JP2004077592A - ワークの処理方法、ワークの処理装置、及びガラス基板の搬送装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】矩形平板状の基板2をその一辺2aと平行な第1の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第1の作業装置4により搬送途中の基板2の第1の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第1の作業工程と、第1の処理を受けた基板2の搬送方向を前記一辺と直交する他の一辺2bと平行な第2の方向に切り替える方向切替工程と、基板2を第2の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第2の作業装置5により搬送途中の基板2の第2の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第2の作業工程とを備える。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーフィルタの基板の端部の洗浄等を行うワークの処理装置及び処理方法、並びにこれらに好適なガラス基板の搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ等の表示装置に使用されるカラーフィルタのガラス製基板にフォトリソグラフィプロセスを利用してパターンを形成する場合、基板側へのパターンの転写に先立って基板上にはレジスト膜が形成される。レジスト膜は本来均一な厚さに形成されるべきであるが、レジスト剤の塗布方法による制約から、基板上の特定部分の膜厚が他の部分に比べて厚くなることがある。例えば、基板を回転させてレジスト剤を塗布するスピンコート法を利用した場合には、回転に伴う遠心力の影響で基板の周辺部の膜厚が増加する。ダイコータを利用して塗布した場合には塗布開始位置と終了位置においてレジスト剤が多めに供給されてそれらの部分の膜厚が増加する。ところが、露光後の現像工程では正常な膜厚を基準として処理時間等が定められているので、上記のように膜厚が大きい特定部分ではレジスト膜が除去し切れない。しかし、残留した一部のレジスト膜を放置すると、その後に形成されるレジスト膜の均一性に影響が生じたり、残留したレジスト膜がその後の工程で剥離し、これが異物となって欠陥が引き起こされる。
【0003】
そこで、パターンの現像に先立って膜厚の大きい特定部分に予め現像液を塗布してその部分のレジスト膜に現像液を十分に膨潤させ、その後のパターンの現像により、特定部分のレジスト膜も確実に除去するようにした基板の洗浄方法及びそのための洗浄装置が提案されている。例えば、特開平7−27917号公報に記載された洗浄装置では、基板をその一辺と平行な方向に搬送するラインの途中で基板を一時的に停止させ、その停止した基板の搬送方向と直交する二辺に現像液塗布ローラを接触させ、このローラを搬送方向と直交する方向に移動させて上記二辺に現像液を塗布している。その後、基板を停止位置から下流側へ搬送し、その搬送途中で基板の搬送方向と平行な二辺に別の現像液塗布ローラを接触させて残りの二辺にも現像液を塗布している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上述した公報記載の洗浄装置では、搬送方向と直交する方向の基板の辺に現像液を塗布する際、搬送ラインのローラでは基板を定位置に保持することができないため、基板をステージで持ち上げて支持している。しかしながら、搬送ラインのローラとの干渉を避ける必要からステージによる基板の支持位置は制限される。このため、基板のサイズによっては適切な位置で基板を支持することができず、何らかの不都合が生じることがある。例えば基板の端部を支持できない場合には、現像液塗布ローラの押し付け力によってガラス製の基板が破損するおそれがある。
【0005】
カラーフィルタが組み込まれる表示装置の大型化により、カラーフィルタのガラス基板も一辺が1mを大きく超えるほど大型化し、その反面、軽量化の要請から基板の厚さは減少している。ライン上でガラス基板が破損すればその破片が広範囲に散乱し、後始末に極めて多大な手間がかかる。従って、基板の支持には細心の注意が必要とされ、基板に歪みを生じさせる所作は極力排除されねばならない。
【0006】
