
【００１１】また、この発明は、請求項２又は請求項３
に記載の基板処理装置において、前記第１翼（回転羽根
１５）又は前記第２翼（静翼１６）は、基板処理液を排
出方向に導くよう傾斜しているよう構成されたものであ
る。
に記載の基板処理装置において、前記第１翼（回転羽根
１５）又は前記第２翼（静翼１６）は、基板処理液を排
出方向に導くよう傾斜しているよう構成されたものであ
る。
【００１２】更に、この発明は、請求項４に記載の基板
処理装置において、前記第１翼（回転羽根１５）と前記
第２翼（静翼１６）とは互いに逆方向に傾斜しているよ
う構成されたものである。
処理装置において、前記第１翼（回転羽根１５）と前記
第２翼（静翼１６）とは互いに逆方向に傾斜しているよ
う構成されたものである。
【００１３】また、この発明は、請求項５に記載の基板
処理装置において、前記第１翼（回転羽根１５）と前記
第２翼（静翼１６）とは互いに逆方向に、且つ基板処理
液の排出方向に対して４５度に傾斜しているものであ
る。
処理装置において、前記第１翼（回転羽根１５）と前記
第２翼（静翼１６）とは互いに逆方向に、且つ基板処理
液の排出方向に対して４５度に傾斜しているものであ
る。
【００１４】更に、この発明は、請求項２乃至請求項６
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持部
（例えば、基板支持部３２の基板チャックピン３７）は
その上端で前記基板（６）を支持し、前記第１翼（回転
羽根１５）の上端（１５ａ）は、前記基板の上面より上
方に位置するものである。
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持部
（例えば、基板支持部３２の基板チャックピン３７）は
その上端で前記基板（６）を支持し、前記第１翼（回転
羽根１５）の上端（１５ａ）は、前記基板の上面より上
方に位置するものである。
【００１５】更に、この発明は、請求項２乃至請求項７
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持部
の外壁面側に設けられる前記第１翼は、前記支持部と一
体的に回転するよう構成されているものである。
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持部
の外壁面側に設けられる前記第１翼は、前記支持部と一
体的に回転するよう構成されているものである。
【００１６】また、この発明は、請求項２乃至請求項７
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第２翼
は前記ハウジングの内面に固定されるものである。
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第２翼
は前記ハウジングの内面に固定されるものである。
【００１７】また、この発明は、請求項２乃至請求項７
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記ハウジ
ングの内面側に設けられる前記第２翼は、前記第１翼の
回転方向と逆方向に回転するものである。
のいずれかに記載の基板処理装置において、前記ハウジ
ングの内面側に設けられる前記第２翼は、前記第１翼の
回転方向と逆方向に回転するものである。
【００１８】また、この発明は、請求項２乃至請求項１
０のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持
部の外壁面側に設けられる前記第１翼は、前記支持部の
回転より高速で回転するものである。
０のいずれかに記載の基板処理装置において、前記支持
部の外壁面側に設けられる前記第１翼は、前記支持部の
回転より高速で回転するものである。
【００１９】更に、この発明は、請求項２乃至請求項１
１のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１
翼が設けられる前記支持部の外壁面側に第３翼（ネジス
クリュー１７）を設けたものである。
１のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１
