JP2007102116A - デジタル露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1枚目の基板材料200がレーザー露光装置100で表面を露光されると、第2待機ステージ312を通過して反転機300へ搬送される。このとき第1待機ステージ310には2枚目の基板材料200が待機している。次に反転機300にて1枚目の基板材料200が裏表反転されている間に2枚目の基板材料200はレーザー露光機100で表面を露光される。このときレーザー露光機100はデジタル露光機であるため、往路(上へ)で位置、寸法、歪み量などのアライメント値を読み取り、復路(下へ)で走査露光を行うことができる。これにより1枚目の基板材料200が反転中に2枚目の基板材料200を片面露光できるので、露光装置システム全体の処理速度を高めることができる。
【選択図】図7
Description
まず、最初にレーザー露光装置100について説明する。このレーザー露光装置100は、プリント配線基板(液晶ディスプレイ用の基板等であってもよい)の材料となる薄板状の基板材料200を、画像情報により変調されたレーザービームにより露光し、その基板材料200における描画領域に、プリント配線基板の配線パターンに対応する画像(潜像)を形成するものである。
ここで、このレーザー露光装置100の作用を説明する。まず、ロード・アンロード位置に待機しているステージ部材110に基板材料200が載置されると、駆動モーター114の駆動によりボールねじ112が回転し、ステージ部材110が副走査方向に移動する。そして、CCDカメラ118によってアライメントマークが撮像される。撮像されたアライメントマークの位置情報に基づき、1つの描画領域に対応して設けられた複数個のアライメントマークの位置をそれぞれ判断し、これらのアライメントマークの位置から描画領域の副走査方向及び主走査方向(幅方向)に沿った位置及び描画領域の副走査方向に対する傾き量をそれぞれ判断する。
続いて、反転装置300を備えた搬送系路およびその動作について説明する。図6には本発明の第1実施形態に係る露光装置システム1が示されている。
以下に具体的な露光の手順について説明する。図7には本発明の第1実施形態に係る露光装置システムの露光シークエンスが示されている。なお、基板材料の表裏は便宜上、先に露光される方の面を表とする。
図8、9には本発明に係る反転機の内部構造が示されている。
図10には本発明に係るターンテーブルが示されている。
図11〜12には本発明に係る基板材料のアライメントマーク配置が示されている。
図6(b)には本発明の第2実施形態に係る露光システムが示されている。
以上、本発明の実施例について記述したが、本発明は上記の実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる態様で実施し得ることは言うまでもない。
110 ステージ部材(ステージ部)
200 基板材料(基板)
300 反転機
310 第1待機ステージ
312 第2待機ステージ
320 ターンテーブル
330 アライメントマーク
Claims (5)
- 画像情報に基づいて変調された光ビームにより記録媒体を露光し、画像を記録するデジタル露光装置であって、
前記記録媒体を搬送しながら前記記録媒体上に走査露光を行う露光手段と、
前記露光手段による前記記録媒体の搬送方向と直交する方向に設けられ、前記記録媒体を搬送経路に沿って搬送する搬送手段と、
前記搬送経路の一方に設けられ露光前の前記記録媒体を待機させる第1の待機ステージと、
前記搬送経路の他方に設けられ露光済みの記録媒体を待機させる第2の待機ステージと、
前記待機ステージから前記記録媒体を受け取り、前記記録媒体の表裏を反転させる反転手段と、
を備えたことを特徴とするデジタル露光装置。 - 前記露光手段は、露光される前記記録媒体が載置され往復移動する露光ステージを備え、
前記露光ステージ上にてn枚目の記録媒体が表面露光を終えたのち、
前記第1の待機ステージ上にあるn+1枚目の前記記録媒体と、前記n枚目の記録媒体とは、それぞれ同時に前記露光ステージと、前記第2の待機ステージとに前記搬送手段で搬送され、
前記n+1枚目の記録媒体が前記露光ステージ上にて表面を露光中に、前記n枚目の記録媒体は前記第2の待機ステージから前記反転手段に搬送され裏表反転されたのち再度前記第2の待機ステージに搬送され、
表面露光を終えた前記n+1枚目の記録媒体が前記第1の待機ステージに搬送されると同時に、前記n枚目の記録媒体は前記露光ステージに搬送され、次に前記n枚目の記録媒体は前記露光ステージ上にて裏面を露光され、
裏面露光終了後の前記n枚目の記録媒体が前記露光ステージから前記第2の待機ステージを経由して機外へ搬出されると共に、前記n+1枚目の記録媒体は前記露光ステージを通過して前記第2の待機ステージに搬送され、さらにn+2枚目の記録媒体が前記第1の待機ステージへ搬入されることを特徴とする請求項1に記載のデジタル露光装置。 - 前記露光手段は、露光される前記記録媒体が載置され往復移動する露光ステージを備え、
前記搬送系路の、前記第2の待機ステージに近い端に第1の反転手段と、
前記搬送系路の、前記第1の待機ステージに近い端に第2の反転手段が設けられ、
前記露光ステージ上にてn枚目の記録媒体が表面露光を終えたのち、
前記第1の待機ステージ上にあるn+1枚目の前記記録媒体と、前記n枚目の記録媒体とは、それぞれ同時に前記露光ステージと、前記第2の待機ステージとに前記搬送手段で搬送され、
前記n+1枚目の記録媒体が前記露光ステージ上にて表面を露光中に、前記n枚目の記録媒体は前記第2の待機ステージから前記第1の反転手段に搬送され裏表反転されたのち再度前記第2の待機ステージに搬送され、
表面露光を終えた前記n+1枚目の記録媒体が前記第1の待機ステージに搬送されると同時に、前記n枚目の記録媒体は前記露光ステージに搬送され、次に前記n枚目の記録媒体は前記露光手段上にて裏面を露光され、
前記n+1枚目の記録媒体は前記第1の待機ステージから前記第2の反転手段に搬送され裏表反転されたのち再度前記第1の待機ステージに搬送され、
裏面露光終了後の前記n枚目の記録媒体が前記露光ステージから前記第2の待機ステージを経由して機外へ搬出されると共に、前記n+1枚目の記録媒体は前記第1の待機ステージから前記露光ステージに搬送され裏面を露光され、
さらにn+2枚目の記録媒体が前記第1の待機ステージへ搬入されることを特徴とする請求項1に記載のデジタル露光装置。 - 前記反転手段と前記第1の待機ステージの間に記録媒体を搬送面内で180度回頭させるターンテーブルを設けたことを特徴とする請求項2に記載のデジタル露光装置。
- 前記第1の反転手段と前記第2の待機ステージの間に記録媒体を搬送面内で180度回頭させる第1のターンテーブルを設け、