また、上記公報記載の装置では、少なくとも二辺に現像液を塗布する間は搬送ラインを停止させる必要がある。このような生産ライン上における基板の停止は生産効率を低下させる大きな要因となる。基板を停止させた状態で塗布後のローラを元の位置に復帰させ、それが終わるのを待って基板の移動を再開させる場合には、ラインの停止に伴う効率の低下はさらに深刻である。
【0007】
さらに、上記公報記載の装置では、ガラス基板上を現像液塗布ローラを含んだ可動機構が往復するため、可動部分からの発塵や現像液のたれにより、基板上に異物が付着し、後工程で欠陥が生じる原因となることもある。
【0008】
そこで、本発明は、矩形平板状のワークに対してその各辺に沿った方向に関する処理を効率よく行うことができ、しかもワークに歪みを生じさせる要因を排除して、大型のガラス基板のような破損し易いワークであっても確実に処理することができるワークの処理方法及び装置、並びにガラス基板の搬送に好適な搬送装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
以下、本発明について説明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本発明が図示の形態に限定されるものではない。
【0010】
本発明のワークの処理方法は、矩形平板状のワーク(2)をその一辺(2a)と平行な第1の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第1の作業手段(4)により前記搬送途中のワークの前記第1の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第1の作業工程と、前記第1の処理を受けたワークの搬送方向を前記一辺と直交する他の一辺(2b)と平行な第2の方向に切り替える方向切替工程と、前記ワークを前記第2の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第2の作業手段(5)により前記搬送途中のワークの前記第2の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第2の作業工程と、を備えたことを特徴とする。
【0011】
この発明によれば、ワークを搬送しながら第1の作業手段及び第2の作業手段にて所定の処理を行うようにしたので、これらの作業手段を定位置に置いたままで第1の方向及び第2の方向にそれぞれ沿った領域に対して所定の処理を行うことができる。作業手段によってワークを処理する際にワークを搬送経路上で停止させる必要がないので生産効率の向上に有利である。また、処理中のワークの保持のためにワークを搬送経路から持ち上げて支持する必要がないから、不自然な支持位置でワークを支持して処理を行うことによってワークに危険な歪みを生じさせるおそれがなく、ワークのサイズに拘わりなく安全確実に処理を行える。作業手段をワーク上で移動させる必要もないから、可動部分からの発塵や可動部分からの異物等の落下によりワークが汚されるおそれもない。作業手段が作業前の状態に復帰するのを待ってからワークの搬送を再開するような待ち時間も生じず、生産効率を一層向上させることができる。
【0012】
本発明の処理方法において、前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記第1の作業工程及び前記第2の作業工程では、前記搬送経路上に配置された現像液塗布ローラ(35)を前記ワークと接触させて当該レジスト膜に対する現像液を前記ワークに塗布してもよい。前記レジスト膜がポジ型レジスト剤から形成されている場合において、前記前記第1の作業工程及び前記第2の作業工程では、前記搬送経路上に配置された露光装置(31)から前記ワークの前記レジスト膜に対して露光を行ってもよい。これらの場合にはカラーフィルタの基板に対する端部洗浄や端部露光において本発明の作用効果を発揮させて基板の破損の回避やレジスト膜の除去処理の信頼性の向上等を達成することができる。
【0013】
本発明のワークの処理装置は、矩形平板状のワーク(2)をその一辺(2a)と平行な第1の方向に搬送する第1の搬送手段(11)と、前記第1の搬送手段によって搬送されるワークの搬送方向を、当該ワークの前記一辺と直交する他の辺(2b)と平行な第2の方向に切り替える方向切替手段(14)と、前記方向切替手段によって搬送方向が切り替えられたワークを前記第2の方向に搬送する第2の搬送手段(12)と、前記第1の搬送手段の搬送経路上の定位置に配置され、搬送途中のワークに対して所定の処理を施す第1の作業手段(4)と、前記第2の搬送手段の搬送経路上の定位置に配置され、搬送途中のワークに対して所定の処理を施す第2の作業手段(5)と、を備えたことを特徴とする。
