CN101283312A - 数字曝光装置 - Google Patents

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CN101283312A
CN101283312A CNA2006800370144A CN200680037014A CN101283312A CN 101283312 A CN101283312 A CN 101283312A CN A2006800370144 A CNA2006800370144 A CN A2006800370144A CN 200680037014 A CN200680037014 A CN 200680037014A CN 101283312 A CN101283312 A CN 101283312A
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Abstract

本发明提供一种通过根据图像信息调制的光束将记录介质曝光，并记录图像的数字曝光装置。该数字曝光装置包括：曝光单元，其输送所述记录介质，同时在所述记录介质上进行扫描曝光；输送单元，其设置在与所述记录介质的输送方向正交的方向，沿着输送路径输送所述记录介质；第一待机台，其设置在所述输送路径的一方，使曝光前的所述记录介质待机；第二待机台，其设置在所述输送路径的另一方，使曝光完毕的记录介质待机；反转单元，其从所述待机台接受所述记录介质，使所述记录介质的表背反转。

Description

数字曝光装置
技术领域
本发明涉及数字曝光装置，特别是涉及在记录介质的两面进行数字曝光的两面数字曝光装置。
背景技术
以往，在印刷电路衬底的电路图案形成或SR形成的模拟量产两面自动生产线中，因为用1台曝光机装填一个掩膜，在衬底的单面曝光，所以通常用曝光机+表背反转机+曝光机的串联结构即2台曝光机和1台表背反转机构筑生产线(例如参照专利文献1)。
如上所述，使用掩膜在衬底的两面进行曝光的所谓模拟方式的曝光装置中，使用与照片的放大同样的原理，所以无法进行只将曝光区域的一部分放大、缩小、变形等的加工处理。此外，在曝光的前级进行衬底的对位，对该衬底进行曝光，所以具有无法对多个衬底同时进行并行处理的缺点。
另一方面，在使用数字光学系统、用根据图像数据调制的光束对衬底进行曝光的所谓数字曝光机中，在曝光时不需要掩膜，只用表背面的数据的交换就能曝光，所以如果在1台曝光机上连接使衬底反转的反转机，则仅此就能进行两面曝光。
可是，数字曝光机与模拟曝光机相比，光源、数字光学系统(DMD、多面体等)和图像处理系统的功能所需的成本高，所以具有如下缺点：用2台曝光机的串联结构组成系统时的成本与用1台曝光机构成的两面曝光系统相比，大幅度提高(例如参照专利文献2)。
例如如图14所示，用曝光机402将表面曝光，输送的衬底401被反转机将表背反转，用曝光机406将背面曝光，由此能对表背两面进行曝光。
可是，在专利文献2的结构中，生产线整体需要2台高价的曝光机，所以作为两面系统，成为成本高的系统。
如上所述，以往，曝光处理能力和装置的成本通常为折衷选择的关系，但是本发明为了解决所述课题而提出，其目的在于提供一种低成本且处理能力高的数字曝光装置。
专利文献1：特开2004-205632号公报
专利文献2：特开2002-341550号公报
发明内容
本发明考虑所述事实而提出，其目的在于提供一种低成本且处理能力高的数字曝光装置。
根据本发明的一个方式，提供一种数字曝光装置，其通过根据图像信息调制的光束将记录介质曝光，并记录图像，其特征在于，包括：曝光单元，其输送所述记录介质，同时在所述记录介质上进行扫描曝光；输送单元，其设置在与基于所述曝光单元的所述记录介质的输送方向正交的方向，沿着输送路径输送所述记录介质；第一待机台，其设置在所述输送路径的一方，使曝光前的所述记录介质待机；第二待机台，其设置在所述输送路径的另一方，使曝光完毕的记录介质待机；反转单元，其从所述待机台接受所述记录介质，使所述记录介质的表背反转。
根据本发明的其他方式，提供一种数字曝光装置，其通过根据图像信息调制的光束将记录介质曝光，并记录图像，其特征在于，包括：曝光单元，其输送所述记录介质，同时在所述记录介质上进行扫描曝光；输送单元，其设置在与基于所述曝光单元的所述记录介质的输送方向正交的方向，沿着输送路径输送所述记录介质；第一待机台，其设置在所述输送路径的一方，使曝光前的所述记录介质待机；第二待机台，其设置在所述输送路径的另一方，使曝光完毕的记录介质待机；反转单元，其从所述待机台接受所述记录介质，使所述记录介质的表背反转，所述曝光单元具有载置被曝光的所述记录介质且往复移动的曝光台，在所述曝光台上，第n片记录介质结束表面曝光后，位于所述第一待机台上的第n+1片所述记录介质和所述第n片记录介质分别同时由所述输送单元输送到所述曝光台和所述第二待机台，所述第n+1片记录介质在所述曝光台上将表面曝光的过程中，所述第n片记录介质从所述第二待机台输送到所述反转单元，背表反转后，再次输送到所述第二待机台，在结束了表面曝光的所述第n+1片记录介质输送到所述第一待机台的同时，所述第n片记录介质输送到所述曝光台，接着，所述第n片记录介质在所述曝光台上将背面曝光，背面曝光结束后的所述第n片记录介质从所述曝光台经由所述第二待机台向机外输出，并且所述第n+1片记录介质通过所述曝光台输送到所述第二待机台，进而，第n+2片记录介质向所述第一待机台输入。
