JP2011048239A - 両面露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】マスクライブラリを備える両面露光装置において、ワークの露光処理に要する全体の時間を短くし、スループットの低下を防ぐこと。
【解決手段】ワーク搬入搬出部２０に搬送されてきたワークＷを、ワークステージ４に搬送し、ワークＷに、マスクライブラリ６から取り出した第１面（表面）露光用のマスクに形成されたパターンを露光する。そして、反転ステージ部３０でワークＷを反転させ（裏返し）ワーク保管部４０に保管する。このようにて１ロット分のすべてのワークの第１面（表面）を露光する。ついで、マスクを第２面（裏面）露光用のマスクに交換し、ワーク保管部４０から第１面露光済みのワークを取り出し、ワークの第２面（裏面）を露光する。裏面の露光が終わったワークＷは、第１のワーク搬送機構５０ｂにより、ワーク搬入搬出部２０に搬送される。
【選択図】 図１
【解決手段】ワーク搬入搬出部２０に搬送されてきたワークＷを、ワークステージ４に搬送し、ワークＷに、マスクライブラリ６から取り出した第１面（表面）露光用のマスクに形成されたパターンを露光する。そして、反転ステージ部３０でワークＷを反転させ（裏返し）ワーク保管部４０に保管する。このようにて１ロット分のすべてのワークの第１面（表面）を露光する。ついで、マスクを第２面（裏面）露光用のマスクに交換し、ワーク保管部４０から第１面露光済みのワークを取り出し、ワークの第２面（裏面）を露光する。裏面の露光が終わったワークＷは、第１のワーク搬送機構５０ｂにより、ワーク搬入搬出部２０に搬送される。
【選択図】 図１
Description
本発明は、プリント基板等のワークの両面を露光する両面露光装置に関する。
プリント基板等においては、ワークの両面に回路等のパターンを製作することがある。そのための露光装置が「両面露光装置」として知られている。その一例として、特許文献１に記載された両面投影露光装置がある。
同特許文献に記載された両面投影露光装置は、光照射部、露光ステージ、第１および第２のマスクと、これら２枚のマスクを保持するマスクステージ、投影レンズ、ワークを反転させる反転ステージなどを備えている。
この露光装置は、ワークの第１面（表面）を第１のマスクを使って露光した後、反転ステージでワークを反転させ、第２面（裏面）を第２のマスクを使い露光する。これにより、ワークの表面には第１のマスクに形成されたパターンが露光され、裏面には第２のマスクに形成されたパターンが露光される。
同特許文献に記載された両面投影露光装置は、光照射部、露光ステージ、第１および第２のマスクと、これら２枚のマスクを保持するマスクステージ、投影レンズ、ワークを反転させる反転ステージなどを備えている。
この露光装置は、ワークの第１面（表面）を第１のマスクを使って露光した後、反転ステージでワークを反転させ、第２面（裏面）を第２のマスクを使い露光する。これにより、ワークの表面には第１のマスクに形成されたパターンが露光され、裏面には第２のマスクに形成されたパターンが露光される。
特許文献１に記載された両面投影露光装置においては、ワークの露光処理は、いわゆる「先入れ先出し」であり、装置に先に搬入されたワークから順番に、表面と裏面を露光して装置から搬出される。そのため、表面の露光に使用される第１のマスクと、裏面の露光に使用される第２のマスクは、１枚のワークの処理ごとに切り替える（交換する）。
同文献の図２、図３に記載の実施例の装置において、マスクステージは、表面用の第１のマスクと裏面用の第２のマスクの２枚を載せることができ、マスクの交換は、マスクステージをスライド移動して行っている。このため、マスクの交換時間は約２秒と短い。
表面露光用のマスクと裏面露光用のマスクの交換時間が、上記のように短い場合、マスクの交換を１枚のワークの処理ごとに実施しても、スループットは低下しない。すなわち、ワークの露光処理の全体の時間は長くならない。なぜなら、マスクの交換が、露光装置が他の動作を行っている間にできるからである。
しかし、特許文献１に記載の露光装置ではマスクをスライド移動させて交換しているので、多数のマスクを使用して、マスクを交換しながらワーク毎に異なった多数のパターンを露光することはできない。
同文献の図２、図３に記載の実施例の装置において、マスクステージは、表面用の第１のマスクと裏面用の第２のマスクの２枚を載せることができ、マスクの交換は、マスクステージをスライド移動して行っている。このため、マスクの交換時間は約２秒と短い。
表面露光用のマスクと裏面露光用のマスクの交換時間が、上記のように短い場合、マスクの交換を１枚のワークの処理ごとに実施しても、スループットは低下しない。すなわち、ワークの露光処理の全体の時間は長くならない。なぜなら、マスクの交換が、露光装置が他の動作を行っている間にできるからである。
しかし、特許文献１に記載の露光装置ではマスクをスライド移動させて交換しているので、多数のマスクを使用して、マスクを交換しながらワーク毎に異なった多数のパターンを露光することはできない。
一方、露光装置によっては、図９に示すように、多数のパターンの露光に対応できるように、多数のマスクをマスクライブラリ（以下ライブラリという）に保管しておき、ハンドラと呼ばれるマスク搬送機構により、必要なマスクをライブラリから取り出し、マスクステージに載せ換えるように構成したものがある。
図９において、１は光照射部であり、例えばランプ１ａと反射鏡１ｂから構成され、光照射部１から放射される光は、マスクステージ２上に載置されたマスク、投影レンズ３を介してワークステージ４上のワークＷに照射される。
マスクライブラリ６には複数マスクＭ１，Ｍ２，Ｍ３，…が収納され、マスクステージ２上のマスクＭを交換する場合、マスク搬送機構５がマスクステージ２上のマスクＭをワークハンド等により保持して、レール５ａに沿って移動し、マスクＭをマスクライブラリ６の所定の位置に収納する。また、マスク搬送機構５は、マスクライブラリ６から次に使用するマスクを取り出して、レール５ａに沿って移動しマスクステージ２に載置する。
図９において、１は光照射部であり、例えばランプ１ａと反射鏡１ｂから構成され、光照射部１から放射される光は、マスクステージ２上に載置されたマスク、投影レンズ３を介してワークステージ４上のワークＷに照射される。
マスクライブラリ６には複数マスクＭ１，Ｍ２，Ｍ３，…が収納され、マスクステージ２上のマスクＭを交換する場合、マスク搬送機構５がマスクステージ２上のマスクＭをワークハンド等により保持して、レール５ａに沿って移動し、マスクＭをマスクライブラリ６の所定の位置に収納する。また、マスク搬送機構５は、マスクライブラリ６から次に使用するマスクを取り出して、レール５ａに沿って移動しマスクステージ２に載置する。
図９に示すマスクのライブラリと搬送機構を採用する露光装置の場合、マスクの交換は、交換するマスクをマスクステージから取外してライブラリに搬送回収し、新しいマスクをマスクステージに搬送載置するという作業を行うので、マスクの１回につき約３０秒からそれ以上の時間がかかる。