前記第2の反転手段と前記第1の待機ステージの間に記録媒体を搬送面内で180度回頭させる第2のターンテーブルを設けたことを特徴とする請求項3に記載のデジタル露光装置。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
JP2011048239A (ja) * | 2009-08-28 | 2011-03-10 | Ushio Inc | 両面露光装置 |
JP2012203265A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 反転装置及びそれを用いた露光装置並びに露光方法 |
JP2016145911A (ja) * | 2015-02-06 | 2016-08-12 | 東芝ライテック株式会社 | 光配向用偏光光照射装置 |
CN106019852A (zh) * | 2010-04-01 | 2016-10-12 | 株式会社尼康 | 曝光装置、物体的更换方法、曝光方法、以及元件制造方法 |
JP2017215535A (ja) * | 2016-06-01 | 2017-12-07 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
JP2022512416A (ja) * | 2018-12-12 | 2022-02-03 | レーザー イメージング システムス ゲーエムベーハー | 高い処理量で板状ワークピースを露光する装置 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4880521B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2012-02-22 | 株式会社オーク製作所 | 描画装置 |
TW201224678A (en) * | 2010-11-04 | 2012-06-16 | Orc Mfg Co Ltd | Exposure device |
CN102514385B (zh) * | 2011-11-29 | 2015-04-15 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 标识码打印方法和打印设备 |
TWI485533B (zh) * | 2012-07-13 | 2015-05-21 | Apone Technology Ltd | 旋轉式曝光載送設備 |
JP6096453B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2017-03-15 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
JP6198378B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2017-09-20 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
KR20160046016A (ko) | 2014-10-17 | 2016-04-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크리스 노광 장치 및 이를 이용한 누적 조도 보정 방법 |
CN106802538B (zh) * | 2017-03-16 | 2019-01-29 | 无锡影速半导体科技有限公司 | 超大板直写式光刻机扫描曝光方法 |
CN107203098B (zh) * | 2017-03-24 | 2019-08-06 | 无锡影速半导体科技有限公司 | 一种直写曝光光路系统及其一次性直写曝光方法 |
JP7045890B2 (ja) * | 2018-03-20 | 2022-04-01 | 株式会社Screenホールディングス | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
CN109709775A (zh) * | 2019-03-13 | 2019-05-03 | 苏州微影激光技术有限公司 | 一种曝光设备及曝光方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004163814A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2004233608A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2005272039A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Pentax Corp | 基板の搬送機構 |
JP2005272041A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Pentax Corp | 基板の搬送機構 |
JP2005274711A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Pentax Corp | 描画装置の基板の搬送機構 |
JP2006027827A (ja) * | 2004-07-16 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板搬送装置及びそれを備えた画像形成装置並びに基板搬送方法 |
JP2006055930A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 吸着装置とその取付構造及び吸着装置を備えた搬送装置並びに画像形成装置 |
JP2006058782A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板吸着機構、基板吸着方法、基板搬送装置及び画像形成装置 |
JP2006058496A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板測定装置及び基板搬送装置並びに基板測定装置を備えた画像形成装置と基板測定方法 |
JP2006058783A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板位置決め機構、基板位置決め方法、基板搬送装置及び画像形成装置 |
JP2006058784A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板位置決め機構、基板位置決め方法、基板搬送装置及び画像形成装置 |
JP2006064875A (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板搬送装置及びそれを備えた画像形成装置並びに基板搬送方法 |