根据本发明的又一其他方式，提供一种数字曝光装置，其通过根据图像信息调制的光束将记录介质曝光，并记录图像，其特征在于，包括：曝光单元，其输送所述记录介质，同时在所述记录介质上进行扫描曝光；输送单元，其设置在与基于所述曝光单元的所述记录介质的输送方向正交的方向，沿着输送路径输送所述记录介质；第一待机台，其设置在所述输送路径的一方，使曝光前的所述记录介质待机；第二待机台，其设置在所述输送路径的另一方，使曝光完毕的记录介质待机；反转单元，其从所述待机台接受所述记录介质，使所述记录介质的表背反转，所述曝光单元具有载置被曝光的所述记录介质且往复移动的曝光台，所述反转单元包括设置在所述输送路径的接近所述第二待机台的端的第一反转单元和设置在所述输送路径的接近所述第一待机台的端的第二反转单元，在所述曝光台上，第n片记录介质结束表面曝光后，位于所述第一待机台上的第n+1片所述记录介质和所述第n片记录介质分别同时由所述输送单元输送到所述曝光台和所述第二待机台，所述第n+1片记录介质在所述曝光台上将表面曝光的过程中，所述第n片记录介质从所述第二待机台输送到所述第一反转单元，背表反转后，再次输送到所述第二待机台，在结束了表面曝光的所述第n+1片记录介质输送到所述第一待机台的同时，所述第n片记录介质输送到所述曝光台，接着，所述第n片记录介质在所述曝光台上将背面曝光，所述第n+1片记录介质从所述第一待机台输送到所述第二反转单元，背表反转后，再次输送到所述第一待机台，背面曝光结束后的所述第n片记录介质从所述曝光台经由所述第二待机台向机外输出，并且所述第n+1片记录介质从所述第一待机台输送到所述曝光台，将背面曝光，进而，第n+2片记录介质向所述第一待机台输入。
本发明采用所述的结构，所以能成为低成本且处理能力高的数字曝光装置。
附图说明
图1是表示收容有本发明的激光曝光装置和衬底输送装置的外壳的局部截断概略立体图。
图2是表示本发明的激光曝光装置和衬底输送装置的概略立体图。
图3是表示本发明的激光曝光装置和衬底输送装置的概略俯视图。
图4是本发明的激光曝光装置的概略立体图。
图5A是表示基于本发明的曝光头的曝光区域和曝光头的排列图案的俯视图。
图5B是表示基于本发明的曝光头的曝光区域和曝光头的排列图案的俯视图。
图6A是表示本发明的曝光系统的图。
图6B是表示本发明的曝光系统的图。
图7A是表示本发明的曝光系统的衬底曝光和反转步骤的图。
图7B是表示本发明的曝光系统的衬底曝光和反转步骤的图。
图7C是表示本发明的曝光系统的衬底曝光和反转步骤的图。
图7D是表示本发明的曝光系统的衬底曝光和反转步骤的图。
图7E是表示本发明的曝光系统的衬底曝光和反转步骤的图。
图7F是表示本发明的曝光系统的衬底曝光和反转步骤的图。
图8A是表示本发明的反转机的构造的图。
图8B是表示本发明的反转机的构造的图。
图9A是表示本发明的反转机的动作的图。
图9B是表示本发明的反转机的动作的图。
图9C是表示本发明的反转机的动作的图。
图9D是表示本发明的反转机的动作的图。
图9E是表示本发明的反转机的动作的图。
图10A是表示本发明的转台的图。
图10B是表示本发明的转台的图。
图11A是表示本发明的对齐标记的配置的图。
图11B是表示本发明的对齐标记的配置的图。
图12是表示本发明的对齐标记的配置的图。
图13是表示本发明的对齐标记的配置的图。
图14是表示以往的两面曝光系统的图。
符号说明
100-激光曝光装置(图像形成装置)
110-台构件(台部)
200-衬底材料(衬底)
300-反转机
310-第一待机台
312-第二待机台
320-转台
330-对齐标记。
具体实施方式
以下，根据附图表示的实施例，详细说明本发明的具体实施方式。图1是表示收容有作为本发明的数字曝光装置的激光曝光装置和衬底输送装置的外壳的局部截断概略立体图，图2是表示除去了外壳的状态的衬底输送装置和激光曝光装置的概略立体图，图3是其概略俯视图。而且，图4是激光曝光装置的概略立体图。
<激光曝光装置的结构>
首先，最初说明激光曝光装置100。该激光曝光装置100通过根据图像信息调制的激光束将成为印刷布线衬底(也可以是液晶显示器用的衬底等)的材料的薄板状的衬底材料200曝光，在该衬底材料200的描绘区域形成与印刷布线衬底的布线图案对应的图像(潜像)。
