JPH09162264A - 基板搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易な構成でありながら、正確に基板を搬送
することのできる基板搬送装置を提供することを目的と
する。 【解決手段】 第１のチャック１６は、支持具３１に支
持された左右一対のアーム３０ａ、３０ｂと、アーム３
０ａ、３０ｂを開閉させるための一対のエアシリンダ３
２ａ、３２ｂと、支持具３１を介してアーム３０ａ、３
０ｂを昇降させるためのエアシリンダ３３と、エアシリ
ンダ３３をモータ１８により駆動を受ける同期ベルト１
９に連結するための連結具３４とを有する。各アーム３
０ａ、３０ｂには基板Ｗの両端を支持するための各々２
本の支持部材３５ａ、３５ｂが付設されており、各支持
部材３５ａ、３５ｂの下端部には凸部３６が形成されて
いる。凸部３６は、複数の搬送ローラ１２によって水平
方向に搬送された基板Ｗの下面より下方の位置まで下降
した後、互いに近接する方向に移動し、基板Ｗの両端部
の下面を支持して上昇する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示パネル
用ガラス基板等の基板を搬送する基板搬送装置に関し、
特に、第１の搬送機構により前行程から搬送された基板
を第２の搬送機構により次工程に搬送する基板搬送装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】このような基板搬送装置としては、従
来、複数の搬送ローラよりなる第１の搬送機構により搬
送された基板を、第１の搬送機構の下方に配設された複
数の昇降ピンにより上昇させた後、この基板を、第１の
搬送機構の上方に配設された一対のアームを備える第２
の搬送機構により支持して搬送するものが使用されてい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このような従来の搬送
装置においては、基板を複数の昇降ピンにより上昇させ
る構成であるため、その上昇動作時に基板が位置ずれを
起こし、基板の受け渡しミスが発生する場合がある。特
に、処理液が付着した基板を搬送する場合には、基板に
付着した処理液の皮膜により基板が滑りやすいことか
ら、上記搬送ミスが生じやすい。また、薄型（０．７ｍ
ｍ）基板等の場合は、破損や傷発生の可能性もある。

【０００４】また、昇降ピンから一対のアームへ基板を
受け渡す構成であるため、それらの位置関係を正確に調
整する必要があり、また、その制御も複雑となる。

【０００５】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたもので、簡易な構成でありながら、正確に基板を
搬送することのできる基板搬送装置を提供することを目
的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、基板を水平方向に搬送する第１の搬送機構と、前記
第１の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送す
る第２の搬送機構とを有する基板搬送装置であって、前
記第２の搬送機構は、一対のアームと、前記各アームに
付設され、前記基板の両端部の下面を支持するための支
持部材と、前記支持部材の下端部が前記第１の搬送機構
により搬送される基板の下面より上方に位置する第１の
位置と第１の搬送機構により搬送される基板の下面より
下方に位置する第２の位置との間で、前記一対のアーム
を上下方向に昇降させる昇降手段と、前記一対のアーム
が第２の位置に位置する状態において、前記各アームを
互いに近接する方向に移動させることにより、前記基板
を前記支持部材により支持させる移動手段と、を備えた
ことを特徴とする。

【０００７】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、前記第１の搬送機構は、互いに同期し
て回転する複数の搬送ローラより構成され、前記第２の
搬送機構は、前記一対のアームのうちの少なくとも一方
のアームに付設された支持部材が平面視において前記複
数の搬送ローラのうちの隣接する２本のローラの間に位
置する状態で、前記一対のアームを上下方向に昇降させ
るものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいてこの発明の
実施の形態を説明する。図１は、この発明に係る基板搬
送装置を適用した回転式基板乾燥装置の平面図である。

【０００９】この回転式基板乾燥装置は、角形の液晶表
示パネル用ガラス基板に対して乾燥処理を行うものであ
り、基板搬入部２と、基板乾燥部３と、基板搬出部４
と、基板搬送部５とを備える。