翼が設けられる前記支持部の外壁面側に第３翼（ネジス
クリュー１７）を設けたものである。
【００２０】また、この発明は、請求項２乃至請求項１
２のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第３
翼（ネジスクリュー１７）は、前記第１翼（回転羽根１
５）、及び前記第２翼（静翼１６）よりも前記基板処理
液の排出方向下流側に設けられるものである。
２のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第３
翼（ネジスクリュー１７）は、前記第１翼（回転羽根１
５）、及び前記第２翼（静翼１６）よりも前記基板処理
液の排出方向下流側に設けられるものである。
【００２１】更に、この発明は、請求項１１又は請求項
１３に記載の基板処理装置において、前記第１翼と前記
第２翼と前記第３翼との組み合わせを、前記基板処理液
の排出方向に複数段設けたものである。
１３に記載の基板処理装置において、前記第１翼と前記
第２翼と前記第３翼との組み合わせを、前記基板処理液
の排出方向に複数段設けたものである。
【００２２】また、この発明における基板処理方法は、
固定上板部と固定下板部との間隙内に基板を挿入する工
程と、該間隙内に基板処理液を導入する工程と、該間隙
内に支持された基板を回転させる工程と、前記基板処理
液の排出路に設けた回転羽根を、基板の回転に伴って回
転させる工程と、前記回転羽根の排出作用により前記基
板処理液の排出を行う工程とを備えるものである。
固定上板部と固定下板部との間隙内に基板を挿入する工
程と、該間隙内に基板処理液を導入する工程と、該間隙
内に支持された基板を回転させる工程と、前記基板処理
液の排出路に設けた回転羽根を、基板の回転に伴って回
転させる工程と、前記回転羽根の排出作用により前記基
板処理液の排出を行う工程とを備えるものである。
【００２３】さらに、この発明における基板処理方法
は、固定上板部と固定下板部との間隙内に基板を挿入す
る工程と、該間隙内に基板処理液を導入する工程と、前
記基板を支持する支持部にて基板を回転させる工程と、
前記支持部の外壁面と、該支持部の外壁面を覆うように
設けられたハウジングの内面との間に形成された排出路
により前記基板処理液の排出を行う工程と、前記基板処
理液の排出においては、前記支持部の外壁面側に設けた
前記排出路による前記基板処理液の排出作用を高めるた
めの第１翼と、前記ハウジング内面側に設けた前記基板
処理液の排出作用を高めるための第２翼との協働にて、
該基板処理液の排出を行う工程とを備えるものである。
は、固定上板部と固定下板部との間隙内に基板を挿入す
る工程と、該間隙内に基板処理液を導入する工程と、前
記基板を支持する支持部にて基板を回転させる工程と、
前記支持部の外壁面と、該支持部の外壁面を覆うように
設けられたハウジングの内面との間に形成された排出路
により前記基板処理液の排出を行う工程と、前記基板処
理液の排出においては、前記支持部の外壁面側に設けた
前記排出路による前記基板処理液の排出作用を高めるた
めの第１翼と、前記ハウジング内面側に設けた前記基板
処理液の排出作用を高めるための第２翼との協働にて、
該基板処理液の排出を行う工程とを備えるものである。
【００２４】また、この発明における基板処理方法は、
請求項１６に記載の基板処理方法において、前記第２翼
は、前記第１翼よりも基板処理液の排出方向下流側に設
けられるものである。
請求項１６に記載の基板処理方法において、前記第２翼
は、前記第１翼よりも基板処理液の排出方向下流側に設
けられるものである。
【００２５】さらに、この発明における基板処理方法
は、請求項１６又は請求項１７に記載の基板処理方法に
おいて、前記第１翼又は前記第２翼は、基板処理液を排
出方向に導くよう傾斜しているものである。
は、請求項１６又は請求項１７に記載の基板処理方法に
おいて、前記第１翼又は前記第２翼は、基板処理液を排
出方向に導くよう傾斜しているものである。
【００２６】また、この発明における基板処理方法は、
請求項１８に記載の基板処理方法において、前記第１翼
と前記第２翼とは互いに逆方向に傾斜しているものであ