【0014】
この処理装置によれば、第1の搬送手段上では第1の作業手段とワークとの間に第1の方向への相対的な運動が生じているので、第1の搬送経路上の定位置に配置された第1の作業手段により、ワークの第1の方向に沿った領域に対して所定の処理を施すことができる。また、第2の搬送手段上では第2の作業手段とワークとの間に第2の方向への相対的な運動が生じているので、第2の搬送経路上の定位置に配置された第2の作業手段により、ワークの第2の方向に沿った領域に対して所定の処理を施すことができる。このようにして本発明の処理装置によれば本発明の処理方法を実現して上述した通りの作用効果を奏することができる。
【0015】
本発明の処理装置において、前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記第1の作業手段及び前記第2の作業手段は前記レジスト膜に対する現像液を前記ワークに塗布する現像液塗布ローラ(35)を備えてもよい。前記レジスト膜がポジ型レジスト剤から形成され、前記前記第1の作業手段及び前記第2の作業手段は、前記ワークの各辺に沿った領域に前記ポジ型レジストを反応させる光を照射する照射部(33)を含んでもよい。これらによれば、端部洗浄や端部露光を対象として本発明の処理方法を実施可能な処理装置を提供することができる。
【0016】
前記第1及び前記第2の搬送手段には前記ワークを支持しつつ回転する搬送ローラ(16)が設けられ、前記第1の作業手段及び前記第2の作業手段の少なくともいずれか一方の現像液塗布ローラが前記搬送ローラと対向して配置されてもよい。この場合には現像液塗布ローラを基板に押し付ける力を搬送ローラで受けて基板の歪みの発生を防止することができる。
【0017】
前記第1の作業手段及び前記第2の作業手段の少なくともいずれか一方の作業手段では、前記現像液塗布ローラが前記ワークを挟み込むようにして上下に対向させて複数設けられてもよい。この場合には一方の側の現像液塗布ローラが基板を押す力を他方の現像液塗布ローラで受けて基板の歪みの発生を防止することができる。
【0018】
なお、前記現像液塗布ローラは前記ワークの互いに平行な二辺に対応して一対設けられてもよい。この場合には二辺に対して同時に現像液を塗布でき、第1の作業手段及び第2の作業手段の通過によりワークの四辺に現像液を塗布できる。
【0019】
さらに、本発明のガラス基板の搬送装置(3)は、矩形平板状のガラス基板(2)をその一辺(2a)と平行な第1の方向に搬送する第1の搬送手段(11)と、前記第1の搬送手段によって搬送されるガラス基板の搬送方向を、当該ガラス基板の前記一辺と直交する他の辺と平行な第2の方向に切り替える方向切替手段(14)と、前記方向切替手段によって搬送方向が切り替えられたガラス基板を前記第2の方向に搬送する第2の搬送手段(12)とを備えたことを特徴とする。この搬送装置によれば、本発明の処理方法及び処理装置を容易に実現することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の一実施形態の端部洗浄装置を示している。この端部洗浄装置1は、液晶ディスプレイ表示装置に組み込まれるガラス製のカラーフィルタ用の基板(ワーク)2の周辺部を洗浄するためのものであって、搬送装置3と、第1の作業装置4と、第2の作業装置5と、各装置の動作を制御する制御装置6とを備えている。搬送装置3は、基板2を直線的に搬送する第1搬送部11、第2搬送部12、及び第3搬送部13と、第1搬送部11と第2搬送部12との間で基板2の搬送方向を切り替える方向切替部14と、第2搬送部12と第3搬送部13との間で基板2の搬送方向を切り替える方向切替部15とを備えている。搬送部11〜13は搬送ローラ16によって基板2を下から支えつつ搬送するローラコンベアであり、それらの詳細は周知のローラコンベアと同様でよい。
【0021】
第1搬送部11は基板2をその一辺2aと平行な第1の方向(矢印A方向)に搬送し、第2搬送部12は基板2を第1の方向と直交しかつ他の一辺2bと平行な第2の方向(矢印B方向)に搬送する。第3搬送部13は第1の方向に基板2を搬送する。これにより、搬送装置3は全体としてクランク状に屈曲した搬送経路を備えている。搬送部11〜13はいずれも基板2を水平に保持しつつ搬送するが、その搬送高さは第1搬送部11が最も低く、第3搬送部13が最も高い。つまり、第1搬送部11から第3搬送部13に向かって段階的に基板2の高さが増している。