在衬底材料200的曝光面(上面)202设定预先形成与布线图案对应的潜像的多个描绘区域(省略图示)，形成与多个描绘区域分别对应的多组对齐标记(省略图示)。还有，以下，台构件110的移动方向为副扫描方向(图4中用箭头S表示)，与其正交的方向为主扫描方向(图4中用箭头M表示)。
如图2～图4所示，在激光曝光装置100设置形成为规定厚度的支承基台102。支承基台102中，其上面形状是以相对于衬底材料200的副扫描方向为纵向的大致长方形状，遮断振动而通过防振橡胶104等水平设置在地板上。衬底材料200从设置在支承基台102的前级的第一待机台310输送，在支承基台102上曝光结束后，输送到设置在后级的第二待机台312。
此外，在支承基台102的上面部，与副扫描方向平行地配置一对导轨106，在该导轨106上可移动地配置衬底载置用的台构件110。台构件110中，其上面形状是以相对于衬底材料200的副扫描方向为纵向的大致长方形状，在其下面且四角分别安装有沿着副扫描方向直线延伸的截面视图大致为倒“凹”字状的引导构件108。而且，这些引导构件108与导轨106可滑动地嵌合。
此外，在一对导轨106之间，通过固定在支承基台102上的轴承等(未图示)，沿着副扫描方向(与导轨106平行)设置滚珠丝杠112。在滚珠丝杠112的一端设置旋转驱动滚珠丝杠112的驱动电机114。而且，在台构件110的下面中央，沿着副扫描方向配置该滚珠丝杠112所螺合的筒状构件(未图示)。因此，台构件110通过滚珠丝杠112在驱动电机114的作用下在正反方向旋转，从而经由筒状构件沿着一对导轨106可进退(往复)移动。
此外，在支承基台102上的副扫描方向大致中央，跨台构件110而立设有正面视图大致为倒“凹”字状的支承门116。在该支承门116的规定位置配置用于读取设置在衬底材料200上的多组对齐标记的多个(例如4台)CCD相机118。各CCD相机118作为摄像时的光源内置1次发光时间极短的闪光灯，以只在该闪光灯发光时可进行摄像的方式调整其灵敏度。
因此，各CCD相机118在台构件110通过位于其光轴上的摄像位置时，在规定的定时使闪光灯发光，由此能分别拍摄衬底材料200的包含对齐标记的摄像范围。还有，各CCD相机118沿着衬底材料200的宽度方向(主扫描方向)，将分别不同的区域作为摄像范围，按照形成在成为摄像对象的衬底材料200上的多组对齐标记的位置，预先配置在规定的位置。
此外，在安装有该CCD相机118的支承门116的副扫描方向下游侧配置支承多个曝光头120的曝光部124。曝光头120在衬底材料200通过其正下方的曝光位置时，将根据图像信息调制的多条激光束向衬底材料200的曝光面202照射，在该曝光面202形成与印刷布线衬底的布线图案对应的图像(潜像)。
各曝光头120沿着支承基台102的宽度方向(主扫描方向)排列为m行n列(例如2行4列)的大致矩阵状，如图5(B)所示，基于一个曝光头120的曝光区122是以副扫描方向为短边的矩形状，并且相对于副扫描方向以规定的倾斜角倾斜。
此外，在该激光曝光装置100，在不妨碍台构件110的移动的场所(例如在图1中，离门92最远的里侧)配置光源单元(未图示)。该光源单元收容激光发生装置，从该激光发生装置射出的激光通过光纤(未图示)向各曝光头120引导。
各曝光头120将由光纤引导而入射的激光通过空间光调制元件即未图示的数字微镜器件(以下称作“DMD”)，以点单位进行控制，相对于衬底材料200，将点图案曝光。使用该多个点图案来表现1像素的浓度。
因此，如图5A所示，伴随着台构件110的移动，在衬底材料200按各曝光头120形成带状的曝光完毕区域204，但是二维排列的点图案相对于副扫描方向倾斜，由此，在副扫描方向排列的各点通过在与副扫描方向交叉的方向排列的点之间。因此，能缩小实质的点间隔，能实现高析像度化。
<激光曝光装置的作用>
这里，说明该激光曝光装置100的作用。首先，如果在加载和卸载位置待机的台构件110载置衬底材料200，则通过驱动电机114的驱动，滚珠丝杠112旋转，台构件110在副扫描方向移动。然后，由CCD相机118拍摄对齐标记。根据拍摄的对齐标记的位置信息，分别判断与一个描绘区域对应设置的多个对齐标记的位置，根据这些对齐标记的位置分别判断描绘区域的沿着副扫描方向和主扫描方向(宽度方向)的位置和描绘区域相对于副扫描方向的倾斜量。
然后，根据衬底材料200的描绘区域的沿着主扫描方向(宽度方向)的位置和相对于副扫描方向的倾斜量，执行相对于图像信息(布线图案)的变换处理，将变换处理后的图像信息存储在帧存储器内。该图像信息是用2值(点的记录的有无)表示了构成图像的各像素的浓度的数据。
还有，作为变换处理的内容，包含将坐标原点作为中心使图像信息旋转的坐标变换处理、沿着副扫描方向的图像的旋转处理、沿着与主扫描方向(宽度方向)对应的坐标轴使图像信息平行移动的坐标变换处理。进而，根据需要，还执行与描绘区域的沿着主扫描方向(宽度方向)和副扫描方向的伸长量和缩小量对应而使图像信息伸长或缩小的变形修正处理。