る。
請求項１８に記載の基板処理方法において、前記第１翼
と前記第２翼とは互いに逆方向に傾斜しているものであ
る。
【００２７】以上のような基板処理方法によれば、排出
路に設けられた回転翼により、基板処理液の排出方向へ
の吸引が行われ、基板処理液の排出作用が高められ、洗
浄液等の基板処理液を効率的に回収できる。
路に設けられた回転翼により、基板処理液の排出方向へ
の吸引が行われ、基板処理液の排出作用が高められ、洗
浄液等の基板処理液を効率的に回収できる。
【００２８】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態にお
ける基板処理装置及び基板処理方法について、基板洗浄
機構を有する枚葉装置を例にとって説明する。 実施の形態１．図１は基板処理装置の基板洗浄機構の要
部を示す一部断面側面図、図２は外輪とハウジングとの
関係を示す斜視図である。図１において、基板洗浄機構
は、水平に支持される固定上板部１と、固定上板部１の
下側において、該固定上板部１に対向して水平に支持さ
れる固定下板部２と、固定上板部１と固定下板部２との
間において基板６を水平に支持して回転する回転側部３
と、回転側部３の中心において、回転側部３を回転可能
に支持すると共に、その上端部に固定下板部２を固定支
持する支持シャフト４と、固定上板部１の周縁部より下
方に垂下するように設けられるハウジング５とを備えて
構成されている。
ける基板処理装置及び基板処理方法について、基板洗浄
機構を有する枚葉装置を例にとって説明する。 実施の形態１．図１は基板処理装置の基板洗浄機構の要
部を示す一部断面側面図、図２は外輪とハウジングとの
関係を示す斜視図である。図１において、基板洗浄機構
は、水平に支持される固定上板部１と、固定上板部１の
下側において、該固定上板部１に対向して水平に支持さ
れる固定下板部２と、固定上板部１と固定下板部２との
間において基板６を水平に支持して回転する回転側部３
と、回転側部３の中心において、回転側部３を回転可能
に支持すると共に、その上端部に固定下板部２を固定支
持する支持シャフト４と、固定上板部１の周縁部より下
方に垂下するように設けられるハウジング５とを備えて
構成されている。
【００２９】固定上板部１は円板状の上ベルヌーイ板１
１と、その中央に上方より設けられる洗浄液導入管１２
とを備え、図示しない昇降機構により上下動されて基板
出し入れのための開閉動作を行う。上ベルヌーイ板１１
は、その下面が基板６の径と略同じ径を有する円形平面
をなし、垂直下方に向くよう水平に支持される。洗浄液
導入管１２は基板洗浄のための洗浄液を図示しないバル
ブを介して供給する。
１と、その中央に上方より設けられる洗浄液導入管１２
とを備え、図示しない昇降機構により上下動されて基板
出し入れのための開閉動作を行う。上ベルヌーイ板１１
は、その下面が基板６の径と略同じ径を有する円形平面
をなし、垂直下方に向くよう水平に支持される。洗浄液
導入管１２は基板洗浄のための洗浄液を図示しないバル
ブを介して供給する。
【００３０】固定下板部２は、円板状の下ベルヌーイ板
２１と、その中央に下方より設けられる洗浄液導入管２
２とを備える。下ベルヌーイ板２１は、その上面が基板
の径と略同じ径を有する円形平面をなし、上ベルヌーイ
板１１の下面と間隙を有して対向するよう水平に、支持
シャフト４上端に固定支持される。
２１と、その中央に下方より設けられる洗浄液導入管２
２とを備える。下ベルヌーイ板２１は、その上面が基板
の径と略同じ径を有する円形平面をなし、上ベルヌーイ
板１１の下面と間隙を有して対向するよう水平に、支持
シャフト４上端に固定支持される。
【００３１】回転側部３は支持シャフト４に対して回転
可能に支持される円筒状支持部３１と、この支持部上端
に形成され、その上端周縁部で基板を支持するための基
板支持部３２とを備えて構成されている。円筒状支持部
３１は内筒３３と外筒３４を有する２重円筒状をなし、
それら上端部が径外方にフランジ状に延出され、それら
の最外周部に基板支持部３２が立設されている。
可能に支持される円筒状支持部３１と、この支持部上端
に形成され、その上端周縁部で基板を支持するための基