【００１０】基板搬入部２は、前段の処理液を使用した
処理工程より、純水等の処理液が付着した状態の基板Ｗ
を回転式基板乾燥装置３に搬入するためのものであり、
互いに同期して回転することにより基板Ｗを搬送する複
数の搬送ローラ１２を備える。

【００１１】基板乾燥部３は、基板Ｗを高速で回転させ
ることにより基板Ｗを乾燥するためのものであり、基板
Ｗを保持して回転するスピンチャック１３と、基板Ｗの
表面に乾燥を促進させるための気体を供給する気体供給
手段１４と、処理液の外部への飛散を防止するための飛
散防止用カップ１５とを備える。

【００１２】基板搬出部４は、基板乾燥部３により乾燥
処理を行った基板Ｗを後段の処理工程へ搬出するための
ものであり、基板搬入部２と同様、互いに同期して回転
することにより基板Ｗを搬送する複数の搬送ローラ１２
を備える。

【００１３】基板搬送部５は、基板搬入部２と、基板乾
燥部３と、基板搬出部４との間で基板Ｗを搬送するため
のものであり、基板搬入部２の搬送ローラ１２上に載置
された基板Ｗを基板乾燥部３のスピンチャック１３上に
搬送するための第１のチャック１６と、基板乾燥部３の
スピンチャック１３上に載置された基板Ｗを基板搬出部
４の搬送ローラ１２上に搬送するための第２のチャック
１７とを備える。第１、第２のチャック１６、１７は、
いずれもモータ１８により駆動を受ける同期ベルト１９
に連結されており、互いに同期して図１における左右方
向に移動する。

【００１４】次に、基板搬送装置の構成について説明す
る。図２は、基板搬入部２の平面図であり、図３はその
側面図である。

【００１５】この基板搬入部２には、一対の支持板２
１、２１間にその両端を軸支された５本の搬送ローラ１
２が配設されている。これらの搬送ローラ１２は、同期
ベルト２２により互いに連結されており、また、これら
の搬送ローラ１２のうちの１本の搬送ローラは、同期ベ
ルト２３を介してモータ２４と連結されている。このた
め、５本の搬送ローラ１２は、モータ２４の駆動によ
り、互いに同期して回転する。また、搬送ローラ１２の
下方には、搬送ローラ１２により搬送される基板Ｗの先
端を検出するための光電センサ２９が配設されている。

【００１６】図示しない搬送ローラ等からなる搬送機構
により前段の処理工程から搬入された基板Ｗは、搬送ロ
ーラ１２の回転に伴い、搬送ローラ１２上に載置された
状態で水平方向に搬送される。このとき、各搬送ローラ
１２には基板Ｗの端縁を支持するための支持輪２５が付
設されており、基板Ｗはその有効部外である端縁のみを
支持されて搬送される。そして、搬送ローラ１２によっ
て搬送された基板Ｗは、基板搬入部２において、第１の
チャック１６に受け渡される。

【００１７】この第１のチャック１６は、図４に示すよ
うに、支持具３１に支持された左右一対のアーム３０
ａ、３０ｂと、アーム３０ａ、３０ｂを開閉させるため
の一対のエアシリンダ３２ａ、３２ｂと、支持具３１を
昇降させるためのエアシリンダ３３と、エアシリンダ３
３を前述した同期ベルト１９に連結するための連結具３
４とを有する。

【００１８】各アーム３０ａ、３０ｂには、基板Ｗの両
端を支持するための各々２本の支持部材３５ａ、３５ｂ
が付設されている。各支持部材３５ａ、３５ｂの下端部
には、凸部３６（基板支持部）が形成されており、この
凸部３６により基板Ｗの下面の両端が支持される。