然后，台构件110移动，与衬底材料200的描绘区域的前端到达曝光头120正下方的曝光位置的定时同步，每次多行依次读出帧存储器中存储的图像信息，根据该图像信息，对各DMD进行通断控制。然后，如果对该DMD照射激光，则DMD在导通状态时反射的激光通过未图示的透镜系统在衬底材料200的曝光面202上成像。
从光源单元射出的激光按各像素通断，由此，衬底材料200的描绘区域以与DMD的使用像素数大致相同数量的像素单位(曝光区122)曝光。即，台构件110以一定的扫描速度移动，由此，衬底材料200在与该台构件110的移动方向相反的方向由多个激光束扫描曝光，按各曝光头120形成带状的曝光完毕区域204(参照图5)。
<反转装置的结构>
接着，说明具有反转装置300的输送路径及其动作。图6A～6B表示本发明第一实施方式的曝光装置系统1。
如图6A所示，曝光装置系统1在激光曝光装置100的输送方向上游侧(图中左侧)设置衬底材料200输送到激光曝光装置100之前待机的第一待机台310，同样，在输送方向下游侧(图中右侧)设置衬底材料200由激光曝光装置100暂且曝光后待机的第二待机台312。
进而，在比第二待机台312靠输送方向下游侧设置使衬底材料200背表反转的反转机300，将从第二待机台312输送的衬底材料200背表反转，再次送回第二待机台312，或者背表两面都结束了曝光的衬底材料200原封不动向下游侧输出。
用该反转机300使衬底材料200反转，用一台激光曝光装置100将衬底材料的背表两面曝光，由此，与只将单面曝光的曝光装置相比，能提高曝光装置整体的处理能力，进而不需要准备2台高价的激光曝光装置100，所以成本的上升也能抑制在最小限度。
<反转、曝光的步骤>
以下，说明具体的曝光步骤。在图7A～图7F表示本发明的第一实施方式的曝光装置系统的曝光顺序。还有，为了方便，衬底材料的表背将先曝光的面作为表面。
在图7A中，首先，如果第一片衬底材料200(为200-1)用激光曝光装置100将表面曝光，则通过第二待机台312向反转机300输送。这时，在第一待机台310，第二片衬底材料200(为200-2)待机。
接着，如图7B所示，在用反转机300将衬底材料200-1背表反转时，衬底材料200-2用激光曝光机100将表面曝光。此时由于激光曝光机100是数字曝光机，所以能在往路(向图中上)读取位置、尺寸、变形量等对齐值，并在复路(向图中下)进行扫描曝光。由此，第一片衬底材料200反转的过程中，能将第二片衬底材料200进行单面曝光，所以能提高曝光装置系统整体的处理速度。
接着，如图7C所示，结束了表面曝光的第二片衬底材料200-2暂且回到第一待机台310，为了第一片衬底材料200-2而空出输送路径。这里，反转后的衬底材料200-1(用圆数字记录)再次输送到激光曝光装置100，这次对背面进行曝光。
结束了背表两面曝光的衬底材料200-1如图7D所示，第二待机台312通过反转机300向曝光装置系统外(图中右侧)输出。这时，在衬底材料200-1向下游侧(图中右侧)通过了激光曝光装置100的时刻，输送路径空着，所以在第一待机台310待机的衬底材料200-2接着衬底材料200-1输送到反转机300。
此时，第三片衬底材料200-3输送到第一待机台310，准备表面的曝光而待机。
接着，如图7E所示，在衬底材料200-2到达第二待机台312的时刻，从第一待机台310到激光曝光装置100的输送路径变为空，所以第三片衬底材料200-3向激光曝光装置100输送。
进而如图7F所示，在第二片衬底材料200-2由反转机300背表反转时，第三片衬底材料200-3由激光曝光装置100进行表面的曝光。即，与图7B同样，在一片反转时，另一片进行曝光，由此，能始终减少装置整体的待机时间，能提高处理能力。
即，在本发明中，用1台激光曝光装置100能对衬底材料200进行两面曝光，并且是数字曝光装置，所以不需要如模拟机那样更换物理性掩模。因此，高价的曝光机用1台即可，所以能以低价构筑两面曝光系统。
进而如上所述，在第一片衬底材料200反转的过程中，将下一衬底材料200曝光，在曝光中，进行下一衬底材料200的曝光准备(对齐读取)，用反转机300反转后及第二片以后的表面曝光后的衬底材料200的输送中，向输送方向上游侧反输送，由此，与一片片地将衬底材料200进行表面曝光→反转→背面曝光→排出的情况相比，能同时进行多片衬底材料200的作业，所以能提高生产率。
<反转机的构造>
图8A～图8B及图9A～图9E表示本发明的反转机的内部构造。
如图8B所示，在反转机300的内部设置转动自如地轴支承在转动轴L上的副框架302和后述的转台320，能在输送或者保持衬底材料200的状态下使表背/前后转动180度。