マスクの交換時間が３０秒程度になると、前記特許文献１に記載の露光装置においては、その時間は、露光装置が行う他の動作の時間では吸収することができずに、マスク交換が終わるのを待つ待ち時間となる。その結果１枚のワークを処理する時間が長くなり、スループットが低下する。
マスクの交換時間が３０秒程度になると、前記特許文献１に記載の露光装置においては、その時間は、露光装置が行う他の動作の時間では吸収することができずに、マスク交換が終わるのを待つ待ち時間となる。その結果１枚のワークを処理する時間が長くなり、スループットが低下する。
以上のように、特許文献１に記載されるマスクを切り替えて交換する構造のものでは、マスク交換を迅速に行なうことができるが、多数枚のマスクを用いて露光するのは難しく、また、図９に示すようにマスクのライブラリを有するものでは、多数枚のマスクの交換は可能であるが、マスク交換に時間がかかり、スループットが低下するといった問題がある。
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の目的は、多数のマスクを保管して交換することができるマスクライブラリを備える両面露光装置において、ワークの露光処理に要する全体の時間を短くし、スループットの低下を防ぐことができる両面露光装置を提供することである。
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の目的は、多数のマスクを保管して交換することができるマスクライブラリを備える両面露光装置において、ワークの露光処理に要する全体の時間を短くし、スループットの低下を防ぐことができる両面露光装置を提供することである。
本発明においては、上記課題を解決するため、露光装置にマスクライブラリとマスク搬送機構を設けて、マスクライブラリに複数枚のマスクを格納する。そして、第１面（表面）の露光が終わったワークを保管するワークの保管部を設けるとともに、ワークを載置して露光を行うワークステージと、ワークの保管部の間に、ワークの反転を行う反転ステージ部を設け、ワークステージと反転ステージ部、反転ステージ部とワーク保管部の間には、ワークを搬送するワーク搬送機構を設ける。
そして、露光処理を次のように行なう。
（１）マスクステージに表面露光用の第１のマスクを載せる。ワークが表面を上にしてワークステージに搬入される。ワークの表面を露光する。
表面の露光が終わると、ワークはワークステージから反転ステージ部に搬送され、反転ステージ部はワークを反転させる。
（２）反転したワークはワーク保管部に搬送される。ワーク保管部は、反転したワークを順次保管する。これを１ロットのすべてのワーク（１ロットは２０枚〜５０枚のワークにより構成される）について行う。即ち、全ワークについて先に表面だけ露光し、反転して第２面（裏面）を上に向けた状態で一時保管する。
（３）その後、マスクステージのマスクを裏面露光用の第２のマスクに交換し、続いてワーク保管部から裏面が上になったワークを取り出し、ワークステージに搬送し、裏面の露光を行う。裏面の露光が終わったワークは、装置の外に搬出される。ワーク保管部に保管されているすべてのワークがなくなるまで行う。即ち、裏面の露光は、表面を露光した順番（ワーク保管部に保管した順番）とは逆順に処理する。
なお、表面あるいは裏面を露光する途中で、マスクを例えばＡ→Ｂ→Ｃ…のように交換し、１ロットのワークの表面（あるいは裏面）にＡのパターン、Ｂのパターン、Ｃのパターン、…のように異なったパターンを露光するようにしてもよい。
また、表面の露光を終えたワークを、反転させずにワーク保管部に保管し、裏面を露光するためにワーク保管部からワークステージに移動する際に、反転ステージ部で反転させても良い。
そして、露光処理を次のように行なう。
（１）マスクステージに表面露光用の第１のマスクを載せる。ワークが表面を上にしてワークステージに搬入される。ワークの表面を露光する。
表面の露光が終わると、ワークはワークステージから反転ステージ部に搬送され、反転ステージ部はワークを反転させる。
（２）反転したワークはワーク保管部に搬送される。ワーク保管部は、反転したワークを順次保管する。これを１ロットのすべてのワーク（１ロットは２０枚〜５０枚のワークにより構成される）について行う。即ち、全ワークについて先に表面だけ露光し、反転して第２面（裏面）を上に向けた状態で一時保管する。
（３）その後、マスクステージのマスクを裏面露光用の第２のマスクに交換し、続いてワーク保管部から裏面が上になったワークを取り出し、ワークステージに搬送し、裏面の露光を行う。裏面の露光が終わったワークは、装置の外に搬出される。ワーク保管部に保管されているすべてのワークがなくなるまで行う。即ち、裏面の露光は、表面を露光した順番（ワーク保管部に保管した順番）とは逆順に処理する。
なお、表面あるいは裏面を露光する途中で、マスクを例えばＡ→Ｂ→Ｃ…のように交換し、１ロットのワークの表面（あるいは裏面）にＡのパターン、Ｂのパターン、Ｃのパターン、…のように異なったパターンを露光するようにしてもよい。
また、表面の露光を終えたワークを、反転させずにワーク保管部に保管し、裏面を露光するためにワーク保管部からワークステージに移動する際に、反転ステージ部で反転させても良い。
すなわち、本発明においては、以下のようにして前記課題を解決する。
（１）露光光を照射する光照射部と、パターンが形成されたマスクを保持するマスクステージと、ワークを載置する露光ステージと、ワークの第１面（表面）にパターンを露光するための第１のマスクと、第２面（裏面）にパターンを露光するための第２のマスクと、上記第１のマスクと第２のマスクを保管するマスクライブラリと、上記マスクライブラリと上記マスクステージとの間でマスクを搬送するマスク搬送機構と、第１および第２のマスクに形成されたマスクパターンを、上記露光ステージに載置されたワーク面上に投影する投影レンズと、第１面が露光されたワークを反転させる反転ステージ部と、上記光照射部からの露光光の照射と、上記マスク搬送機構による第１のマスク及び第２のマスクの交換と、上記反転ステージ部によるワークの反転と、上記ワークの搬送とを制御する制御部を備えた両面露光装置において、第１面が露光されたワークを複数保管するワーク保管部を備え、上記制御部は、複数のワークからなる１ロットのワークのすべてのワークについてまず第１面を露光して上記ワーク保管部に保管し、１ロットのワークのすべてのワークについて第１面の露光が終了後、第１のマスクを第２のマスクを交換し、第２面を露光する。
（２）上記（１）において、ワークの第１面（表面）露光用マスクを複数のマスク群から構成し、上記制御部が、上記１ロットのワークの第１面の露光の途中で、第１のマスクを交換し、上記１ロットのワークの第１面に、異なったマスクパターンを露光する。