【００１９】各アーム３０ａ、３０ｂの上方には、連結
具３４と接続された一対の位置決めアーム３７ａ、３７
ｂが配設されている。この位置決めアーム３７ａ、３７
ｂには、支持部材３５ａ、３５ｂと同様の形状を有する
位置決め部材３８ａ、３８ｂが付設されている。一対の
位置決めアーム３７ａ、３７ｂは、各々エアシリンダ３
９ａ、３９ｂと接続されており、このエアシリンダ３９
ａ、３９ｂの駆動により位置決め部材３８ａ、３８ｂは
互いに近接する方向に移動する。

【００２０】第１のチャック１６の下方には、図３に示
すように、純水の供給管４０が付設されている。この純
水の供給管４０は、前段の処理工程で基板Ｗに付着した
処理液が、基板乾燥部３において乾燥される以前に不均
一な状態で乾燥することを防止するため、第１のチャッ
ク１６による基板Ｗの搬送時に基板Ｗの表面に純水を供
給するためのものである。

【００２１】なお、第２のチャック１７は、純水の供給
管４０を備えない点以外は第１のチャック１６と同様の
構成を有する。

【００２２】次に、基板Ｗの搬送工程について説明す
る。

【００２３】搬送ローラ１２上に載置されて搬送された
基板Ｗは、光電センサ２９によりその先端を検出され、
図２において二点鎖線で示す基板の受け渡し位置で停止
する。この基板Ｗの受け渡し位置においては、基板Ｗの
後端は、複数の搬送ローラ１２のうちの隣接する２本の
搬送ローラ１２の間に位置している。

【００２４】また、モータ１８の駆動により第１のチャ
ック１６が、基板Ｗの受け渡し位置の上方に移動し、図
２において実線で示すように、第１のアーム３０ａに付
設された支持部材３５ａが平面視において２本の搬送ロ
ーラ１２の間に位置する状態で停止する。このとき、各
アーム３０ａ、３０ｂは互いに離隔した開放状態とされ
ている。

【００２５】次に、エアシリンダ３３の駆動により、支
持具３１を介して一対のアーム３０ａ、３０ｂを下降さ
せる。これにより、図３において二点鎖線で示すよう
に、支持部材３５ａ、３５ｂにおける凸部３６が搬送ロ
ーラ１２の支持輪２５に支持された基板Ｗの下面より下
方に移動する。このとき、支持部材３５ａは平面視にお
いて２本の搬送ローラ１２の間に位置していることか
ら、支持部材３５ａと搬送ローラ１２とが干渉すること
はない。

【００２６】この状態において、エアシリンダ３２ａ、
３２ｂの駆動により、図２において二点鎖線で示すよう
に、一対のアーム３０ａ、３０ｂを互いに近接する方向
に移動させる。これにより、支持部材３５ａ、３５ｂの
凸部３６が基板Ｗの両端部の下方に進入する。そして、
エアシリンダ３３の駆動により、支持具３１を介して一
対のアーム３０ａ、３０ｂを上昇させることにより、基
板Ｗの両端部の下面が支持部材３５ａ、３５ｂの凸部３
６により支持される。。このとき、基板Ｗの両端部は一
対のアーム３０ａ、３０ｂに付設された支持部材３５
ａ、３５ｂにより挟持されることから、基板Ｗに位置ず
れ等が生じることによる搬送ミスが発生することはな
い。

【００２７】続いて、エアシリンダ３９ａ、３９ｂの駆
動により、一対の位置決めアーム３７ａ、３７ｂを駆動
し、位置決めアーム３７ａ、３７ｂに付設された位置決
め部材３８ａ、３８ｂを互いに近接する方向に移動させ
る。この動作により、基板Ｗは、搬送ローラ１２による
搬送方向と直行する方向に位置決めされる。

【００２８】そして、モータ１８の駆動により第１のチ
ャック１６を水平方向に移動させることにより、基板Ｗ
を基板乾燥部３におけるスピンチャック１３の上方まで
搬送する。そして、上述した動作と逆の動作により、基
板Ｗをスピンチャック１３に載置する。