如图8A所示，在副框架302的两端即输送衬底材料200的输送方向的两端部(图中左右端)设置输入口303和输出口305，从第二待机台312输入/输出衬底材料200。在副框架302内部设置由电机306驱动的多个辊对304，夹持输送被输入的衬底材料200，在规定的位置保持。
如图9A所示，衬底材料200通过输入口303，从第二待机台312输入副框架302内时，辊对304夹持输送衬底材料200(图中黑箭头)，在副框架302内部的规定位置保持。
接着，如图9B所示，副框架302在保持衬底材料200的状态下以未图示的转动轴为中心开始转动，使衬底材料200的表背反转。如果转动轴与衬底材料200的表面平行，并且是能转动180度的方向，则如图8A所示，可以与输送方向不正交，例如可以与输送方向平行。
副框架302转动180度，衬底材料200表背反转时，如图9C所示，副框架302停止，从输出口305将衬底材料200再次输送到第二待机台312(图中黑箭头)。
如果从输出口305将衬底材料200输出完毕，则如图9D所示，副框架302准备接受下一衬底材料200，再次转动180度，如图9E所示，回到初始位置。由此，输送结束了表面曝光的下一衬底材料200时，再次转动180度，能使表背反转。
副框架302转动180度后，再次向相反方向转动180度，回到初始位置，所以向电机306的布线不会扭曲或者缠绕，能采取自由的布局。
<方向转换>
图10A～图10B表示本发明的转台。
使用所述的反转机300将衬底材料200表背反转时，在表面的曝光和背面的曝光中，不仅面逆转，先头位置也逆转。如后所述，在对齐标记的读取中能用标记位置对应，但是在衬底材料的表背，曝光的先头/后端需要一致，所以在表背反转时需要与表背反转不同地使前进方向旋转180度。
因此，在本发明中，在反转机300的前级即第二待机台312和反转机300之间设置图10A～图10B所示的转台，使衬底材料200在输送方向旋转180度，由此解决所述的问题。
如图10A所示，转台320具有多个孔322、在与孔322一致的位置轴支承输送辊323的驱动轴324。转台320以在上面载置衬底材料200的状态如图所示向上方移动，旋转180度，再次向下方移动，由此，能使衬底材料200的前进方向旋转180度。
即，衬底材料200向反转机300输入之前或输出之后，在到达转台320上时，如果一次旋转180度，则能使前进方向反转。
衬底材料200在转台320上支承在输送辊323上，但是在这里暂且停止，通过图10B所示的升降机构326，使转台320上升时，以在上面载置了衬底材料200的状态转动180度。转动结束时，再次用升降机构326，使转台320下降，衬底材料200再次支承在驱动辊323上。由此，衬底材料200相对于输送方向，前后反转，向第二待机台312输送，准备背面曝光。
或者如上所述，也可以代替使衬底材料200一次旋转180度，而是在反转机300的前级旋转90度，用反转机300反转后，再旋转90度。这时，转台320的可旋转角度不需要取很大，所以能使装置小型化。
<对齐>
图11A～图11B和图12表示本发明的衬底材料的对齐标记配置。
如图11A所示，设置在衬底材料200上的对齐标记330a/330b由反转机300反转表背时，设置在相对于反转轴L对称的位置。由此，反转后的对齐标记330a/330b的位置也来到与反转前相同的位置，所以由CCD相机118拍摄对齐标记330a/b时，对齐标记的位置偏移收敛在CCD相机118的视野内。即，使衬底材料200反转表背，也不需要基于CCD相机118的移动的相机位置修正。
此外，如图11B所示，在反转轴L上设置对齐标记，也能取得同样的效果。
或者如图12所示，如果在表面曝光时，CCD相机118a读取对齐标记330a，CCD相机118b读取330b时，以表背反转后的衬底材料200的对齐标记330b来到能用CCD相机118a读取的位置的方式使对齐标记330a/b相对于反转轴L对称并且使两者的间隔与CCD相机118a/b相等，则在表背反转时能用CCD相机118b/a分别读取对齐标记330a/b。
由此，与图11A～图11B同样，用CCD相机118拍摄对齐标记330a/b时，对齐标记的位置偏移收敛在CCD相机118的视野内。即，使衬底材料200表背反转，也不需要基于CCD相机118的移动的相机位置修正。
此外，还可以与相对于反转轴L对称配置的对齐标记330独立地设置背表识别标记334。如图13所示，在衬底材料200上设置背表识别标记334，用CCD相机119拍摄，进行表面(或者背面)的识别。
如果衬底材料200表背反转，则背表识别标记334无法用CCD相机119确认，所以能识别衬底材料200的背面(或者表面)。根据该结果，能判断反转/不反转。
<多个反转机>
图6B表示本发明第二实施方式的曝光系统。