【0022】
図2にも示したように、方向切替部14は第1搬送部11から基板2を受け取り、第1の方向及び第2の方向と基板2の辺2a、2bとの関係を維持したまま、その基板2を第2搬送部12へ送り出す。従って、第2搬送部12においても基板2の一辺2aは第1の方向と平行に維持される。つまり、方向切替部14は基板2を水平面上で回転させることなく、第1搬送部11から受け取ったままの姿勢でその搬送方向を第2搬送部12の搬送方向へと切り替えるものである。このような基板2の搬送方向の切替は様々な構成により実現することができるが、図2の方向切替部14では、一例として、第1搬送部11の搬送方向に基板2を搬送する第1のローラ17…17と、第2搬送部12の搬送方向に基板2を搬送する第2のローラ18…18とを設け、第2のローラ18を第1のローラ17よりも低い位置(図2(a))と高い位置(図2(b))との間で切り替えられるようにして搬送方向の切替を実現する。
【0023】
すなわち、第1搬送部11から基板2を受け取る際には、図2(a)に示したように第2のローラ18を下降させ、その状態で第1のローラ17を回転させて基板2を取り込む。この後、図2(b)に示すように第2のローラ18を第1のローラ17よりも上昇させ、第2のローラ18の回転により基板2を第2搬送部12に送り出す。こうした第2のローラ18の上下動の繰り返しによって基板2を第1搬送部11から第2搬送部12へと移し替える。なお、第1のローラ17が基板2を支持する高さは第1搬送部11のそれと等しく、第2のローラ18が基板2を支持する高さは第2搬送部12のそれと等しい。
【0024】
第1のローラ17及び第2のローラ18をそれぞれ回転させる機構及び第2のローラ18を昇降させる機構については適宜に構成してよいが、その一例を図3に示す。
【0025】
図3の例では、同軸上に並ぶ全ての第1のローラ17…17を共通のローラ軸20に取り付け、そのローラ軸20を搬送装置3のフレーム等の構造物21に回転可能に装着する(装着部分は不図示)。そして、各ローラ軸20をチェーンやベルト等の動力伝達部材を介してモータ等の回転駆動源と連結して第1のローラ17を回転駆動可能とする。一方、第2のローラ18についてはローラ軸20との干渉を避ける必要から、同軸上の第2のローラ18を共通のローラ軸で連結することができない。従って、ローラ17,18の下方にローラ18の支持部材22を配置し、その支持部材22には第1のローラ17の隙間に向かってローラ支持部22aを設け、そのローラ支持部22aに各ローラ18を個別に(つまりローラ18毎に)回転可能に取り付ける。支持部材22は昇降ガイド23,23を利用して構造物21に昇降可能に取り付け、構造物21には支持部材22を昇降駆動するエアシリンダ等のアクチュエータ24を設ける。さらに、ローラ軸20の方向に並ぶ第2のローラ18をベルト等の動力伝達部材25を介して不図示のモータ等の回転駆動源と連結する。動力伝達部材25は第1のローラ17と干渉しないように第1のローラ17の下方に離し、アイドラ26等を利用して第2のローラ18の取付位置で動力伝達部材25を上方に引き込むようにする。
【0026】
以上の構成によれば、第1のローラ17及び第2のローラ18をそれぞれ別々に回転駆動でき、かつ第1のローラ17のローラ軸20との干渉を避けながら第2のローラ18を昇降させることができる。なお、このようなローラ18の昇降動作の制御は、例えば方向切替部14への基板2の搬入及び搬出をセンサ50,51で検出し、その検出信号に基づいて制御装置6がアクチュエータ24の動作を支持することにより実現することができる。
【0027】
上記の例は方向切替部14を実施するための一例として示すものであり、本発明はこのような実施形態に限定されない。なお、第2搬送部12と第3搬送部13との間に配置された方向切替部15については、方向切替部14と同様の構成でよく、動作制御に関しても同様でよい。それらの詳細は説明を省略する。
【0028】