（３）上記（１）において、ワークの第２面（裏面）露光用マスクを複数のマスク群から構成し、上記制御部が、上記１ロットのワークの第２面の露光の途中で、第２のマスクを交換し、上記１ロットのワークの第２面に、異なったマスクパターンを露光する。
（４）上記（１）（２）（３）において、上記制御部が、露光したワークの上記反転ステージ部による反転と、上記第１のマスクと第２のマスクの交換を同時に行う。
（１）露光光を照射する光照射部と、パターンが形成されたマスクを保持するマスクステージと、ワークを載置する露光ステージと、ワークの第１面（表面）にパターンを露光するための第１のマスクと、第２面（裏面）にパターンを露光するための第２のマスクと、上記第１のマスクと第２のマスクを保管するマスクライブラリと、上記マスクライブラリと上記マスクステージとの間でマスクを搬送するマスク搬送機構と、第１および第２のマスクに形成されたマスクパターンを、上記露光ステージに載置されたワーク面上に投影する投影レンズと、第１面が露光されたワークを反転させる反転ステージ部と、上記光照射部からの露光光の照射と、上記マスク搬送機構による第１のマスク及び第２のマスクの交換と、上記反転ステージ部によるワークの反転と、上記ワークの搬送とを制御する制御部を備えた両面露光装置において、第１面が露光されたワークを複数保管するワーク保管部を備え、上記制御部は、複数のワークからなる１ロットのワークのすべてのワークについてまず第１面を露光して上記ワーク保管部に保管し、１ロットのワークのすべてのワークについて第１面の露光が終了後、第１のマスクを第２のマスクを交換し、第２面を露光する。
（２）上記（１）において、ワークの第１面（表面）露光用マスクを複数のマスク群から構成し、上記制御部が、上記１ロットのワークの第１面の露光の途中で、第１のマスクを交換し、上記１ロットのワークの第１面に、異なったマスクパターンを露光する。
（３）上記（１）において、ワークの第２面（裏面）露光用マスクを複数のマスク群から構成し、上記制御部が、上記１ロットのワークの第２面の露光の途中で、第２のマスクを交換し、上記１ロットのワークの第２面に、異なったマスクパターンを露光する。
（４）上記（１）（２）（３）において、上記制御部が、露光したワークの上記反転ステージ部による反転と、上記第１のマスクと第２のマスクの交換を同時に行う。
本発明においては、以下の効果を得ることができる。
（１）まず表面の露光を１ロットのすべてのワークについて行い、続いて裏面の露光を行うので、マスクの交換は１ロットの露光処理において１回で済む。したがって、マスクの交換時間が多少長くなったとしても、ワークの露光処理の全体の時間が極端に長くなることがない。このため、スループットの低下を防ぐことができる。
（２）多数のマスクを保管したマスクライブラリを備えているので、ワークの第１面（表面）または第２面の露光の途中でマスクを交換して、１ロットのワークの表面（あるいは裏面）に異なったパターン露光することができる。
この場合、第１面（表面）または第２面（裏面）の露光中にマスクを交換しているので、その分、処理時間が増加するが、ワークの反転ステージ部による反転と、マスクの交換を同時に行うことで、処理時間の増加はわずかである。
（３）露光したワークの反転ステージ部による反転と、第１のマスクと第２のマスクの交換を同時に行うことで、処理時間を短縮することができる。
（１）まず表面の露光を１ロットのすべてのワークについて行い、続いて裏面の露光を行うので、マスクの交換は１ロットの露光処理において１回で済む。したがって、マスクの交換時間が多少長くなったとしても、ワークの露光処理の全体の時間が極端に長くなることがない。このため、スループットの低下を防ぐことができる。
（２）多数のマスクを保管したマスクライブラリを備えているので、ワークの第１面（表面）または第２面の露光の途中でマスクを交換して、１ロットのワークの表面（あるいは裏面）に異なったパターン露光することができる。
この場合、第１面（表面）または第２面（裏面）の露光中にマスクを交換しているので、その分、処理時間が増加するが、ワークの反転ステージ部による反転と、マスクの交換を同時に行うことで、処理時間の増加はわずかである。
（３）露光したワークの反転ステージ部による反転と、第１のマスクと第２のマスクの交換を同時に行うことで、処理時間を短縮することができる。
図１は、本発明の実施例の両面露光装置の概略構成を示す図である。
本実施例の両面露光装置は、大きくは、露光機本体１０と、ワーク搬入搬出部２０、反転ステージ部３０、ワーク保管部４０に分けられる。
また、露光機本１０体は、露光光を出射する光照射部１、ワークに形成する回路等のパターン（マスクパターン）を形成したマスクＭを載置するマスクステージ２、露光するワークＷを載置するワークステージ４、ワークステージ４上のワークＷにマスクパターンを投影する投影レンズ３、複数のマスクを保管するマスクライブラリ６等を備える。
なお、露光機本体１０は、マスクステージ２の移動機構、ワークステージ４の移動機構、マスクＭとワークＷの位置合せを行うためのアライメント顕微鏡、マスクライブラリ６とマスクステージ２の間でマスクを搬送するマスク搬送機構５、ワーク搬入搬出部２０とワークステージ４との間、またワークステージ４と反転ステージ部３０との間、反転ステージ部３０とワーク保管部４０との間でワークを搬送するワーク搬送機構などを備えるが、図１においてはマスク搬送機構５の位置が示されているのみで、他は省略している。
本実施例の両面露光装置は、大きくは、露光機本体１０と、ワーク搬入搬出部２０、反転ステージ部３０、ワーク保管部４０に分けられる。
また、露光機本１０体は、露光光を出射する光照射部１、ワークに形成する回路等のパターン（マスクパターン）を形成したマスクＭを載置するマスクステージ２、露光するワークＷを載置するワークステージ４、ワークステージ４上のワークＷにマスクパターンを投影する投影レンズ３、複数のマスクを保管するマスクライブラリ６等を備える。
なお、露光機本体１０は、マスクステージ２の移動機構、ワークステージ４の移動機構、マスクＭとワークＷの位置合せを行うためのアライメント顕微鏡、マスクライブラリ６とマスクステージ２の間でマスクを搬送するマスク搬送機構５、ワーク搬入搬出部２０とワークステージ４との間、またワークステージ４と反転ステージ部３０との間、反転ステージ部３０とワーク保管部４０との間でワークを搬送するワーク搬送機構などを備えるが、図１においてはマスク搬送機構５の位置が示されているのみで、他は省略している。
さらに、露光装置は、光照射部１からの露光光の照射、マスク搬送機構５によるマスクの交換、反転ステージ部３０によるワークの反転、ワーク搬入搬出部２０とワークステージ４間でのワークＷの搬送、ワークステージ４と反転ステージ部３０間でのワークＷの搬送、反転ステージ部３０とワーク保管部４０間でのワークＷの搬送などを制御する制御部６０を備える。
また、露光機本体１０の光照射部１は、露光光を含む光を放射する光源であるランプ、ランプから放射される光を反射する反射鏡、光照射部からの光の出射を制御するシャッタ等を備える。これも図示を省略している。