【００２９】なお、第１のチャック１６が基板搬入部２
から基板乾燥部３まで基板Ｗを搬送する工程と並行し
て、第１のチャック１６と同期して移動する第２のチャ
ック１７が第１のチャック１６と同様の動作を行うこと
により、先に乾燥処理を終えた基板Ｗを基板乾燥部３か
ら基板搬出部４に搬送する。

【００３０】以上の動作を繰り返すことにより、基板Ｗ
は、基板搬入部２、基板乾燥部３および基板搬出部４に
順次搬送され、その乾燥処理が行われれる。

【００３１】上記実施の形態においては、基板Ｗの端縁
を搬送ローラ１２の支持輪２５により支持して搬送する
場合について説明したが、搬送ローラ１２により基板Ｗ
の裏面全面を支持して搬送してもよく、また、搬送ロー
ラ１２間にＯリング等を展張し、このＯリングにより基
板Ｗの裏面を支持して搬送するようにしてもよい。さら
に、搬送ローラ１２のかわりに搬送ベルトにより基板Ｗ
の裏面を支持して搬送することも可能である。

【００３２】また、上記実施の形態においては、この発
明を回転式基板乾燥装置に適用した場合について述べた
が、基板を水平方向に搬送する第１の搬送機構と第１の
搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第２
の搬送機構とを有する各種の基板処理装置にこの発明を
適用することが可能である。

【００３３】

【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、第１の
搬送機構上の基板を、一対のアームに付設された支持部
材により直接支持して搬送することができることから、
基板を昇降ピンにより上昇させる必要がなく、基板を確
実に搬送し位置決めすることが可能となる。このため、
特に処理液が付着した基板を搬送する場合等において
も、基板の搬送ミスが生ずることはない。また、基板裏
面に昇降ピンが当接することもないので、基板に対する
傷や破損等が生じることもない。

【００３４】請求項２に記載の発明によれば、搬送ロー
ラと支持部材とが干渉を生ずることなく、搬送ローラ間
に支持部材を進入させて基板を搬送することが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る基板搬送装置を適用した回転式
基板乾燥装置の平面図である。

【図２】基板搬入部２の平面図である。

【図３】図２の側面図である

【図４】第１のチャック１６の概要を示す斜視図であ
る。

【符号の説明】

２ 基板搬入部 ３ 基板乾燥部 ４ 基板搬出部 ５ 基板搬送部 １２ 搬送ローラ １６ 第１のチャック １７ 第２のチャック １８ モータ ２４ モータ ２５ 支持輪 ３０ａ、３０ｂ アーム ３２ａ、３２ｂ エアシリンダ ３３ エアシリンダ ３５ａ、３５ｂ 支持部材 ３６ 凸部

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を水平方向に搬送する第１の搬送機
   構と、前記第１の搬送機構により搬送された基板を支持
   して搬送する第２の搬送機構とを有する基板搬送装置で
   あって、 前記第２の搬送機構は、 一対のアームと、 前記各アームに付設され、前記基板の両端部の下面を支
   持するための支持部材と、 前記支持部材の下端部が前記第１の搬送機構により搬送
   される基板の下面より上方に位置する第１の位置と第１
   の搬送機構により搬送される基板の下面より下方に位置
   する第２の位置との間で、前記一対のアームを上下方向
   に昇降させる昇降手段と、 前記一対のアームが第２の位置に位置する状態におい
   て、前記各アームを互いに近接する方向に移動させるこ
   とにより、前記基板を前記支持部材により支持させる移
   動手段と、 を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板搬送装置におい
   て、 前記第１の搬送機構は、互いに同期して回転する複数の
   搬送ローラより構成され、 前記第２の搬送機構は、前記一対のアームのうちの少な
   くとも一方のアームに付設された支持部材が平面視にお
   いて前記複数の搬送ローラのうちの隣接する２本のロー
   ラの間に位置する状態で、前記一対のアームを上下方向
   に昇降させる基板搬送装置。