次に、作業装置4,5について説明する。図1に示すように、第1搬送部11に設けられた第1の作業装置4は露光装置31と、現像液塗布装置32とを含んでいる。図4(a)に示したように、露光装置31は一つの照射部33,33から基板2に対して紫外線を照射するものであり、各照射部33からの紫外線の照射範囲は、基板2の第1の方向(図1の矢印Aの方向)と平行な辺2a、2bに沿った所定幅に設定されている。こうした端部の露光処理は、基板2上のレジスト膜40がポジ型レジストによって構成されているときに必要とされることがある。ポジ型レジストが使用された場合には露光部分が後の現像処理で除去されるので、基板2の周辺部に対しては、特にパターンが形成されない限りは十分な露光を行う必要がある。しかし、基板2の大型化等の理由から、現実には基板2の周辺部に十分な露光を行うことができない露光機が少なからず存在している。こうした露光機が使用される場合には、露光機によるパターン転写とは別に基板2の端部に紫外線を照射する必要がある。図4(a)の露光装置31はこうした目的で設置されている。
【0029】
また、図4(b)に示したように、現像液塗布装置32は基板2の辺2a、2cに沿った端部とそれぞれ対向して設置された一対の現像液塗布ローラ35,35を含んでいる。ローラ35,35は共通の回転軸36に連結される。回転軸36は搬送装置3のフレーム等に支持されてその軸線の回りに回転自在である。ローラ35はスポンジのように大量の液体を含浸し得る材料にて構成される。図5(a)から明らかなように、ローラ35の外周面には現像液供給管37(図5参照)からレジスト膜40に対する現像液が供給される。また、第1の方向に関してローラ35は第1搬送部11の搬送ローラ16と位置を合わせて配置され、基板2をローラ35,16の間で挟み込むことが可能である。
【0030】
一方、第2の作業装置5は第1の作業装置4と同様に露光装置31及び現像液塗布装置32を含むものである。但し、露光装置31の照射部33,33、及び現像液塗布装置32の現像液塗布ローラ35,35は、基板2の辺2b、2dに沿った端部に紫外線を照射し、又は現像液を塗布するようにそれぞれの位置が調整されている。現像液塗布ローラ35が第2搬送部12の搬送ローラ16と位置を合わせて設けられている点も同じである。
【0031】
次に、一枚の基板2に対する端部洗浄装置1の処理を説明する。
【0032】
まず、第1搬送部11においては、レジスト膜40が形成されて必要なパターン転写が行われた後の基板2がその一辺2aと平行にして搬送される。図5(b)に示すように、基板2が露光装置31を通過する際にその基板2の辺2a、2cに沿った端部に照射部33から紫外線が照射され、当該部分のレジスト膜40が露光される。続いて、基板2は現像液塗布装置32を通過し、そのとき基板2の辺2a、2cが現像液塗布ローラ35と第1搬送部11の搬送ローラ16との間に挟み込まれる。これによりローラ35に含まれた現像液が辺2a、2cに沿って形成されたレジスト膜の盛り上がり部41に塗布される。
【0033】
この後、基板2は方向切替部14に移動し、そこでは第2のローラ18の上昇により基板2が第2搬送部12の搬送高さまで持ち上げられ、第2のローラ18の回転により基板2が第2搬送部12へ搬出される。第2搬送部12に移動した基板2は搬送ローラ16によって第2の方向に搬送される。その基板2が第2の作業装置5の露光装置31を通過する際に基板2の辺2b、2dに沿った端部に紫外線が照射され、続いて基板2が現像液塗布装置32を通過する際に辺2b、2dに沿って形成されたレジスト膜の盛り上がり部に現像液塗布ローラ35から現像液が塗布される。
【0034】
第2の作業装置5を通過した基板2は方向切替部15に導かれ、その第2のローラ18の上昇と回転により基板2は第3搬送部13に送り出されて再び第1の方向に搬送される。この第3搬送部13は基板2をパターン現像工程へと搬送する。
【0035】
以上の端部洗浄装置1によれば、基板2の各辺2a〜2dを対象とした露光及び現像液の塗布がいずれも基板2を移動させながら行われる。方向切替部14においても紫外線の照射や現像液の塗布等の作業が完了するまで基板2を停止させる必要がなく、第1の方向に沿って基板2が搬入される毎に逐次基板2を第2の方向に送り出すだけでよい。従って、端部露光や端部洗浄のために生産ライン上で基板2を暫く停止させる必要がない。また、基板2の移動を利用して露光位置や現像液の塗布位置を各辺2a〜2dに沿って変化させる構成であり、照射部33や現像液塗布ローラ35が作業後の位置から作業前の位置に復帰するまで基板2の搬送再開を待つ必要もない。従って、生産効率を向上させることができる。さらに、照射部33や現像液塗布ローラ35を移動させる必要がないため、これらの可動機構からの発塵や移動途中の液だれによって基板2が汚されるおそれもない。
【0036】