如图6B所示，在曝光系统2，除了第二待机台312的下游侧的反转机300a之外，还在第一待机台310的前级即输送上游侧设置反转机300b，在暂且曝光后，用该反转机300b将在第一待机台310待机的衬底材料200反转，由此，在激光曝光装置100的前级和后级的双方设置反转机，在表面曝光中、背面曝光中的双方的定时，衬底材料200的反转变为可能，能进一步提高生产率。
即，若在将第奇数片衬底材料200曝光的过程中，用反转机300b将表面曝光完毕的第偶数片衬底材料200反转，在将第偶数片衬底材料200曝光的过程中，用反转机300a将表面曝光完毕的第奇数片衬底材料200反转，则能减少待机中的衬底材料200等待处理的所谓等待时间，所以能进一步提高生产率。
<其他>
以上，就本发明的实施例进行了说明，但是本发明并不局限于所述的实施例，在不脱离本发明要旨的范围内，当然能用各种方式实施。
例如，如果是存在对两面实施曝光以外的涂敷或切削加工等精密处理的工序的系统，则能利用本发明的结构。

Claims (5)

1.一种数字曝光装置，其通过根据图像信息调制的光束将记录介质曝光，并记录图像，其特征在于，包括：
曝光单元，其输送所述记录介质，同时在所述记录介质上进行扫描曝光；
输送单元，其设置在与所述记录介质的输送方向正交的方向，沿着输送路径输送所述记录介质；
第一待机台，其设置在所述输送路径的一方，使曝光前的所述记录介质待机；
第二待机台，其设置在所述输送路径的另一方，使曝光完毕的记录介质待机；
反转单元，其从所述待机台接受所述记录介质，使所述记录介质的表背反转。
2.根据权利要求1所述的数字曝光装置，其特征在于，
所述曝光单元具有载置被曝光的所述记录介质且往复移动的曝光台，
在所述曝光台上，第n片记录介质结束表面曝光后，
位于所述第一待机台上的第n+1片所述记录介质和所述第n片记录介质分别同时由所述输送单元输送到所述曝光台和所述第二待机台，
所述第n+1片记录介质在所述曝光台上将表面曝光的过程中，所述第n片记录介质从所述第二待机台输送到所述反转单元，背表反转后，再次输送到所述第二待机台，
在结束了表面曝光的所述第n+1片记录介质输送到所述第一待机台的同时，所述第n片记录介质输送到所述曝光台，接着，所述第n片记录介质在所述曝光台上将背面曝光，
背面曝光结束后的所述第n片记录介质从所述曝光台经由所述第二待机台向机外输出，并且所述第n+1片记录介质通过所述曝光台输送到所述第二待机台，进而，第n+2片记录介质向所述第一待机台输入。
3.根据权利要求1所述的数字曝光装置，其特征在于，
所述曝光单元具有载置被曝光的所述记录介质且往复移动的曝光台，
所述反转单元包括设置在所述输送路径的接近所述第二待机台的端的第一反转单元和设置在所述输送路径的接近所述第一待机台的端的第二反转单元，
在所述曝光台上，第n片记录介质结束表面曝光后，
位于所述第一待机台上的第n+1片所述记录介质和所述第n片记录介质分别同时由所述输送单元输送到所述曝光台和所述第二待机台，
所述第n+1片记录介质在所述曝光台上将表面曝光的过程中，所述第n片记录介质从所述第二待机台输送到所述第一反转单元，背表反转后，再次输送到所述第二待机台，
在结束了表面曝光的所述第n+1片记录介质输送到所述第一待机台的同时，所述第n片记录介质输送到所述曝光台，接着，所述第n片记录介质在所述曝光台上将背面曝光，
所述第n+1片记录介质从所述第一待机台输送到所述第二反转单元，背表反转后，再次输送到所述第一待机台，
背面曝光结束后的所述第n片记录介质从所述曝光台经由所述第二待机台向机外输出，并且所述第n+1片记录介质从所述第一待机台输送到所述曝光台，将背面曝光，
进而，第n+2片记录介质向所述第一待机台输入。
4.根据权利要求2所述的数字曝光装置，其特征在于，
还具有转台，所述转台在所述反转单元和所述第一待机台之间使记录介质在输送面内旋转180度。
5.根据权利要求3所述的数字曝光装置，其特征在于，还具有：
第一转台，其在所述第一反转单元和所述第二待机台之间使记录介质在输送面内旋转180度；
第二转台，其在所述第二反转单元和所述第一待机台之间使记录介质在输送面内旋转180度。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102004398A (zh) * 2009-08-28 2011-04-06 优志旺电机株式会社 两面曝光装置
CN102514385A (zh) * 2011-11-29 2012-06-27 深圳市华星光电技术有限公司 标识码打印方法和打印设备
CN103168275A (zh) * 2010-11-04 2013-06-19 株式会社Orc制作所 曝光装置
CN104641299A (zh) * 2012-09-27 2015-05-20 株式会社阿迪泰克工程 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法