板支持部３２とを備えて構成されている。円筒状支持部
３１は内筒３３と外筒３４を有する２重円筒状をなし、
それら上端部が径外方にフランジ状に延出され、それら
の最外周部に基板支持部３２が立設されている。
【００３２】基板支持部３２は、円筒状支持部３１の内
筒３３上端部よりフランジ状に延出された延出部周縁に
設けられた内輪３５と、円筒状支持部３１の外筒３４上
端部よりフランジ状に延出された延出部周縁に立設され
た外輪３６との間に基板チャックピン３７を複数、円周
上に支持してなる。基板チャックピン３７はその上端に
おいて、基板６円周部の複数箇所を把持する。なお、内
輪３５と外輪３６とは図示しない回転駆動系により、相
対回転させられ、外輪３６を固定状態にし（図示しない
駆動系）、基板チャックピン３７を所定角度回転せしめ
て、基板６の周辺部の把持、開放を行う。また、内輪３
５（及び基板チャックピン３７）は図示しない昇降機構
により、基板の装置への着脱時に昇降される。
筒３３上端部よりフランジ状に延出された延出部周縁に
設けられた内輪３５と、円筒状支持部３１の外筒３４上
端部よりフランジ状に延出された延出部周縁に立設され
た外輪３６との間に基板チャックピン３７を複数、円周
上に支持してなる。基板チャックピン３７はその上端に
おいて、基板６円周部の複数箇所を把持する。なお、内
輪３５と外輪３６とは図示しない回転駆動系により、相
対回転させられ、外輪３６を固定状態にし（図示しない
駆動系）、基板チャックピン３７を所定角度回転せしめ
て、基板６の周辺部の把持、開放を行う。また、内輪３
５（及び基板チャックピン３７）は図示しない昇降機構
により、基板の装置への着脱時に昇降される。
【００３３】ハウジング５は固定上板部１の外周部より
軒状に垂下され、回転側部３の外輪３６の外周側面３６
ａを覆うように形成される。このハウジング５の内面５
ａと外輪外周側面３６ａとは、その間に形成される空間
部で基板洗浄液の排出路８を形成している。この排出路
８は図１よりも明らかなように、回転側部３の外輪上端
側が、排出路の上流側となり、外輪下端側が排出路の下
流側となる。
軒状に垂下され、回転側部３の外輪３６の外周側面３６
ａを覆うように形成される。このハウジング５の内面５
ａと外輪外周側面３６ａとは、その間に形成される空間
部で基板洗浄液の排出路８を形成している。この排出路
８は図１よりも明らかなように、回転側部３の外輪上端
側が、排出路の上流側となり、外輪下端側が排出路の下
流側となる。
【００３４】以上の構成において、回転側部３における
外輪３６の外周側面３６ａ上には、図１、図２に示され
るように、その上部に動翼としての回転羽根１５（第１
翼）が複数固設され、また、その下部にネジスクリュー
１７（第３翼）が固設されている。一方、ハウジング５
の内面５ａ側である、回転側部３の外輪外周側面３６ａ
と対向する面上には、回転羽根１５とネジスクリュー１
７との間に臨むように複数の静翼１６（第２翼）が固設
されている。
外輪３６の外周側面３６ａ上には、図１、図２に示され
るように、その上部に動翼としての回転羽根１５（第１
翼）が複数固設され、また、その下部にネジスクリュー
１７（第３翼）が固設されている。一方、ハウジング５
の内面５ａ側である、回転側部３の外輪外周側面３６ａ
と対向する面上には、回転羽根１５とネジスクリュー１
７との間に臨むように複数の静翼１６（第２翼）が固設
されている。
【００３５】すなわち、静翼１６は、回転羽根１５より
も基板洗浄液の排出方向下流側に位置するよう設けら
れ、また、ネジスクリュー１７は、回転羽根１５及び静
翼１６よりも基板洗浄液排出方向下流側に位置するよう
に設けられる。また、図３に示されるように、回転羽根
１５と静翼１６とは、互いに基板洗浄液を排出方向に導
くよう傾斜しており、これらは互いに逆方向に、且つ基
板洗浄液の排出方向に対して４５度に傾斜している。更
に、回転羽根１５の上端１５ａは外輪３６の上端面と略
面一となり、基板支持部３２に支持されている基板６平
面より高い位置に設けられる。
も基板洗浄液の排出方向下流側に位置するよう設けら
れ、また、ネジスクリュー１７は、回転羽根１５及び静