現像液塗布ローラ35が基板2の各辺2a〜2dに対して一箇所で接触し、その反対側からは搬送装置3の搬送ローラ16によって基板2が支持されているから基板2を歪ませるような力が基板2に加わらず、現像液塗布ローラ35による圧力で基板2が破損する心配がない。さらに、この効果は、現像液塗布ローラ35と搬送ローラ16とを搬送方向に位置合わせしている限り、基板2の長さや幅が変化してもそれに影響されることなく発揮される。従って、基板2のサイズ変更に対する装置1の許容度が高く、サイズ変更に伴う段取り換えも照射部33や現像液塗布ローラ35の位置調整だけで足りるのでこれを迅速に済ませることができる。なお、方向切替部14,15では基板2が持ち上げられるが、この部分では基板2が何ら押し下げられないので、支持位置の不良によって基板2に許容量を超える歪みが生じるおそれもない。
【0037】
本発明は以上の実施形態に限定されず、種々の形態にて実施してよい。例えば、図5に示すようにレジスト膜40が基板2の裏面側まで回り込む場合には、現像液塗布装置32の現像液塗布ローラ35,35を基板2のそれぞれの辺2a〜2dに対して上下一対ずつ設け、現像液塗布ローラ35,35にて基板2を挟み込んでもよい。照射部33についても同様に上下一対配置してもよい。特にポジ型レジストが使用される場合において図5のような裏面側へのレジスト膜40の回り込みが見られる場合には裏面側にも端部露光が必要となり、現像液塗布ローラ35と同様に照射部33も上下一対設ける必要がある。
【0038】
搬送装置3のレイアウトは図1の例に限らない。例えば図7(a)に示すように第3搬送部13を第2搬送部12に対して第1搬送部11と同一の側に配置してもよい。第3搬送部13は必須ではなく、図7(b)に示すように第1搬送部11と第2搬送部12とでL字型の搬送装置3を構成してもよい。方向切替部14は第1搬送部11の終端に限定されず、図7(c)に示すように第1搬送部11の途中に一又は複数の方向切替部14を配置し、第1搬送部11の途中から方向切替部14を経由して第2搬送部12へと基板2を送り出せるようにしてもよい。
【0039】
本発明において、搬送経路上に配置されるべき作業手段は、露光装置31と現像液塗布装置32とに限定されず、これらは適宜に変更してよい。例えば、ネガ型レジストが使用される場合には露光装置31は不要である。上記の実施形態では基板2の各辺2a〜2dに沿った領域を作業手段にて処理したが、各辺2a〜2dと平行な方向に延びる領域であれば本発明によって処理可能であり、例えば基板の端部から内側に入り込んだ領域であっても本発明に従って処理してよい。搬送装置はローラコンベアを利用するものに限定されず、基板の搬送に使用可能な各種の搬送手段を使用して搬送装置を構成してよい。例えばリニアモータとステージとを組み合わせた搬送装置においても本発明は適用可能である。
【0040】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、ワークを搬送しながら第1の作業手段及び第2の作業手段にて所定の処理を行うようにしたので、これらの作業手段を定位置に置いたままで第1の方向及び第2の方向にそれぞれ沿った領域に対して所定の処理を行うことができる。作業手段によってワークを処理する際にワークを搬送経路上で停止させる必要がないので生産効率の向上に有利である。また、処理中のワークの保持のためにワークを搬送経路から持ち上げて支持する必要がないから、不自然な支持位置でワークを支持して処理を行うことによってワークに危険な歪みを生じさせるおそれがなく、ワークのサイズに拘わりなく安全確実に処理を行える。作業手段をワーク上で移動させる必要もないから、可動部分からの発塵や可動部分からの異物等の落下によりワークが汚されるおそれもない。作業手段が作業前の状態に復帰するのを待ってからワークの搬送を再開するような待ち時間も生じず、生産効率を一層向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係るワークの処理装置を示す平面図。
【図2】方向切替部の概略を示す斜視図。
【図3】方向切替部の駆動機構の一例を示す図。
【図4】図1の露光装置及び現像液塗布装置を同図のIVa−IVa線及びIVb−IVb線に沿った断面にて示す図。
【図5】図1の露光装置及び現像液塗布装置による処理を説明するための図。
【図6】基板の裏面側にも現像液を塗布する例を示す図。
【図7】搬送装置のレイアウトについての変形例を示す図。
【符号の説明】
1 端部処理装置
2 ガラス基板(ワーク)
2a 一辺
2b 他の一辺
3 搬送装置
4 第1の作業装置(第1の作業手段)
5 第2の作業装置(第2の作業手段)
6 制御装置
11 第1搬送部(第1の搬送手段)