また、露光機本体１０の光照射部１は、露光光を含む光を放射する光源であるランプ、ランプから放射される光を反射する反射鏡、光照射部からの光の出射を制御するシャッタ等を備える。これも図示を省略している。
ワーク搬入搬出部２０は、複数枚（２０牧から５０枚）のワークを１ロットとして、両面露光処理を行うワークが、工場の搬送機構（不図示）により搬送されてきて置かれる部分である。ワーク搬入搬出部２０に置かれたワークは、１枚ずつ露光機本体１０のワークステージ４に、ワーク搬送機構（不図示）により運ばれて露光される。また、両面の露光が終了したワークが、ワークステージ４からワーク搬送機構により搬出される場所でもある。
ワークステージ４に載置されたワークは、ワークステージ４に真空吸着等により保持される。光照射部１から照射された露光光は、マスクステージ２に保持されたマスクＭに照射される。マスクＭには回路等のパターンが形成されており、このパターンは投影レンズ３によりワークステージ４に保持されたワークＷに投影され露光される。
反転ステージ部３０は、露光機本体１０で表面の露光が終わり、ワーク搬送機構により運ばれてきたワークを反転させる部分である。反転ステージ部３０はワークを載せて１８０°反転するステージを備える。詳しい構造については後述する。
ワーク保管部４０は、反転ステージ部３０で反転されたワークを保管する部分である。ワーク保管部４０は、ワーク搬送機構により運ばれてきたワークを順番に積み上げて保管する棚を備える。詳しい構造については後述する。
ワークステージ４に載置されたワークは、ワークステージ４に真空吸着等により保持される。光照射部１から照射された露光光は、マスクステージ２に保持されたマスクＭに照射される。マスクＭには回路等のパターンが形成されており、このパターンは投影レンズ３によりワークステージ４に保持されたワークＷに投影され露光される。
反転ステージ部３０は、露光機本体１０で表面の露光が終わり、ワーク搬送機構により運ばれてきたワークを反転させる部分である。反転ステージ部３０はワークを載せて１８０°反転するステージを備える。詳しい構造については後述する。
ワーク保管部４０は、反転ステージ部３０で反転されたワークを保管する部分である。ワーク保管部４０は、ワーク搬送機構により運ばれてきたワークを順番に積み上げて保管する棚を備える。詳しい構造については後述する。
図２は、本実施例の両面露光装置の具体的構成例を示す図であり、内部をワーク保管部側から見た斜視図である。なお、同図では、図１に示したワーク搬入搬出部２０、光照射部１、マスクステージ２、マスクライブラリ６等は省略されている。
同図において、同図左より、ワークをワーク搬入搬出部２０からワークステージ４に搬送する第１のワーク搬送機構５０ａ、ワークステージ４、ワークをワークステージ４から反転ステージ部３０に搬送する第２のワーク搬送機構５０ｂ、ワークを反転ステージ部３０から搬送する第３のワーク搬送機構４６を含むワーク保管部４０である。
ワークステージ４の上側には、マスクＭとワークＷの位置合せに使用するアライメント顕微鏡７と、投影レンズ３が設けられる。また、ワークステージ４の手前側（搬送方向に直交する方向）にはプリアライメントステージ４ａが設けられ、その上には、ワークを吸着して第１のワーク搬送機構５０ａからプリアライメントステージ４ａへ、また、プリアライメントステージ４ａから第２のワーク搬送機構５０ｂへ搬送する一対のワークハンド８ａ，８ｂが設けられる。
制御部６０は、前記したように光照射部１、マスク搬送機構５によるマスクの交換等に加えて、上記第１のワーク搬送機構５０ａ、第２のワーク搬送機構５０ｂによるワークの搬送、反転ステージ部３０によるワークの反転、ワーク保管部４０によるワークの保管動作などを制御する。
同図において、同図左より、ワークをワーク搬入搬出部２０からワークステージ４に搬送する第１のワーク搬送機構５０ａ、ワークステージ４、ワークをワークステージ４から反転ステージ部３０に搬送する第２のワーク搬送機構５０ｂ、ワークを反転ステージ部３０から搬送する第３のワーク搬送機構４６を含むワーク保管部４０である。
ワークステージ４の上側には、マスクＭとワークＷの位置合せに使用するアライメント顕微鏡７と、投影レンズ３が設けられる。また、ワークステージ４の手前側（搬送方向に直交する方向）にはプリアライメントステージ４ａが設けられ、その上には、ワークを吸着して第１のワーク搬送機構５０ａからプリアライメントステージ４ａへ、また、プリアライメントステージ４ａから第２のワーク搬送機構５０ｂへ搬送する一対のワークハンド８ａ，８ｂが設けられる。
制御部６０は、前記したように光照射部１、マスク搬送機構５によるマスクの交換等に加えて、上記第１のワーク搬送機構５０ａ、第２のワーク搬送機構５０ｂによるワークの搬送、反転ステージ部３０によるワークの反転、ワーク保管部４０によるワークの保管動作などを制御する。
第１のワーク搬送機構５０ａにより、ワーク搬入搬出部１０から搬送されてきたワークは、同図で点線で示したワークハンド８ａにより把持されてワークステージ４の手前側のプリアライメントステージ４ａ上に載置されてプリアライメントされ、図示しない搬送手段により、ワークステージ４に送られる。
ワークステージ４上に搬送されたワークＷはアライメント顕微鏡７を使用して位置合わせされ、ワーク上にマスクを介して図示しない光照射部から投影レンズ３を通過した露光光が照射され、マスクパターンの露光処理が行われる。
露光処理されたワークＷは、図示しない搬送手段によりプリアライメントステージ４ａに搬送され、ワークハンド８ｂにより第２のワーク搬送機構５０ｂに搬送される。また、これと同時に、第１のワーク搬送機構５０ａにより、ワーク搬入搬出部１０から搬送されてきた次のワークはワークハンド８ａにより吸着されてプリアライメントステージ４ａ上に載置される。
露光処理の終わったワークＷは、第２のワーク搬送機構５０ｂより反転ステージ部３０に送られて反転され（裏返され）、第３のワーク搬送機構４６によりワーク保管部４０に送られて保管される。
ワークステージ４上に搬送されたワークＷはアライメント顕微鏡７を使用して位置合わせされ、ワーク上にマスクを介して図示しない光照射部から投影レンズ３を通過した露光光が照射され、マスクパターンの露光処理が行われる。
露光処理されたワークＷは、図示しない搬送手段によりプリアライメントステージ４ａに搬送され、ワークハンド８ｂにより第２のワーク搬送機構５０ｂに搬送される。また、これと同時に、第１のワーク搬送機構５０ａにより、ワーク搬入搬出部１０から搬送されてきた次のワークはワークハンド８ａにより吸着されてプリアライメントステージ４ａ上に載置される。
露光処理の終わったワークＷは、第２のワーク搬送機構５０ｂより反転ステージ部３０に送られて反転され（裏返され）、第３のワーク搬送機構４６によりワーク保管部４０に送られて保管される。