翼１６よりも基板洗浄液排出方向下流側に位置するよう
に設けられる。また、図３に示されるように、回転羽根
１５と静翼１６とは、互いに基板洗浄液を排出方向に導
くよう傾斜しており、これらは互いに逆方向に、且つ基
板洗浄液の排出方向に対して４５度に傾斜している。更
に、回転羽根１５の上端１５ａは外輪３６の上端面と略
面一となり、基板支持部３２に支持されている基板６平
面より高い位置に設けられる。
【００３６】以下、実施の形態の動作について説明す
る。まず、基板の搬入にあっては、上ベルヌーイ板１１
は昇降機構により、上動位置にあり、図示しないロボッ
トアームが所定位置に基板６を搬送して停止する。この
とき基板チャックピン３７が上昇して基板６をピンで把
持すると、ロボットアームは後退し、基板チャックピン
３７は基板６を把持して下降する。次に上ベルヌーイ板
１１が定位置まで下降し、下ベルヌーイ板２１との間に
間隙Ｓを形成し、図１の状態となる。
る。まず、基板の搬入にあっては、上ベルヌーイ板１１
は昇降機構により、上動位置にあり、図示しないロボッ
トアームが所定位置に基板６を搬送して停止する。この
とき基板チャックピン３７が上昇して基板６をピンで把
持すると、ロボットアームは後退し、基板チャックピン
３７は基板６を把持して下降する。次に上ベルヌーイ板
１１が定位置まで下降し、下ベルヌーイ板２１との間に
間隙Ｓを形成し、図１の状態となる。
【００３７】次に、基板支持部３２が回転して、基板６
が回転を始めると同時に、圧送された洗浄液が導入管１
２，２２より基板６の上下面に噴射されて洗浄が始ま
る。基板中心部に噴射された洗浄液はノズル作用と回転
する遠心力で基板外周より排出路方向に飛び出す。この
とき、飛散された洗浄液は、基板支持部３２の外側に設
けられているハウジング５により一カ所に無駄なく回収
できる。更に、基板の回転に伴って、回転羽根１５、ネ
ジスクリュー１７が回転をしており、飛散した洗浄液を
排出路８の下方に方向転換させて、排出路下流側に誘導
する。また、ハウジング５に設けられている静翼１６が
回転羽根１５及びネジスクリュー１７と協働して排出作
用を高める。すなわち、排出路８は真空ポンプに繋がっ
ており、そのポンプによる吸引力と、回転羽根１５、静
翼１６、ネジスクリュー１７がターボポンプ原理の作用
による減圧効果の相乗作用により洗浄液の排出作用を高
める。
が回転を始めると同時に、圧送された洗浄液が導入管１
２，２２より基板６の上下面に噴射されて洗浄が始ま
る。基板中心部に噴射された洗浄液はノズル作用と回転
する遠心力で基板外周より排出路方向に飛び出す。この
とき、飛散された洗浄液は、基板支持部３２の外側に設
けられているハウジング５により一カ所に無駄なく回収
できる。更に、基板の回転に伴って、回転羽根１５、ネ
ジスクリュー１７が回転をしており、飛散した洗浄液を
排出路８の下方に方向転換させて、排出路下流側に誘導
する。また、ハウジング５に設けられている静翼１６が
回転羽根１５及びネジスクリュー１７と協働して排出作
用を高める。すなわち、排出路８は真空ポンプに繋がっ
ており、そのポンプによる吸引力と、回転羽根１５、静
翼１６、ネジスクリュー１７がターボポンプ原理の作用
による減圧効果の相乗作用により洗浄液の排出作用を高
める。
【００３８】従来の基板洗浄機構によれば、基板のエッ
ジ部はチャック（基板支持部）により支持されているた
め、基板を上下ベルヌーイ板で完全に覆うことができ
ず、このため、基板周囲において、洗浄液が渦を巻き、
その排出が滑らかに行われ難いが、この発明の実施の形
態によれば、回転羽根等の作用により、基板周辺に強制
的な下降気流（排出方向への流れ）が得られるので、基
板周辺部の洗浄液を強制的に排出でき、洗浄液滴やミス
トが残留して、洗浄後の基板に付着するのを防止するこ
とができ、基板汚染が防止される。また、上下ベルヌー
イ板１１，２１の間の間隙Ｓに対して酸素を遮断できる
構造とでき、自然酸化膜抑制効果も得ることができる。
ジ部はチャック（基板支持部）により支持されているた
め、基板を上下ベルヌーイ板で完全に覆うことができ
ず、このため、基板周囲において、洗浄液が渦を巻き、
その排出が滑らかに行われ難いが、この発明の実施の形