CN104662479A (zh) * 2012-09-27 2015-05-27 株式会社阿迪泰克工程 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法
CN107203098A (zh) * 2017-03-24 2017-09-26 无锡影速半导体科技有限公司 一种直写曝光光路系统及其一次性直写曝光方法
CN109709775A (zh) * 2019-03-13 2019-05-03 苏州微影激光技术有限公司 一种曝光设备及曝光方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4880521B2 (ja) * 2007-05-29 2012-02-22 株式会社オーク製作所 描画装置
JP2009223262A (ja) * 2008-03-19 2009-10-01 Orc Mfg Co Ltd 露光システムおよび露光方法
US20110244396A1 (en) * 2010-04-01 2011-10-06 Nikon Corporation Exposure apparatus, exchange method of object, exposure method, and device manufacturing method
JP5550053B2 (ja) * 2011-03-25 2014-07-16 ビアメカニクス株式会社 反転装置及びそれを用いた露光装置並びに露光方法
TWI485533B (zh) * 2012-07-13 2015-05-21 Apone Technology Ltd 旋轉式曝光載送設備
KR20160046016A (ko) 2014-10-17 2016-04-28 삼성디스플레이 주식회사 마스크리스 노광 장치 및 이를 이용한 누적 조도 보정 방법
JP6398766B2 (ja) * 2015-02-06 2018-10-03 東芝ライテック株式会社 光配向用偏光光照射装置
JP6723831B2 (ja) * 2016-06-01 2020-07-15 株式会社オーク製作所 露光装置
CN106802538B (zh) * 2017-03-16 2019-01-29 无锡影速半导体科技有限公司 超大板直写式光刻机扫描曝光方法
JP7045890B2 (ja) * 2018-03-20 2022-04-01 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス パターン描画装置およびパターン描画方法
DE102018132001A1 (de) * 2018-12-12 2020-06-18 Laser Imaging Systems Gmbh Vorrichtung zum Belichten von plattenförmigen Werkstücken mit hohem Durchsatz

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11109643A (ja) * 1997-09-30 1999-04-23 Sanee Giken Kk 分割露光装置
JP2002341550A (ja) * 2001-05-17 2002-11-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd レーザー露光装置
JP4113418B2 (ja) * 2002-11-15 2008-07-09 富士フイルム株式会社 露光装置
JP4158514B2 (ja) 2002-12-24 2008-10-01 ウシオ電機株式会社 両面投影露光装置
JP2004233608A (ja) * 2003-01-30 2004-08-19 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP4497972B2 (ja) * 2004-03-23 2010-07-07 株式会社オーク製作所 描画装置の基板の搬送機構
JP2005272041A (ja) * 2004-03-23 2005-10-06 Pentax Corp 基板の搬送機構
JP4478488B2 (ja) * 2004-03-23 2010-06-09 株式会社オーク製作所 基板の搬送機構
JP4472451B2 (ja) * 2004-07-16 2010-06-02 富士フイルム株式会社 基板搬送装置及びそれを備えた画像形成装置並びに基板搬送方法
JP2006058496A (ja) * 2004-08-18 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 基板測定装置及び基板搬送装置並びに基板測定装置を備えた画像形成装置と基板測定方法