次に図２に示したワーク搬送機構５０ａ，５０ｂ、反転ステージ部３０、ワーク保管部４０の構成例について説明する。
図３にワーク搬送機構５０の概略構成を示す。
同図に示すようにワーク搬送機構５０は、回転軸５２に取り付けられた柔らかい樹脂製のローラ５１から構成されるローラ回転機構５５を有し、これが複数保持枠５３に取り付けられている。回転軸５２にはモータ５４に取り付けられており、モータ５４は同期して回転軸５２を回転駆動する。
これによりローラ５１が回転し、ワーク（プリント基板）をローラ５１の上に置くと、ワークはローラ５１の回転する方向に送られる。
図３にワーク搬送機構５０の概略構成を示す。
同図に示すようにワーク搬送機構５０は、回転軸５２に取り付けられた柔らかい樹脂製のローラ５１から構成されるローラ回転機構５５を有し、これが複数保持枠５３に取り付けられている。回転軸５２にはモータ５４に取り付けられており、モータ５４は同期して回転軸５２を回転駆動する。
これによりローラ５１が回転し、ワーク（プリント基板）をローラ５１の上に置くと、ワークはローラ５１の回転する方向に送られる。
図４に、反転ステージ部３０の概略構成を示す。
反転ステージ部３０も、ワーク搬送機構５０と同様に、モータ３４を取り付けた回転軸３２に複数のローラ３１を取り付けたローラ回転機構３５を備えており、このローラ回転機構３５が上下２列になって保持枠３３に取り付けられている。
保持枠３３には、反転モータ３７により駆動される回転軸３６が取り付けられており、反転モータ３７が回転すると、保持枠３３全体も回転する。
上下２列に並べられたローラ回転機構３５の間にワークを入れ、その状態で反転モータ３７により保持枠３３を１８０°回転させると、ワークが反転する。
反転ステージ部３０も、ワーク搬送機構５０と同様に、モータ３４を取り付けた回転軸３２に複数のローラ３１を取り付けたローラ回転機構３５を備えており、このローラ回転機構３５が上下２列になって保持枠３３に取り付けられている。
保持枠３３には、反転モータ３７により駆動される回転軸３６が取り付けられており、反転モータ３７が回転すると、保持枠３３全体も回転する。
上下２列に並べられたローラ回転機構３５の間にワークを入れ、その状態で反転モータ３７により保持枠３３を１８０°回転させると、ワークが反転する。
図５に、ワーク保管部４０の概略構成を示す。
ワーク保管部４０も、ワーク搬送機構５０と同様の、複数のローラ４１が取り付けられた回転軸４２を有し、該回転軸４２が保持枠４３に取り付けられた複数のローラ回転機構４５と、回転軸４２を駆動するモータ４４から構成される第３のワーク搬送機構４６を備えている。
また、ワークＷを１枚ずつ下から支持する複数列のフォーク４７がフォーク支持板４８に取り付けられている。
フォーク支持板４８にはフォーク支持板駆動機構４９が取り付けられており、フォーク支持板４８を図面上下方向に移動させる（ローラ回転機構４５は上下に移動しない）。これにより、フォーク４７がローラ回転機構４５の間を上下に移動する。
ワーク保管部４０も、ワーク搬送機構５０と同様の、複数のローラ４１が取り付けられた回転軸４２を有し、該回転軸４２が保持枠４３に取り付けられた複数のローラ回転機構４５と、回転軸４２を駆動するモータ４４から構成される第３のワーク搬送機構４６を備えている。
また、ワークＷを１枚ずつ下から支持する複数列のフォーク４７がフォーク支持板４８に取り付けられている。
フォーク支持板４８にはフォーク支持板駆動機構４９が取り付けられており、フォーク支持板４８を図面上下方向に移動させる（ローラ回転機構４５は上下に移動しない）。これにより、フォーク４７がローラ回転機構４５の間を上下に移動する。
図６に、反転ステージ部３０の動作を示す。同図は、左側が第２のワーク搬送機構５０ｂ、中央が反転ステージ部３０、右側がワーク保管部４０の第３のワーク搬送機構４６である。
図６（ａ）に示すように、表面を露光したワークＷが第２のワーク搬送機構５０ｂに送られる。
図６（ｂ）に示すように、第２のワーク搬送機構５０ｂのローラ５１と反転ステージ部３０のローラ３１が回転し、ワークＷが、反転ステージ部３０の上下２列に配置したローラ回転機構３５の間に搬送される。ワークＷは上下のローラ回転機構３５によって挟まれる。 図６（ｃ）に示すように、図４に示した反転ステージ部３０の保持枠３３に取り付けた反転モータ３７が駆動され、ワークＷをローラ回転機構３５により挟んだまま、保持枠３３全体が回転する。
図６（ｄ）に示すように、反転ステージ部３０が１８０°回転する。ワークＷは反転し、第２面（裏面）が上になる。
図６（ｅ）に示すように、反転ステージ部３０のローラ３１と第３のワーク搬送機構４７のローラ４１が回転し、ワークＷが反転した状態でワーク保管棚４０に搬送される。
図６（ａ）に示すように、表面を露光したワークＷが第２のワーク搬送機構５０ｂに送られる。
図６（ｂ）に示すように、第２のワーク搬送機構５０ｂのローラ５１と反転ステージ部３０のローラ３１が回転し、ワークＷが、反転ステージ部３０の上下２列に配置したローラ回転機構３５の間に搬送される。ワークＷは上下のローラ回転機構３５によって挟まれる。 図６（ｃ）に示すように、図４に示した反転ステージ部３０の保持枠３３に取り付けた反転モータ３７が駆動され、ワークＷをローラ回転機構３５により挟んだまま、保持枠３３全体が回転する。
図６（ｄ）に示すように、反転ステージ部３０が１８０°回転する。ワークＷは反転し、第２面（裏面）が上になる。
図６（ｅ）に示すように、反転ステージ部３０のローラ３１と第３のワーク搬送機構４７のローラ４１が回転し、ワークＷが反転した状態でワーク保管棚４０に搬送される。
図７、図８に、ワーク保管棚４０の動作を示す。同図は、左側が反転ステージ部３０、右側がワーク保管棚４０である。
図７（ａ）に示すように、反転ステージ部３０のローラ３１とワーク保管棚４０のワーク搬送機構４７のローラ４１が回転し、反転した第１のワークＷ１がワーク保管棚４０に搬送される。
フォーク支持板駆動機構４９が動作し、フォーク支持板４８が上昇する。これにより図７（ｂ）に示すように、第１のフォーク４７ａがローラ４１の間を上昇し、第１のワークＷ１をすくって持上げ上昇を停止する。反転ステージ部３０では第２のワークＷ２が反転される。
図７（ｃ）に示すように、第２のワークＷ２が、反転ステージ部３０からワーク保管棚４０に搬送される。
フォーク支持板駆動機構４９が動作し、フォーク支持板４８が上昇する。これにより図７（ｄ）に示すように、第２のフォーク４７ｂがローラ４１の間を上昇し、第２のワークＷ２をすくって持上げ上昇を停止する。反転ステージ部３０では第３のワークＷ３が反転される。
上記動作を１ロット（２０枚から５０枚）のすべてのワークの表面の露光が終わるまで繰返し、１ロット分のワークを保管棚４０に保管していく。
図７（ａ）に示すように、反転ステージ部３０のローラ３１とワーク保管棚４０のワーク搬送機構４７のローラ４１が回転し、反転した第１のワークＷ１がワーク保管棚４０に搬送される。