態によれば、回転羽根等の作用により、基板周辺に強制
的な下降気流（排出方向への流れ）が得られるので、基
板周辺部の洗浄液を強制的に排出でき、洗浄液滴やミス
トが残留して、洗浄後の基板に付着するのを防止するこ
とができ、基板汚染が防止される。また、上下ベルヌー
イ板１１，２１の間の間隙Ｓに対して酸素を遮断できる
構造とでき、自然酸化膜抑制効果も得ることができる。
【００３９】また、基板を大気に触れることなく、搬
送、洗浄、処理（例えばＣＶＤ処理）等の一連の処理を
施す場合、各装置を非大気雰囲気（減圧雰囲気）にて接
続する構成が必要となると共に、洗浄液が搬送装置など
に付着して搬送アームの腐食原因をもたらすのを防止す
るため、洗浄液の完全に除去し得る洗浄装置が必要とな
るが、実施の形態に示した装置によれば、かかる構成を
容易に提供し得ることとなる。
送、洗浄、処理（例えばＣＶＤ処理）等の一連の処理を
施す場合、各装置を非大気雰囲気（減圧雰囲気）にて接
続する構成が必要となると共に、洗浄液が搬送装置など
に付着して搬送アームの腐食原因をもたらすのを防止す
るため、洗浄液の完全に除去し得る洗浄装置が必要とな
るが、実施の形態に示した装置によれば、かかる構成を
容易に提供し得ることとなる。
【００４０】以上、本発明の一つの実施の形態について
説明したが、本発明はかかる実施の形態の構成に限定さ
れることはなく、種々の応用、変更適用が可能である。
例えば、ハウジング５の内面に設けられる第２翼である
静翼１６を第１翼である回転羽根１５の回転方向と逆方
向に回転するようにすれば、上述したターボポンプの原
理による減圧効果をより高めることができて、洗浄液の
排出作用をより高めることができる。静翼の回転は、例
えばそれが取り付けられたハウジングを回転させるよう
にしても良いし、或いはハウジング内に回転機構を設け
るようにしても良い。
説明したが、本発明はかかる実施の形態の構成に限定さ
れることはなく、種々の応用、変更適用が可能である。
例えば、ハウジング５の内面に設けられる第２翼である
静翼１６を第１翼である回転羽根１５の回転方向と逆方
向に回転するようにすれば、上述したターボポンプの原
理による減圧効果をより高めることができて、洗浄液の
排出作用をより高めることができる。静翼の回転は、例
えばそれが取り付けられたハウジングを回転させるよう
にしても良いし、或いはハウジング内に回転機構を設け
るようにしても良い。
【００４１】また、上記実施の形態では、回転羽根１５
は基板支持部３２と一体的に回転するようにしたが、基
板支持部３２より高速で回転するようにしても良い。基
板の回転速度は処理内容により制限されることもある
が、回転羽根は高速で回転するほど、吸引（排出）作用
を高めることができ、本発明の効果をより高めることが
できる。
は基板支持部３２と一体的に回転するようにしたが、基
板支持部３２より高速で回転するようにしても良い。基
板の回転速度は処理内容により制限されることもある
が、回転羽根は高速で回転するほど、吸引（排出）作用
を高めることができ、本発明の効果をより高めることが
できる。
【００４２】更に、上記実施の形態では、回転羽根１５
（第１翼）と静翼（第２翼）とネジスクリュー（第３
翼）とを組み立てた場合について説明したが、回転羽根
１５（第１翼）と静翼（第２翼）のみの組合せでも、十
分な排出効果を得ることができる。また、実施の形態で
は、回転羽根１５（第１翼）と静翼１６（第２翼）とネ
ジスクリュー１７（第３翼）との組み合わせ一つ（一
段）としたが、これらを多段に組み合わせて用いるよう
にしても、排出作用を高められることは明白である。
（第１翼）と静翼（第２翼）とネジスクリュー（第３
翼）とを組み立てた場合について説明したが、回転羽根
１５（第１翼）と静翼（第２翼）のみの組合せでも、十
分な排出効果を得ることができる。また、実施の形態で
は、回転羽根１５（第１翼）と静翼１６（第２翼）とネ
ジスクリュー１７（第３翼）との組み合わせ一つ（一
段）としたが、これらを多段に組み合わせて用いるよう
にしても、排出作用を高められることは明白である。
【００４３】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、この発