JP2006062801A (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板搬送装置及びそれを備えた画像形成装置並びに基板搬送方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11109643A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Sanee Giken Kk | 分割露光装置 |
JP2002341550A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レーザー露光装置 |
JP4158514B2 (ja) | 2002-12-24 | 2008-10-01 | ウシオ電機株式会社 | 両面投影露光装置 |
-
2005
- 2005-10-07 JP JP2005295496A patent/JP4606990B2/ja active Active
-
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- 2006-10-04 CN CNA2006800370144A patent/CN101283312A/zh active Pending
- 2006-10-05 TW TW095137008A patent/TW200719100A/zh unknown
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004163814A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2004233608A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2005272039A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Pentax Corp | 基板の搬送機構 |
JP2005272041A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Pentax Corp | 基板の搬送機構 |
JP2005274711A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Pentax Corp | 描画装置の基板の搬送機構 |
JP2006027827A (ja) * | 2004-07-16 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板搬送装置及びそれを備えた画像形成装置並びに基板搬送方法 |
JP2006055930A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 吸着装置とその取付構造及び吸着装置を備えた搬送装置並びに画像形成装置 |
JP2006058496A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板測定装置及び基板搬送装置並びに基板測定装置を備えた画像形成装置と基板測定方法 |
JP2006058782A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板吸着機構、基板吸着方法、基板搬送装置及び画像形成装置 |
JP2006058783A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板位置決め機構、基板位置決め方法、基板搬送装置及び画像形成装置 |
JP2006058784A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板位置決め機構、基板位置決め方法、基板搬送装置及び画像形成装置 |
JP2006064875A (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板搬送装置及びそれを備えた画像形成装置並びに基板搬送方法 |
JP2006062801A (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板搬送装置及びそれを備えた画像形成装置並びに基板搬送方法 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
JP2011048239A (ja) * | 2009-08-28 | 2011-03-10 | Ushio Inc | 両面露光装置 |
TWI421648B (zh) * | 2009-08-28 | 2014-01-01 | Ushio Electric Inc | Two-sided exposure device |
CN106019852A (zh) * | 2010-04-01 | 2016-10-12 | 株式会社尼康 | 曝光装置、物体的更换方法、曝光方法、以及元件制造方法 |
JP2012203265A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 反転装置及びそれを用いた露光装置並びに露光方法 |
JP2016145911A (ja) * | 2015-02-06 | 2016-08-12 | 東芝ライテック株式会社 | 光配向用偏光光照射装置 |
JP2017215535A (ja) * | 2016-06-01 | 2017-12-07 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
JP2022512416A (ja) * | 2018-12-12 | 2022-02-03 | レーザー イメージング システムス ゲーエムベーハー | 高い処理量で板状ワークピースを露光する装置 |
JP7438219B2 (ja) | 2018-12-12 | 2024-02-26 | レーザー・イメージング・システムズ ゲーエムベーハー | 高い処理量で板状ワークピースを露光する装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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CN101283312A (zh) | 2008-10-08 |
TW200719100A (en) | 2007-05-16 |
KR101302594B1 (ko) | 2013-09-02 |
KR20080053487A (ko) | 2008-06-13 |
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