フォーク支持板駆動機構４９が動作し、フォーク支持板４８が上昇する。これにより図７（ｂ）に示すように、第１のフォーク４７ａがローラ４１の間を上昇し、第１のワークＷ１をすくって持上げ上昇を停止する。反転ステージ部３０では第２のワークＷ２が反転される。
図７（ｃ）に示すように、第２のワークＷ２が、反転ステージ部３０からワーク保管棚４０に搬送される。
フォーク支持板駆動機構４９が動作し、フォーク支持板４８が上昇する。これにより図７（ｄ）に示すように、第２のフォーク４７ｂがローラ４１の間を上昇し、第２のワークＷ２をすくって持上げ上昇を停止する。反転ステージ部３０では第３のワークＷ３が反転される。
上記動作を１ロット（２０枚から５０枚）のすべてのワークの表面の露光が終わるまで繰返し、１ロット分のワークを保管棚４０に保管していく。
次に上述した本実施例の両面露光装置の動作について説明する。
ここでは、主として前記図１を用いて説明する。なお、以下に説明する各動作のうち並行して実施できるものは並行しておこなう。これは、処理時間を短縮するためである。
ワーク搬入搬出部２０にワークＷが搬送されてくる。このワークＷの搬送は露光装置を設置する工場側の搬送機構（不図示）により搬送される。
１ロットのワーク（２０枚から５０枚のワークからなる）がケースに入れられてまとめて搬送されてくる場合もあるが、露光装置のワーク搬入搬出部２０とは別の所に１ロットのワークを入れたケースを置き、そこから１枚ずつワーク搬入搬出部２０に送る場合もある。
露光装置の制御部６０は第１のワーク搬送機構５０ａを駆動して、ワーク搬入搬出部２０に搬送されてきたワークＷを、露光機本体のワークステージ４に搬送する。次いで、マスク搬送機構（不図示）により、マスクライブラリ６からワークＷの第１面（表面）露光用の第１のマスクＭ１を取り出し、マスクステージ２にセットする。
マスクＭとワークＷの位置合せを行った後、光照射部１から露光光を出射する。露光光は、マスクＭと投影レンズ３を介して、ワークステージ４上のワークＷに照射される。ワークＷの表面に、第１のマスクＭ１に形成されたパターンが露光される。
ここでは、主として前記図１を用いて説明する。なお、以下に説明する各動作のうち並行して実施できるものは並行しておこなう。これは、処理時間を短縮するためである。
ワーク搬入搬出部２０にワークＷが搬送されてくる。このワークＷの搬送は露光装置を設置する工場側の搬送機構（不図示）により搬送される。
１ロットのワーク（２０枚から５０枚のワークからなる）がケースに入れられてまとめて搬送されてくる場合もあるが、露光装置のワーク搬入搬出部２０とは別の所に１ロットのワークを入れたケースを置き、そこから１枚ずつワーク搬入搬出部２０に送る場合もある。
露光装置の制御部６０は第１のワーク搬送機構５０ａを駆動して、ワーク搬入搬出部２０に搬送されてきたワークＷを、露光機本体のワークステージ４に搬送する。次いで、マスク搬送機構（不図示）により、マスクライブラリ６からワークＷの第１面（表面）露光用の第１のマスクＭ１を取り出し、マスクステージ２にセットする。
マスクＭとワークＷの位置合せを行った後、光照射部１から露光光を出射する。露光光は、マスクＭと投影レンズ３を介して、ワークステージ４上のワークＷに照射される。ワークＷの表面に、第１のマスクＭ１に形成されたパターンが露光される。
表面の露光が終わったワークＷは、第２のワーク搬送機構５０ｂにより反転ステージ部３０に搬送される。
制御部６０は、反転ステージ部３０を駆動して、図６にて示した手順により、ワークＷを反転させる。また、ワーク搬入搬出部２０からワークステージ４に、次のワークＷを搬送する。
反転ステージ部３０で反転されたワークＷは、ワーク保管部４０に搬送され、図７、図８にて示した手順により、ワーク保管棚４０に保管される。
１ロット分のすべてのワークの表面の露光が終わるまで、この手順を繰り返す。
制御部６０は、反転ステージ部３０を駆動して、図６にて示した手順により、ワークＷを反転させる。また、ワーク搬入搬出部２０からワークステージ４に、次のワークＷを搬送する。
反転ステージ部３０で反転されたワークＷは、ワーク保管部４０に搬送され、図７、図８にて示した手順により、ワーク保管棚４０に保管される。
１ロット分のすべてのワークの表面の露光が終わるまで、この手順を繰り返す。
すべてのワークＷの表面の露光が終わると、制御部６０はマスク搬送機構５により、マスクステージ２から表面露光用の第１のマスクＭ１を取外し、マスクライブラリ６に回収する。そして今度は、マスクライブラリ６からワークＷの第２面（裏面）露光用の第２のマスクＭ２を取り出し、マスクステージ２にセットする。
最後に表面露光を行ったワークＷが反転ステージ部３０で反転されると、そのワークＷはワーク保管部４０には向かわず、第２のワーク搬送機構５０ｂに戻される。
ワークＷは反転されているので、第２面（裏面）が上を向いている。なお、最後に両面露光を行ったワークの反転とマスクの交換は同時に行われる。
制御部６０は、第２のワーク搬送機構５０ｂにより、裏面が上になったワークＷをワークステージ４に搬送する。
そして、前述したようにマスクＭとワークＷの位置合せを行った後、光照射部１から露光光を出射する。露光光は、マスクＭと投影レンズ３を介して、ワークステージ４上のワークＷに照射される。ワークＷの裏面に、第２のマスクＭ２に形成されたパターンが露光される。
裏面の露光が終わったワークＷは、第１のワーク搬送機構５０ｂにより、ワーク搬入搬出部２０に搬送される。
最後に表面露光を行ったワークＷが反転ステージ部３０で反転されると、そのワークＷはワーク保管部４０には向かわず、第２のワーク搬送機構５０ｂに戻される。
ワークＷは反転されているので、第２面（裏面）が上を向いている。なお、最後に両面露光を行ったワークの反転とマスクの交換は同時に行われる。
制御部６０は、第２のワーク搬送機構５０ｂにより、裏面が上になったワークＷをワークステージ４に搬送する。
そして、前述したようにマスクＭとワークＷの位置合せを行った後、光照射部１から露光光を出射する。露光光は、マスクＭと投影レンズ３を介して、ワークステージ４上のワークＷに照射される。ワークＷの裏面に、第２のマスクＭ２に形成されたパターンが露光される。
裏面の露光が終わったワークＷは、第１のワーク搬送機構５０ｂにより、ワーク搬入搬出部２０に搬送される。
一方、ワーク保管棚４０からは、最後から２番目に表面露光を行ったワーク（ワーク保管棚の下側のワーク）から順に、第３のワーク搬送機構４７→反転ステージ部３０（ただしここでは反転動作はしない）→第２のワーク搬送機構５０ｂ→ワークステージ４へと搬送されて裏面露光され、露光の終わったワークは順にワーク搬入搬出部２０に搬送される。ワーク搬入搬出部２０に搬送されたワークＷは、１枚ずつ、または１ロットまとめてケースに入れて、露光装置から搬出される。
なお、本実施例では、ワーク保管部４０は、反転したワークを保管するようにしている。しかし、表面の露光を終えたワークを、反転させずにワーク保管部４０に保管し、裏面を露光するためにワーク保管部４０からワークステージ４に移動する際に、反転ステージ部３０で反転させるようにしても良い。