JP2006055930A (ja) * 2004-08-18 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 吸着装置とその取付構造及び吸着装置を備えた搬送装置並びに画像形成装置
JP2006058783A (ja) * 2004-08-23 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 基板位置決め機構、基板位置決め方法、基板搬送装置及び画像形成装置
JP2006058782A (ja) * 2004-08-23 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 基板吸着機構、基板吸着方法、基板搬送装置及び画像形成装置
JP2006058784A (ja) * 2004-08-23 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 基板位置決め機構、基板位置決め方法、基板搬送装置及び画像形成装置
JP2006062801A (ja) * 2004-08-25 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 基板搬送装置及びそれを備えた画像形成装置並びに基板搬送方法
JP2006064875A (ja) * 2004-08-25 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 基板搬送装置及びそれを備えた画像形成装置並びに基板搬送方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102004398A (zh) * 2009-08-28 2011-04-06 优志旺电机株式会社 两面曝光装置
CN102004398B (zh) * 2009-08-28 2013-11-13 优志旺电机株式会社 两面曝光装置
CN103168275A (zh) * 2010-11-04 2013-06-19 株式会社Orc制作所 曝光装置
CN103168275B (zh) * 2010-11-04 2015-06-24 株式会社Orc制作所 曝光装置
CN102514385A (zh) * 2011-11-29 2012-06-27 深圳市华星光电技术有限公司 标识码打印方法和打印设备
CN102514385B (zh) * 2011-11-29 2015-04-15 深圳市华星光电技术有限公司 标识码打印方法和打印设备
CN104641299A (zh) * 2012-09-27 2015-05-20 株式会社阿迪泰克工程 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法
CN104662479A (zh) * 2012-09-27 2015-05-27 株式会社阿迪泰克工程 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法
CN104662479B (zh) * 2012-09-27 2016-11-16 株式会社阿迪泰克工程 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法
CN104641299B (zh) * 2012-09-27 2016-12-14 株式会社阿迪泰克工程 曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法
CN107203098A (zh) * 2017-03-24 2017-09-26 无锡影速半导体科技有限公司 一种直写曝光光路系统及其一次性直写曝光方法
CN109709775A (zh) * 2019-03-13 2019-05-03 苏州微影激光技术有限公司 一种曝光设备及曝光方法

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Publication number Publication date
JP4606990B2 (ja) 2011-01-05
WO2007043411A1 (ja) 2007-04-19
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KR101302594B1 (ko) 2013-09-02
JP2007102116A (ja) 2007-04-19

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