12 第2搬送部(第2の搬送手段)
14,15 方向切替部
16 搬送ローラ
17 第1のローラ
18 第2のローラ
31 露光装置
32 現像液塗布装置
33 照射部
35 現像液塗布ローラ
37 現像液供給管
40 レジスト膜
41 盛り上がり部
A 第1の方向
B 第2の方向
Claims (10)
- 矩形平板状のワークをその一辺と平行な第1の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第1の作業手段により前記搬送途中のワークの前記第1の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第1の作業工程と、
前記第1の処理を受けたワークの搬送方向を前記一辺と直交する他の一辺と平行な第2の方向に切り替える方向切替工程と、
前記ワークを前記第2の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第2の作業手段により前記搬送途中のワークの前記第2の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第2の作業工程と、
を備えたことを特徴とするワークの処理方法。 - 前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記第1の作業工程及び前記第2の作業工程では、前記搬送経路上に配置された現像液塗布ローラを前記ワークと接触させて当該レジスト膜に対する現像液を前記ワークに塗布することを特徴とする請求項1に記載のワークの処理方法。
- 前記レジスト膜がポジ型レジスト剤から形成され、前記前記第1の作業工程及び前記第2の作業工程では、前記搬送経路上に配置された露光装置から前記ワークの前記レジスト膜に対して露光を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載のワークの処理方法。
- 矩形平板状のワークをその一辺と平行な第1の方向に搬送する第1の搬送手段と、
前記第1の搬送手段によって搬送されるワークの搬送方向を、当該ワークの前記一辺と直交する他の辺と平行な第2の方向に切り替える方向切替手段と、
前記方向切替手段によって搬送方向が切り替えられたワークを前記第2の方向に搬送する第2の搬送手段と、
前記第1の搬送手段の搬送経路上の定位置に配置され、搬送途中のワークに対して所定の処理を施す第1の作業手段と、
前記第2の搬送手段の搬送経路上の定位置に配置され、搬送途中のワークに対して所定の処理を施す第2の作業手段と、
を備えたことを特徴とするワークの処理装置。 - 前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記第1の作業手段及び前記第2の作業手段は前記レジスト膜に対する現像液を前記ワークに塗布する現像液塗布ローラを備えていることを特徴とする請求項4に記載のワークの処理装置。
- 前記レジスト膜がポジ型レジスト剤から形成され、前記前記第1の作業手段及び前記第2の作業手段は、前記ワークの各辺に沿った領域に前記ポジ型レジストを反応させる光を照射する照射部を含むことを特徴とする請求項5に記載のワークの処理装置。
- 前記第1及び前記第2の搬送手段には前記ワークを支持しつつ回転する搬送ローラが設けられ、前記第1の作業手段及び前記第2の作業手段の少なくともいずれか一方の現像液塗布ローラが前記搬送ローラと対向して配置されていることを特徴とする請求項5又は6に記載のワークの処理装置。
- 前記第1の作業手段及び前記第2の作業手段の少なくともいずれか一方の作業手段では、前記現像液塗布ローラが前記ワークを挟み込むようにして上下に対向させて複数設けられていることを特徴とする請求項5又は6に記載のワークの処理装置。
- 前記現像液塗布ローラが前記ワークの互いに平行な二辺に対応して一対設けられていることを特徴とする請求項5〜8のいずれか1項に記載のワークの処理装置。
- 矩形平板状のガラス基板をその一辺と平行な第1の方向に搬送する第1の搬送手段と、
前記第1の搬送手段によって搬送されるガラス基板の搬送方向を、当該ガラス基板の前記一辺と直交する他の辺と平行な第2の方向に切り替える方向切替手段と、
前記方向切替手段によって搬送方向が切り替えられたガラス基板を前記第2の方向に搬送する第2の搬送手段と、
を備えたことを特徴とするガラス基板の搬送装置。
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