なお、本実施例では、ワーク保管部４０は、反転したワークを保管するようにしている。しかし、表面の露光を終えたワークを、反転させずにワーク保管部４０に保管し、裏面を露光するためにワーク保管部４０からワークステージ４に移動する際に、反転ステージ部３０で反転させるようにしても良い。
上記では、１ロットの全てのワークの第１面（表面）に第１のマスクＭ１のパターンを露光し、第２面（裏面）に第２のマスクＭ２のパターンを露光する場合について説明したが、上記１ロットのワークの第１面または第２面の露光の途中で、第１のマスクまたは第２のマスクを交換し、上記１ロットのワークの第１面または第２面に、異なったマスクパターンを露光するようにしてもよい。
以下、第１面及び第２面の露光の途中でマスクを交換する場合の動作について簡単に説明する。
ワーク搬入搬出部２０にワークＷが搬送されてくると、制御部６０は第１のワーク搬送機構５０ａを駆動して、ワーク搬入搬出部２０に搬送されてきたワークＷを、露光機本体のワークステージ４に搬送する。次いで、マスク搬送機構（不図示）により、マスクライブラリ６からワークＷの第１面（表面）露光用の第１のマスクＭ１１を取り出し、マスクステージ２にセットする。
そして、ワークＷの位置合わせののち、光照射部１から露光光を出射して、ワークＷの表面に、第１のマスクＭ１に形成されたパターンを露光する
表面の露光が終わったワークＷは、第２のワーク搬送機構５０ｂにより反転ステージ部３０に搬送され、反転され、ワーク保管部４０に搬送され保管される。
以下、第１面及び第２面の露光の途中でマスクを交換する場合の動作について簡単に説明する。
ワーク搬入搬出部２０にワークＷが搬送されてくると、制御部６０は第１のワーク搬送機構５０ａを駆動して、ワーク搬入搬出部２０に搬送されてきたワークＷを、露光機本体のワークステージ４に搬送する。次いで、マスク搬送機構（不図示）により、マスクライブラリ６からワークＷの第１面（表面）露光用の第１のマスクＭ１１を取り出し、マスクステージ２にセットする。
そして、ワークＷの位置合わせののち、光照射部１から露光光を出射して、ワークＷの表面に、第１のマスクＭ１に形成されたパターンを露光する
表面の露光が終わったワークＷは、第２のワーク搬送機構５０ｂにより反転ステージ部３０に搬送され、反転され、ワーク保管部４０に搬送され保管される。
以下同様にして１ロットのワークの内、所定の枚数の第１面にマスクＭ１１のマスクパターンを露光したのち、マスクライブラリ６からワークＷの第１面（表面）露光用の第２２のマスクＭ１２を取り出し、マスクステージ２にセットする。
なお、このマスクの交換作業を、反転ステージ部３０における露光済みのワークの反転作業と同時に行うことで処理時間を短縮することができる。
そして、ワークＷの位置合わせののち、光照射部１から露光光を出射して、ワークＷの表面に、第２のマスクＭ１２に形成されたパターンを露光する
表面の露光が終わったワークＷは、第２のワーク搬送機構５０ｂにより反転ステージ部３０に搬送され、反転され、ワーク保管部４０に搬送され保管される。
以上のように、１ロットのワークの第１面（表面）を露光している途中で、マスクを例えばＭ１１、Ｍ１２、Ｍ１３、…、Ｍ１ｎのように交換し、１ロットのワークの第１面（表面）にマスクＭ１１のパターン、Ｍ１２のパターン、Ｍ１３のパターン、…、Ｍ１ｎのパターン、のように異なったパターンを露光する。
なお、このマスクの交換作業を、反転ステージ部３０における露光済みのワークの反転作業と同時に行うことで処理時間を短縮することができる。
そして、ワークＷの位置合わせののち、光照射部１から露光光を出射して、ワークＷの表面に、第２のマスクＭ１２に形成されたパターンを露光する
表面の露光が終わったワークＷは、第２のワーク搬送機構５０ｂにより反転ステージ部３０に搬送され、反転され、ワーク保管部４０に搬送され保管される。
以上のように、１ロットのワークの第１面（表面）を露光している途中で、マスクを例えばＭ１１、Ｍ１２、Ｍ１３、…、Ｍ１ｎのように交換し、１ロットのワークの第１面（表面）にマスクＭ１１のパターン、Ｍ１２のパターン、Ｍ１３のパターン、…、Ｍ１ｎのパターン、のように異なったパターンを露光する。
すべてのワークＷの表面の露光が終わると、マスクステージ２から表面露光用の第１面露光用の最後のマスクＭ１ｎを取外し、マスクライブラリ６に回収する。そして今度は、マスクライブラリ６からワークＷの第２面（裏面）露光用の第２のマスクＭ２１を取り出し、マスクステージ２にセットする。
そして、前述したようにワークの第２面（裏面）を露光するが、第１面の露光と同様、１ロットのワークの第２面（裏面）を露光している途中で、マスクを例えばＭ２１、Ｍ２２、Ｍ２３、…、Ｍ２ｎのように交換し、１ロットのワークの第２面（裏面）にマスクＭ２１のパターン、Ｍ２２のパターン、Ｍ２３のパターン、…のように異なったパターンを露光する。
裏面の露光が終わったワークＷは、第１のワーク搬送機構５０ｂにより、ワーク搬入搬出部２０に搬送される。
なお、上記ではワークの第１面の露光の途中、及び第２面の露光の途中でそれぞれマスクを交換する場合について説明したが、第１面あるいは第２面の露光中のみでマスクを交換するようにしてもよい。
そして、前述したようにワークの第２面（裏面）を露光するが、第１面の露光と同様、１ロットのワークの第２面（裏面）を露光している途中で、マスクを例えばＭ２１、Ｍ２２、Ｍ２３、…、Ｍ２ｎのように交換し、１ロットのワークの第２面（裏面）にマスクＭ２１のパターン、Ｍ２２のパターン、Ｍ２３のパターン、…のように異なったパターンを露光する。
裏面の露光が終わったワークＷは、第１のワーク搬送機構５０ｂにより、ワーク搬入搬出部２０に搬送される。
なお、上記ではワークの第１面の露光の途中、及び第２面の露光の途中でそれぞれマスクを交換する場合について説明したが、第１面あるいは第２面の露光中のみでマスクを交換するようにしてもよい。
１ 光照射部
２ マスクステージ
３ 投影レンズ
４ ワークステージ
５ マスク搬送機構
６ マスクライブラリ
７ アライメント顕微鏡
８ａ，８ｂ ワークハンド
１０ 露光機本体
２０ ワーク搬入搬出部
３０ 反転ステージ部
３１ ローラ
３２ 回転軸
３３ 保持枠
３４ モータ
３５ ローラ回転機構
３６ 回転軸
３７ 反転モータ
４０ ワーク保管部
４１ ローラ
４２ 回転軸
４３ 保持枠
４４ モータ
４５ ローラ回転機構
４６ 第３のワーク搬送機構
４７ フォーク
４８ フォーク支持板
４９ フォーク支持板移動機構
５０ａ 第１のワーク搬送機構
５０ｂ 第２のワーク搬送機構
５１ ローラ
５２ 回転軸
５３ 保持枠
５４ モータ
５５ ローラ回転機構
６０ 制御部
２ マスクステージ
３ 投影レンズ
４ ワークステージ
５ マスク搬送機構
６ マスクライブラリ
７ アライメント顕微鏡
８ａ，８ｂ ワークハンド
１０ 露光機本体