明によれば、基板処理液の排出路に基板処理液の排出作
用を高めるための回転羽根を設けるようにしたので、洗
浄液等の基板処理液を効率的に回収でき、且つ基板処理
後に該処理液が基板に付着して、例えば、洗浄斑やウォ
ータマークが発生するという処理欠陥が発生することが
ない基板処理装置及び基板処理方法を得ることができる
という効果を奏する。
明によれば、基板処理液の排出路に基板処理液の排出作
用を高めるための回転羽根を設けるようにしたので、洗
浄液等の基板処理液を効率的に回収でき、且つ基板処理
後に該処理液が基板に付着して、例えば、洗浄斑やウォ
ータマークが発生するという処理欠陥が発生することが
ない基板処理装置及び基板処理方法を得ることができる
という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態を示す断面側面図であ
る。
る。
【図２】回転羽根、静翼、及びネジスクリューの位置関
係を示す斜視図である。
係を示す斜視図である。
【図３】回転羽根と静翼の協働作用を説明する図であ
る。
る。
【符号の説明】 １ 固定上板部 ２ 固定下板部 ３ 回転側部 ４ 支持シャフト ５ ハウジング ６ 基板（ウェハ） ８ 排出路 １１ 上ベルヌーイ板 １５ 回転羽根（動翼） １６ 静翼 １７ ネジスクリュー ２１ 下ベルヌーイ板 ３５ 内輪 ３６ 外輪 ３７ 基板チャックピン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡 齊 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 (72)発明者 藤城 雅隆 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 (72)発明者 大録 範行 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所内 (72)発明者 田中 雄一郎 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所内
Claims (14)
- 【請求項１】 固定上板部と固定下板部との間隙内に基
板処理液を導入し、該間隙内に支持された基板を回転さ
せて、前記基板の処理を行うようにした基板処理装置に
おいて、 前記基板処理液の排出路に基板の回転に伴って回転し、
前記基板処理液の排出作用を高めるための回転羽根を設
けたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項２】 固定上板部と固定下板部との間隙内に基
板処理液を導入し、該間隙内に支持された基板を回転さ
せて、前記基板の処理を行うようにした基板処理装置に
おいて、 前記基板を支持して回転する支持部の外壁面と、該支持
部の外壁面を覆うように設けられたハウジングの内面と
の間で前記基板処理液の排出路を形成し、 前記支持部の外壁面側に、前記排出路による前記基板処
理液の排出作用を高めるための第１翼を設け、 前記ハウジング内面側に、前記第１翼と協働して、前記
基板処理液の排出作用を高めるための第２翼を設けたこ
とを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載の基板処理装置におい
て、 前記第２翼は、前記第１翼よりも基板処理液の排出方向
下流側に設けられることを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項４】 請求項２又は請求項３に記載の基板処理
装置において、 前記第１翼又は前記第２翼は、基板処理液を排出方向に
導くよう傾斜していることを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項５】 請求項４に記載の基板処理装置におい
て、 前記第１翼と前記第２翼とは互いに逆方向に傾斜してい
ることを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項６】 請求項５に記載の基板処理装置におい
て、 前記第１翼と前記第２翼とは互いに逆方向に、且つ基板
処理液の排出方向に対して４５度に傾斜していることを
特徴とする基板処理装置。 - 【請求項７】 請求項２乃至請求項６のいずれかに記載
の基板処理装置において、 前記支持部はその上端で前記基板を支持し、前記第１翼
の上端は、前記基板の上面より上方に位置することを特
徴とする基板処理装置。 - 【請求項８】 請求項２乃至請求項７のいずれかに記載
の基板処理装置において、 前記支持部の外壁面側に設けられる前記第１翼は、前記
支持部と一体的に回転することを特徴とする基板処理装
置。 - 【請求項９】 請求項２乃至請求項７のいずれかに記載
の基板処理装置において、 前記第２翼は前記ハウジングの内面に固定されることを
特徴とする基板処理装置。 - 【請求項１０】 請求項２乃至請求項７のいずれかに記
載の基板処理装置において、 前記ハウジングの内面側に設けられる前記第２翼は、前
記第１翼の回転方向と逆方向に回転することを特徴とす
る基板処理装置。 - 【請求項１１】 請求項２乃至請求項１０のいずれかに
記載の基板処理装置において、 前記支持部の外壁面に設けられる前記第１翼は、前記支
持部の回転より高速で回転することを特徴とする基板処
理装置。 - 【請求項１２】 請求項２乃至請求項１１のいずれかに
記載の基板処理装置において、 前記第１翼が設けられる前記支持部の外壁面側に第３翼
を設けたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項１３】 請求項２乃至請求項１２のいずれかに
記載の基板処理装置において、 前記第３翼は、前記第１翼、及び前記第２翼よりも前記
基板処理液の排出方向下流側に設けられることを特徴と
する基板処理装置。 - 【請求項１４】 請求項１１又は請求項１３に記載の基
板処理装置において、 前記第１翼と前記第２翼と前記第３翼との組み合わせ
を、前記基板処理液の排出方向に複数段設けることを特
徴とする基板処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11064574A JP2000260739A (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 基板処理装置および基板処理方法 |
| KR1020000009988A KR20000062665A (ko) | 1999-03-11 | 2000-02-29 | 기판처리장치 및 기판처리방법 |
| TW089103981A TW466623B (en) | 1999-03-11 | 2000-03-06 | Substrate treatment device and method |
| US09/524,744 US6401734B1 (en) | 1999-03-11 | 2000-03-13 | Substrate treating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11064574A JP2000260739A (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000260739A true JP2000260739A (ja) | 2000-09-22 |
Family
ID=13262151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11064574A Withdrawn JP2000260739A (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6401734B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000260739A (ja) |
| KR (1) | KR20000062665A (ja) |
| TW (1) | TW466623B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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