２０ ワーク搬入搬出部
３０ 反転ステージ部
３１ ローラ
３２ 回転軸
３３ 保持枠
３４ モータ
３５ ローラ回転機構
３６ 回転軸
３７ 反転モータ
４０ ワーク保管部
４１ ローラ
４２ 回転軸
４３ 保持枠
４４ モータ
４５ ローラ回転機構
４６ 第３のワーク搬送機構
４７ フォーク
４８ フォーク支持板
４９ フォーク支持板移動機構
５０ａ 第１のワーク搬送機構
５０ｂ 第２のワーク搬送機構
５１ ローラ
５２ 回転軸
５３ 保持枠
５４ モータ
５５ ローラ回転機構
６０ 制御部
Claims (4)
- 露光光を照射する光照射部と、
パターンが形成されたマスクを保持するマスクステージと、
ワークを載置するワークステージと、
ワークの第１面にパターンを露光するための第１のマスクと、第２面にパターンを露光するための第２のマスクと、
上記第１のマスクと第２のマスクを保管するマスクライブラリと、
上記マスクライブラリと上記マスクステージとの間でマスクを搬送するマスク搬送機構と、
第１および第２のマスクに形成されたマスクパターンを、上記ワークステージに載置されたワーク面上に投影する投影レンズと、
第１面が露光されたワークを反転させる反転ステージと、
上記光照射部からの露光光の照射と、上記マスク搬送機構による第１のマスク及び第２のマスクの交換と、上記反転ステージによるワークの反転と、上記ワークの搬送とを制御する制御部を備えた両面露光装置において、
第１面が露光されたワークを複数保管するワーク保管部を備え、
上記制御部は、
複数のワークからなる１ロットのワークのすべてのワークについてまず第１面を露光して上記ワーク保管部に保管し、
１ロットのワークのすべてのワークについて第１面の露光が終了後、第１のマスクを第２のマスクに交換し、第２面を露光する
ことを特徴とする両面露光装置。 - 上記第１のマスクは複数のマスクからなり、
上記制御部は、上記１ロットのワークの第１面の露光の途中で、第１のマスクを交換し、上記１ロットのワークの第１面に、異なったマスクパターンを露光する
ことを特徴とする請求項１に記載の両面露光装置。 - 上記第２のマスクは複数のマスクからなり、
上記制御部は、上記１ロットのワークの第２面の露光の途中で、第２のマスクを交換し、上記１ロットのワークの第２面に、異なったマスクパターンを露光する
ことを特徴とする請求項１に記載の両面露光装置。 - 上記制御部は、
露光したワークの上記反転ステージによる反転と、上記第１のマスクと第２のマスクの交換を同時に行う
ことを特徴とする請求項１または請求項２または請求項３に記載の両面露光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009197960A JP5333063B2 (ja) | 2009-08-28 | 2009-08-28 | 両面露光装置 |
| KR1020100062693A KR101308770B1 (ko) | 2009-08-28 | 2010-06-30 | 양면 노광 장치 |
| TW099121716A TWI421648B (zh) | 2009-08-28 | 2010-07-01 | Two-sided exposure device |
| CN2010102506772A CN102004398B (zh) | 2009-08-28 | 2010-08-10 | 两面曝光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009197960A JP5333063B2 (ja) | 2009-08-28 | 2009-08-28 | 両面露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011048239A true JP2011048239A (ja) | 2011-03-10 |
| JP5333063B2 JP5333063B2 (ja) | 2013-11-06 |
Family
ID=43811862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009197960A Active JP5333063B2 (ja) | 2009-08-28 | 2009-08-28 | 両面露光装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5333063B2 (ja) |
| KR (1) | KR101308770B1 (ja) |
| CN (1) | CN102004398B (ja) |
| TW (1) | TWI421648B (ja) |
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2009
- 2009-08-28 JP JP2009197960A patent/JP5333063B2/ja active Active
-
2010
- 2010-06-30 KR KR1020100062693A patent/KR101308770B1/ko active IP Right Grant
- 2010-07-01 TW TW099121716A patent/TWI421648B/zh active
- 2010-08-10 CN CN2010102506772A patent/CN102004398B/zh active Active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20110023725A (ko) | 2011-03-08 |
| KR101308770B1 (ko) | 2013-09-17 |
| TWI421648B (zh) | 2014-01-01 |
| CN102004398A (zh) | 2011-04-06 |
| CN102004398B (zh) | 2013-11-13 |
| JP5333063B2 (ja) | 2013-11-06 |
| TW201107903A (en) | 2011-03-01 |
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| JP2000171980A (ja) | 両面露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120327 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130702 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130715 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5333063 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |